CN204480207U - 触摸屏盖板 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种触摸屏盖板。该触摸屏盖板包括基板、反射层及油墨层；反射层形成于基板的一个表面上，且反射层沿基板的边缘设置一周，反射层为金属单质膜或化合物膜，化合物膜选自氧化物膜、氟化物膜、硫化锌膜、硒化锌膜、氮化钛膜、碳化硅膜、钛酸镧膜、钛酸钡膜、钛酸锶膜、钛酸镨膜及硫化镉膜中的一种；油墨层设置于反射层上，且油墨层可使经过反射层的光反射回反射层。上述触摸屏盖板具有较高的反射率，使得上述触摸屏盖板的光泽度较好。
Description
技术领域
本实用新型涉触摸屏领域，尤其涉及一种触摸屏盖板。
背景技术
随着智能手机和平板电脑的普及，触摸屏(Touch Panel)的制作工艺不断改进，电容式触摸屏盖板已成为当前的主流。现阶段的触摸屏盖板的边框大都是采用丝印黑白色油墨的工艺，而黑白色外观已无法满足消费者对时尚的追求，因此，各种边框彩色手机渐渐受到大众青睐。虽然油墨颜色繁多，但是由于油墨自身光泽暗淡，使得触摸屏盖板都显得暗淡无光。
实用新型内容
鉴于此，有必要提供一种光泽度较好的触摸屏盖板。
一种触摸屏盖板，包括：
基板；
反射层，形成于所述基板的一个表面上，且所述反射层沿所述基板的边缘设置一周，所述反射层为金属单质膜或化合物膜，所述化合物膜选自氧化物膜、氟化物膜、硫化锌膜、硒化锌膜、氮化钛膜、碳化硅膜、钛酸镧膜、钛酸钡膜、钛酸锶膜、钛酸镨膜及硫化镉膜中的一种；及
油墨层，设置于所述反射层上，且所述油墨层可使经过所述反射层的光反射回所述反射层。
在其中一个实施例中，所述基板为玻璃板、石英板、氧化铝板或透明有机板。
在其中一个实施例中，所述氧化物膜选自氧化铝膜、一氧化硅膜、二氧化硅膜、二氧化钛膜、二氧化锆膜、二氧化铪膜、一氧化钛膜、五氧化三钛膜、五氧化二铌膜、五氧化二钽膜、氧化钇膜及氧化锌膜中的一种。
在其中一个实施例中，所述氟化物膜选自氟化钕膜、氟化钡膜、氟化铈膜、氟化镁膜、氟化镧膜及氟化钇膜中的一种。
在其中一个实施例中，所述金属单质膜选自铜膜、钛膜、金膜、银膜、铟膜、镁膜、锌膜、铂膜、锗膜、镍膜及铬膜中的一种。
在其中一个实施例中，所述反射层的厚度为0.1纳米～10微米。
在其中一个实施例中，所述反射层的厚度为1纳米～1微米。
在其中一个实施例中，所述基板的厚度为0.1～5毫米。
在其中一个实施例中，所述反射层为多层。
在其中一个实施例中，所述油墨层为热固化型油墨层或UV固化型油墨层。
由于光是一种具有一定波长的电磁波，而光在不同介质中的传播速度不同，当光线传播到两种介质的界面时，一部分光线会反射回原物质，另一部分光线会发生偏转，使得光发生反射和折射，而现有油墨对光的反射率较低，致使触摸屏盖板暗淡无光，而上述触摸屏盖板通过在基板和油墨层之间设置反射层，使得经过反射层的光在反射层和油墨层的接触界面反射回反射层，且反射层为金属单质膜或化合物膜，化合物膜选自氧化物膜、氟化物膜、硫化锌膜、硒化锌膜、氮化钛膜、碳化硅膜、钛酸镧膜、钛酸钡膜、钛酸锶膜、钛酸镨膜及硫化镉膜中的一种，上述材质的反射层能够提高反射层和油墨层的接触界面的反射率，从而有效地提高整体的反射率，以使触摸屏盖板具有较好的光泽度。
附图说明
图1为一实施方式的触摸屏盖板的结构示意图；
图2为图1所示的触摸屏盖板的分解图；
图3为一实施方式的触摸屏的制备方法的流程图；
图4为图3中的基板的结构示意图；
图5为图4的基板形成有无机膜后的示意图；
图6为图5的形成有无机膜的基板的分解图；
图7为图5的基板形成有油墨层后的示意图；
图8为图7的形成有油墨层的基板的分解图。
具体实施方式
为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的较佳的实施例。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本实用新型的公开内容的理解更加透彻全面。
需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
如图1及图2所示，一实施方式的触摸屏盖板100，包括基板110、反射层120及油墨层130。
其中，基板110为玻璃板、石英板、氧化铝板或透明有机板。
基板110的厚度为0.01～10毫米；优选的，基板110的厚度为0.1～5毫米；更优选的，基板110的厚度为0.3～2毫米。
反射层120形成于基板110的一个表面上，且反射层120沿基板110的边缘设置一周。即反射层120将基板110分割为显示区域和环绕显示区域的非显示区域，非显示区域的位置与反射层120相对应。
其中，反射层120为金属单质膜或化合物膜。
金属单质膜选自铜膜、钛膜、金膜、银膜、铟膜、镁膜、锌膜、铂膜、锗膜、镍膜及铬膜中的一种。
化合物膜选自氧化物膜、氟化物膜、硫化锌膜、硒化锌膜、氮化钛膜、碳化硅膜、钛酸镧膜、钛酸钡膜、钛酸锶膜、钛酸镨膜及硫化镉膜中的一种。
氧化物膜选自氧化铝膜、一氧化硅膜、二氧化硅膜、二氧化钛膜、二氧化锆膜、二氧化铪膜、一氧化钛膜、五氧化三钛膜、五氧化二铌膜、五氧化二钽膜、氧化钇膜及氧化锌膜中的一种。
氟化物膜选自氟化钕膜、氟化钡膜、氟化铈膜、氟化镁膜、氟化镧膜及氟化钇膜中的一种。
优选的，反射层120的厚度为0.1纳米～10微米；进一步的，反射层120的厚度为1纳米～1微米；更优选的，反射层120的厚度为3～300纳米。
其中，反射层120为多层。其中，多层反射层120的材质可以相同，也可以不相同。可以理解，反射层120的层数可以为一层。
油墨层130设置于反射层120上，且油墨层130可使经过反射层120的光反射回反射层120。其中，油墨层130的形状与反射层120的形状一致。
油墨层130为热固化型油墨层或UV固化型油墨层。例如，热固化型油墨层的材料可以为TAIYO INK公司的S-200系列HD-3油墨；UV固化型油墨层的材料可以为嘉宝莉公司的cc-103型油墨。
可以理解，油墨层130的层数可以为一层或者多层。所有油墨层130的总厚度为1纳米～1毫米。即当油墨层130为一层时，该层油墨层130的厚度为1纳米～1毫米；当油墨层130为多层时，多层油墨层130的厚度之和为1纳米～1毫米；优选的，所有油墨层130的总厚度为1微米～100微米；更优选的，所有油墨层130的总厚度为3微米～20微米。
由于光是一种具有一定波长的电磁波，而光在不同介质中的传播速度不同，当光线传播到两种介质的界面时，一部分光线会反射回原物质，另一部分光线会发生偏转，使得光发生反射和折射，而现有油墨对光的反射率较低，致使触摸屏盖板暗淡无光，而上述触摸屏盖板100通过在基板110和油墨层130之间设置反射层120，且反射层120为金属单质膜或化合物膜，所述化合物膜选自氧化物膜、氟化物膜、硫化锌膜、硒化锌膜、氮化钛膜、碳化硅膜、钛酸镧膜、钛酸钡膜、钛酸锶膜、钛酸镨膜及硫化镉膜中的一种，上述反射层120能够改善界面反射，从而有效地提高整体的反射率，致使触摸屏盖板100具有较好的光泽度。
如图3所示，一实施方式的触摸屏盖板的制备方法，可用于制备上述触摸
屏盖板。本实施方式的触摸屏盖板的制备方法包括如下步骤：
步骤S210：在基板的一个表面上涂覆无机材料，且使无机材料遮盖基板的该表面，形成无机膜。
其中，基板为玻璃板、石英板、氧化铝板或透明有机板。请一并参阅图4，图4为基板300的结构示意图。
基板的厚度为0.01～10毫米；优选的，基板的厚度为0.1～5毫米；更优选的，基板的厚度为0.3～2毫米。
请一并参阅图5及图6，基板300的一个表面上涂覆无机材料后，形成无机膜400，无机膜400的形状大小与基板300的该表面的形状大小一致。
无机材料为金属单质或化合物，化合物选自氧化物、氟化物、硫化锌、硒化锌、氮化钛、碳化硅、钛酸镧、钛酸钡、钛酸锶、钛酸镨及硫化镉中的一种。
金属单质选自铜、钛、金、银、铟、镁、锌、铂、锗、镍及铬中的一种。
氧化物选自氧化铝、一氧化硅、二氧化硅、二氧化钛、二氧化锆、二氧化铪、一氧化钛、五氧化三钛、五氧化二铌、五氧化二钽、氧化钇及氧化锌中的一种。
氟化物选自氟化钕、氟化钡、氟化铈、氟化镁、氟化镧及氟化钇中的一种。
优选的，反射层的厚度为0.1纳米～10微米；进一步的，反射层的厚度为1纳米～1微米；更优选的，反射层的厚度为3～300纳米。
具体的，反射层的层数可以为一层也可以为多层。可以理解，反射层的层数可以为一层也可以为多层。其中，当反射层为多层时，多层反射层的材质可以相同，也可以不相同。
其中，在基板的一个表面上涂覆无机材料的方法可以为真空热蒸镀法、磁控溅射法、离子蒸镀法、化学镀膜法、电化学镀膜法、化学气相沉积法或物理气相沉积法。
步骤S220：在无机膜的边缘一周上涂覆油墨，经固化，形成油墨层，且油墨层遮盖部分无机膜。
请一并参阅图7及图8，在无机膜400上涂覆油墨后，在无机膜400上形成了油墨层500，油墨层500沿基板的形成有无机膜400的一面的边缘一周设置。
油墨层的材料为热固化型油墨或UV固化型油墨。
其中，热固化型油墨的固化温度为100～200℃，固化时间为10～30分钟；UV固化型油墨的固化能量为300～1200mJ/cm2。
具体的，油墨层的层数可以为一层或者多层。所有油墨层的总厚度为1纳米～1毫米。即当油墨层为一层时，该层油墨层的厚度为1纳米～1毫米；当油墨层为多层时，多层油墨层的厚度之和为1纳米～1毫米；优选的，所有油墨层的总厚度为1微米～100微米；更优选的，所有油墨层的总厚度为3微米～20微米。
其中，在无机膜上涂覆油墨的方法为丝网印刷、喷涂或转印。
步骤S230：将未被油墨层遮盖的无机膜去除，剩余的无机膜为反射层，得到触摸屏盖板，油墨层可使经过反射层的光反射回反射层。
即步骤S230之后，便得到如图1和图2所示的触摸屏盖板。
将未被油墨层遮盖的无机膜去除的步骤可以具体为：使用退镀剂喷淋基板，以去除未被油墨层遮盖的无机膜。
将未被油墨层遮盖的无机膜去除优选为如下方法，将基板在20～150℃的条件下于退镀剂中浸泡0.5～10分钟，以去除未被油墨层遮盖的无机膜。优选的，退镀时的温度为30～100℃；更优选的，退镀时的温度为45～75℃。
或者，将基板在超声条件下于退镀剂中浸泡0.5～10分钟，其中，超声强度为2KHz～1000KHz，去除未被油墨层遮盖的无机膜去除。优选的，退镀时的超声强度为10KHz～100KHz；更优选的，退镀时的超声强度为20KHz～60KHz。
其中，退镀剂可以为天津天龙洗涤剂有限公司的碱性退镀液F-15或深圳泽康科技有限公司的酸性退镀液301。
优选的，退镀剂按照质量份数包括如下组分：75％～80％的酸、15％～20％的缓冲剂及3％～15％的氧化剂。
其中，酸优选为氢氟酸(HF)、硫酸(H2SO4)、盐酸(HCl)、硝酸(HNO3)、磺酸(R-SO3H)、亚磺酸(R-SOOH)、羧酸(R-COOH)或硫羧酸(R-COSH)。羧酸可以为甲酸、乙酸、丙酸等。
缓冲剂优选为柠檬类缓冲剂、醋酸类缓冲剂或胺类缓冲剂。例如，柠檬类缓冲剂可以为柠檬酸钾缓冲剂；醋酸类缓冲剂可以为无水醋酸钠缓冲剂；胺类缓冲剂可以为Tris等。
氧化剂优选为高锰酸盐、重铬酸盐、过氧化氢、次氯酸盐或高氯酸盐。例如，高锰酸盐可以为高锰酸钾；重铬酸盐可以为重铬酸钾、重铬酸钠等；次氯酸盐可以为次酸氯钾、次氯酸钠等；高氯酸盐可以为高氯酸钾、高氯酸钠等。
上述触摸屏盖板的制备方法较为简单，加工工序较少。
以下为具体实施例部分：
实施例1
本实施例的触摸屏盖板的制备步骤如下：
(1)采用真空热蒸镀法在厚度为0.1毫米的玻璃基板的一个表面上蒸镀氧化铝，且使蒸镀的氧化铝遮盖玻璃基板的该表面，形成厚度为10微米的氧化铝膜。
(2)在沿氧化铝膜的边缘一周上丝网印刷热固化型油墨，经100℃固化30分钟，形成厚度为1毫米的、沿基板的边缘一周的油墨层，以使油墨层遮盖部分无机膜。
(3)使用退镀剂喷淋基板10分钟，以将未被油墨层遮盖的无机膜去除，剩余的无机膜即为反射层，经清洗后，继续按照设计要求完成后续步骤，得到触摸屏盖板，其中，退镀剂按照质量份数包括如下组分：78％的硫酸、15％的柠檬酸钾缓冲剂及7％的高锰酸钾。
使用反射率测定仪测试本实施例的触摸屏盖板的反射率，使用标准光泽度检定仪器测试本实施例的触摸屏盖板的光泽度。本实施例的触摸屏盖板的反射率和光泽度见表1。
实施例2
本实施例的触摸屏盖板的制备步骤如下：
(1)采用磁控溅射法在厚度为5毫米的石英基板的一个表面上溅射二氧化钛，且使溅射的二氧化钛遮盖基板的该表面，形成厚度为300纳米的二氧化钛膜。
(2)在沿二氧化钛膜的边缘一周上丝网印刷热固化型油墨，经200℃固化10分钟，形成厚度为1纳米的、沿基板的边缘一周的油墨层，以使油墨层遮盖部分无机膜。
(3)将基板浸泡于盛装有退镀剂的退镀槽中，强度为60KHz的超声条件下浸泡0.5～10分钟，去除未被油墨层遮盖的无机膜去除，剩余的无机膜即为反射层，经清洗后，继续按照设计要求完成后续步骤，得到触摸屏盖板，其中，退镀剂按照质量份数包括如下组分：75％的氢氟酸、15％的无水醋酸钠缓冲剂及10％的过氧化氢。
采用实施例1相同的测试方法，得到本实施例的触摸屏盖板的反射率和光泽度见表1。
实施例3
本实施例的触摸屏盖板的制备步骤如下：
(1)采用化学镀膜法在厚度为0.01毫米的氧化铝基板的一个表面上镀铬，且使镀的铬遮盖玻璃基板的该表面，形成厚度为1微米的铬膜。
(2)在沿铬膜的边缘一周上丝网印刷热固化型油墨，经150℃固化15分钟，形成第一油墨层，以遮盖铬膜，然后在第一油墨层上在丝网印刷热固化油墨，经固化，形成第二油墨层，两层油墨层的总厚度为1微米。
(3)将基板浸泡于盛装有天津天龙洗涤剂有限公司的碱性退镀液F-15的退镀槽中，100℃浸泡6分钟，将未被油墨层遮盖的去除，剩余的无机膜即为反射层，经清洗后，继续按照设计要求完成后续步骤，得到触摸屏盖板。
采用实施例1相同的测试方法，得到本实施例的触摸屏盖板的反射率和光泽度见表1。
实施例4
本实施例的触摸屏盖板的制备步骤如下：
(1)采用真空热蒸镀法在厚度为10毫米的透明有机板的一个表面上蒸镀二氧化硅，使其遮盖透明有机板的该表面，以形成厚度为30纳米的第一二氧化硅膜，然后在第一二氧化硅膜上再依次蒸镀氧化铝、二氧化硅、氧化铝及二氧化硅，形成厚度为45纳米的第一氧化铝膜、厚度为45纳米的第二二氧化硅膜、厚度为50纳米的第二氧化铝膜及厚度为50纳米的第三二氧化硅膜，即五层依次层叠的无机膜层。
(2)在沿第三二氧化硅膜的边缘一周上丝网印刷UV固化型油墨，经UV固化，形成沿基板的边缘一周的第一油墨层，以遮盖部分第三二氧化硅膜，再在第一油墨层上丝网印刷两次UV固化型油墨，经固化，形成依次层叠于第一油墨层上的第二油墨层和第三油墨层，且三层油墨层的总厚度为100微米，固化时的能量为1200mJ/cm2。
(3)将基板浸泡于盛装有退镀剂的退镀槽中，45℃浸泡5分钟，将未被油墨层遮盖的无机膜去除，剩余的有机膜即为反射层，即形成五层沿基板的边缘一周且层叠的反射层，经清洗后，继续按照设计要求完成后续步骤，得到触摸屏盖板，其中，退镀剂按照质量份数包括如下组分：80％的盐酸、17％的Tris胺类缓冲剂及3％的重铬酸钾。
采用实施例1相同的测试方法，得到本实施例的触摸屏盖板的反射率和光泽度见表1。
实施例5
本实施例的触摸屏盖板的制备步骤如下：
(1)采用真空热蒸镀法在厚度为1毫米的玻璃基板的一个表面上蒸镀二氧化硅，且使二氧化硅遮盖基板的该表面，形成厚度为25纳米的第一二氧化硅膜，再在二氧化硅膜上依次蒸镀形成厚度为30纳米的第一氧化铝膜、厚度为30纳米的第一二氧化钛膜、厚度为40纳米的第二二氧化硅膜、厚度为50纳米的第二氧化铝膜、厚度为30纳米的第二二氧化钛膜及厚度为45纳米的第三二氧化硅膜，即七层依次层叠的无机膜。
(2)在沿第三二氧化硅膜的边缘一周上丝网印刷UV固化型油墨，经UV固化，固化时的能量为800mJ/cm2，形成厚度为3微米的油墨层，以遮盖部分第三二氧化硅膜。
(3)将基板浸泡于盛装有深圳泽康科技有限公司的酸性退镀液301的退镀槽中，在强度为1000KHz的超声条件下浸泡0.5分钟，将未被油墨层遮盖的无机膜去除，剩余的有机膜即为反射层，即形成七层沿基板的边缘一周且层叠的反射层，经清洗后，继续按照设计要求完成后续步骤，得到触摸屏盖板。
采用实施例1相同的测试方法，得到本实施例的触摸屏盖板的反射率和光泽度见表1。
实施例6
本实施例的触摸屏盖板的制备步骤如下：
(1)采用真空热蒸镀法在厚度为0.3毫米的玻璃基板的一个表面上蒸镀一氧化硅，且使蒸镀的一氧化硅遮盖基板的该表面，形成厚度为0.1纳米的一氧化硅膜；再在一氧化硅膜上依次蒸镀厚度为1纳米的二氧化锆膜、厚度为3纳米的氧化锌膜、厚度为30纳米的二氧化铪膜、厚度为50纳米的铜膜、厚度为60纳米的硫化锌膜及厚度为100纳米的钛酸钡膜，即七层依次层叠的无机膜。
(2)在沿钛酸钡膜的边缘一周上丝网印刷热固化型油墨，经150℃固化15分钟，形成第一油墨层，以遮盖部分钛酸钡膜，再在第一油墨层上丝网印刷三次热固化型油墨，形成依次层第一油墨层上的第二油墨层、第三油墨层及第四油墨层，且四层油墨层的总厚度为20微米。
(3)将基板浸泡于盛装有退镀剂的退镀槽中，在强度为20KHz的超声条件下浸泡10分钟，去除未被油墨层遮盖的无机膜，剩余的有机膜即为反射层，即形成七层沿基板的边缘一周且层叠的反射层，经清洗后，继续按照设计要求完成后续步骤，得到触摸屏盖板，其中，退镀剂按照质量份数包括如下组分：75％的硝酸、18％的无水醋酸钠缓冲剂及7％的次酸氯钾。
采用实施例1相同的测试方法，得到本实施例的触摸屏盖板的反射率和光泽度见表1。
实施例7
本实施例的触摸屏盖板的制备步骤如下：
(1)采用真空热蒸镀法在厚度为2毫米的玻璃基板的一个表面上蒸镀一氧化钛，使其遮盖玻璃基板的该表面，以形成厚度为3纳米的一氧化钛膜，再在一氧化钛膜上蒸镀依次形成厚度为50纳米的五氧化三钛膜、厚度为20纳米的氧化钇膜、厚度为30纳米的氟化钕膜及厚度为80纳米的氟化钡膜，即五层依次层叠的无机膜。
(2)在沿氟化钡膜的边缘一周上丝网印刷UV固化型油墨，固化能量为300mJ/cm2，经固化，形成厚度为1纳米的油墨层，以遮盖部分氟化钡膜。
(3)将基板浸泡于盛装有退镀剂的退镀槽中，30℃浸泡8分钟，去除未被油墨层遮盖的无机膜，剩余的有机膜即为反射层，即形成五层沿基板的边缘一周且层叠的反射层，经清洗后，继续按照设计要求完成后续步骤，得到触摸屏盖板，其中，退镀剂按照质量份数包括如下组分：70％的磺酸、15％的柠檬酸钾缓冲剂及15％的次酸氯钾。
采用实施例1相同的测试方法，得到本实施例的触摸屏盖板的反射率和光泽度见表1。
实施例8
本实施例的触摸屏盖板的制备步骤如下：
(1)采用电化学镀膜法在厚度为2毫米的玻璃基板的一个表面上电镀五氧化二铌，且使五氧化二铌遮盖玻璃基板的该表面，形成厚度为3纳米的五氧化二铌膜，再在五氧化二铌膜上依次电镀形成厚度为50纳米的氟化铈膜、厚度为20纳米的钛膜、厚度为30纳米的硒化锌膜、厚度为80纳米的钛酸镧膜及厚度为100纳米的镁膜，即六层依次层叠的无机膜。
(2)在沿镁膜的边缘一周上丝网印刷UV固化型油墨，经固化，固化能量为800mJ/cm2，形成沿基板的边缘一周的第一油墨层，以遮盖部分镁膜，再在第一油墨上丝网印刷UV固化型油墨，形成第二油墨层，且两层油墨层的总厚度为10微米。
(3)将基板浸泡于盛装有退镀剂的退镀槽中，150℃浸泡0.5分钟，去除未被油墨层遮盖的无机膜，剩余的有机膜即为反射层，即形成六层沿基板的边缘一周且层叠的反射层，经清洗后，继续按照设计要求完成后续步骤，得到触摸屏盖板，其中，退镀剂按照质量份数包括如下组分：80％的亚磺酸、17％的无水醋酸钠缓冲剂及3％的高氯酸钾。
采用实施例1相同的测试方法，得到本实施例的触摸屏盖板的反射率和光泽度见表1。
实施例9
本实施例的触摸屏盖板的制备步骤如下：
(1)采用化学气相沉积法在厚度为2毫米的玻璃基板的一个表面上沉积金，且使沉积的金遮盖玻璃基板的该表面，形成厚度为3纳米的金膜，再在金膜上依次沉积厚度为50纳米的五氧化二钽膜、厚度为20纳米的银膜、厚度为30纳米的氮化钛膜、厚度为80纳米的铟膜及厚度为100纳米的钛酸锶膜，即六层依次层叠的无机膜。
(2)在沿钛酸锶膜的边缘一周上丝网印刷热固化型油墨，经200℃固化10分钟，形成第一油墨层，以遮盖部分钛酸锶膜，再在第一油墨层上丝网印刷热固化型油墨，形成第二油墨层，且两层油墨层的总厚度为15微米。
(3)将基板浸泡于盛装有退镀剂的退镀槽中，20℃浸泡10分钟，去除未被油墨层遮盖的无机膜，剩余的有机膜即为反射层，即形成六层沿基板的边缘一周且层叠的反射层，经清洗后，继续按照设计要求完成后续步骤，得到触摸屏盖板，其中，退镀剂按照质量份数包括如下组分：75％的乙酸、20％的柠檬酸钾缓冲剂及5％的高氯酸钠。
采用实施例1相同的测试方法，得到本实施例的触摸屏盖板的反射率和光泽度见表1。
实施例10
本实施例的触摸屏盖板的制备步骤如下：
(1)采用物理气相沉积法在厚度为2毫米的玻璃基板的一个表面上沉积氟化镁，且沉积的镁遮盖玻璃基板的该表面，形成厚度为3纳米的氟化镁膜，再在氟化镁膜上沉积形成厚度为50纳米的锌膜、厚度为20纳米的碳化硅膜、厚度为30纳米的氟化镧膜、厚度为80纳米的铂膜、厚度为100纳米的钛酸镨膜及厚度为70纳米的锗膜，即七层依次层叠的无机膜。
(2)在沿锗膜的边缘一周上丝网印刷UV固化型油墨，经UV固化，形成沿基板的边缘一周的第一油墨层，以遮盖部分锗膜，再在第一油墨层上丝网印刷UV固化型油墨，形成第二油墨层，且两层油墨层的总厚度为5微米，固化能量为900mJ/cm2。
(3)将基板浸泡于盛装有退镀剂的退镀槽中，75℃浸泡5分钟，去除未被油墨层遮盖的无机膜，剩余的有机膜即为反射层，即形成七层沿基板的边缘一周且层叠的反射层，经清洗后，继续按照设计要求完成后续步骤，得到触摸屏盖板，其中，退镀剂按照质量份数包括如下组分：80％的硫羧酸、15％的柠檬酸钾缓冲剂及5％的次氯酸钠。
采用实施例1相同的测试方法，得到本实施例的触摸屏盖板的反射率和光泽度见表1。
实施例11
本实施例的触摸屏盖板的制备步骤如下：
(1)采用真空热蒸镀法在厚度为2毫米的玻璃基板的一个表面上蒸镀镍，且使蒸镀的镍遮盖基板的一个表面，形成厚度为10纳米的镍膜，再在镍膜上蒸镀形成厚度为300纳米的硫化镉膜，即两层依次层叠的无机膜。
(2)在硫化镉膜的边缘一周上丝网印刷UV固化型油墨，固化能量为500mJ/cm2，经固化，形成厚度为15微米、且沿基板的边缘一周的的油墨层。
(3)将基板浸泡于盛装有退镀剂的退镀槽中，在强度为100KHz的超声条件下浸泡9分钟，去除未被油墨层遮盖的无机膜，剩余的无机膜即为反射层，经清洗后，继续按照设计要求完成后续步骤，得到触摸屏盖板，其中，退镀剂按照质量份数包括如下组分：75％的氢氟酸、15％的无水醋酸钠缓冲剂及10％的重铬酸钠。
采用实施例1相同的测试方法，得到本实施例的触摸屏盖板的反射率和光泽度见表1。
对比例1
对比例1的触摸屏盖板的制备步骤如下：
采用真空热蒸镀法在厚度为0.1毫米的玻璃基板的一个表面、且沿基板的边缘一周丝网印刷热固化型油墨，经100℃固化30分钟，形成厚度为1毫米的油墨层，得到触摸屏盖板。
采用实施例1相同的测试方法，得到对比例1的触摸屏盖板的反射率和光泽度见表1。
表1表示的实施例1～11及对比例1的触摸屏盖板的反射率和光泽度。
表1
| 反射率(％) | 光泽度(％) | |
| 实施例1 | 97 | 94.1 |
| 实施例2 | 97.2 | 94.3 |
| 实施例3 | 97.1 | 94.2 |
| 实施例4 | 98 | 94.1 |
| 实施例5 | 96.4 | 94.5 |
| 实施例6 | 98.5 | 94.4 |
| 实施例7 | 97.7 | 94.2 |
| 实施例8 | 98.3 | 94.3 |
| 实施例9 | 97.5 | 94.3 |
| 实施例10 | 96.8 | 94.1 |
| 实施例11 | 98.3 | 94.6 |
| 对比例1 | 95.4 | 92.1 |
从表1中可以看出，实施例1～11的触摸屏盖板的反射率和光泽度分别至少为96.8％和94.1％，而对比例1的触摸屏盖板的反射率和光泽度分别为95.4％和92.1％，显然，实施例1～11的触摸屏盖板具有更好地反射率和光泽度。
以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种触摸屏盖板，其特征在于，包括：
基板；
反射层，形成于所述基板的一个表面上，且所述反射层沿所述基板的边缘设置一周，所述反射层为金属单质膜或化合物膜，所述化合物膜选自氧化物膜、氟化物膜、硫化锌膜、硒化锌膜、氮化钛膜、碳化硅膜、钛酸镧膜、钛酸钡膜、钛酸锶膜、钛酸镨膜及硫化镉膜中的一种；及
油墨层，设置于所述反射层上，且所述油墨层可使经过所述反射层的光反射回所述反射层。
2.根据权利要求1所述的触摸屏盖板，其特征在于，所述基板为玻璃板、石英板、氧化铝板或透明有机板。
3.根据权利要求1所述的触摸屏盖板，其特征在于，所述氧化物膜选自氧化铝膜、一氧化硅膜、二氧化硅膜、二氧化钛膜、二氧化锆膜、二氧化铪膜、一氧化钛膜、五氧化三钛膜、五氧化二铌膜、五氧化二钽膜、氧化钇膜及氧化锌膜中的一种。
4.根据权利要求1所述的触摸屏盖板，其特征在于，所述氟化物膜选自氟化钕膜、氟化钡膜、氟化铈膜、氟化镁膜、氟化镧膜及氟化钇膜中的一种。
5.根据权利要求1所述的触摸屏盖板，其特征在于，所述金属单质膜选自铜膜、钛膜、金膜、银膜、铟膜、镁膜、锌膜、铂膜、锗膜、镍膜及铬膜中的一种。
6.根据权利要求1所述的触摸屏盖板，其特征在于，所述反射层的厚度为0.1纳米～10微米。
7.根据权利要求6所述的触摸屏盖板，其特征在于，所述反射层的厚度为1纳米～1微米。
8.根据权利要求1所述的触摸屏盖板，其特征在于，所述基板的厚度为0.1～5毫米。
9.根据权利要求1所述的触摸屏盖板，其特征在于，所述反射层为多层。
10.根据权利要求1所述的触摸屏盖板，其特征在于，所述油墨层为热固化型油墨层或UV固化型油墨层。
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