CN110286562B - 曝光装置、曝光方法和物品制造方法 - Google Patents

曝光装置、曝光方法和物品制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及曝光装置、曝光方法和物品制造方法。提供一种对基板执行扫描曝光的曝光装置。该装置包括：光源；包括能够控制从光源发出的光的方向的多个镜子并且被配置为进行操作以根据基板的扫描调整基板上的积分曝光量的数字镜器件；被配置为将来自数字镜器件的光引导到基板并将图案投影到基板上的投影光学系统；以及被配置为基于要投影到基板上的图案控制数字镜器件中的所述多个镜子的控制器，其中，控制器控制所述多个镜子，使得图案的边缘部分中的积分曝光量变得大于除边缘部分以外的部分中的积分曝光量。

Description

曝光装置、曝光方法和物品制造方法
技术领域
本发明涉及一种曝光装置、曝光方法和物品制造方法。
背景技术
近年，随着电视系统的HD(高清晰度)标准化发展，薄型FPD(平板显示器)经常被用作显示设备。与此同时，对更大屏幕和更高分辨率以及更低成本的需求变得更加强烈。在FPD的制造中，使用类似于集成电路工业中使用的技术的光刻技术将原件(掩模)上的电路图案投影到涂覆有光敏抗蚀剂的玻璃基板上，从而在基板上转印和形成图案。在投影和曝光掩模的传统方法中，显示屏尺寸的增加导致掩模本身的尺寸增加。与此同时，由于材料的扩大和确保整个表面上的线宽均匀性而使制造成本增加，并且掩模的制造周期也延长，这可能严重阻碍批量生产工艺。
作为补偿这种缺陷的曝光方法，存在无掩模曝光，其中通过使用诸如DMD(数字微镜器件)的空间光调制器件直接绘制图案。由于不需要制造掩模，因此可以降低成本。
在无掩模曝光装置中，作为形成高分辨率图案的方法，已知相对于基板倾斜地设定扫描方向的方法。在这种情况下，由于同一列中的微镜组的斑点位置在副扫描方向上逐渐移位，因此重叠曝光是可能的(日本专利公开第2003-050469号)。另外，已知有这样一种技术，为了获得高分辨率，组合通过微镜二维地形成在基板表面上的斑点，以形成期望的图案(日本专利公开第2006-085070号)。
例如，在FPD基板、IC等中，在同一基板上执行多次曝光处理，使得在各次曝光处理中形成的图案重叠。此时，如果在每次曝光处理中形成的图案的轮廓或图案形成的精度差，则重叠不成功，导致制造失败。
发明内容
例如，本发明提供了一种在精度上有利于图案形成的曝光装置。
本发明在其第一方面提供了一种对基板执行扫描曝光的曝光装置，所述曝光装置包括：光源；数字镜器件，包括能够控制从光源发出的光的方向的多个镜子，并且被配置为进行操作以根据基板的扫描调整基板上的积分曝光量；投影光学系统，被配置为将来自数字镜器件的光引导到基板并将图案投影到基板上；以及控制器，被配置为基于要投影到基板上的图案控制数字镜器件中的所述多个镜子，其中，控制器控制所述多个镜子，使得图案的边缘部分中的积分曝光量变得大于除边缘部分以外的部分中的积分曝光量。
本发明在其第二方面提供了一种对基板执行扫描曝光的曝光装置中的曝光方法，该曝光装置包括：该曝光装置包括：光源；包括能够控制从光源发出的光的方向的多个镜子并且被配置为进行操作以根据基板的扫描调整基板上的积分曝光量的数字镜器件；被配置为将来自数字镜器件的光引导到基板并将图案投影到基板上的投影光学系统；以及被配置为基于要投影到基板上的图案控制数字镜器件中的所述多个镜子的控制器，所述方法包括：预先测量由数字镜器件中的所述多个镜子中的每个镜子反射且被引导到基板的光的积分曝光量；基于测量的结果来确定数字镜器件中的所述多个镜子中的每个镜子的开/关，使得图案中的积分曝光量变得均匀；基于根据确定的结果执行的测试曝光的结果，校正确定的结果，使得图案的边缘部分中的每个斑点中的积分曝光量变得大于除边缘部分以外的部分中的每个斑点中的积分曝光量；以及根据经校正的结果对基板进行曝光。
本发明在其第三方面提供了一种物品制造方法，所述物品制造方法包括使用在第一方面中限定的曝光装置对基板进行曝光，以及对在曝光中曝光了的基板进行显影，其中，由显影的基板制造物品。
根据下面(参照附图)对示例性实施例的描述，本发明的另外的特征将变得清楚。
附图说明
图1是示出根据实施例的无掩模曝光装置的布置的图；
图2是用于说明DMD的功能的图；
图3是示出垂直于光轴截取的针孔板的横截面形状的示例的图；
图4示出了由DMD形成的光斑点组的分布；
图5是用于说明通过组合相邻斑点的图案形成的图；
图6是用于说明图案边缘强调方法的图；
图7是示出由DMD的各个镜子形成的斑点的相对光强度表的示例的图；
图8A至图8C是用于说明在照明光分布不均匀的情况下的图案边缘强调方法的表；
图9A至图9C是用于说明在照明光分布不均匀的情况下的图案边缘强调方法的表；
图10A和图10B是用于说明在二维曝光图案时的图案边缘强调方法的图；以及
图11是用于说明曝光处理的流程图。
具体实施方式
下面将参照附图详细地描述本发明的各种示例性实施例、特征和方面。
下面将参照附图详细地描述本发明的实施例。注意，以下实施例仅是本发明实施例的具体示例，并不限制本发明。另外，并非以下实施例中描述的特征的所有组合对于解决本发明中的问题都是必不可少的。
(无掩模曝光装置)
本实施例中的无掩模曝光装置是对基板执行扫描曝光的曝光装置，并且包括DMD(数字微镜器件)，DMD包括能够控制从光源发出的光的方向的多个镜子(微镜)。DMD可以操作以根据基板的扫描调整基板上的每个位置处的积分曝光量。无掩模曝光装置还包括：投影光学系统，其引导来自DMD的光以将图案投影到基板上；以及控制器，其基于要投影到基板上的图案来控制DMD中的多个镜子。参照图1，下面将描述该实施例中的无掩模曝光装置的布置。
控制器CTR控制稍后描述的各个单元并全面地控制曝光处理。控制器CTR可以由例如包括CPU 10和存储器11(存储单元)的计算机形成。
作为光源LS，例如，使用半导体激光器或LED。可以根据施加到曝光基板上的光敏抗蚀剂的敏感度来选择光源LS的波长，并且，例如，可以使用300nm至约440nm的波长。
从光源LS发出的曝光光束通过光学系统IL1的功能准直并照射复眼透镜FE1。复眼透镜FE1的出射表面设置在光学系统IL2的前侧焦平面上，并且，DMD平面被放置在光学系统IL2的后侧焦平面上。利用这种布置关系，形成所谓的科勒照明系统，其中从复眼透镜EF1发出的光束被光学系统IL2准直并以均匀的照度分布照射DMD平面。
图1显得仿佛照明光束进入并透过DMD，但这是为了便于说明曝光光束的成像关系，并且实际上，光束被DMD反射，如图2所示。在图2中，进入DMD的多个镜子中的设置为开状态的镜子D1、D2和D3的照明光分量被引导到下游投影光学系统PO1，并且，进入设置为关状态的镜子的照明光分量不进入投影光学系统PO1。通常，照明光如
图2所示倾斜地进入DMD，但是它可以使用分束器垂直地进入DMD。
投影光学系统PO1具有将由DMD反射的光束会聚到微透镜阵列MLA上的功能。微透镜阵列MLA由前级场透镜MF和设置在以其焦距分开的位置处的成像透镜Mi形成。二维地排列多个组合，每个组合包括彼此面对的场透镜MF和成像透镜Mi。通过投影光学系统PO1的功能在场透镜MF上成像的光束通过成像透镜Mi的功能在成像透镜Mi后面再次成像。在这种情况下成像点的位置通常形成在紧邻成像透镜Mi之后的100μm内，因为成像透镜Mi细小且其焦距短，并且因为它执行缩小成像。
另一方面，场透镜MF和成像透镜Mi分别一体地加工，并且需要一定的厚度来确保加工期间的稳定性。其厚度应至少为300μm或更大。因此，上述再次成像点形成在成像透镜Mi的玻璃材料内。在该实施例中，该再次成像点通过投影光学系统PO2的功能在空中再次成像，并且针孔板PHE设置在再次成像平面上。
图3示出了垂直于光轴(Z轴)截取的针孔板PHE的横截面形状的示例。在该实施例中，微透镜阵列MLA包括3行×6列，使得针孔板PHE中有18个针孔。每个针孔对应于DMD的每个镜子的位置。针孔的功能是阻挡不需要的耀斑光或者切掉由微透镜阵列MLA形成的光斑点，从而进一步使基板上的光斑点小型化。通过投影光学系统PO3的功能，透过针孔板PHE的光束在基板表面PL上的位置EF处成像。
(图案形成方法)
如上所述，曝光光束在要曝光的基板表面PL上的位置EF处会聚，并形成光斑点组。图4示出了由DMD形成的光斑点组在基板表面PL上的位置EF处的分布。在该实施例中，DMD的多个镜子按行方向(X方向)上的2000行和列方向(Y方向)上的1000列排列成二维网格图案。这里，上述的行方向和列方向相对于基板的扫描方向倾斜。在
图4所示的示例中，基板扫描方向Sy是相对于Y轴方向旋转了α度的方向。在图4中，方向Sx是与方向Sy正交并且相对于X轴方向旋转α度的非扫描方向。利用这种布置，例如，位于Sx＝0的图案在基板扫描期间在Sy轴上被由黑点表示的光斑点间歇地曝光，并且光能被积分，从而获得预定的曝光量。更具体地，图案经历了1000×tanα次的积分曝光。在图4中，tanα＝1/4。由于基板从PCS指示的方向进入DMD曝光区域，因此首先从行N1(或行N2或N3，这取决于X位置)起曝光。由于针孔板PHE的针孔与DMD的镜子一一对应，因此需要使微透镜阵列MLA和针孔板PHE倾斜与DMD的倾斜角一样多。
如上所述，通过使由沿扫描方向布置的DMD的多个镜子形成的斑点重叠来形成沿非扫描方向Sx布置的每个图案。另外，可以通过组合在非扫描方向Sx上相邻的图案来形成曝光图案的形状。
图5是示出图案曝光方法的示例的图。对应于DMD的每个镜子的斑点的直径是a[μm]，并且斑点在方向Sx上以a[μm]的间隔布置。图5中的黑色和白色圆圈表示DMD的各个镜子的斑点位置。白色圆圈表示进入DMD的照明光被处于开状态的镜子反射并进入投影光学系统PO1的部分，黑色圆圈表示进入DMD的照明光被处于关状态的镜子反射并不进入投影光学系统PO 1的部分。图5下侧绘制的示意图表示斑点的光学图像强度(积分曝光量)。
在曝光装置中，通过扫描基板由DMD的多个镜子中沿扫描方向Sy布置成行的各个开状态镜子反射的光所形成的斑点以图案的形式在沿非扫描方向Sx排列的多个位置处重叠。结果，形成由沿非扫描方向Sx排列的多个位置形成的图案。在图5中，在沿方向Sx排列的四个位置(P1至P4)处，由在扫描方向Sy上排列成行的开状态镜子反射的光分量的量的总和值被计算为积分曝光量。附图标记AII1表示沿方向Sx排列的四个位置中的每一个处的积分曝光量的分布(强度分布)。以这种方式，通过对沿方向Sx布置的四个斑点中的每个斑点处的方向Sy上的光量求和来形成最终图案形状。在图5的情况下，图案形状的宽度b约为b＝4a。在该示例中，已经描述了对方向Sx上的四个斑点求和的情况下的图案形成方法，但是根据最终图案形状确定要使用的斑点形成部分与要被求和的斑点的数量。
(图案曝光方法)
接下来，参照图5和图6，将描述用于显著地改善对比度的技术。图案形成方法与参照图5描述的方法相同。然而，如图6所示，除了图案边缘部分之外的部分P2和P3的曝光方法是不同的。
在图5中，在示意性地在P1至P4处的斑点形成中，对方向Sy上的10个点的光能进行积分以形成斑点。与此形成对照，在图6中，在P1和P4中对10个点的光能进行积分，并且，在P2和P3中对9个点的光能进行积分。因此，在P2和P3中，积分光强度降低到9/10，并且，光学图像强度也是9/10的强度。结果，沿方向Sx排列的四个斑点中的强度分布变为如AII2所示，并且与图5中的AII1相比，图案的除边缘部分以外的部分中的强度相对地低于边缘部分中的强度。
这可以强调图案的边缘部分，从而强调最终图案形状的实质对比度。在该示例中，减小了除边缘部分之外的部分中的光的积分能量。然而，为了强调图案边缘，可以通过增加图案边缘部分中的积分能量来获得相同的效果。
(选择要使用的DMD镜子的方法)
如上所述，可以理解，通过改变最终图案形状的图案的边缘部分和除了边缘部分之外的部分之间的图案形成所使用的光能，可以改变图案形成时的光学图像强度分布的轮廓。当希望更优选地改变光能时，可以采用以下方法。
在实际的无掩模曝光装置中，进入DMD的照明光的分布不均匀。即使该分布均匀，由于DMD的镜子之间的反射率差异、从DMD到基板的光学器件表面的透射率的不均匀性、反射率的不均匀性等的影响，由各个镜子产生的斑点的光强度也是不均匀的。忽略这些效果，即使改变光能以强调图案的边缘部分，也难以获得足够的效果。
因此，控制器CTR预先测量由DMD的各个镜子形成的斑点的光强度。通过这样做，可以知道由DMD的各个镜子形成的斑点的光强度的相对关系，其可用于选择要用于图案形成的镜子。
图7是示出由DMD的各个镜子形成的斑点的相对光强度的表。为了便于说明，简化了DMD的布置，并且假设DMD包括X方向(对应于非扫描方向Sx)上的六个镜子和Y方向(对应于扫描方向Sy)上的十一个镜子，从而总共包括六十六个镜子。实践中，DMD的镜子的数量更大，并且必须考虑在从方向Sx扭转X轴的同时使用DMD。
假设每个DMD镜子在X方向上的位置由i表示并且在Y方向上的位置由j表示，通过测量获得的相对强度分布I(i,j)是接近100的值，如图7所示。如上所述，通过对j＝1到11的Y(Sy)方向上的光能求和，获得X(Sx)位置处的每个斑点的相对光强度。当在i＝1至6的每一个处对相对强度全部求和时，可以获得以下值。
i＝1:1099
i＝2:1099
i＝3:1100
i＝4:1101
i＝5:1095
i＝6:1098
假设最终图案形状由i＝2至5的四列形成。在这种情况下，通过选择要使用的DMD镜子，例如，如图8A至图8C所示，在i＝2至5之间，光的积分能量(积分曝光量)变得均匀。
图8A是其中排列各个DMD镜子的相对斑点强度的表，并且各个值与图7中的值相同。图8B是描述表示DMD的每个镜子的开/关的数据的表，其中“1”表示DMD镜子用于曝光(开)，“0”表示DMD镜子不用于曝光(关)。图8C是表示DMD的各个镜子的相对光斑强度及其积分和的表。在该示例中，选择Y方向上的十一个可选DMD镜子中的九个以产生均匀的积分能量(898)。当在X和Y方向上有更多的DMD镜子时，不需要均衡要使用的镜子的数量。
接下来，参照图9A至图9C，将描述强调图案的边缘部分的方法。图9A是其中排列DMD的各个镜子的相对光斑强度的表，这是与图8A中相同的表。图9B是类似于图8B并描述了表示DMD的每个镜子的开/关的数据的表，其中“1”表示镜子用于曝光(开)，“0”表示镜子不用于曝光(关)。与图8B相比，(i,j)＝(2,8)和(5,11)处的镜子变为开。图9C是类似于图8C并示出了DMD的各个镜子的相对斑点强度及其积分和的表。由于(i,j)＝(2,8)和(5,11)处的镜子被附加地设置为开，因此边缘部分(i＝2和5)中的积分能量在图9C中变为998，这高于在边缘部分以外的部分(i＝3和4)中的898。结果，图案的边缘部分中的光学图像强度(积分曝光量)增加，图案边缘部分被强调，并且最终图案形状的实质对比度被强调。
积分能量的差异与对比度强调效果之间的关系取决于曝光基板时的条件，即投影光学系统的NA和曝光波长、相干因子、施加到基板上的感光材料的类型等。因此，存在这样的可能性，该关系对于每次曝光不同，并且在某些情况下可能需要试错。
(二维图案的应用示例)
接下来将描述在X和Y方向上二维地曝光图案的示例。图10A示出了要曝光到基板上的XY平面上的图案。图10A中示出了两个图案，其中上部图案形状由4×4个区段形成，并且下部图案形状由4×7个区段形成。X方向(非扫描方向)上的一个区段的宽度对应于一个DMD镜子的宽度。
控制器CTR将两个图案的区段分类为图案边缘部分和除图案边缘部分以外的部分。在图10A和图10B中所示的X坐标和Y坐标中，两个图案被描述如下。
<组A>图案边缘部分的坐标(X,Y)
(3,2),(3,3),(3,4),(3,5)
(4,2),(4,5),(4,7),(4,8),(4,9),(4,10)
(5,2),(5,5),(5,7),(5,10)
(6,2),(6,5),(6,7),(6,10)
(7,2),(7,5),(7,7),(7,8),(7,9),(7,10)
(8,2),(8,5)
(9,2),(9,3),(9,4),(9,5)
<组B>除图案边缘部分之外的部分的坐标(X,Y)
(4,3),(4,4)
(5,3),(5,4),(5,8),(5,9)
(6,3),(6,4),(6,8),(6,9)
(7,3),(7,4)
(8,3),(8,4)
接下来，确定组A的曝光量和组B的曝光量。在该示例中，例如，组A的曝光量被设置为998，并且，组B的曝光量被设置为898。图10B示出了各个区段的确定曝光量。之后，选择要使用的DMD镜子的位置，使得实现各个曝光量。选择方法与上述的相同。
以这种方式，预先获得在图案的扫描方向上延伸的边缘部分的各个斑点的坐标和在非扫描方向上延伸的边缘部分的各个斑点的坐标。然后，在基板的扫描期间，控制器CTR控制多个镜子的开/关，使得在预先获得的坐标处的每个斑点中的积分曝光量变得大于在其他斑点中的积分曝光量。
(曝光过程)
接下来将参照图11所示的流程图描述该实施例中的曝光处理。在S1中，控制器CTR预先测量由DMD的镜子形成的斑点的相对光强度。在S2中，控制器CTR基于光强度测量的结果产生例如如图9A(图8A)中所示的光强度表。生成的表存储在例如控制器CTR的存储器11中。然后，在S3中，控制器CTR确定例如如图5所示的曝光图案形状。在S4中，控制器CTR确定要临时用于在S3中确定的图案形状的DMD镜子的位置，并且生成如图8B所示的镜子选择表。在该阶段，设置该表使得图案中的积分曝光量变得均匀。生成的镜子选择表存储在例如控制器CTR的存储器11中。换句话说，在S4中，基于S1中的测量结果确定DMD的每个镜子的开/关，使得图案中的积分曝光量变得均匀。
之后，根据生成的镜子选择表，执行第一曝光(测试曝光)(S5)，并且使用显微镜等检查曝光结果。控制器CTR获得通过该测试获得的图案的轮廓(S6)。此时，如果获得所需图案的轮廓，则立即确定曝光条件。然而，一般地，图案的轮廓通常不是期望的形状。在这种情况下，控制器CTR再次选择要在S7中使用的DMD镜子的位置。更具体地，控制器CTR重写存储在存储器11中的镜子选择表中的数据，例如，如图9B所示，使得图案的边缘被强调。换句话说，基于根据S4中的确定的结果执行的测试曝光的结果，控制器CTR校正S4中的确定结果，使得图案的边缘部分中的各个斑点中的积分曝光量变得大于除边缘部分以外的部分中的各个斑点中的积分曝光量。之后，在S8中，控制器CTR根据在S7中校正的结果执行曝光。
以这种方式，通过选择要使用的DMD镜子的位置两次，可以按适当的图案形状执行曝光，从而能够降低基板的不良率。注意，当在相同曝光条件下执行曝光时，很可能能够使用过去获得的DMD镜子位置选择结果，因此不需要每次都执行测试曝光。
<物品制造方法的实施例>
根据本发明实施例的物品制造方法适合制造物品，例如，诸如半导体器件的微器件或具有微结构的元件。本实施例的物品制造方法包括通过使用上述图案化方法或光刻装置在施加在基板上的光敏剂上形成潜在图案的步骤(曝光基板的步骤)，以及对在上述步骤中已形成潜在图案的基板执行处理(显影)的步骤。另外，制造方法包括其他众所周知的步骤(例如，氧化，膜形成，沉积，掺杂，平坦化，蚀刻，抗蚀剂去除，切割，粘合和封装)。该实施例的物品制造方法在物品的性能、质量、生产率和生产成本中的至少一个方面是比传统方法更有利的。
其它实施例
本发明的(多个)实施例也可以通过如下实现：一种系统或装置的计算机，其读出并执行在存储介质(其也可被更完整地称为“非暂态计算机可读存储介质”)上记录的计算机可执行指令(例如，一个或多个程序)，以执行上述(多个)实施例中的一个或多个的功能，并且/或者，其包括用于执行上述(多个)实施例中的一个或多个的功能的一个或多个电路(例如，专用集成电路(ASIC))；以及由系统或者装置的计算机执行的方法，例如，从存储介质读出并执行计算机可执行指令，以执行上述(多个)实施例中的一个或多个的功能，并且/或者，控制所述一个或多个电路以执行上述(多个)实施例中的一个或多个的功能。所述计算机可以包括一个或更多处理器(例如，中央处理单元(CPU)，微处理单元(MPU))，并且可以包括分开的计算机或分开的处理器的网络，以读出并执行所述计算机可执行指令。所述计算机可执行指令可以例如从网络或存储介质被提供给计算机。例如，存储介质可以包括如下中的一个或多个：硬盘，随机存取存储器(RAM)，只读存储器(ROM)，分布式计算系统的存储器，光盘(例如，紧致盘(CD)，数字多功能光盘(DVD)，或蓝光光盘(BD)TM)，闪速存储器装置，存储卡，等等。
本发明的实施例还可以通过如下的方法来实现，即，通过网络或者各种存储介质将执行上述实施例的功能的软件(程序)提供给系统或装置，该系统或装置的计算机或是中央处理单元(CPU)、微处理单元(MPU)读出并执行程序的方法。
虽然参照示例性实施例描述了本发明，但是，应该理解，本发明不限于公开的示例性实施例。所附权利要求的范围应当被赋予最宽的解释，以便涵盖所有这类修改以及等同的结构和功能。

Claims (11)

1.一种对基板执行扫描曝光的曝光装置，其特征在于，包括：
数字镜器件，包括能够控制从光源发出的光的方向的多个镜子，并且被配置为进行操作以根据基板的扫描调整基板上的积分曝光量；
投影光学系统，被配置为将来自数字镜器件的光引导到基板并将图案投影到基板上；以及
控制器，被配置为基于要投影到基板上的图案控制数字镜器件中的所述多个镜子，
其中，控制器被配置为控制所述多个镜子，使得通过使所述图案的边缘部分中的积分曝光量大于除边缘部分以外的部分中的积分曝光量来强调边缘部分，并且
其中，控制器被配置为预先获得在扫描方向上延伸的边缘部分和在所述图案的非扫描方向上延伸的边缘部分中的各个斑点的坐标。
2.根据权利要求1所述的装置，其中，数字镜器件进行操作以通过控制所述多个镜子中的每个镜子的开/关来调整基板上的积分曝光量。
3.根据权利要求2所述的装置，其中，曝光装置被配置为形成在非扫描方向上布置的多个位置上形成的图案，使得：在所述多个位置处，通过扫描基板使由所述多个镜子中的沿扫描方向排列成行的各个开状态镜子反射的光所形成的斑点重叠，并且
积分曝光量被计算为由沿扫描方向排列成行的各个开状态镜子反射的光的量的总和值。
4.根据权利要求3所述的装置，其中，控制器被配置为：
在基板的扫描期间，控制所述多个镜子的开/关，使得预先获得的所述坐标处的斑点中的积分曝光量变得大于其它斑点中的积分曝光量。
5.根据权利要求3所述的装置，其中
所述多个镜子在行方向和列方向上排列，并且
行方向和列方向相对于扫描方向倾斜。
6.根据权利要求1所述的装置，其中，控制器被配置为预先测量由所述多个镜子中的每个镜子反射并被引导到基板的光的积分曝光量，并基于所述测量的结果控制所述多个镜子的开/关。
7.根据权利要求1所述的装置，其中，控制器被配置为控制所述多个镜子，使得边缘部分相对于除边缘部分以外的部分是非均匀的。
8.根据权利要求1所述的装置，其中，控制器被配置为将所述图案分类成边缘部分和非边缘部分，生成镜子选择表，并且在扫描基板的同时根据生成的镜子选择表控制所述多个镜子，在所述镜子选择表中，定义所述多个镜子中的每个镜子的开/关，使得通过使边缘部分中的积分曝光量大于非边缘部分中的积分曝光量来强调边缘部分。
9.一种对基板执行扫描曝光的曝光装置中的曝光方法，其特征在于，
该曝光装置包括：包括能够控制从光源发出的光的方向的多个镜子、并且被配置为进行操作以根据基板的扫描调整基板上的积分曝光量的数字镜器件；被配置为将来自数字镜器件的光引导到基板并将图案投影到基板上的投影光学系统；以及被配置为基于要投影到基板上的图案控制数字镜器件中的所述多个镜子的控制器，
所述方法包括：
预先测量由数字镜器件中的所述多个镜子中的每个镜子反射并且被引导到基板的光的积分曝光量；
基于所述测量的结果来确定数字镜器件中的所述多个镜子中的每个镜子的开/关，使得所述图案中的积分曝光量变得均匀；
预先获得在扫描方向上延伸的边缘部分和在所述图案的非扫描方向上延伸的边缘部分中的各个斑点的坐标；
基于根据所述确定的结果执行的测试曝光的结果，校正所述确定的结果，使得通过使所述图案的边缘部分中的积分曝光量大于除边缘部分以外的部分中的积分曝光量来强调边缘部分；以及
根据经校正的结果对基板进行曝光。
10.根据权利要求9所述的方法，其中
所述确定包括：生成描述表示所述多个镜子中的每个镜子的开/关的数据的表作为确定的结果，并将该表存储在存储单元中，并且
所述校正包括重写存储在存储单元中的表中的数据。
11.一种物品制造方法，其特征在于，包括：
使用根据权利要求1至6中任一项所述的曝光装置对基板进行曝光；以及
对在所述曝光中经曝光的基板进行显影，
其中，从经显影的基板制造物品。
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