CN110784565A - 壳体及其制备方法和电子设备 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种壳体及其制备方法和电子设备。该壳体包括基底、氮化铬层和铬层；基底具有第一表面，第一表面具有图案区域；氮化铬层设置在第一表面上，并覆盖至少部分图案区域；铬层设置在氮化铬层的远离基底的一侧。上述壳体在图案区域处具有较高的光泽度，且图案的附着力较高。

Description

壳体及其制备方法和电子设备

技术领域

本发明涉及电子设备技术领域，特别是涉及一种壳体及其制备方法和电子设备。

背景技术

为了增加电子设备的外观效果或者提高电子设备的辨识度，通常会在电子设备的壳体上设置图案。一些研究通过在基底表面喷涂或印刷釉料，利用釉料的彩色特性，以制备得到具有彩色图案的壳体。此种设置形成的图案的光泽度较低。一些研究通过在基底表面上形成金属图案，以得到具有较高光泽度的图案。但是，金属图案的附着力较差，容易脱落，不利于长期使用。

发明内容

基于此，有必要提供一种在图案区域处具有较高的光泽度且图案的附着力较高的壳体及其制备方法。

此外，还提供一种电子设备。

一种壳体，包括：

基底，具有第一表面，所述第一表面上设有图案区域；

氮化铬层，设置在所述第一表面上，并覆盖至少部分所述图案区域；及

铬层，设置在所述氮化铬层的远离所述基底的一侧。

上述壳体包括基底、氮化铬层和铬层，氮化铬层设置在第一表面上并覆盖至少部分图案区域，铬层设置在氮化铬层的远离基底的一侧，使得壳体在图案区域处能够呈现铬层的金属光泽，光泽度较高，并且，由于氮化铬具有较高的延展性及较低摩擦系数，能够稳定地连接基底和铬层，使得铬层和氮化铬层形成的图案不易脱落。上述壳体在图案区域处具有较高的光泽度，且铬层和氮化铬层形成的图案不易脱落。经试验验证，上述壳体的铬层的震动摩擦的时间在3.5h以上，钢丝绒摩擦的次数在6000次以上，橡皮摩擦的次数在8000次以上，铬层的附着力较高，铬层和氮化铬层形成的图案的附着力较高，耐刮擦。

一种壳体的制备方法，包括如下步骤：

提供基底，所述基底具有第一表面，所述第一表面上设有图案区域；

在所述第一表面上形成氮化铬层，且所述氮化铬层覆盖至少部分所述图案区域；及

在所述氮化铬层的远离所述基底的一侧形成铬层，得到壳体。

上述壳体的制备方法，操作简单，能够得到在图案区域处具有较高的光泽度且铬层和氮化铬层形成的图案不易脱落的壳体。

一种壳体，由上述壳体的制备方法制备得到。

上述壳体在图案区域处具有较高的光泽度且铬层和氮化铬层形成的图案不易脱落。

一种电子设备，包括：

上述壳体；

显示模组，与所述壳体共同围设成容置腔；及

控制电路模组，设置在所述容置腔内，且与所述显示模组电连接。

上述电子设备包括上述壳体，上述壳体在图案区域处具有较高的光泽度且铬层和氮化铬层形成的图案不易脱落，使得上述电子设备具有较高的外观表现力，且图案不易脱落，持久耐用。

附图说明

图1为一实施方式的电子设备的结构示意图；

图2为一实施例的壳体的局部截面示意图；

图3为另一实施例的壳体的局部截面示意图；

图4为另一实施例的壳体的局部截面示意图；

图5为另一实施例的壳体的局部截面示意图；

图6为一实施例的壳体的制备方法中在基底上形成油墨层的操作示意图；

图7为图6所示的壳体的制备方法中在基底上形成氮化铬层的操作示意图；

图8为图7所示的壳体的制备方法中在氮化铬层上形成铬层的操作示意图；

图9为图8所示的壳体的制备方法中去除油墨层的操作示意图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳的实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。

如图1所示，一实施方式的电子设备为各种能够从外部获取数据并对该数据进行处理的设备，或者，各种内置有电池并能够从外部获取电流对该电池进行充电的设备。电子设备例如可以为手机、平板电脑、计算设备或信息显示设备等。

电子设备包括壳体100、显示模组100a和控制电路模组。壳体100的图案具有较高的光泽度，使得电子设备具有较高的外观表现力，且图案不易脱落，持久耐用。显示模组100a与壳体100连接。电子设备正常运行时，显示模组100a能够显示图案。显示模组100a与壳体100共同围设成容置腔(图未示)。控制电路模组能够控制电路而控制电子设备正常运行。控制电路模组设置在容置腔内，且与显示模组100a电连接。在图示实施例中，电子设备为手机。壳体100为手机后盖。控制电路模组为主板。

请参阅图2，壳体100包括基底110、氮化铬层120和铬层130。基底110具有第一表面112。第一表面112具有图案区域112a。氮化铬层120设置在第一表面112上。氮化铬层120覆盖至少部分图案区域112a。铬层130设置在氮化铬层120的远离基底110的一侧。

上述壳体100中，通过在基底110上设置覆盖至少部分图案区域112a的氮化铬层120，在氮化铬层120的远离基底110的一侧设置铬层130，使得壳体100在图案区域112a处能够呈现铬层130的金属光泽，光泽度较高，并且，由于氮化铬具有较高的延展性及较低摩擦系数，能够稳定地连接基底110和铬层130，提高铬层130的附着力。上述壳体100在图案区域112a处具有较高的光泽度，且铬层130和氮化铬层120形成的图案的附着力较高，不易脱落。

基底110还具有与第一表面112相对的第二表面114。显示模组100a与第二表面114相对设置。进一步地，基底110为曲面基底110。第一表面112为凸面。第二表面114为凹面。显示模组100a与第二表面114共同围设成容置腔。需要说明的是，基底110不限于为曲面基底，也可以为平面基底，可以根据需要进行设置。

在其中一个实施例中，基底110在图案区域112a处的材料为陶瓷。氮化铬与陶瓷基底的润湿性较高，使得氮化铬层120能够更加稳固地设置在基底110上，以提高铬层130的附着力，陶瓷基底还能够使壳体100能够呈现陶瓷的质感。进一步地，基底110为陶瓷基底。此种设置不仅能够提高铬层130的附着力，还使得壳体100具有陶瓷质感。需要说明的是，陶瓷基底110的材料不限，可以为氧化锆陶瓷，也可以为氧化铝陶瓷，可以根据需要进行设置。需要说明的是，基底110不限于为陶瓷基底，也可以为其他基底，例如可以为玻璃基底。

其中，图案区域112a即为待形成图案的区域。需要说明的是，可以根据需要形成的图案的形状，设置图案区域112a的形状。其中，图案可以为LOGO(LOGO type，徽标或者商标)。需要说明的是，图案不限于为LOGO，也可以为其他图案，可以根据需要进行设置。需要说明的是，图案区域112a的个数不限，可以有一个，也可以有多个。图案区域112a为多个时，多个图案区域112a间隔设置。

在其中一个实施例中，氮化铬层120与图案区域112a完全重合地重叠在一起。需要说明的是，氮化铬层120不限于与图案区域112a完全重合地重叠在一起，氮化铬层120也可以位于图案区域112a内。

铬层130的设置使得壳体100在图案区域112a处呈现高亮银色的效果，具有金属光泽，光泽度较高。进一步地，铬层130的粗糙度为0.5nm～15nm。铬层130的反射率为49％～53％。铬层130的光泽度为180GU～260GU。此种设置使得壳体100在图案区域112a处呈现高亮银色的效果，具有金属光泽，光泽度较高。

在其中一个实施例中，铬层130直接层叠在氮化铬层120的远离基底110的一侧。“A直接设置B上”即表示A与B直接没有中间层。此种设置有利于提高铬层130的附着力。

在其中一个实施例中，铬层130与氮化铬层120完全重合地重叠在一起。通过使得铬层130与氮化铬层120完全重合地重叠在一起，能够完全遮蔽氮化铬层120，保证壳体100在图案区域112a处的整体外观效果，并且，使得氮化铬层120和铬层130形成的图案更加平整。

研究发现，通过在基底表面喷涂或印刷釉料形成图案的过程中，由于釉料的喷涂和印刷难以控制在较低的厚度(釉料的厚度至少为0.01mm)，形成的图案较厚，致使基底和图案之间存在明显的段差。本研究中，通过氮化铬层120和铬层130，既能够增加铬层130的附着力，氮化铬层120和铬层130形成的图案的稳定性，并且氮化铬和铬层130的厚度易于控制，使得能够将氮化铬层120和铬层130的总厚度控制在较低水平，以使氮化铬层120和铬层130形成的图案和基底110之间在视觉上无段差，使得第一表面112在视觉上具有较好的平坦性。

在其中一个实施例中，氮化铬层120的厚度为1nm～100nm。铬层130的厚度为1nm～150nm。通过设置厚度为1nm～100nm的氮化铬层120和厚度为1nm～150nm的铬层130，既能够增加铬层130的附着力，氮化铬层120和铬层130形成的图案的稳定性，又使得氮化铬层120和铬层130的总厚度较低，使得氮化铬层120和铬层130形成的图案和基底110之间在视觉上无段差，使得第一表面112在视觉上具有较好的平坦性。

进一步地，氮化铬层120的厚度为20nm～50nm。铬层130的厚度为40nm～80nm。通过设置厚度为20nm～50nm的氮化铬层120和厚度为40nm～80nm的铬层130，能够提高氮化铬层120和铬层130形成的图案的稳定性，又使得氮化铬层120和铬层130的总厚度较低，使得氮化铬层120和铬层130形成的图案和基底110之间在视觉上无段差，使得第一表面112在视觉上具有较好的平坦性。

一些研究通过在基底表面喷涂或印刷釉料，利用釉料的彩色特性，以制备得到具有彩色图案的壳体。此种设置形成的图案的光泽度较低。并且，由于釉料在本质上是一层有色玻璃(多组分的硅酸盐体系)，釉料形成的图案不耐刮擦，易于脱落。一些研究通过在基底表面上形成金属图案，以得到具有较高光泽度的图案。但是，金属图案的附着力较差，容易脱落，不利于长期使用。上述壳体100中，通过在基底110上设置覆盖至少部分图案区域112a的氮化铬层120，在氮化铬层120的远离基底110的一侧设置铬层130，使得壳体100在图案区域112a处能够呈现铬层130的金属光泽，光泽度较高，并且，由于氮化铬具有较高的延展性及较低摩擦系数，能够稳定地连接基底110和铬层130，提高铬层130的附着力。上述壳体100在图案区域112a处具有较高的光泽度，且铬层130和氮化铬层120形成的图案的附着力较高，不易脱落，经久耐用。

研究发现，通过在基底表面喷涂或印刷釉料形成图案的过程中，由于釉料在烧结过程中有机物的挥发或裂解存在孔洞，致使图案上出现密集气孔，影响图案的外观效果。并且，即使在釉料烧结固化后进行抛光，其表面粗糙度(Ra)仍然为20nm～40nm，反射率为7％～10％，光泽度为150GU～200GU，釉料形成的图案不具备高亮效果。本研究通过在图案区域112a设置氮化铬层120，在氮化铬层120上设置铬层130，铬层130的平整度较高，能够保证图案区域112a的外观效果，并且铬层130的反射率较高，光泽度较高，使得壳体100在图案区域112a区呈现高亮银色效果。

可以理解，铬层130与氮化铬层120不限于为完全重合地重叠在一起。在其他实施例中，铬层130也可以覆盖部分氮化铬层120(如图3所示)，铬层130还可以完全覆盖氮化铬层120且覆盖第一表面112(如图4所示)。

可以理解，壳体100的结构不限于上述指出的结构，请参阅图5，在其他实施例中，壳体100还可以包括保护膜140。保护膜140设置在第一表面112上，且覆盖铬层130。通过设置保护膜140能够保护铬层130。

进一步地，保护膜140完全覆盖铬层130，且完全覆盖第一表面112。需要说明的是，保护膜140不限于完全覆盖铬层130，且完全覆盖第一表面112；保护膜140也可以完全覆盖铬层130，且部分覆盖第一表面112；保护膜140还可以部分覆盖铬层130。

在其中一个实施例中，保护膜140为透明保护膜140。

在其中一个实施例中，保护膜140为AF膜(即防指纹膜)。此种设置既能够保护铬层130，又使得壳体100表面能够防指纹，还能够增加壳体100表面的爽滑特性。

请再次参阅图2，上述实施方式的壳体100的制备方法能够制备光泽度较高且附着力较高的图案的壳体100。该壳体100的制备方法包括如下步骤S110～S120：

S110、提供基底110，基底110具有第一表面112，第一表面112具有图案区域112a。

需要说明的是，基底110的详见描述请参见上文，此处不再赘述。

S120、在第一表面112上形成氮化铬层120，且氮化铬层120覆盖至少部分图案区域112a。

请参阅图6，具体地，在第一表面112上形成氮化铬层120，且氮化铬层120覆盖至少部分图案区域112a包括S121～S122：

S121、在基底110的部分区域印刷油墨，油墨围绕图案区域112a，固化，形成油墨层110a。

具体地，基底110中除了图案区域112a的其他区域均覆盖有油墨。

在其中一个实施例中，在基底110的部分区域印刷油墨的方式为丝网印刷。需要说明的是，印刷的方式不限于为丝网印刷，也可以为本领域中其他常用的印刷方式。

在其中一个实施例中，油墨为水溶性油墨。此种设置使得通过水洗或者用水擦拭等方式即可去除油墨，操作更加方便。需要说明的是，油墨为本领域中用于的水溶性油墨，可以根据需要进行选择，此处不再赘述。

在其中一个实施例中，油墨的厚度为8μm～15μm。此种设置能够较好地遮蔽不需要形成氮化铬层120和铬层130的区域。

在其中一个实施例中，固化的方式为烘烤。进一步地，固化的步骤包括：将印刷油墨后的基底110置于80℃～100℃固化60min～80min。需要说明的是，固化的方式不限于为烘烤，也可以为本领域中其他常用的固化方式。

请参阅图7，S122、对基底110进行镀膜处理，以形成氮化铬层120。

在其中一个实施例中，镀膜方式为物理气相沉积。此种设置能够得到厚度均匀、平整度较高、致密度较高的氮化铬层120，以提高氮化铬层120与铬层130形成的图案的机械性能。

进一步地，对基底110进行镀膜处理，以形成氮化铬层120的步骤中，镀膜方式为磁控溅射，靶材为铬，真空度为3.0×10^-3Pa～1.0×10^-3Pa，气体氛围为氩气和氮气的混合气体，氩气的流量为100SCCM～300SCCM，氮气的流量为100SCCM～350SCCM。此种设置能够快速形成氮化铬层120，以得到厚度均匀、平整度较高、致密度较高的氮化铬层120，提高氮化铬层120与铬层130形成的图案的机械性能。更进一步地，溅射功率为5kw～10kw。溅射时间为5min～20min。靶材与基底110之间的距离为75mm～120mm。此种设置有利于快速得到厚度为20nm～50nm的氮化铬层120。

需要说明的是，形成氮化铬层120的方式不限于为磁控溅射，也可以为其他物理气相沉积，可以根据需要进行设置。

S130、在氮化铬层120的远离基底110的一侧形成铬层130，得到壳体100。

请结合参阅图8～9，具体地，在氮化铬层120的远离基底110的一侧形成铬层130的步骤包括：S131～S132：

S131、对形成有氮化铬层120的基底110进行镀膜处理，以在形成铬层130。

在其中一个实施例中，镀膜方式为物理气相沉积。此种设置能够得到厚度均匀、平整度较高、致密度较高的铬层130，以提高氮化铬层120与铬层130形成的图案的机械性能。

进一步地，在对形成有氮化铬层120的基底110进行镀膜处理，以在形成铬层130的步骤中，镀膜方式为磁控溅射，靶材为铬，真空度为3.0×10^-3Pa～1.0×10^-3Pa，气体氛围为氩气，氩气的流量为200SCCM～400SCCM。此种设置能够快速形成铬层130，以得到厚度均匀、平整度较高、致密度较高的氮化铬层120，提高氮化铬层120与铬层130形成的图案的机械性能。更进一步地，溅射功率为5kw～10kw。溅射时间为15min～25min。靶材与基底110之间的距离为75mm～120mm。此种设置有利于快速得到厚度为40nm～80nm的铬层130。

S132、去除油墨层110a，得到壳体100。

在其中一个实施例中，油墨为水溶性油墨，去除油墨层110a的方式为水洗。进一步地，去除油墨层110a的步骤包括：将形成铬层130的基底110置于60℃～80℃的水中，超声清洗8min～10min，得到壳体100。此种设置有利于快速去除油墨层110a，提高作业效率。

通过在基底110上设置覆盖至少部分图案区域112a的氮化铬层120，在氮化铬层120的远离基底110的一侧设置铬层130，使得壳体100在图案区域112a处能够呈现铬层130的金属光泽，光泽度较高，并且，由于氮化铬具有较高的延展性及较低摩擦系数，能够稳定地连接基底110和铬层130，提高铬层130的附着力。

在其中一个实施例中，S120之前，还包括对基底110进行清洁处理的步骤。此种设置使得基底110具有较高的洁净度，以避免脏污影响氮化铬层120的附着，提高铬层130的附着力。具体地，对基底110进行清洁处理的步骤包括：对基底110依次进行除蜡、水洗、碱洗和水洗。此种设置使得基底110具有较高的洁净度，以避免脏污影响氮化铬层120的附着，提高铬层130的附着力。

其中，对基底110进行除蜡的步骤包括：将基底110置于70℃～80℃的除蜡水中清洗280s～320s。除蜡水为本领域中常规的除蜡水，此处不再赘述。具体地，将基底110置于75℃的除蜡水中清洗300s。

对除蜡后的基底110进行水洗的步骤包括：将除蜡后的基底110置于60℃～80℃的水中清洗180s～220s。水为去离子水或者纯水。具体地，将除蜡后的基底110置于70℃的水中清洗200s。

对水洗后的基底110进行碱洗的步骤包括：将水洗后的基底110置于70℃～80℃的碱洗清洗剂中清洗280s～320s。碱洗清洗剂为质量百分含量为5％～10％的KOH水溶液。具体地，将水洗后的基底110置于75℃的碱洗清洗剂中清洗300s。需要说明的是，碱洗清洗剂不限于为上述指出的碱洗清洗剂，也可以为本领域中其他常规的碱洗清洗剂。

对碱洗后的基底110进行水洗的步骤包括：将碱洗后的基底110置于60℃～80℃的水中清洗180s～220s。水为去离子水或者纯水。具体地，将碱洗后的基底110置于70℃的水中清洗200s。

需要说明的是，对碱洗后的基底110进行水洗的次数不限于，可以为一个，也可以为多次。对碱洗后的基底110进行水洗的次数为多次时，每次水洗的步骤包括：将基底110置于60℃～80℃的水中清洗180s～220s。具体地，对碱洗后的基底110进行水洗的次数为三次。

对碱洗后的基底110进行水洗的步骤之后，还包括如下步骤：对依次进行碱洗和水洗后的基底110进行干燥。进一步地，对依次进行碱洗和水洗后的基底110进行干燥的步骤包括：将依次进行碱洗和水洗后的基底110置于70℃～90℃处理550s～650s。更进一步地，将依次进行碱洗和水洗后的基底110置于80℃处理600s。

需要说明的是，对依次进行碱洗和水洗后的基底110进行干燥的方式不限于上述指出的方式，也可以为其他干燥方式，例如可以为风干或者自然干燥。

对基底110依次进行除蜡、水洗、碱洗和水洗的步骤中，将基底110置于自动清洗线内依次进行除蜡、水洗、碱洗和水洗。需要说明的是，不限于采用自动清洗线对基底110进行清洗，也可以采用人工的方式对基底110依次进行除蜡、水洗、碱洗和水洗。需要说明的是，对基底110进行清洁处理的步骤不限于包括对基底110依次进行除蜡、水洗、碱洗和水洗，也可以为本领域中其他清洁基底110的方式。可以理解，基底110的洁净度能够满足需求的时候，对基底110进行清洁处理的步骤可以省略。

上述壳体100的制备方法，操作简单，能够得到在图案区域112a处具有较高的光泽度且图案不易脱落的壳体100。

进一步地，上述壳体100通过在基底110的部分区域印刷油墨，油墨围绕图案区域112a，固化，形成油墨层110a，再形成氮化铬层120和铬层130，既能够保证氮化铬层120和铬层130形成的图案的形状，又能够保护不需要形成图案的区域。

请再次参阅图5，可以理解，壳体100还可以包括保护膜140。S120的步骤之后，还包括如下步骤：在第一表面112上形成保护膜140，且保护膜140覆盖铬层130。进一步地，保护膜140为AF膜，形成保护膜140的方式为蒸发镀膜。需要说明的是，形成保护膜140的方式不限于为蒸发镀膜，还可以为其他方式，例如将保护膜140粘接在第一表面112上。

以下为具体实施例部分：

如无特别说明，以下实施例和对比例中，基底均为市售的基底。碱洗清洗剂为质量百分含量为8％的KOH水溶液。靶材与基底之间的距离为100mm。

按照表1的参数制备实施例1～4和对比例的壳体。其中，壳体的制备过程如下：

(1)提供基底，基底具有第一表面，第一表面上设有图案区域。

(2)将基底置于T1的除蜡水中清洗t1。将除蜡后的基底置于T2的去离子水中清洗t2。将水洗后的基底置于T3的碱洗清洗剂中清洗t3。将碱洗后的基底置于T4的去离子水中清洗t4。重复水洗三次。将依次进行碱洗和水洗后的基底置于T5处理t5。

(3)在基底的部分区域印刷厚度为D1的油墨，油墨围绕图案区域，置于T6固化t6，形成油墨层。油墨为水溶性油墨。

(4)将基底置于磁控溅射设备中，对基底表面进行离子轰击，以磁控溅射的方式在基底上形成氮化铬层，靶材为铬，真空度为P1，气体氛围为氩气和氮气的混合气体，氩气的流量为A1，氮气的流量为N1。溅射功率为W1。溅射时间为t7。氮化铬层的厚度为D2。

(5)调整气体氛围，以使气体氛围为氩气，氩气的流量为A2，真空度为P2；对基底表面进行离子轰击，以磁控溅射的方式在基底上形成氮化铬层，靶材为铬，溅射功率为W2。溅射时间为t8。铬层的厚度为D3。

(6)将形成铬层的基底置于T9的水中，超声清洗t9，去除油墨层，得到壳体。

表1实施例1～4和对比例的壳体的制备工艺参数

需要说明的是，由于对比例中未形成氮化铬层，铬层直接形成在基底上。

测试：

对实施例1～4和对比例1的铬层的附着力、光泽度和反射率进行测试，测试结果详见表2。其中，附着力通过震动摩擦的时间、钢丝绒摩擦的次数和橡皮摩擦的次数表征。

具体地，对实施例1～4和对比例1的铬层进行震动摩擦测试，具体地，通过将产品放进彩色石子和药水混合的特殊液体中，进行振动磨擦，直至铬层出现脱落(其中，铬层脱落为铬层部分脱落或者铬层全部脱落)，记录震动摩擦的时间(h)；并且在振动摩擦的过程中个，每隔30min向彩色石子中添加300mL～500mL的药水，以润湿彩色石子为准。其中，转速为3000r/min，振频50Hz；采用深圳市瑞泰尔科技有限公司设备的手机震动耐磨测试机进行震动摩擦测试，手机震动耐磨测试机的型号为OKIA R180/530TE-30，彩色石子和药水均购于深圳市瑞泰尔科技有限公司设备。

对实施例1～4和对比例1的铬层进行钢丝绒摩擦测试，具体地，用20mm*20mm钢丝绒摩擦铬层，直至铬层出现脱落(其中，铬层脱落为铬层部分脱落或者铬层全部脱落)，记录钢丝绒摩擦的次数(次)。其中，摩擦方向与钢丝绒排列方向平行，每次摩擦行程：30mm～40mm，钢丝绒型号为#0000，摩擦的压力为1000g，摩擦频率为60次/分钟，采用东莞市德瑞仪器有限公司的多功能酒精橡皮耐摩擦试验机进行钢丝绒摩擦测试，多功能酒精橡皮耐摩擦试验机的型号为DR-912。

对实施例1～4和对比例1的铬层进行橡皮摩擦测试，具体地，使用三星专用红色软橡皮装在摩擦试验机上，在铬层表面来回摩擦，直至铬层出现脱落(其中，铬层脱落为铬层部分脱落或者铬层全部脱落)，记录橡皮摩擦的次数(次)。其中，摩擦的压力为1000g，摩擦频率为60次/min(一次为一个往复运动)，摩擦行程为30mm～40mm(橡皮不能脱离试样)，摩擦试验机为东莞市德瑞仪器有限公司的多功能酒精橡皮耐摩擦试验机，摩擦试验机的型号为DR-912。

采用光泽度测试仪测试实施例1～4和对比例1的铬层的光泽度。

采用紫外分光光度计测试实施例1～4和对比例1的铬层的反射率。

表2实施例1～4和对比例1的铬层的附着力、光泽度和反射率

从表2可以看出，实施例1～4的铬层的震动摩擦的时间在3.5h以上，钢丝绒摩擦的次数为6000次，橡皮摩擦的次数为8000次，明显优于对比例，说明上述实施方式的壳体的铬层的附着力较高，铬层和氮化铬层形成的图案的附着力较高，铬层耐刮擦。并且，实施例1～4的铬层的光泽度为240GU，反射率为53％，说明上述实施方式的壳体具有高亮的效果。此外，实施例3制备得到的壳体的实物中铬层的颜色为银色，壳体的外观表现力较高。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (17)

1.一种壳体，其特征在于，包括：

基底，具有第一表面，所述第一表面上具有图案区域；

氮化铬层，设置在所述第一表面上，并覆盖至少部分所述图案区域；及

铬层，设置在所述氮化铬层的远离所述基底的一侧。

2.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述铬层与所述氮化铬层完全重合地重叠在一起。

3.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述基底在所述图案区域处的材料为陶瓷。

4.根据权利要求3所述的壳体，其特征在于，所述基底为陶瓷基底。

5.根据权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述氮化铬层的厚度为1nm～100nm，所述铬层的厚度为1nm～150nm。

6.根据权利要求1～5任一项所述的壳体，其特征在于，还包括保护膜，所述保护膜设置在所述第一表面上，且覆盖所述铬层。

7.根据权利要求6所述的壳体，其特征在于，所述保护膜为防指纹膜。

8.一种壳体的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供基底，所述基底具有第一表面，所述第一表面上具有图案区域；

在所述第一表面上形成氮化铬层，且所述氮化铬层覆盖至少部分所述图案区域；及

在所述氮化铬层的远离所述基底的一侧形成铬层，得到壳体。

9.根据权利要求8所述的壳体的制备方法，其特征在于，所述在所述第一表面上形成氮化铬层，且所述氮化铬层覆盖至少部分所述图案区域的步骤包括：

在所述基底的部分区域印刷油墨，所述油墨围绕所述图案区域，固化，形成油墨层；及

对所述基底进行镀膜处理，以形成所述氮化铬层。

10.根据权利要求9所述的壳体的制备方法，其特征在于，对所述基底进行镀膜处理，以形成所述氮化铬层的步骤中，镀膜方式为磁控溅射，靶材为铬，真空度为3.0×10^-3Pa～1.0×10^-3Pa，气体氛围为氩气和氮气的混合气体，所述氩气的流量为100SCCM～300SCCM，所述氮气的流量为100SCCM～350SCCM。

11.根据权利要求9所述的壳体的制备方法，其特征在于，所述在所述氮化铬层的远离所述基底的一侧形成铬层的步骤包括：

对形成有所述氮化铬层的所述基底进行镀膜处理，以在所述氮化铬层的远离所述基底的一侧形成所述铬层；及

去除所述油墨层。

12.根据权利要求11所述的壳体的制备方法，其特征在于，对形成有所述氮化铬层的所述基底进行镀膜处理，以在所述氮化铬层的远离所述基底的一侧形成所述铬层的步骤中，镀膜方式为磁控溅射，靶材为铬，真空度为3.0×10^-3Pa～1.0×10^-3Pa，气体氛围为氩气，所述氩气的流量为200SCCM～400SCCM。

13.根据权利要求11所述的壳体的制备方法，其特征在于，所述油墨为水溶性油墨，去除所述油墨层的方式为水洗。

14.根据权利要求8～13任一项所述的壳体的制备方法，其特征在于，所述在所述第一表面上形成氮化铬层，且所述氮化铬层覆盖至少部分所述图案区域的步骤之前，还包括对所述基底依次进行清洁处理的步骤。

15.根据权利要求8～13任一项所述的壳体的制备方法，其特征在于，在所述氮化铬层的远离所述基底的一侧形成铬层的步骤之后，还包括如下步骤：在所述第一表面上形成保护膜，且所述保护膜覆盖所述铬层。

16.一种壳体，其特征在于，由权利要求8～15任一项所述的壳体的制备方法制备得到。

17.一种电子设备，其特征在于，包括：

权利要求1～7及权利要求16任一项所述的壳体；

显示模组，与所述壳体共同围设成容置腔；及

控制电路模组，设置在所述容置腔内，且与所述显示模组电连接。

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