JP4773145B2 - 増反射膜付きAg又はAg合金反射電極膜及びその製造方法 - Google Patents
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(比較例1)
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- Ag膜又はAg合金膜上に導電性を有する増反射膜が積層されたAg又はAg合金反射電極膜であって、
前記増反射膜が、1.7以下の屈折率を有するITO膜からなる第一の透明膜と、この第一の透明膜の屈折率より0.2以上大きい屈折率を有するIn2O3系酸化物膜、ZnO系酸化物膜、及びSnO2系酸化物膜のいずれかの膜からなる第二の透明膜とを、この第一の透明膜及び第二の透明膜の順序で2n層(nは1以上の整数である)積層した膜であることを特徴とする増反射膜付きAg又はAg合金反射電極膜。 - 前記第一の透明膜が、有機インジウム化合物及び有機スズ化合物からなる塗布溶液を塗布して得られる塗膜の大気中熱処理、及び真空中加熱処理により得られるITO膜であることを特徴とする請求項1記載の増反射膜付きAg又はAg合金反射電極膜。
- 前記第二の透明膜が、スパッタリング法、イオンプレーティング法又は真空蒸着法で得られることを特徴とする請求項1又は2記載の増反射膜付きAg又はAg合金反射電極膜。
- 前記In2O3系酸化物膜が、In2O3膜、ITO膜、及びIZO膜のいずれかの膜であり、ZnO系酸化物膜が、ZnO膜、AZO膜及びGZO膜のいずれかの膜であり、また、SnO2系酸化物膜が、SnO2膜、及びATO膜のいずれかの膜であることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項記載の増反射膜付きAg又はAg合金反射電極膜。
- 基板上に設けたAg膜又はAg合金膜上に、有機インジウム化合物及び有機スズ化合物からなる塗布溶液を塗布し、得られる塗膜付き基板を大気中で熱処理し、次いで真空中で加熱処理して屈折率の低い第一の透明膜としてのITO膜を形成し、このITO膜上に、スパッタリング法、イオンプレーティング法又は真空蒸着法で、屈折率の高い第二の透明膜としてのIn2O3系酸化物膜、ZnO系酸化物膜、及びSnO2系酸化物膜のいずれかの膜を形成して、増反射電極膜を作製すること、そしてこの第一の透明膜及び第二の透明膜をこの順序で2n層(nは1以上の整数である)積層することを特徴とする増反射膜付きAg又はAg合金反射電極膜の製造方法。
- 前記第一の透明膜の屈折率が1.7以下であり、前記第二の透明膜の屈折率が1.7を超えることを特徴とする請求項5記載の増反射膜付きAg又はAg合金反射電極膜の製造方法。
- 前記In2O3系酸化物膜が、In2O3膜、ITO膜、及びIZO膜のいずれかの膜であり、ZnO系酸化物膜が、ZnO膜、AZO膜及びGZO膜のいずれかの膜であり、また、SnO2系酸化物膜が、SnO2膜、及びATO膜のいずれかの膜であることを特徴とする請求項5又は6記載の増反射膜付きAg又はAg合金反射電極膜の製造方法。
- 基板上に設けたAg膜又はAg合金膜上にスパッタリング法で10nm以下のITO膜を保護膜として設けた後、その保護膜の上に、塩化インジウム及び塩化スズからなる塗布溶液を塗布し、得られる塗膜付き基板を大気中で熱処理し、次いで真空中で加熱処理して屈折率の低い第一の透明膜としてのITO膜を形成し、このITO膜上に、スパッタリング法、イオンプレーティング法又は真空蒸着法で、屈折率の高い第二の透明膜としてのIn2O3系酸化物膜、ZnO系酸化物膜、及びSnO2系酸化物膜のいずれかの膜を形成して、増反射電極膜を作製すること、そしてこの第一の透明膜及び第二の透明膜をこの順序で2n層(nは1以上の整数である)積層することを特徴とする増反射膜付きAg又はAg合金反射電極膜の製造方法。
- 前記第一の透明膜の屈折率が1.7以下であり、前記第二の透明膜の屈折率が1.7を超えることを特徴とする請求項8記載の増反射膜付きAg又はAg合金反射電極膜の製造方法。
- 前記In2O3系酸化物膜が、In2O3膜、ITO膜、及びIZO膜のいずれかの膜であり、ZnO系酸化物膜が、ZnO膜、AZO膜及びGZO膜のいずれかの膜であり、また、SnO2系酸化物膜が、SnO2膜、及びATO膜のいずれかの膜であることを特徴とする請求項8又は9記載の増反射膜付きAg又はAg合金反射電極膜の製造方法。
- 請求項5〜10のいずれかに記載の方法により、屈折率の低いITO膜からなる第一の透明膜と屈折率の高いITO膜からなる第二の透明膜とが形成された増反射膜付きAg又はAg合金反射電極膜を製造した後、エッチャントとしてシュウ酸を用いて、前記第一の透明膜及び第二の透明膜を一括エッチングし、次いでAg用エッチャントを用いてAg又はAg合金膜をエッチングするか、又はエッチャントとしてシュウ酸を添加したAg用エッチャントを用いて、前記第一の透明膜、第二の透明膜、及びAg又はAg合金膜を一括エッチングして、パターン化された反射電極膜を製造することを特徴とするパターン化された反射電極膜の製造方法。
- 前記屈折率の高いITO膜が、アモルファスITO膜であることを特徴とする請求項11記載のパターン化された反射電極膜の製造方法。
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