CN106033273A - 触摸屏盖板的制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种触摸屏盖板的制备方法。该触摸屏盖板的制备方法包括如下步骤：在基板的一个表面的中部形成保护膜；在基板的该表面的未被保护膜遮盖处形成反射层，且反射层环绕保护膜，反射层为金属单质层、金属合金层、化合物层或硅层，化合物层选自氧化物层、氟化物层、硫化锌层、硒化锌层、氮化钛层、碳化硅层、钛酸镧层、钛酸钡层、钛酸锶层、钛酸镨层及硫化镉层中的一种；去除保护膜；在反射层上形成油墨层，得到触摸屏盖板，且油墨层可使经过反射层的光反射回反射层，上述制备方法操作简单，且制备出的触摸屏盖板具有较好的光泽度。
Description
技术领域
本发明涉触摸屏领域，尤其涉及一种触摸屏盖板的制备方法。
背景技术
随着智能手机和平板电脑的普及，触摸屏(Touch Panel)的制作工艺不断改进，电容式触摸屏盖板已成为当前的主流。现阶段的触摸屏盖板的边框大都是采用丝印油墨的工艺加工，而传统的黑白色外观已无法满足消费者对时尚的追求，各种彩色边框手机渐渐受到大众青睐，虽然油墨颜色繁多，但是由于油墨自身光泽暗淡，使得触摸屏盖板都显得暗淡无光。
发明内容
鉴于此，有必要提供一种触摸屏盖板的制备方法，该制备方法较为简单、且能够制备出光泽度较好的触摸屏盖板。
一种触摸屏盖板的制备方法，包括：
在基板的一个表面的中部形成保护膜；
在所述基板的所述表面的未被所述保护膜遮盖处形成反射层，且所述反射层环绕所述保护膜，所述反射层为金属单质层、金属合金层、化合物层或硅层，所述化合物层选自氧化物层、氟化物层、硫化锌层、硒化锌层、氮化钛层、碳化硅层、钛酸镧层、钛酸钡层、钛酸锶层、钛酸镨层及硫化镉层中的一种；
去除所述保护膜；
在所述反射层上形成油墨层，得到所述触摸屏盖板，且所述油墨层可使经过所述反射层的光反射回所述反射层。
在其中一个实施例中，所述氧化物层选自氧化铝层、一氧化硅层、二氧化硅层、二氧化钛层、二氧化锆层、二氧化铪层、一氧化钛层、五氧化三钛层、五氧化二铌层、五氧化二钽层、氧化钇层及氧化锌层中的一种；所述氟化物层选自氟化钕层、氟化钡层、氟化铈层、氟化镁层、氟化镧层及氟化钇层中的一种。
在其中一个实施例中，所述金属单质层选自铝层、铜层、钛层、金层、银层、铟层、镁层、锌层、铂层、锗层、镍层及铬层中的一种。
在其中一个实施例中，所述金属合金层选自金镍合金层、镍铬合金层、钛铝合金层、铜铟镓合金层、铜铟镓硒合金层、锌铝合金层、铝硅合金层及金锗合金层中的一种。
在其中一个实施例中，在所述基板的一个表面的中部形成所述保护膜的方法为丝网印刷、喷涂或转印。
在其中一个实施例中，所述保护膜的材料为可溶性油墨，去除所述保护膜的步骤具体为：将所述基板在超声条件下于水或去除液中浸泡1～5分钟。
在其中一个实施例中，所述保护膜的材料为可溶性油墨，去除所述保护膜的步骤具体为：将所述基板于水或去除液中喷淋，以去除所述保护膜。
在其中一个实施例中，所述保护膜的材料为可剥胶，去除所述保护膜的步骤具体为：撕除所述保护膜。
在其中一个实施例中，在所述基板的所述表面的未被所述保护膜遮盖处形成所述反射层的方法为真空蒸镀法、磁控溅射法、离子蒸镀法、化学蒸镀法、电化学镀膜法、化学气相沉积法或物理气相沉积法。
在其中一个实施例中，在所述反射层上形成所述油墨层的方法为丝网印刷、喷涂或转印。
上述触摸屏盖板的制备方法通过先进行区域保护来制备得到上述触摸屏盖板，操作十分简单；由于光是一种具有一定波长的电磁波，而光在不同介质中的传播速度不同，当光线传播到两种介质的界面时，一部分光线会反射回原物质，另一部分光线会发生偏转，使得光发生反射和折射，而现有油墨对光的反射率较低，致使触摸屏盖板暗淡无光，而上述制备方法制备得到的触摸屏盖板通过在基板和油墨层之间形成无机层，且反射层为金属单质层、金属合金层、化合物层或硅层，化合物层选自氧化物层、氟化物层、硫化锌层、硒化锌层、氮化钛层、碳化硅层、钛酸镧层、钛酸钡层、钛酸锶层、钛酸镨层及硫化镉层中的一种，上述材料能够改善界面反射，从而有效地提高整体的反射率，使得触摸屏盖板具有较好的光泽度，以使触摸屏盖板焕发光泽。
附图说明
图1为一实施方式的触摸屏盖板的制备方法的流程图；
图2为图1中的基板的结构示意图；
图3为图2的基板上形成保护膜后的结构示意图；
图4为图3的形成有保护膜后的基板的分解图；
图5为图3的基板形成反射层后的结构示意图；
图6为图5的形成反射层后的基板的分解图；
图7为图5的基板去除了保护膜后的结构示意图；
图8为图7的去除保护膜后的分解图；
图9为图7的基板形成油墨层后的结构示意图；
图10为图9的形成有油墨层后的基板的分解图。
具体实施方式
为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳的实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。
需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
如图1所示，一实施方式的触摸屏盖板的制备方法，包括如下步骤：
步骤S110：在基板的一个表面的中部形成保护膜。
请参阅图2，图2为还未形成保护膜的基板200。
其中，基板为玻璃板、石英板、氧化铝板或透明有机板。
基板的厚度为0.01～10毫米；优选的，基板的厚度为0.1～5毫米；更优选的，基板的厚度为0.3～2毫米。
请参阅图3和图4，在基板200的一个表面的中部形成有保护膜300。
保护膜的材料可以为可剥胶或可溶性油墨。
可溶性油墨可以为水溶性油墨，可以理解，可溶性油墨不限为水溶性油墨，能够使用中性去除液去除的可溶性油墨均可，例如深圳云谷半导体有限公司的保护油墨3586。
具体的，在基板的一个表面的形成保护膜的方法为丝网印刷、喷涂或转印。
步骤S120：在基板的上述表面的未被保护膜遮盖处形成反射层，且反射层环绕保护膜。
请参阅图5和图6，保护膜300位于基板200的一个表面的中部，反射层400沿基板200的一个表面的边缘一周设置，反射层400与保护膜300位于基板200的同一个表面上。且反射层400与保护膜300共同遮蔽基板200的该表面。
优选的，反射层的厚度为0.1纳米～10微米；进一步的，反射层的厚度为1纳米～1微米；更优选的，反射层的厚度为3～300纳米。
可以理解，反射层的层数可以为一层，也可以为多层。当反射层为多层时，各层反射层的材料可以相同，也可以不相同。当反射层为多层时，多层反射层的总厚度为50nm～1μm。
其中，反射层为金属单质层、金属合金层、化合物层或硅层。
金属单质层选自铝层、铜层、钛层、金层、银层、铟层、镁层、锌层、铂层、锗层、镍层及铬层中的一种。
金属合金层选自金镍合金层、镍铬合金层、钛铝合金层、铜铟镓合金层、铜铟镓硒合金层、锌铝合金层、铝硅合金层及金锗合金层中的一种。
化合物层选自氧化物层、氟化物层、硫化锌层、硒化锌层、氮化钛层、碳化硅层、钛酸镧层、钛酸钡层、钛酸锶层、钛酸镨层及硫化镉层中的一种。
氧化物层选自氧化铝层、一氧化硅层、二氧化硅层、二氧化钛层、二氧化锆层、二氧化铪层、一氧化钛层、五氧化三钛层、五氧化二铌层、五氧化二钽层、氧化钇层及氧化锌层中的一种。
氟化物层选自氟化钕层、氟化钡层、氟化铈层、氟化镁层、氟化镧层及氟化钇层中的一种。
具体的，在基板的上述表面的未被保护膜遮盖处形成反射层的方法为真空热蒸镀法、磁控溅射法、离子蒸镀法、化学镀层法、电化学镀膜法、化学气相沉积法或物理气相沉积法。
步骤S130：去除保护膜。
请一并参阅图7及图8，去除保护膜300后，基板200的一个表面的未被保护膜遮盖处上设置有反射层400。
当保护膜的材料为可剥胶时，去除保护膜的步骤具体为：撕除保护膜。
当保护膜的材料为可溶性油墨时，去除保护膜的步骤具体为：将基板在超声条件下于水或去除液中浸泡1～5分钟；或者还可以将基板在20～150℃的条件下于水或去除液中浸泡1～5分钟。或者，去除保护膜的步骤具体为：将基板于水或去除液中喷淋，以去除保护膜。
其中，去除液可以为深圳云谷半导体有限公司生产的中性涂层去除液Y3001。
步骤S140：在反射层上形成油墨层，得到触摸屏盖板，其中，油墨层可使经过反射层的光反射回反射层。
请参阅图9和图10，形成油墨层500后，得到触摸屏盖板，其中，基板200的一个表面的边缘一周上形成有反射层400及层叠于反射层400上油墨层500，且油墨层500的形状与反射层400的形状一致。
具体的，油墨层的材料为热固化型油墨或UV固化型油墨。其中，热固化形油墨，具体的，当油墨层的材料为热固化型油墨时，油墨层在形成过程中的固化步骤具体为：130～170℃固化10～30分钟。
当油墨层的材料为UV固化油墨时，在紫外线下曝光1～2分钟。
具体的，在反射层上形成油墨层的方法为丝网印刷、喷涂或转印。
可以理解，油墨层的层数可以为一层或者多层。当油墨层为一层时，该层油墨层的厚度为1纳米～1毫米；当油墨层为多层时，多层油墨层的总厚度为1纳米～1毫米；优选的，所有油墨层的总厚度为1微米～100微米；更优选的，所有油墨层的总厚度为5微米～20微米。
可以理解，上述触摸屏盖板的制备方法不限于上述制备顺序，还可以将步骤S130和步骤S140的顺序调换，即先形成油墨层，后去除保护膜。
上述触摸屏盖板的制备方法通过先进行区域保护来制备得到上述触摸屏盖板，操作十分简单；由于光是一种具有一定波长的电磁波，而光在不同介质中的传播速度不同，当光线传播到两种介质的界面时，一部分光线会反射回原物质，另一部分光线会发生偏转，使得光发生反射和折射，而现有油墨对光的反射率较低，致使触摸屏盖板暗淡无光，而上述制备方法制备得到的触摸屏盖板通过在基板和油墨层之间形成无机层，且反射层为金属单质层、金属合金层、化合物层或硅层，化合物层选自氧化物层、氟化物层、硫化锌层、硒化锌层、氮化钛层、碳化硅层、钛酸镧层、钛酸钡层、钛酸锶层、钛酸镨层及硫化镉层中的一种，上述材料能够改善界面反射，从而有效地提高整体的反射率，使得触摸屏盖板具有较好的光泽度，以使触摸屏盖板焕发光泽。
以下为具体实施例部分：
实施例1
本实施例的触摸屏盖板的制备步骤如下：
(1)在厚度为0.1毫米的玻璃基板的一个表面的中部转印可剥蓝胶，经160℃下烘烤15分钟，形成保护膜。
(2)采用真空热蒸镀法在玻璃基板的上述表面的未被保护膜遮盖处形成厚度为10纳米的镍层，且镍层环绕保护膜。
(3)撕去保护膜，在反射层上丝网印刷热固化型油墨，经150℃固化20分钟，形成厚度为1毫米的油墨层，接着清洗干净，得到触摸屏盖板。
使用反色率测定仪测试本实施例得到的触摸屏盖板的反射率，使用标准光泽度检定仪器测试本实施例得到的触摸屏盖板的光泽度，本实施例的触摸屏盖板的反射率及光泽度见表1。
实施例2
本实施例的触摸屏盖板的制备步骤如下：
(1)在厚度为5毫米的石英基板的一个表面的中部丝网印刷水溶性保护油墨，经150℃下烘烤15分钟，形成保护膜。
(2)采用磁控溅射法在石英基板的上述表面的未被保护膜遮盖处形成依次层叠且厚度为30纳米的第一二氧化硅层、厚度为45纳米的第一氧化铝层、厚度为45纳米的第二二氧化硅层、厚度为50纳米的第二氧化铝层及厚度为50纳米的第三二氧化硅层，即五层反射层。
(3)在第三二氧化硅层上丝网印刷热固化型油墨，经130℃固化30分钟，形成厚度为1纳米的油墨层。
(4)将步骤(3)的基板用纯水喷淋去除保护膜，接着清洗干净，得到触摸屏盖板。
采用实施例1相同的测试方法，得到本实施例的触摸屏盖板的反射率和光泽度见表1。
实施例3
本实施例的触摸屏盖板的制备步骤如下：
(1)在厚度为0.01毫米的氧化铝基板的的一个表面的中部喷涂深圳云谷半导体有限公司的保护油墨3586，经160℃下烘烤15分钟，形成保护膜。
(2)采用化学镀膜法在氧化铝基板的上述表面的未被保护膜遮盖处形成依次层叠且厚度为25纳米的第一二氧化硅层、厚度为30纳米的第一氧化铝层、厚度为30纳米的第一二氧化钛层、厚度为40纳米的第二二氧化硅层、厚度为50纳米的第二氧化铝层、厚度为30纳米的第二二氧化钛层及厚度为45纳米的第三二氧化硅层，即七层反射层。
(3)将步骤(2)的基板于超声条件下在深圳云谷半导体有限公司生产的中性涂层去除液Y3001中浸泡1分钟，去除保护膜，接着清洗干净。
(4)在步骤(3)的基板的第三二氧化硅层上丝网印刷热固化型油墨，经170℃固化10分钟，形成厚度为5微米的油墨层，接着清洗干净，得到触摸屏盖板。
采用实施例1相同的测试方法，得到本实施例的触摸屏盖板的反射率和光泽度见表1。
实施例4
本实施例的触摸屏盖板的制备步骤如下：
(1)在厚度为10毫米的基板的一个表面的中部丝网印刷深圳云谷半导体有限公司的保护油墨3586，经160℃下烘烤15分钟，形成保护膜，基板为透明有机板。
(2)采用真空热蒸镀法在基板的上述表面的未被保护膜遮盖处形成依次层叠且厚度为25纳米的一氧化硅层、厚度为30纳米的氟化钕层、厚度为30纳米的铝层、厚度为40纳米的金镍合金层及厚度为70纳米的硫化锌层，即五层反射层。
(3)将步骤(2)的基板于超声条件下在深圳云谷半导体有限公司生产的中性涂层去除液Y3001中浸泡5分钟，去除保护膜，接着清洗干净。
(4)在步骤(3)的基板的硫化锌层上喷涂热固化型油墨，经130℃固化30分钟，形成厚度为30微米的油墨层，接着清洗干净，得到触摸屏盖板。
采用实施例1相同的测试方法，得到本实施例的触摸屏盖板的反射率和光泽度见表1。
实施例5
本实施例的触摸屏盖板的制备步骤如下：
(1)在厚度为1毫米的玻璃基板的一个表面的中部喷涂深圳云谷半导体有限公司的保护油墨3586，经150℃下烘烤30分钟，形成保护膜。
(2)采用真空热蒸镀法在基板的上述表面的未被保护膜遮盖处形成依次层叠且厚度为25纳米的二氧化锆层、厚度为30纳米的一氧化钛层、厚度为30纳米的氟化铈层、厚度为40纳米的镁层、厚度为3纳米的银层、厚度为300纳米的硅层、厚度为0.1纳米的金锗合金层及厚度为70纳米的钛酸钡层，即八层反射层。
(3)将步骤(2)的基板于超声条件下在深圳云谷半导体有限公司生产的中性涂层去除液Y3001中浸泡1分钟，去除保护膜，接着清洗干净。
(4)在步骤(3)的基板的钛酸钡层上转印UV固化型油墨，在紫外线下曝光1分钟固化，形成厚度为1微米的油墨层，接着清洗干净，得到触摸屏盖板。
采用实施例1相同的测试方法，得到本实施例的触摸屏盖板的反射率和光泽度见表1。
实施例6
本实施例的触摸屏盖板的制备步骤如下：
(1)在厚度为1毫米的玻璃基板的一个表面的中部喷涂深圳云谷半导体有限公司的保护油墨3586，经170℃下烘烤10分钟，形成保护膜。
(2)采用电化学镀膜法在基板的上述表面的未被保护膜遮盖处形成依次层叠且厚度为1纳米的二氧化铪层、厚度为30纳米的氟化钡层、厚度为30纳米的铜层及厚度为100纳米的硒化锌层，即四层反射层。
(3)将步骤(2)的基板于超声条件下在深圳云谷半导体有限公司生产的中性涂层去除液Y3001中浸泡3分钟，去除保护膜，接着清洗干净。
(4)在步骤(3)的基板的硒化锌层上转印热固化型油墨，经150℃固化15分钟，形成厚度为100微米的油墨层，接着清洗干净，得到触摸屏盖板。
采用实施例1相同的测试方法，得到本实施例的触摸屏盖板的反射率和光泽度见表1。
实施例7
本实施例的触摸屏盖板的制备步骤如下：
(1)在厚度为1毫米的玻璃基板的一个表面的中部喷涂水溶性油墨，经130℃下烘烤30分钟，形成保护膜。
(2)采用化学气相沉积法在基板的上述表面的未被保护膜遮盖处形成依次层叠且厚度为1微米的五氧化二铌层及厚度为300纳米的钛层，即两层反射层。
(3)将步骤(2)的基板于超声条件下在纯水中浸泡3分钟，去除保护膜，接着清洗干净。
(4)在步骤(3)的基板的硒化锌层上丝网印刷UV固化型油墨，在紫外线下曝光2分钟固化，形成厚度为20微米的油墨层，接着清洗干净，得到触摸屏盖板。
采用实施例1相同的测试方法，得到本实施例的触摸屏盖板的反射率和光泽度见表1。
实施例8
本实施例的触摸屏盖板的制备步骤如下：
(1)在厚度为1毫米的玻璃基板的一个表面的中部喷涂深圳云谷半导体有限公司的保护油墨3586，经160℃下烘烤20分钟，形成保护膜。
(2)采用物理气相沉积法在基板的上述表面的未被保护膜遮盖处形成厚度为10微米的氧化钇层。
(3)将步骤(2)的基板于超声条件下在深圳云谷半导体有限公司生产的中性涂层去除液Y3001中浸泡2分钟，去除保护膜，接着清洗干净。
(4)在步骤(3)的基板的氧化钇层上丝网印刷热固化型油墨，经160℃固化14分钟，形成厚度为10微米的油墨层，接着清洗干净，得到触摸屏盖板。
采用实施例1相同的测试方法，得到本实施例的触摸屏盖板的反射率和光泽度见表1。
实施例9
本实施例的触摸屏盖板的制备步骤如下：
(1)在厚度为0.3毫米的玻璃基板的一个表面的中部喷涂深圳云谷半导体有限公司的保护油墨3586，经170℃下烘烤10分钟，形成保护膜。
(2)采用真空热蒸镀法在基板的上述表面的未被保护膜遮盖处形成依次层叠且厚度为25纳米的五氧化三钛层、厚度为30纳米的氟化钡层、厚度为30纳米的金层、厚度为40纳米的铟层、厚度为50纳米的镍铬合金层、厚度为30纳米的铝硅合金层及厚度为45纳米的氮化钛层，即七层反射层。
(3)将步骤(2)的基板于150℃的条件下在深圳云谷半导体有限公司生产的中性涂层去除液Y3001中浸泡1分钟，去除保护膜，接着清洗干净。
(4)在步骤(3)的基板的氮化钛层上丝网印刷热固化型油墨，经170℃固化10分钟，形成厚度为15微米的油墨层，接着清洗干净，得到触摸屏盖板。
采用实施例1相同的测试方法，得到本实施例的触摸屏盖板的反射率和光泽度见表1。
实施例10
本实施例的触摸屏盖板的制备步骤如下：
(1)在厚度为2毫米的玻璃基板的一个表面的中部丝网印刷深圳云谷半导体有限公司的保护油墨3586，经150℃下烘烤30分钟，形成保护膜。
(2)采用真空热蒸镀法在基板的上述表面的未被保护膜遮盖处形成依次层叠且厚度为25纳米的五氧化二钽层、厚度为30纳米的氟化镁层及厚度为300纳米的钛层，即三层反射层。
(3)将步骤(2)的基板于20℃的条件下在深圳云谷半导体有限公司生产的中性涂层去除液Y3001中浸泡5分钟，去除保护膜，接着清洗干净。
(4)在步骤(3)的基板的钛层上丝网印刷UV固化型油墨，在紫外线下曝光1分钟固化，形成厚度为25微米的油墨层，接着清洗干净，得到触摸屏盖板。
采用实施例1相同的测试方法，得到本实施例的触摸屏盖板的反射率和光泽度见表1。
实施例11
本实施例的触摸屏盖板的制备步骤如下：
(1)在厚度为10毫米的玻璃基板的一个表面的中部丝网印刷水溶性油墨，经130℃下烘烤30分钟，形成保护膜。
(2)采用真空热蒸镀法在基板的上述表面的未被保护膜遮盖处形成依次层叠且厚度为25纳米的硅层、厚度为30纳米的锌层、厚度为30纳米的氟化镧层、厚度为40纳米的氧化锌层、厚度为50纳米的钛酸锶层、厚度为30纳米的碳化硅、厚度为45纳米的钛铝合金层及厚度为10纳米的铂层，即八层反射层。
(3)将步骤(2)的基板于超声条件下在水中浸泡3分钟，去除保护膜，接着清洗干净。
(4)在步骤(3)的基板的铂层上丝网印刷第一层热固化型油墨，经170℃固化10分钟，形成第一层油墨层，再在第一油墨层上丝印两层油墨层，分别经固化，形成三层油墨层，且三层油墨层的总厚度为30微米，接着清洗干净，得到触摸屏盖板。
采用实施例1相同的测试方法，得到本实施例的触摸屏盖板的反射率和光泽度见表1。
实施例12
本实施例的触摸屏盖板的制备步骤如下：
(1)在厚度为5毫米的玻璃基板的一个表面的中部丝网印刷深圳云谷半导体有限公司的保护油墨3586，经170℃下烘烤10分钟，形成保护膜。
(2)采用离子蒸镀法在基板的上述表面的未被保护膜遮盖处形成依次层叠且厚度为25纳米的氟化钇层、厚度为30纳米的锗层、厚度为30纳米的铜铟镓合金层、厚度为40纳米的钛酸镧层、厚度为50纳米的铜铟镓硒合金层、厚度为30纳米的钛酸镨层、厚度为45纳米的锌铝合金层及厚度为10纳米的硫化镉层，即八层反射层。
(3)将步骤(2)的基板于超声条件下在深圳云谷半导体有限公司生产的中性涂层去除液Y3001中浸泡5分钟，去除保护膜，接着清洗干净。
(4)在步骤(3)的基板的硫化镉层上丝网印刷第一层热固化型油墨，经150℃固化20分钟，形成第一层油墨层，再在第一油墨层上丝印四层油墨层，分别经固化，形成五层油墨层，且五层油墨层的总厚度为20微米，接着清洗干净，得到触摸屏盖板。
采用实施例1相同的测试方法，得到本实施例的触摸屏盖板的反射率和光泽度见表1。
对比例1
对比例1的触摸屏盖板的制备步骤如下：
采用真空热蒸镀法在厚度为0.1毫米的玻璃基板上丝网印刷热固化型油墨，经150℃固化20分钟，形成厚度为1毫米的油墨层，接着清洗干净，得到触摸屏盖板。
采用实施例1相同的测试方法，得到对比例1的触摸屏盖板的反射率和光泽度见表1。
表1表示的实施例1～12及对比例1的触摸屏盖板的反射率和光泽度。
表1
| 反射率(％) | 光泽度(％) | |
| 实施例1 | 96.5 | 94.1 |
| 实施例2 | 97.2 | 94.3 |
| 实施例3 | 98 | 94.2 |
| 实施例4 | 98.4 | 94.3 |
| 实施例5 | 97.7 | 94.5 |
| 实施例6 | 97.5 | 94.1 |
| 实施例7 | 96.9 | 94.4 |
| 实施例8 | 97.8 | 94.3 |
| 实施例9 | 98.3 | 94.5 |
| 实施例10 | 97.5 | 94.1 |
| 实施例11 | 97 | 94.2 |
| 实施例12 | 98.6 | 94.1 |
| 对比例1 | 95.2 | 92.4 |
从表1中可以看出，实施例1～实施例12的触摸屏盖板的反射率和光泽度分别至少为96.5％和94.1％，而对比例1的触摸屏盖板的反射率和光泽度分别为95.2％和92.4％，显然，实施例1～12的触摸屏盖板具有更好的反射率和光泽度。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种触摸屏盖板的制备方法，其特征在于，包括：
在基板的一个表面的中部形成保护膜；
在所述基板的所述表面的未被所述保护膜遮盖处形成反射层，且所述反射层环绕所述保护膜，所述反射层为金属单质层、金属合金层、化合物层或硅层，所述化合物层选自氧化物层、氟化物层、硫化锌层、硒化锌层、氮化钛层、碳化硅层、钛酸镧层、钛酸钡层、钛酸锶层、钛酸镨层及硫化镉层中的一种；
去除所述保护膜；
在所述反射层上形成油墨层，得到所述触摸屏盖板，且所述油墨层可使经过所述反射层的光反射回所述反射层。
2.根据权利要求1所述的触摸屏盖板的制备方法，其特征在于，所述氧化物层选自氧化铝层、一氧化硅层、二氧化硅层、二氧化钛层、二氧化锆层、二氧化铪层、一氧化钛层、五氧化三钛层、五氧化二铌层、五氧化二钽层、氧化钇层及氧化锌层中的一种；所述氟化物层选自氟化钕层、氟化钡层、氟化铈层、氟化镁层、氟化镧层及氟化钇层中的一种。
3.根据权利要求1所述的触摸屏盖板的制备方法，其特征在于，所述金属单质层选自铝层、铜层、钛层、金层、银层、铟层、镁层、锌层、铂层、锗层、镍层及铬层中的一种。
4.根据权利要求1所述的触摸屏盖板的制备方法，其特征在于，所述金属合金层选自金镍合金层、镍铬合金层、钛铝合金层、铜铟镓合金层、铜铟镓硒合金层、锌铝合金层、铝硅合金层及金锗合金层中的一种。
5.根据权利要求1所述的触摸屏盖板的制备方法，其特征在于，在所述基板的一个表面的中部形成所述保护膜的方法为丝网印刷、喷涂或转印。
6.根据权利要求1所述的触摸屏盖板的制备方法，其特征在于，所述保护膜的材料为可溶性油墨，去除所述保护膜的步骤具体为：将所述基板在超声条件下于水或去除液中浸泡1～5分钟。
7.根据权利要求1所述的触摸屏盖板的制备方法，其特征在于，所述保护膜的材料为可溶性油墨，去除所述保护膜的步骤具体为：将所述基板于水或去除液中喷淋，以去除所述保护膜。
8.根据权利要求1所述的触摸屏盖板的制备方法，其特征在于，所述保护膜的材料为可剥胶，去除所述保护膜的步骤具体为：撕除所述保护膜。
9.根据权利要求1所述的触摸屏盖板的制备方法，其特征在于，在所述基板的所述表面的未被所述保护膜遮盖处形成所述反射层的方法为真空蒸镀法、磁控溅射法、离子蒸镀法、化学蒸镀法、电化学镀膜法、化学气相沉积法或物理气相沉积法。
10.根据权利要求1所述的触摸屏盖板的制备方法，其特征在于，在所述反射层上形成所述油墨层的方法为丝网印刷、喷涂或转印。
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