CN109650740A - 一种盖板 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种盖板。该盖板包括透明本体和蓝色薄膜层，其中蓝色薄膜层进一步包括第一基础层及第一透明加硬层，其中，第一基础层及第一透明加硬层依次叠层设置在透明本体一表面上，第一基础层及第一透明加硬层配合以使得盖板呈现陶瓷蓝色。本申请盖板能够对外呈现陶瓷蓝色色彩，且具有较高的硬度和耐磨损性能。

Description

一种盖板

技术领域

本申请涉及盖板镀膜技术领域，特别是涉及一种盖板。

背景技术

近年来，随着生活水平的提高，电子产品更新换代节奏越来越快，如智能电子产品类，除了追求时尚的外观外，在功能性方面通常也有很高的要求，如硬度、耐磨损性能等。

本申请的发明人在长期的研发过程中发现，手机盖板可以采用下述两种方式进行硬化处理：

1)采用化学硬化方法和物理硬化的方法对玻璃基体本身进行硬化。但经化学硬化后的玻璃在和其他原配件贴合加工过程中，兼容性较差；经物理加硬后的玻璃存在反光学强、玻璃脆性较大，容易破碎等问题。

2)通过在玻璃表面镀加硬层来提高整个手机盖板的表面硬度和耐磨损性能，但当玻璃表面硬度达到要求时，其光学性能往往偏离预设要求。

发明内容

本申请提供一种盖板，其能够呈现陶瓷蓝色色彩，且具有较高的硬度和耐磨损性能。

为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种盖板，该盖板包括透明本体和蓝色薄膜层，其中蓝色薄膜层进一步包括第一基础层及第一透明加硬层，其中，第一基础层及第一透明加硬层依次叠层设置在透明本体一表面上，第一基础层及第一透明加硬层配合以使得盖板呈现陶瓷蓝色。

其中，第一基础层包括氧化硅膜层、氧化铝膜层或氧化硅铝膜层的任一种或组合；第一透明加硬层包括氮化物膜层、氮碳化物膜层、氮碳氧化物膜层或类金刚石膜层的任一种或组合。

其中，蓝色薄膜层进一步包括过渡层，过渡层设置在透明本体与第一基础层之间。

其中，过渡层包括氧化铌膜层，第一基础层包括氧化硅膜层，第一透明加硬层包括氮化硅膜层。

其中，第一基础层的厚度范围为20nm-100nm；第一透明加硬层的厚度范围为50nm-200nm。

其中，第一基础层的厚度范围为40nm-70nm；第一透明加硬层的厚度范围为50nm-80nm。

其中，过渡层的厚度范围为15nm-150nm。

其中，蓝色薄膜层进一步包括第二基础层及第二透明加硬层，其中，第二基础层及第二透明加硬层依次叠层设置在第一透明加硬层背离第一基础层的一表面上，第二基础层位于第一透明加硬层与第二透明加硬层之间。

其中，过渡层、第一基础层和一透明加硬层的厚度设置成使的盖板表面的莫氏硬度大于7.0。

其中，蓝色薄膜层的厚度设置成使得膜层在可见光380-780nm范围内的平均透过率大于或等于85％，且使得在自然环境下经盖板的透射光在CIE LAB色空间中的坐标值为：45≦L≦60，-5≦a≦5，-40≦b≦-20。

本申请的有益效果是：区别于现有技术，本申请实施例盖板包括透明本体和蓝色薄膜层，其中蓝色薄膜层进一步包括第一基础层及第一透明加硬层，其中，第一基础层及第一透明加硬层依次叠层设置在透明本体一表面上，第一基础层及第一透明加硬层配合以使得盖板呈现陶瓷蓝色。本申请实施例通过在透明本体上设置蓝色薄膜层，能够使盖板呈现陶瓷蓝色色彩，且蓝色薄膜层中设置有第一透明加硬层，能够提高盖板硬度和耐磨损性能。

附图说明

图1是本申请盖板第一实施例的结构示意图；

图2是图1实施例盖板的制造方法一实施例的流程示意图；

图3是图2实施中步骤S201的具体流程示意图；

图4是本申请盖板第二实施例的结构示意图；

图5是本申请盖板第三实施例的结构示意图；

图6是本申请终端一实施例的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

本申请首先提出一种盖板，如图1所示，本实施例盖板101包括透明本体102和蓝色薄膜层103，其中蓝色薄膜层103进一步包括第一基础层104及第一透明加硬层105，其中，第一基础层104及第一透明加硬层105依次叠层设置在透明本体102一表面上，第一基础层104及第一透明加硬层105配合以使得盖板呈现陶瓷蓝色。

本实施例的盖板101可以为终端的后盖，如手机的后盖等。在将盖板101安装于终端本体上时，盖板101的透明本体102靠近终端本体设置，盖板101的第一透明加硬层105背离电子本体设置，即第一透明加硬层105为终端的外侧。

在其它实施例中，盖板还可以用于家电、汽车等产品。

本实施例通过在透明本体102上设置蓝色薄膜层103，能够使盖板101呈现陶瓷蓝色色彩，且蓝色薄膜层103中设置有第一透明加硬层105，能够提高盖板101的硬度和耐磨损性能。

进一步地，从透明本体102、第一基础层104及第一透明加硬层105的材料考虑，为实现上述效果，透明本体102的材料可以包括玻璃、陶瓷、聚苯乙烯或聚甲基丙烯酸甲脂等透明材料；第一基础层104可以包括氧化硅膜层、氧化铝膜层或氧化硅铝膜层的任一种或组合；第一透明加硬层105可以包括氮化物膜层、氮碳化物膜层、氮碳氧化物膜层或类金刚石膜层的任一种或组合，例如，氮化硅膜层、氮化铝膜层、氮化钛膜层、氮化铬膜层、氮碳化硅膜层、氮碳化铝膜层、氮碳化铬膜层、氮碳化钛铝膜层或氮碳化铬硅膜层等中的任一种或组合。

进一步地，从第一基础层104及第一透明加硬层105的膜层厚度考虑，为实现上述效果，第一基础层104的厚度范围可以为20nm-100nm，该厚度具体可以为20nm、30nm、40nm、50nm、60nm、70nm、80nm、90nm及100nm等；第一透明加硬层105的厚度范围可以为50nm-200nm，该厚度具体可以为50nm、80nm、110nm、140nm、170nm及200nm等。

在一具体应用中，第一基础层104的厚度范围优选为40nm-70nm，该厚度具体可以为40nm、50nm、60nm及70nm等；第一透明加硬层105的厚度范围优选为15nm-150nm，该厚度具体可以为15nm、50nm、80nm、110nm及150nm等。

进一步地，从第一基础层104及第一透明加硬层105的物理特性考虑，为了实现上述效果，第一基础层104的折射率低于第一透明加硬层105的折射率，且第一透明加硬层105的硬度高于第一基础层104。

在一具体的应用中，第一基础层104在380nm-780nm波长范围内的折射率为1.44-1.48，第一透明加硬层105在380nm-780nm波长范围内的折射率为2.01-2.04；第一基础层104的莫氏硬度在6-7，第一透明加硬层105的莫氏硬度为9-9.5。

在一具体应用中，蓝色薄膜层103的厚度设置成使得膜层在可见光380-780nm范围内的平均透过率大于或等于85％，且使得在自然环境下经所述盖板的透射光在CIE LAB色空间中的坐标值为：45≦L≦60，-5≦a≦5，-40≦b≦-20。

进一步地，本实施例盖板101可以通过如图2所示的方法进行制造，具体地，本实施例的制造方法包括以下步骤：

S201：对透明本体102的表面进行清洗和烘干，以达到镀膜工艺要求的表面洁净度。

由于透明本体102表面的洁净度对镀膜工艺影响较大，因此需要采用清洗效果较好的方式对透明本体102的进行清洗，本实施例可以采用超声波清洗方式对透明本体102进行清洗及烘干。

在一具体应用中，可以通过如图3所述的方法实现步骤S201，本实施例具体以下步骤包括：

S301：在第一槽中加入清洗剂，并将其加热到第一预设温度，然后将透明本体102放入第一槽中，浸泡3分钟。

S302：在第二槽中加入清洗剂，并将其加热到第二预设温度，然后将透明本体102放入第二槽，并通过喷淋清洗方式对透明本体102清洗2分钟。

S303：在第三槽中加入纯水，并将透明本体102放入第三槽中，然后通过超声清洗方式对透明本体102清洗2分钟。

S304：在第四槽中加入超声清洗剂，并将透明本体102放入第四槽中，然后通过超声清洗方式对透明本体102清洗2分钟。

S305：在第五槽中及第六槽中加入纯水，并将透明本体102放入第五槽中，然后通过超声清洗方式对透明本体102清洗5分钟，接着将透明本体102放入第六槽中，并通过超声清洗方式对透明本体102清洗5分钟。

S306：将透明本体102放入第七槽中进行脱水，并将脱水后的透明本体102依次放入第八槽中及第九槽中热烘脱水。

其中，第一槽至第四槽为普通清洗槽，第五槽及第六槽为超声槽，第七槽为慢提拉槽脱水槽，第八槽及第九槽为烘干槽。

上述清洗/烘干流程、清洗/烘干温度及清洗/烘干时间可以根据透明本体102的材料及表面粗糙度等因素进行适应性修改；本实施例还可以通过检测器自动检测每次清洗后的透明板体102的表面清洁度，并根据该清洁度调整或者规划后续的清洗/烘干的流程、清洗/烘干温度及清洗/烘干时间，以提高透明本体102进行清洗及烘干效率及效果。

进一步地，将热烘脱水后的透明本体102置于镀膜车上，准备进行真空溅射镀膜加工。

S202：在清洗后的透明本体102的表面溅射镀膜，以在清洗后的透明本体102的表面形成蓝色薄膜层103。

具体地，通过真空溅镀方式在透明本体102的表面上形成第一基础层104，并通过真空溅镀方式在第一基础层104背离透明本体102的表面上形成第一透明加硬层105。

在上述步骤中，透明本体102、第一基础层104及第一透明加硬层105可采用上文描述的各种材料。进一步，透明本体102、第一基础层104及第一透明加硬层105的物理特性以及膜层厚度可设置成上文描述的各种数值范围。

本实施例的真空溅镀可采用中频反应溅射、射频溅射、高能脉冲溅射、磁控溅射中的一种或组合。其中，优选中频反应溅射。

在其它实施例中，还可以采用例如光学镀膜、物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、等离子增强的化学气相沉积(PECVD)、反应性DC射蚀等工艺在清洗后的透明本体的表面形成黑色薄膜层及透明加硬层。

区别于现有技术，本实施例通过在透明本体102上设置蓝色薄膜层103，能够使盖板101呈现陶瓷蓝色色彩，且蓝色薄膜层103中设置有第一透明加硬层105，能够提高盖板101的硬度和耐磨损性能。

本申请提出第二实施例的盖板，如图4所示，与上述实施例的不同之处在于：本实施例盖板401的蓝色薄膜层402进一步过渡层403，过渡层403设置在透明本体404与第一基础层405之间，即过渡层403、第一基础层405及第一透明加硬层406依次叠层设置在透明本体404上。

本实施例通过在透明本体405和第一基础层405之间设置过渡层403，能够提高透明本体405和第一基础层405之间的结合力。

进一步地，从过渡层403、第一基础层405及第一透明加硬层406的材料考虑，为实现上述效果，过渡层403包括氧化铌膜层，第一基础层405包括氧化硅膜层，第一透明加硬层406包括氮化硅膜层。

过渡层403的厚度可以依据陶瓷蓝色色彩的波长范围进行设置。例如，在过渡层为高折射率的氧化铌膜层时，其厚度范围可以为15nm-150nm，优选20nm-100nm，具体可以是20nm、40nm、60nm、80nm及100nm等。

本实施例通过过渡层403、第一基础层405及第一透明加硬层406的配合可以让盖板401对外呈陶瓷蓝色色彩，且能够提高盖板401的硬度及耐磨损性能，同时，能够提高透明本体405和第一基础层405之间的结合力。

在一具体应用中，过渡层403、第一基础层405及第一透明加硬层406的厚度设置成使的盖板401表面的莫氏硬度大于7.0。

在一具体应用中，过渡层403、第一基础层405及第一透明加硬层406的厚度设置成使得膜层在可见光380-780nm范围内的平均透过率大于或等于85％，且使得在自然环境下经所述盖板的透射光在CIE LAB色空间中的坐标值为：45≦L≦60，-5≦a≦5，-40≦b≦-20。

本申请进一步提出第三实施例的盖板，如图5所示，本实施例盖板501的蓝色薄膜层502在图1实施例的基础上进一步包括第二基础层503及第二透明加硬层504，其中，第二基础层503及第二透明加硬层504依次叠层设置在第一透明加硬层505背离第一基础层506的一表面上，第二基础层504位于第一透明加硬层505与第二透明加硬层504之间。

本实施例的蓝色薄膜层502包括两个叠层结构，即第二基础层503与第二透明加硬层504叠层结构、第一基础层506与一透明加硬层505的叠层结构。当然，在其它实施例中，蓝色薄膜层还可以包括两个以上的叠层结构。

通过两个或两个以上的叠层结构能够在改善蓝色薄膜层的增透性的同时，提高蓝色薄膜层的硬度及耐磨性。

进一步地，为进一步丰富盖板的外观效果，本申请进一步提出第四实施例的盖板，本实施例盖板的第一基础层可以包括图案层，图案层可以通过丝网印刷工艺形成在过渡层上。图案层可以包括特定图案标识，如产品的Logo、产品所需的说明文字、产品图案及花纹等。

在一实施例中，还可以使用激光雕刻、化学蚀刻、油墨印刷等工艺在打底层上形成图案或Logo，在此不做限定。

在一实施例中，该图案层还可以是光栅图案层，光栅图案层包括多个间隔设置的光栅条纹，相邻两个光栅条纹之间的间隙内形成有纳米微结构，以使得光栅条纹与间隙具有不同的光学特性，以在光栅图案层形成光栅图案。

在另一实施例中，为进一步丰富盖板的外观效果，第一基础层还可以包括纹理层，该纹理层可以为磁性纹理层、UV转印纹理层、热转印纹理层中的至少一种，纹理层的具体图案可以根据实际需求灵活选择。在本发明的实施例中，该图案可以为渐变纹理图案。

其中，形成磁性纹理层的方法可以为磁性喷涂，即在喷涂过程中，通过磁场控制磁性材料的分布，使其形成所需的纹理图案。

形成UV转印纹理层的方法可以为利用UV转印及压印加工，即在将设计好的纹理图形用激光光绘机输出成光绘菲林或玻璃菲林，在透明本体上涂布一离型层，并在离型层涂布UV胶，并把涂布好UV胶的透明本体与光绘菲林或玻璃菲林紧密贴合，进行曝光成像，进而在过渡层上就形成纹理图案层。

形成热转印纹理层的方法可以为将PVC热转印膜贴在透明本体上，以预设温度烘烤预设时间，之后剥离PVC薄膜，即得到热转印纹理。

通过这种方式，能够在上述实施例效果的基础上进一步使盖板呈现特定图案或者纹理图案等。

当然，在其它实施例中，还可以直接在透明本体上面设置上述图案层或者纹理层。

在另一实施例中，可以第一基础层可以包括渐变色层，渐变色层包括第一颜色层及第二颜色层。

其中，第一颜色层及第二颜色层依次叠层设置在透明本体上，且第一颜色层位于第二颜色层与透明本体之间，第二颜色层位于第一颜色层与第一透明加硬层之间，且第二颜色层的面积小于第一颜色层的面积，以使得在从第一透明加硬层背离透明本体的一侧观察时，第一颜色层被第二颜色层覆盖的区域的颜色不同于第一颜色层未被第二颜色层覆盖的区域的颜色。

本实施例通过在第一颜色层上设置面积较小的第二颜色层，能够使盖板呈现两种不同色度或色值的蓝色，以使盖板呈现渐变陶瓷蓝色色彩。

其中，渐变色层可以通过如光学镀膜、物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、等离子增强的化学气相沉积(PECVD)、反应性DC射蚀、RF溅蚀或磁控溅射等沉积在透明本体上。

在其它实施例中，渐变色层还可以包括两层以上的颜色层，其中，每一层颜色层可以由纳米结构色晶体与光油混合构成。其中，纳米结构色晶体可以由多层光学干涉薄膜粉碎得到，多层光学干涉薄膜可以为具有交替沉积有第一折射率颜色层L1、L2和第二折射率颜色层H1、H2、H3的结构，也就是说，多层光学干涉薄膜可以包括依次层叠设置的第二折射率颜色层H1，第一折射率颜色层L1，第二折射率颜色层H3、第一折射率颜色层L2以及第二折射率颜色层H2。

在一具体应用中，可采用通过镀膜工艺在透明本体703上设置第一颜色层，并至少在第一颜色层的局部表面上设置第二颜色层。

具体的，至少在第一颜色层的局部表面喷涂颜色层材料，以形成第二颜色层。等待第一颜色层干燥后，可以向第一颜色层的表面喷涂覆盖一层第二颜色层。喷涂时第二颜色层的厚度可以由第一颜色层左侧边界处向右侧边界处逐渐变薄，以得到渐变效果。或者，等待第一颜色层干燥后，可以向第一颜色层局部表面喷涂至少一层第二颜色层。在其他实施例中，可以在第二颜色层干燥后，至少在第二颜色层的局部表面喷涂介质，以形成第三颜色层。其中，第一颜色层、第二颜色层和第三颜色层的厚度相同，但覆盖的面积逐渐减小。例如，第一颜色层覆盖面积为透明本体覆盖面积的100％，第二颜色层覆盖面积为透明本体覆盖面积的70％，第三颜色层为透明本体覆盖面积的30％。在此不做限定。

其中，第一颜色层、第二颜色层和第三颜色层的材料与上述实施例的颜色层的材料相同，在此不做赘述。

通过上述方式，在透明本体上设置渐变色层，可以使得盖板具有渐变色彩，使得盖板表面具有丰富的外观效果，提升了产品的外观美感，从而满足消费者对终端的外观效果的需求。

当然，在其它实施例中，可以将第二颜色层设置在第一颜色层背离透明本体的一侧，将第一颜色层设置成半透明颜色层，以使得在从透明加硬层背离透明本体的一侧观察时，第一颜色层与第二颜色层的重叠区域的颜色不同于第一颜色层的未被第二颜色层覆盖的其他区域的颜色。

在一实施例中，蓝色薄膜层可以包括图案层、纹理层及渐变色层或者包括这三层中的任意两层。

在一实施例中，蓝色薄膜层还可以进一步增透层，增透层可以设置在第一透明加硬层及第一基础层之间。

在一实施例中，盖板还可以进一步透明层，设置在透明本体与蓝色薄膜层之间，用于调节蓝色薄膜层的色值，且能够提高透明本体与蓝色薄膜层之间的结合力。

在一实施例中，盖板还可以包括设置在第一透明加硬层背离蓝色薄膜层一侧的防指纹层。其中，防指纹层包括具有疏水性和疏油性的聚合物涂层或者适当材料的镀膜。

本申请进一步提出一种终端，如图6所示，图6是本申请终端一实施例的结构示意图。终端601背面(背离显示屏的一侧)设置盖板602，并将盖板602的第一透明加硬层背离终端601设置。本实施例盖板602可以是上述各实施例盖板，其结构及工作原理，这里不赘述。

本实施例终端601可以包括手机、平板电脑或可穿戴设备等。

区别于现有技术，本申请实施例盖板包括透明本体和蓝色薄膜层，其中蓝色薄膜层进一步包括第一基础层及第一透明加硬层，其中，第一基础层及第一透明加硬层依次叠层设置在透明本体一表面上，第一基础层及第一透明加硬层配合以使得盖板呈现陶瓷蓝色。本申请实施例通过在透明本体上设置蓝色薄膜层，能够使盖板呈现陶瓷蓝色色彩，且蓝色薄膜层中设置有第一透明加硬层，能够提高盖板硬度和耐磨损性能。

以上所述仅为本申请的实施方式，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种盖板，其特征在于，所述盖板包括透明本体和蓝色薄膜层，其中所述蓝色薄膜层进一步包括第一基础层及第一透明加硬层，其中，所述第一基础层及所述第一透明加硬层依次叠层设置在所述透明本体一表面上，所述第一基础层及所述第一透明加硬层配合以使得所述盖板呈现陶瓷蓝色。

2.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述第一基础层包括氧化硅膜层、氧化铝膜层或氧化硅铝膜层的任一种或组合；

所述第一透明加硬层包括氮化物膜层、氮碳化物膜层、氮碳氧化物膜层或类金刚石膜层的任一种或组合。

3.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述蓝色薄膜层进一步包括过渡层，所述过渡层设置在所述透明本体与所述第一基础层之间。

4.根据权利要求3所述的盖板，其特征在于，所述过渡层包括氧化铌膜层，所述第一基础层包括氧化硅膜层，所述第一透明加硬层包括氮化硅膜层。

5.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述第一基础层的厚度范围为20nm-100nm；所述第一透明加硬层的厚度范围为50nm-200nm。

6.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述第一基础层的厚度范围为40nm-70nm；所述第一透明加硬层的厚度范围为50nm-80nm。

7.根据权利要求3所述的盖板，其特征在于，所述过渡层的厚度范围为15nm-150nm。

8.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述蓝色薄膜层进一步包括第二基础层及第二透明加硬层，其中，所述第二基础层及所述第二透明加硬层依次叠层设置在所述第一透明加硬层背离所述第一基础层的一表面上，所述第二基础层位于所述第一透明加硬层与所述第二透明加硬层之间。

9.根据权利要求3所述的盖板，其特征在于，所述过渡层、所述第一基础层和所述一透明加硬层的厚度设置成使的所述盖板表面的莫氏硬度大于7.0。

10.根据权利要求1所述的盖板，其特征在于，所述蓝色薄膜层的厚度设置成使得膜层在可见光380-780nm范围内的平均透过率大于或等于85％，且使得在自然环境下经所述盖板的透射光在CIE LAB色空间中的坐标值为：45≦L≦60，-5≦a≦5，-40≦b≦-20。