CN110311056B - 显示面板及其制备方法、显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及显示技术领域，公开一种显示面板及其制备方法、显示装置。显示面板包括：衬底基板，具有显示区和非显示区；辅助电极，位于非显示区内；钝化层，位于辅助电极背离衬底基板的一侧，设有位于非显示区内的第一开口；在第一开口内，钝化层与辅助电极之间设有容纳空间，容纳空间暴露出辅助电极；钝化层在衬底基板上的投影覆盖容纳空间在衬底基板上的投影；阴极层，位于钝化层背离衬底基板的一侧，包括填充于容纳空间内的连接部，阴极层通过连接部与辅助电极电连接。上述显示面板设有辅助电极，辅助电极与阴极层之间连接，可以有效降低阴极电阻，并且，该显示面板通过简单的制备工艺即可以实现阴极层与辅助电极之间的连接，工艺实施方便。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。
背景技术
顶发射有机发光显示面板(Organic Light-Emitting Diode,OLED)的光从阴极电极层一侧出射，现有技术通常采用Mg/Ag合金做阴极电极，并且将其做的很薄以保证透过率，这就导致了阴极方块电阻增加，因此，需要辅助电极来降低阴极的电阻，然而，目前的辅助电极制备工艺以及辅助电极与阴极层之间的连接工艺复杂，不利于简化OLED显示面板的生产工艺。
发明内容
本发明公开了一种显示面板及其制备方法、显示装置，目的是有效降低OLED显示面板阴极电阻、并简化生产工艺。
为达到上述目的，本发明提供以下技术方案：
一种显示面板，包括：
衬底基板，具有显示区和围绕所述显示区的非显示区；
辅助电极，位于所述衬底基板的非显示区内；
钝化层，位于所述辅助电极背离所述衬底基板的一侧，设有位于所述非显示区内的第一开口；在所述第一开口内，所述钝化层与所述辅助电极之间设有容纳空间，所述容纳空间暴露出所述辅助电极；所述钝化层在衬底基板上的投影覆盖所述容纳空间在衬底基板上的投影；
阴极层，位于所述钝化层背离所述衬底基板的一侧，包括填充于所述容纳空间内的连接部，所述阴极层通过所述连接部与所述辅助电极电连接。
上述显示面板，在衬底基板的非显示区BB上设有辅助电极，该辅助电极位于衬底基板和钝化层之间，可与衬底基板和钝化层之间的任一金属层(例如源漏电极金属层)同时制备，工艺简单；并且，钝化层上设有暴露出辅助电极的第一开口，在第一开口内，辅助电极与钝化层之间设有容纳空间，钝化层的投影覆盖该容纳空间，因此，在蒸镀有机功能层时，有机功能层不会进入该容纳空间，即不会将容纳空间内的辅助电极覆盖；而在形成阴极层时，可以通过使容纳空间内形成连接部，以使得阴极层与容纳空间内的辅助电极之间电连接，从而达到降低阴极(包括阴极层与辅助电极)电阻的效果。上述显示面板，无需对有机功能层进行处理，就可以实现阴极层与辅助电极之间的连接，可以有效降低OLED阴极电阻，并且生产工艺实施方便，无需增加新的工艺设备。
可选的，在所述第一开口内，所述钝化层设有第一缺口；所述容纳空间包括所述第一缺口。
可选的，在所述第一开口内，所述辅助电极设有第二缺口；所述容纳空间包括所述第二缺口。
可选的，所述辅助电极包括依次层叠的第一金属层和第二金属层；所述第二金属层相对于所述第一金属层部分缺失，以形成所述第二缺口。
可选的，所述第一金属层在衬底基板上的投影覆盖所述容纳空间在衬底基板上的投影。
可选的，所述显示面板还包括：
平坦层，位于所述钝化层和所述阴极层之间，设有与所述第一开口对应的第二开口；
像素界定层，位于所述平坦层和所述阴极层之间，设有与所述第一开口对应的第三开口；
所述第一开口、第二开口和第三开口的边沿呈阶梯式上升。
可选的，所述第三开口在衬底基板上的投影覆盖所述容纳空间在衬底基板上的投影。
可选的，所述显示面板还包括位于所述像素界定层和所述阴极层之间的有机功能层；
在所述第一开口内，所述有机功能层在所述容纳空间处断开。
可选的，所述显示面板还包括：
连接端子，位于所述衬底基板的非显示区上，与所述辅助电极电连接，用于向所述辅助电极供电。
可选的，所述显示面板还包括位于所述衬底基板的显示区上的源漏电极，所述辅助电极与所述源漏电极同层制备。
可选的，所述辅助电极为围绕所述显示区的环形电极，所述第一开口为围绕所述显示区的环形开口。
一种如上述任一项所述的显示面板的制备方法，包括：
在衬底基板上依次制备电极层和无机绝缘材料层，通过构图工艺形成所述辅助电极和所述钝化层的图形；
向所述辅助电极施加电压；
在所述钝化层上蒸镀阴极材料，将蒸镀的阴极材料携带与所述辅助电极施加的电压电性相反的电荷，使得蒸镀过程中阴极材料被所述辅助电极吸引至所述容纳空间内。
一种显示装置，包括上述任一项所述的显示面板。
附图说明
图1为本发明实施例提供的一种显示面板的部分截面结构示意图；
图2为本发明另一实施例提供的一种显示面板的部分截面结构示意图；
图3为本发明实施例提供的显示面板在蒸镀阴极层状态下的部分截面结构示意图；
图4为本发明另一实施例提供的一种显示面板的部分截面结构示意图；
图5a为本发明实施例提供的一种显示面板的辅助阴极和钝化层在刻蚀形成容纳空间之前的部分截面结构示意图；
图5b为本发明实施例提供的一种显示面板的辅助阴极和钝化层在刻蚀形成第二缺口后的部分截面结构示意图；
图5c为本发明实施例提供的一种显示面板的辅助阴极和钝化层在刻蚀形成第一缺口后的部分截面结构示意图；
图6为本发明实施例提供的一种显示面板的制备方法流程图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
如图1至图4所示，本发明实施例提供了一种显示面板，包括：
衬底基板1，具有显示区AA和围绕显示区AA的非显示区BB；
辅助电极2，位于衬底基板1的非显示区BB内；
钝化层3，位于辅助电极2背离衬底基板1的一侧，设有位于非显示区BB内的第一开口31；在第一开口31内，钝化层3与辅助电极2之间设有容纳空间5，容纳空间5暴露出辅助电极2；钝化层3在衬底基板1上的投影覆盖容纳空间5在衬底基板1上的投影；
阴极层4，位于钝化层3背离衬底基板1的一侧，包括填充于容纳空间5内的连接部41，阴极层4通过连接部41与辅助电极2电连接。
上述显示面板，在衬底基板1的非显示区BB上设有辅助电极2，该辅助电极2位于衬底基板1和钝化层3之间，可与衬底基板1和钝化层3之间的任一金属层(例如，图4中的源漏电极71金属层)同时制备，工艺简单；并且，钝化层3上设有暴露出辅助电极2的第一开口31，在第一开口31内，辅助电极2与钝化层3之间设有容纳空间5，钝化层3的投影覆盖该容纳空间5，因此，如图2所示，在蒸镀有机功能层6时，有机功能层6不会进入该容纳空间5，即不会将容纳空间5内的辅助电极2覆盖；而在形成阴极层4时，如图4所示，可以通过使容纳空间5内形成连接部41，以使得阴极层4与容纳空间5内的辅助电极2之间电连接，从而达到降低阴极(包括阴极层4与辅助电极2)电阻的效果。上述显示面板，无需对有机功能层6进行处理，就可以实现阴极层4与辅助电极2之间的连接，可以有效降低OLED阴极电阻，并且生产工艺实施方便，无需增加新的工艺设备。
一种具体的实施例中，本发明实施例提供的显示面板，还可以包括位于衬底基板1的非显示区BB上的连接端子(Pad)，该连接端子与辅助电极2电连接，用于向辅助电极2供电。具体的，该连接端子可以位于非显示区BB外围的电路测试或绑定区域，用于扎针供电。
具体的，在蒸镀完有机功能材料后，下一步就是蒸镀金属阴极材料，在这一工序中，如果是按照正常的蒸镀方式直接蒸镀阴极材料，能够进入到容纳空间内的阴极材料非常少，很容易导致阴极出现断层，最终导致辅助电极未充分与阴极连接，进而无法起到降低阴极电阻的作用。
本发明实施例中，可以通过连接端子对辅助电极2进行扎针供电；如图3和图4所示，在蒸镀阴极材料工艺过程中，通过向OLED面板的辅助电极2供电，给辅助电极2加正向电压(或负向电压)，同时使蒸镀的阴极材料40分子带负电荷(或正电荷)，通过不同电性的电荷相互吸引作用，第一开口31内的容纳空间5处就会填满阴极材料40，使得制备形成的阴极层4与辅助电极2充分连接。通过上述方法，可以实现定向沉积阴极材料40，使得阴极层4在膜层完整的情况下，与辅助电极2充分连接，进而可以达到降低阴极电阻的作用。
示例性的，关于使蒸镀的阴极材料分子带电荷，具体可以通过在蒸发源下方添加蒸镀云带电模块、以使得蒸镀出的阴极材料携带有电荷，这个方法在一些技术中已经实现，这里不再赘述。
当然，本发明实施例仅是对于阴极层定向沉积的举例说明，本发明的显示面板，也可以采用其它方式实现阴极材料的定向沉积。
一种具体的实施例中，辅助电极2可以是围绕显示区AA的环形电极，以利于增加辅助电极2的面积，最大化降低阴极的电阻。相应地，第一开口31与辅助电极2位置对应，第一开口31可以是围绕显示区AA的环形开口，以利于阴极材料通过该第一开口31进入到容纳空间5内。示例性的，第一开口31的投影与辅助电极2的投影部分重叠或者靠近辅助电极2的投影边缘。进一步地，第一开口31内的容纳空间5，也可以呈环形，以增加辅助电极2的暴露面积，利于提升阴极层4与辅助电极2之间的电连接良率。
一种具体的实施例中，如图5c所示，在第一开口内，钝化层3设有第一缺口51，容纳空间5包括该第一缺口51。该第一缺口51的制备，可以通过刻蚀工艺实现，具体可以将钝化层3的边缘侧向刻蚀使得钝化层3侧面倾斜凹进，以形成第一缺口51。
一种具体的实施例中，如图5b和图5c所示，在第一开口内，辅助电极2设有第二缺口52，容纳空间5包括该第二缺口52，该第二缺口52也可以通过刻蚀工艺实现。
一种具体的实施方式中，如图1至图5c所示，辅助电极2包括依次层叠的第一金属层21和第二金属层22；可以使得第二金属层22相对于第一金属层21部分缺失，以形成第二缺口52。
示例性的，如图1至图5c所示，第一金属层21在衬底基板1上的投影覆盖容纳空间5在衬底基板1上的投影，这样可以增加容纳空间5所暴露出的第一金属层21的面积，即增大容纳空间5所暴露出的辅助电极2的面积，从而有利于提升阴极层4与辅助电极2之间的电连接良率。
示例性的，容纳空间5的制备过程可以包括：如图5a所示，依次在衬底基板1上形成第一金属层21、第二金属层22和钝化层3，然后通过选择性湿刻工艺，使得第二金属层22部分缺失、以形成第二缺口52，如图5b所示；之后，再通过选择性湿刻工艺，使得钝化层3的第一开口边缘侧向倾斜、以形成第一缺口51，如图5c所示。
一种具体的实施方式中，本发明提供的显示面板，辅助电极2的第一金属层21和第二金属层22可以采用低阻率的金属材料，例如金属铜等。
如图1所示，一种具体的实施方式中，本发明提供的显示面板，可以包括位于衬底基板1的显示区AA上的源漏电极71。示例性的，源漏电极71采用双层结构711、712，该双层结构711、712分别与第一金属层21和第二金属层22材料相同且同层制备，即辅助电极2与源漏电极71同层制备形成。这样，无需增加新的工艺和添加新的材料来实现辅助电极2，工艺简单，节省成本。
如图1至图4所示，一种具体的实施方式中，本发明实施例的显示面板还可以包括：平坦层8，位于钝化层3和阴极层4之间，设有与第一开口31对应的第二开口81；像素界定层9，位于平坦层8和阴极层4之间，设有与第一开口31对应的第三开口91。具体的，第二开口81、第三开口91与第一开口31的作用一样，都是用于使得阴极材料能够进入到容纳空间5内。
示例性的，第一开口31、第二开口81和第三开口91的边沿呈阶梯式上升；这样可以避免由于断差太大导致阴极层4出现断层。
示例性的，第三开口91在衬底基板1上的投影覆盖容纳空间5在衬底基板1上的投影。即平坦层8的开口范围覆盖容纳空间5，在容纳空间5上方没有平坦层8和像素界定层9的结构，这样，可以避免由于容纳空间5上方的钝化层3太薄，无法有效支撑有机平坦层8和像素界定层9而出现变形或坍塌。
如图2至图4所示，一种具体的实施方式中，本发明实施例的显示面板还可以包括位于像素界定层9和阴极层4之间的有机功能层6。具体的，如图2所示，由于钝化层3的投影覆盖容纳空间5，因此，在蒸镀有机功能层6时，有机功能层6不会进入容纳空间5，即使能够进入，进入的量也是非常少的，因此，有机功能层6在容纳空间5处会断开，具体体现为在第一开口的边沿处出现断层。然而，如图3和图4所示，在蒸镀阴极材料40时，则可以通过异性电荷相吸实现定向沉积，使得阴极材料40被吸引进入容纳空间5内并在容纳空间5内沉积，从而保证阴极膜层完整并与辅助电极2充分连接，进而起到降低阴极电阻的作用。
示例性的，如图1所示，本发明提供的显示面板，在衬底基板1的显示区AA，还可以包括有源层72、栅极绝缘层73、栅极74、刻蚀阻挡层75、阳极76等结构，在此不一一赘述。
另外，基于上述实施例中的显示面板，本发明实施例还提供一种显示面板的制备方法，如图6所示，该方法包括以下步骤：
步骤101，如图1所示，在衬底基板1上依次制备电极层和无机绝缘材料层，通过构图工艺形成辅助电极2和钝化层3的图形；
步骤102，如图3所示，向辅助电极2施加电压；
步骤103，如图3和图4所示，在钝化层3上蒸镀阴极材料，将蒸镀的阴极材料携带与辅助电极2施加的电压电性相反的电荷，使得蒸镀过程中阴极材料被辅助电极2吸引至容纳空间5内。
示例性的，如图2所示，在蒸镀阴极层之前，即步骤102之前，上述制备方法还包括蒸镀有机功功能层6的步骤。具体的，如图2所示，由于钝化层3的投影覆盖容纳空间5，因此，在蒸镀有机功能层6时，有机功能层6不会进入容纳空间5，即使能够进入，进入的量也是非常少的，因此，有机功能层6在容纳空间5处会断开，具体体现为在第一开口的边沿处出现断层。
进一步地，本发明实施例中，在蒸镀阴极材料工艺过程中，如图3和图4所示，通过向OLED面板辅助电极2供电，给辅助电极2加正向电压(或负向电压)，同时使蒸镀的阴极材料分子带负电荷(或正电荷)，通过不同电性的电荷相互吸引作用，第一开口内的容纳空间5处就会填满阴极材料，使得制备形成的阴极层4与辅助电极2充分连接。通过上述方法，可以实现定向沉积阴极材料，使得阴极层4在膜层完整的情况下，与辅助电极2充分连接，进而可以达到降低阴极电阻的作用。
示例性的，可以在显示面板外围设计连接端子，以用于给辅助电极扎针供电。
示例性的，关于使蒸镀的阴极材料分子带电荷，具体可以通过在蒸发源下方添加蒸镀云带电模块、以使得蒸镀出的阴极材料携带有电荷，这个方法在一些技术中已经实现，这里不再赘述。
当然，本发明实施例仅是对于阴极层定向沉积的举例说明，本发明的显示面板，也可以采用其它方式实现阴极材料的定向沉积。
示例性的，容纳空间5的制备过程可以包括：如图5a所示，依次在衬底基板1上形成第一金属层21、第二金属层22和钝化层3，然后通过选择性湿刻工艺，使得第二金属层22部分缺失、以形成第二缺口52，如图5b所示；之后，再通过选择性湿刻工艺，使得钝化层3的第一开口边缘侧向倾斜、以形成第一缺口51，如图5c所示。
具体的，本发明实施例提供的显示面板制备方法，可以采用与本发明实施例的显示面板相同的具体实施方式，具有与本发明实施例的显示面板相同的有益效果，此处不在赘述。
另外，本发明实施例还提供一种显示装置，该显示装置包括上述任一项的显示面板。
具体的，本发明实施例提供的显示装置的具体类型不限，可以是手机、笔记本电脑、电子书、平板电脑等等。
显然，本领域的技术人员可以对本发明实施例进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (12)
1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述显示面板包括：
衬底基板，具有显示区和围绕所述显示区的非显示区；
辅助电极，位于所述衬底基板的非显示区内；
钝化层，位于所述辅助电极背离所述衬底基板的一侧，设有位于所述非显示区内的第一开口；在所述第一开口内，所述钝化层与所述辅助电极之间设有容纳空间，所述容纳空间暴露出所述辅助电极；所述钝化层在衬底基板上的投影覆盖所述容纳空间在衬底基板上的投影；
阴极层，位于所述钝化层背离所述衬底基板的一侧，包括填充于所述容纳空间内的连接部，所述阴极层通过所述连接部与所述辅助电极电连接；
连接端子，位于所述衬底基板的非显示区上，与所述辅助电极电连接，用于向所述辅助电极供电；
所述制备方法包括以下步骤：
在衬底基板上依次制备电极层和无机绝缘材料层，通过构图工艺形成所述辅助电极和所述钝化层的图形；
向所述辅助电极施加电压；
在所述钝化层上蒸镀阴极材料，将蒸镀的阴极材料携带与所述辅助电极施加的电压电性相反的电荷，使得蒸镀过程中阴极材料被所述辅助电极吸引至所述容纳空间内。
2.一种显示面板，其特征在于，采用如权利要求1所述的制备方法制备而成，所述显示面板包括：
衬底基板，具有显示区和围绕所述显示区的非显示区；
辅助电极，位于所述衬底基板的非显示区内；
钝化层，位于所述辅助电极背离所述衬底基板的一侧，设有位于所述非显示区内的第一开口；在所述第一开口内，所述钝化层与所述辅助电极之间设有容纳空间，所述容纳空间暴露出所述辅助电极；所述钝化层在衬底基板上的投影覆盖所述容纳空间在衬底基板上的投影；
阴极层，位于所述钝化层背离所述衬底基板的一侧，包括填充于所述容纳空间内的连接部，所述阴极层通过所述连接部与所述辅助电极电连接；
连接端子，位于所述衬底基板的非显示区上，与所述辅助电极电连接，用于向所述辅助电极供电。
3.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，在所述第一开口内，所述钝化层设有第一缺口；所述容纳空间包括所述第一缺口。
4.如权利要求2所述的显示面板，其特征在于，在所述第一开口内，所述辅助电极设有第二缺口；所述容纳空间包括所述第二缺口。
5.如权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述辅助电极包括依次层叠的第一金属层和第二金属层；所述第二金属层相对于所述第一金属层部分缺失，以形成所述第二缺口。
6.如权利要求5所述的显示面板，其特征在于，
所述第一金属层在衬底基板上的投影覆盖所述容纳空间在衬底基板上的投影。
7.如权利要求2-6任一项所述的显示面板，其特征在于，还包括：
平坦层，位于所述钝化层和所述阴极层之间，设有与所述第一开口对应的第二开口；
像素界定层，位于所述平坦层和所述阴极层之间，设有与所述第一开口对应的第三开口；
所述第一开口、第二开口和第三开口的边沿呈阶梯式上升。
8.如权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述第三开口在衬底基板上的投影覆盖所述容纳空间在衬底基板上的投影。
9.如权利要求7所述的显示面板，其特征在于，还包括位于所述像素界定层和所述阴极层之间的有机功能层；
在所述第一开口内，所述有机功能层在所述容纳空间处断开。
10.如权利要求2-6任一项所述的显示面板，其特征在于，还包括位于所述衬底基板的显示区上的源漏电极，所述辅助电极与所述源漏电极同层制备。
11.如权利要求2-6任一项所述的显示面板，其特征在于，所述辅助电极为围绕所述显示区的环形电极，所述第一开口为围绕所述显示区的环形开口。
12.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求2-11任一项所述的显示面板。
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