CN109677176A - 一种贴膜盖板及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本申请公开了一种贴膜盖板及其制造方法。该贴膜盖板包括盖板本体及设置在盖板本体的表面上的贴膜层，贴膜层包括贴膜本体、形成于贴膜本体的第一表面上的光栅图案及形成于贴膜本体的第二表面上的反射层，其中，第一表面与第二表面相对设置，光栅图案位于盖板本体与贴膜本体之间。通过上述方式，能够提高光栅图案的清晰度，减少化学污染。

Description

一种贴膜盖板及其制造方法
技术领域
本申请涉及材料领域，特别是涉及一种贴膜盖板其制造方法。
背景技术
对于汽车或终端等领域中所使用的盖板往往对其外观装饰有较高的要求，这种盖板通常采用丝印、转印、镀膜等工艺在基材上印刷图案，以实现光栅效果，但这些工艺制作的盖板存在表面光洁度不高、干涉性能不佳等问题，另外由于这些盖板刻蚀多采用化学腐蚀的方法，通常会有刻蚀不均匀、刻蚀图案偏差，导致光栅效果图案不清晰，及化学腐蚀溶液污染环境等问题。
发明内容
本申请提供一种贴膜盖板其制造方法，以提高光栅图案的清晰度，减少化学污染。
为解决上述技术问题，本申请采用的一个技术方案是：提供一种贴膜盖板。该贴膜盖板包括盖板本体及设置在盖板本体的表面上的贴膜层，贴膜层包括贴膜本体、形成于贴膜本体的第一表面上的光栅图案及形成于贴膜本体的第二表面上的反射层，其中，第一表面与第二表面相对设置，光栅图案位于盖板本体与贴膜本体之间。
其中，贴膜本体包括聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚氯乙烯膜或聚酯膜中的任一种或组合。
其中，盖板本体包括玻璃基板、PC基板和PMMA基板中的任一种或组合。
其中，光栅图案包括多个间隔设置的光栅条纹，光栅条纹的宽度为0.01mm-0.05mm，相邻两个光栅条纹之间的间距为0.01mm-0.05mm。
其中，光栅条纹的宽度为0.015mm-0.025mm，相邻两个光栅条纹之间的间距为0.015mm-0.025mm，且宽度与间距的比值为1:1。
其中，在光栅条纹之间的间隙内进形多个纳米微结构，纳米微结构的深度为10nm-50nm。
其中，贴膜层进一步包括与光栅条纹对应设置的透明掩膜条纹，其中透明掩膜条纹的厚度为5μm-30μm，透明掩膜条纹的宽度为0.01mm-0.05mm。
其中，反射层的厚度为10nm-50nm，反射层的折射率为2.0-2.8。
为解决上述技术问题，本申请采用的另一技术方案是：提供一种具有贴膜盖板的制造方法，该制造方法包括：在贴膜本体的第一表面上形成多个间隔设置的掩膜条纹；对掩膜条纹保护下的贴膜本体进行等离子蚀刻，以在掩膜条纹外露的贴膜本体表面上形成纳米微结构，进而在贴膜本体的表面上形成与掩膜条纹对应的光栅条纹；在贴膜本体的与第一表面相反的第二表面上形成反射膜；将贴膜本体的第一表面贴附于盖板本体的表面上。
为解决上述技术问题，本申请采用的又一技术方案是：提供一种终端，该终端包括上述贴膜盖板。
本申请的有益效果是：区别于现有技术，本申请实施例贴膜盖板包括盖板本体及设置在盖板本体的表面上的贴膜层，贴膜层包括贴膜本体、形成于贴膜本体的第一表面上的光栅图案及形成于贴膜本体的第二表面上的反射层，其中，第一表面与第二表面相对设置，光栅图案位于盖板本体与贴膜本体之间。通过上述方式，本申请实施例通过在盖板本体上设置具有光栅图案的贴膜层，能够实现贴膜盖板的光栅图案效果，且避免了利用化学腐蚀方法刻蚀盖板本体，能够减少化学污染；同时，本申请实施例通过在贴膜本体上设置光栅图案，能够利用光的反射式干涉使贴膜盖板具有更加炫目的光栅图案，且通过反射层能够增加入射光的反射强度，能够提高光栅图案的清晰度，因此，能够提高贴膜盖板的观赏性。
附图说明
图1是本申请贴膜盖板第一实施例的结构示意图；
图2是本申请贴膜盖板第二实施例的结构示意图；
图3是图2实施例贴膜盖板的制造方法一流程示意图；
图4是图2实施例贴膜盖板的制造方法的工艺流程示意图；
图5是图2实施例贴膜盖板的制造方法另一流程示意图；
图6是本申请贴膜盖板第三实施例的结构示意图；
图7是图6实施例贴膜盖板的制造方法一流程示意图；
图8是本申请终端一实施例的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
本申请首先提出一种贴膜盖板，如图1所示，本实施例贴膜盖板101包括盖板本体102及设置在盖板本体102的表面上的贴膜层103，贴膜层103包括贴膜本体104、形成于贴膜本体104的第一表面上的光栅图案105及形成于贴膜本体104的第二表面上的反射层106，其中，第一表面与第二表面相对设置，光栅图案105位于盖板本体102与贴膜本体104之间。
本实施例贴膜盖板101可以为终端的后盖，如手机的后盖等。在将贴膜盖板101安装于终端本体上时，贴膜盖板101的反射层106靠近终端本体设置，即盖板本体102为终端的外侧。
在其它实施例中，盖板还可以用于家电、汽车等产品。
入射光从盖板本体102背离光栅图案105的一侧入射，光栅图案105对入射光进行反射后产生干涉现象，光照时，在一定角度下观看贴膜盖板101，将能获取如CD盘表面一样的发散式光图案；同时，未被光栅图案103反射的入射光被反射层104反射至光栅图案103，光栅图案103对这部分反射光也会产生干涉现象，以提高光利用率，以提高盖板101光栅图案的清晰度及亮度。
本实施例通过在盖板本体102上设置具有光栅图案105的贴膜层103，能够实现贴膜盖板101的光栅图案效果，且避免了利用化学腐蚀方法刻蚀盖板本体102，能够减少化学污染；同时，本实施例通过在贴膜本体104上设置光栅图案105，能够利用光的反射式干涉使贴膜盖板101具有更加炫目的光栅图案，且通过反射层能够增加入射光的反射强度，能够提高光栅图案的清晰度，因此，能够提高贴膜盖板101的观赏性。
进一步地，从盖板本体102、贴膜本体103、光栅图案105及反射层106的材料考虑，为实现上述效果，盖板本体102包括玻璃基板、PC基板、PMMA基板和PET基板的至少一种或组合，其组合可以是PC、PMMA和PET三层复合基等；贴膜本体103包括聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚氯乙烯膜或聚酯膜中的任一种或组合；光栅图案105可以包括UV胶；反射层106为透明氧化物膜层，该透明氧化物膜层至少包括氧化钛膜层、氧化铌膜层、氧化锡膜层、氧化锌膜层或氧化锌锡膜层的任一种或组合。
进一步地，从反射层104的厚度考虑，为实现上述效果，反射层104的厚度范围可以为10nm-150nm，该厚度具体可以为10nm、30nm、50nm、70nm、90nm、110nm、130nm及150nm等。
进一步地，从反射层104的物理特征考虑，为实现上述效果，反射层104的折射率范围可以为2.0-2.8，该折射率具体可以为2.0、2.2、2.4、2.6及2.8等。
可选地，本实施例的光栅图案103包括多个间隔设置的光栅条纹105。
其中，光栅条纹的宽度范围可以为0.01mm-0.05mm，该宽度具体可以为0.01mm、0.02mm、0.03mm、0.04mm及0.05mm等；相邻两个光栅条纹105之间的间距范围可以为0.01mm-0.05mm，该间距具体可以为0.01mm、0.02mm、0.03mm、0.04mm及0.05mm等。
可选地，光栅条纹105的宽度范围优选为0.015mm-0.025mm，该宽度具体可以为0.015mm、0.017mm、0.19mm、0.021mm、0.023mm及0.025mm等；相邻两个光栅条纹105之间的间距范围优选为0.015mm-0.025mm，该间距具体可以为0.015mm、0.017mm、0.19mm、0.021mm、0.023mm及0.025mm等。
在一具体应用中，从光栅效果的物理特性考虑，为了获得45度光栅闪耀效果，光栅条纹105的宽度与相邻两个光栅条纹105之间的间距比为1:1。
在其它实施例中，为得到不同角度光栅闪耀效果，可以适应性调整光栅条纹的宽度与相邻两个光栅条纹之间的间距比值大小。
为进一步提高光栅图案的清晰度，本申请进一步第二实施例的贴膜盖板，如图2所示，本实施例的盖板201与上述实施例盖板的区别在于：本实施例的相邻两个光栅条纹202之间的间隙内形成有纳米微结构203，以使得光栅条纹202与间隙具有不同的光学特性。
由于未设置有纳米微结构的光栅条纹202与设置有纳米微结构203的相邻两个光栅条纹202之间的间隙，二者的物理微结构不同，因此，二者对光的反射、干涉等光学特性均不同。具体地，从盖板本体204入射的入射光及从反射层205反射的反射光经光栅条纹202、相邻两个光栅条纹202之间的间隙的光反射率、干涉及反射角度均存在明显的差异。例如，设置有纳米微结构203的间隙对入射光或者反射光会产生明显的漫反射。
可选地，本实施例的纳米微结构203的深度范围可以为10nm-50nm，该深度具体可以为10nm、30nm、40nm、50nm及60nm；纳米微结构203的宽度范围为100nm-200nm，该宽度具体可以是100m、120nm、140nm、160nm、180nm及200nm等。
本实施例的光栅条纹202的宽度可以与上述实施例光栅条纹的宽度相同，本实施例的相邻两个光栅条纹202之间的间距可以与上述实施例相邻两个光栅条纹之间的间距相同。
进一步地，在一具体应用中，纳米微结构203的深度可以优选为20nm-35nm，该深度具体可以为20nm、25nm、30nm及35nm；纳米微结构203的宽度可以优选为125-150nm，该宽度具体可以为125nm、130nm、135nm、140nm、145nm及150nm等。
本实施例通过在相邻两个光栅条纹202之间的间隙内形成有纳米微结构203，使光栅图案中的光栅条纹202与相邻两个光栅条纹202之间的间隙具有不同的光学特性，能够提高光的干涉反射性，能进一步提高光栅图案的清晰度。
需要注意的是，与上述实施例不同的是，本实施例的光栅条纹202除了包括UV胶条纹，而且还包括形成纳米微结构203时在贴膜本体206上形成的条纹，即两相邻纳米微结构203之间的结构部分。
本申请进一步提出一种贴膜盖板的制造方法，用于图2所示的贴膜盖板的制造。如图3及图4所示，本实施例的制造方法具体包括以下步骤：
进一步地，本实施例的盖板101可以通过如图3所示的方法制作，具体地，本实施例的方法包括以下步骤：
S301：在贴膜本体206的表面上形成多个间隔设置的掩膜条纹202。
由于贴膜本体206表面的洁净度对镀膜工艺影响较大，因此，在进行上述步骤S301之前，应对贴膜本体206的表面进行清洗，以达到镀膜工艺要求的表面洁净度。
具体可以通过如图5所示的方法对应对贴膜本体206的表面进行清理，本实施例的方法包括以下步骤：
S501：在第一超声波清洗槽内加入超声波清洗剂，将其加热到50℃，再将贴膜本体206放置第一超声波清洗槽内，并利用超声波清洗5分钟。
S502：在第二清洗槽内加入纯水，并将贴膜本体206放入第二超声波清洗槽内，进行超声漂洗2分钟。
S503：在第三超声波清洗槽中加入超声波清洗剂，将贴膜本体206放入其中，并在常温条件下进行超声波清洗2分钟。
S504：在第四至第七超声波清洗槽中加入纯水，将贴膜本体206依次放入其中，并依次进行超声波漂洗2分钟。
其中，纯水的电阻率≥18MΩ/CM3。
S505：将贴膜本体206置于第八超声波清洗槽中进行热烘干脱水。
上述清洗/烘干流程、清洗/烘干温度及清洗/烘干时间可以根据贴膜本体206的材料及表面粗糙度等因素进行适应性修改；本实施例还可以通过检测器自动检测每次清洗后的贴膜本体206的表面清洁度，并根据该清洁度调整或者规划后续的清洗/烘干的流程、清洗/烘干温度及清洗/烘干时间，以提高贴膜本体206进行清洗及烘干效率及效果。
进一步地，将热烘脱水后的贴膜本体206置于托盘内，准备进行光栅图案加工。
其中，本实施例的掩膜条纹202采用UV胶202。由于UV胶202的选择对图案印刷影响较大，因此优选通过视觉效果良好、耐磨性佳、不含溶剂、绿色环保型、旋转粘度在300-1000(mPa.S)的UV胶。在其它实施例中，掩膜条纹还可以采用有机热固化的胶水等
具体地，通过凹版图案印刷工艺将UV胶202附着在清洗干净的贴膜本体206的表面。其中，UV胶202的厚度范围可以为5μm-30μm，，该厚度具体可以为5μm、10μm、15μm、20μm、25μm及30μm等，UV胶202的宽度范围可以为0.01mm-0.05mm，该宽度具体可以为0.01mm、0.02mm、0.03mm、0.04mm及0.05mm等。
可选地，UV胶202的厚度范围优选为10μm-20μm微米，该厚度具体可以为10μm、12μm、14μm、16μm、18μm及20μm等；UV胶202的宽度范围优选为0.015mm-0.025mm，该宽度具体可以为0.015mm、0.017mm、0.19mm、0.021mm、0.023mm及0.025mm等。
从光栅效果的物理特性考虑，为了获得45度光栅闪耀效果，UV胶202的宽度与间距比为1:1。
进一步地，利用UV紫外固化技术将印刷完成的UV胶202固化在贴膜本体206表面。此工艺中，紫外固化设备选取比较重要，可以优先选择UV-LED面光源固化设备，采用5600mW/m2的紫外光输出照射强度对UV胶202进行固化，能够保证UV胶202固化的稳定性、可靠性及一致性。
S302：对掩膜条纹202保护下的贴膜本体206进行等离子蚀刻，以在掩膜条纹202外露的贴膜本体206的表面上形成纳米微结构203，进而在贴膜本体206的表面上形成与掩膜条纹202对应的光栅条纹。
需要注意的是，本实施例的光栅条纹除了包括掩膜条纹202，而且还包括形成纳米微结构203时在贴膜本体206上形成的条纹，即两相邻纳米微结构203之间的结构部分。
一具体应用中，在真空度为1.0pa-0.01pa、Ar气氛条件下对贴膜本体206表面进行等离子301刻蚀，形成纳米结构203，被掩膜条纹202的贴膜本体206不受刻蚀影响。该工艺的其它参数可参照表一
表一
样品 电压(V) 功率(W) Ar流量(Sccm) 刻蚀深度(nm)
1 1000 1000 200 100
2 15000 1500 300 175
3 2000 2000 400 250
S303：在贴膜本体206的与第一表面相反的第二表面上形成反射层205。
具体地，利用反射材料通过真空溅镀方式在贴膜本体206的第二表面上形成反射层205。
在上述步骤中，贴膜本体206、纳米微结构203、掩膜条纹202和反射层205可采用上文描述的各种材料，盖板本体204、纳米微结构203、光栅条纹202和反射层205的物理特性以及尺寸参数可设置成上文描述的各种数值范围。
本实施例的真空溅镀可采用中频反应溅射、射频溅射、高能脉冲溅射、磁控溅射中的一种或组合。其中，优选采用中频反应溅射。
在其它实施例中，还可以采用例如光学镀膜、物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、等离子增强的化学气相沉积(PECVD)、反应性DC射蚀等工艺在贴膜本体的表面上形成反射层。
S304：将贴膜本体206的第一表面贴附于盖板本体204的表面上。
具体地，可以利用转印贴合技术，将处理好的贴膜本体206和盖板本体204通过热压贴合设备紧密贴合。
区别于现有技术，本实施例通过在盖板本体上设置具有光栅图案的贴膜层，能够实现贴膜盖板的光栅图案效果，且避免了利用化学腐蚀方法刻蚀盖板本体，能够减少化学污染；同时，本申请实施例通过在贴膜本体上设置光栅图案，能够利用光的反射式干涉使贴膜盖板具有更加炫目的光栅图案，且通过反射层能够增加入射光的反射强度，能够提高光栅图案的清晰度，因此，能够提高贴膜盖板的观赏性。
本申请进一步提出第三实施例的贴膜盖板，如图6所示，本实施例具有光栅图案的盖板601在上述实施例的基础上进一步包括增透层602，增透层602设置在光栅图案603与盖板本体604之间，增透层602用于增加入射光的透过率。
进一步，在本实施方式中，增透膜602包括交错排布的SiO2条带及TiO2条带。可以理解，在其他实施方式中，也可以选用其他能增加光线透过率的膜材。
可选地，本实施例具有光栅图案的盖板601进一步包括：油墨层605，油墨层605设置在反射层606背离贴膜本体607的一侧，油墨层605用于能遮掩和装饰终端的内部器件。
上述实施例的光栅图案可以包括特定图案标识，如产品的Logo、产品所需的说明文字、产品图案及花纹等。
可以通过丝网印刷、辊筒印刷或喷墨打印技术中的至少一种在反射层606背离贴膜本体607的一侧的表面上设置油墨层605。
在一实施例中，为进一步丰富盖板的外观，可以在反射层背离光栅图案的一侧设置渐变色层。渐变色层包括多层油墨层。
具体地，在反射层606的表面上设置第一油墨层，并至少在第一油墨层的局部表面上设置第二油墨层，以在第一表面上形成渐变色层。
其中，可以通过如图7所示的方法在反射层606的上形成多层油墨层，本实施例的方法包括：
S701：获取渐变色层的配色方案。
具体的，可以通过计算机模拟程序设计渐变色层的配色方案，该配色方案可以包括第一油墨层、第二油墨层的厚度、覆盖面积以及颜色方案。
S702：根据配色方案制备至少一个遮蔽挡板。
具体的，根据配色方案设计得到遮蔽挡板，遮蔽挡板用于覆盖未设置有第一油墨层和第二油墨层的区域。
S703：在反射层606上放置遮蔽挡板。
其中，遮蔽挡板用于遮蔽第一区域，第一区域为反射层的第一表面上未设置有第一油墨层的区域。
S704：在反射层606上设置第一油墨层。
具体的，第一油墨层可以通过丝网印刷、辊筒印刷或喷墨打印技术打印或者印刷在反射层606的第一表面上。
S705：至少在第一油墨层的局部表面上放置遮蔽挡板。
其中，遮蔽挡板用于遮蔽第二区域，第二区域为第一油墨层上未设置有第二油墨层的区域。
S706：至少在第一油墨层的局部表面上设置第二油墨层。
具体的，第二油墨层可以通过丝网印刷、辊筒印刷或喷墨打印技术打印或者印刷在第一油墨层上。
进一步地，至少在第二油墨层的局部表面上放置遮蔽挡板。其中，遮蔽挡板用于覆盖第三区域，第三区域为第二油墨层上未设置有第n油墨层(n为大于2的整数)的区域。第n油墨层可以通过光学镀膜、物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、等离子增强的化学气相沉积(PECVD)、反应性DC射蚀、RF溅蚀或磁控溅射等工艺沉积在第二油墨层上。
通过本实施例中采用的遮蔽挡板方式，可以遮挡反射层、第一油墨层、第二油墨层或者第n油墨层的不同部位，以实现颜色渐变梯度明显的显现效果。
进一步地，喷涂时第二油墨层的厚度可以由第一油墨层左侧边界处向右侧边界处逐渐变薄，以得到渐变效果。或者，等待第一油墨层干燥后，可以向第一油墨层局部表面喷涂至少一层第二油墨层。在其他实施例中，可以在第二油墨层干燥后，至少在第二油墨层的局部表面喷涂油墨，以形成第三油墨层。其中，第一油墨层、第二油墨层和第三油墨层的厚度相同，但覆盖的面积逐渐减小。例如，第一油墨层覆盖面积为反射层606覆盖面积的100％，第二油墨层覆盖面积为反射层606覆盖面积的70％，第三油墨层为反射层606覆盖面积的30％。
第一油墨层、第二油墨层和第三油墨层的材料可以包括UV固化树脂、单体、光引发剂、砂粉和添加剂，其中，添加剂中可以包括颜料；UV固化树脂可以包括环氧丙烯酸树脂、乙氧基乙氧基乙基丙烯酸酯和改性聚氨酯树脂；单体可以包括TPGDA和HDDA；光引发剂可以为TPO；颜料可以为晾干型树脂颜料。
在一实施例中，渐变色层可以包括多层介质层，每一层介质层可以由纳米结构色晶体与光油混合构成。其中，纳米结构色晶体可以由多层光学干涉薄膜粉碎得到，多层光学干涉薄膜可以为具有交替沉积有第一折射率光学介质层L1、L2和第二折射率光学介质层H1、H2、H3的结构，也就是说，多层光学干涉薄膜可以包括依次层叠设置的第二折射率光学介质层H1，第一折射率光学介质层L1，第二折射率光学介质层H3、第一折射率光学介质层L2以及第二折射率光学介质层H2。
在一实施例中，为提高盖板的硬度和耐磨损性能，可以进一步在盖板本体背离光栅图案的一侧设置透明加硬层。
透明加硬层的材料包括氮化物以及类金刚石碳中的至少一种或组合。该氮化物还可以是氮硼化物或氮碳化物。例如，氮化硅、氮化铝、氮化钛、氮化铬、氮化钽、氮化锆、氮化硅铝、氮化钛铝、氮化铬铝、氮化铬钛铝、氮化铬硅铝、氮化硅钛铝、氮化硼、氮硼化钛、氮硼化铬、氮硼化钛铝、氮硼化钛硅、氮硼化硅钛铝、氮碳化钛、氮碳化铬、氮碳化锆、氮碳化钨中的至少一种或组合。
在一实施例中，为调节油墨层的色值，可以在油墨层靠近反射层的一侧设置透明层。
进一步，还可以在盖板本体背离光栅图案的一侧设置防指纹层。其中，防指纹层以采用具有疏水性和疏油性的聚合物涂层或者适当材料的镀膜。
本申请进一步提出一种终端，如图8所示，图8是本申请终端一实施例的结构示意图。本实施例终端801包括贴膜盖板802，设置在终端801的背离显示屏的一侧，且并将贴膜盖板802的盖板本体靠近终端本体803设置，即盖板本体为终端801背离显示屏的一侧的最外侧。
本实施例贴膜盖板802为上述实施例的贴膜盖板，其结构及工作原理，这里不赘述。
区别于现有技术，本申请实施例贴膜盖板包括盖板本体及设置在盖板本体的表面上的贴膜层，贴膜层包括贴膜本体、形成于贴膜本体的第一表面上的光栅图案及形成于贴膜本体的第二表面上的反射层，其中，第一表面与第二表面相对设置，光栅图案位于盖板本体与贴膜本体之间。通过上述方式，本申请实施例通过在盖板本体上设置具有光栅图案的贴膜层，能够实现贴膜盖板的光栅图案效果，且避免了利用化学腐蚀方法刻蚀盖板本体，能够减少化学污染；同时，本申请实施例通过在贴膜本体上设置光栅图案，能够利用光的反射式干涉使贴膜盖板具有更加炫目的光栅图案，且通过反射层能够增加入射光的反射强度，能够提高光栅图案的清晰度，因此，能够提高贴膜盖板的观赏性。
以上所述仅为本申请的实施方式，并非因此限制本申请的专利范围，凡是利用本申请说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本申请的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种贴膜盖板，其特征在于，所述贴膜盖板包括盖板本体及设置在所述盖板本体的表面上的贴膜层，所述贴膜层包括贴膜本体、形成于所述贴膜本体的第一表面上的光栅图案及形成于所述贴膜本体的第二表面上的反射层，其中，所述第一表面与所述第二表面相对设置，所述光栅图案位于所述盖板本体与所述贴膜本体之间。
2.根据权利要求1所述的贴膜盖板，其特征在于，所述贴膜本体包括聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚氯乙烯膜或聚酯膜中的任一种或组合。
3.根据权利要求1所述贴膜盖板，其特征在于，所述盖板本体包括玻璃基板、PC基板和PMMA基板中的任一种或组合。
4.根据权利要求1所述的贴膜盖板，其特征在于，所述光栅图案包括多个间隔设置的光栅条纹，所述光栅条纹的宽度为0.01mm-0.05mm，相邻两个所述光栅条纹之间的间距为0.01mm-0.05mm。
5.根据权利要求4所述的贴膜盖板，其特征在于，所述光栅条纹的宽度为0.015mm-0.025mm，相邻两个所述光栅条纹之间的间距为0.015mm-0.025mm，且所述宽度与所述间距的比值为1:1。
6.根据权利要求4所述的贴膜盖板，其特征在于，在所述光栅条纹之间的间隙内进形多个纳米微结构，所述纳米微结构的深度为10nm-50nm。
7.根据权利要求4所述的贴膜盖板，其特征在于，所述贴膜层进一步包括与所述光栅条纹对应设置的透明掩膜条纹，其中所述透明掩膜条纹的厚度为5μm-30μm，所述透明掩膜条纹的宽度为0.01mm-0.05mm。
8.根据权利要求1所述的贴膜盖板，其特征在于，所述反射层的厚度为10nm-150nm，所述反射层的折射率为2.0-2.8。
9.一种贴膜盖板的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括：
在贴膜本体的第一表面上形成多个间隔设置的掩膜条纹；
对所述掩膜条纹保护下的所述贴膜本体进行等离子蚀刻，以在所述掩膜条纹外露的所述贴膜本体表面上形成纳米微结构，进而在所述贴膜本体的表面上形成与所述掩膜条纹对应的光栅条纹；
在所述贴膜本体的与所述第一表面相反的第二表面上形成反射层；
将所述贴膜本体的第一表面贴附于盖板本体的表面上。
10.一种终端，其特征在于，所述终端包括权利要求1-8所述的贴膜盖板。
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