JP2006085070A - マルチビーム露光方法及び装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 ２次元光変調器等の複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段を用いて、走査方向と直交する方向に対して一度に露光可能なドットの数を増加でき、ＦＭスクリーンを用い安定した中間調の表現を記録できるマルチビーム露光方法及び装置を提供する。
【解決手段】 複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段から、走査方向と平行に並ぶよう露光面上に投影される複数の露光ビームスポットＢＳを、走査方向に対して複数のブロックＧ１、Ｇ２、Ｇ３毎に分けると共に、ブロックＧ１、Ｇ２、Ｇ３相互間の相対的な位置を走査方向と直交する方向にシフトさせることにより少なくとも一方のブロックＧによって露光面上に投影される露光ビームスポットＢＳと、他方のブロックＧによって露光面上に投影される露光ビームスポットＢＳとが一致しないようにした状態で、走査露光する。
【選択図】 図８

Description

この発明は、露光ヘッドに設置された複数の画素を画像データ（パターンデータ）に基づいて選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段である空間光変調素子（２次元光変調器）等から出射された各光ビームを光学素子により１画素毎に集光させて記録媒体に照射することにより所定のパターンで露光するマルチビームによる露光方法と装置とに関する。

近年、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）といった空間光変調素子（２次元光変調器）をパターンジェネレータとして利用して、画像データに応じて変調された光ビームにより、平板印刷版等の記録媒体上に画像露光を行うマルチビーム露光装置の開発が進められている。この空間光変調素子（２次元光変調器）は、入射した光を変調する画素を２次元的に配列した構成を有するため、空間的にインコヒーレントな光源、いわゆるランプなどでも使用できるというメリットを有している。また、空間光変調素子（２次元光変調器）は、使用の方法により１次元に並んだ１次元光変調器よりも単位画素あたりに照射する光パワーも低減でき、空間光変調素子（２次元光変調器）の寿命を延命させることができるので、マルチビーム露光装置へ広く利用されることが期待されている。

このＤＭＤは、例えば制御信号に応じて反射面の角度が変化する多数のマイクロミラーをシリコン等の半導体基板上に２次元的に配列したミラーデバイスであり、各メモリセルに蓄えた電荷による静電気力でマイクロミラーの反射面の角度を変化させるよう構成されている。

このようなＤＭＤを用いたマルチビーム露光装置では、例えば、レーザビームを出射する光源から出射されたレーザビームをレンズ系でコリメートし、このレンズ系の略焦点位置に配置されたＤＭＤの複数のマイクロミラーでレーザビームを反射することにより２次元的に変調して出射された各ビームを、レンズ系により１画素毎に集光させて感光材料である記録媒体（平板印刷版）の露光面上にスポット径を小さくして結像し画像露光を行う。

すなわち、このマルチビーム露光装置では、画像データ等に応じて生成した制御信号に基づいてＤＭＤのマイクロミラーの各々を図示しない制御装置でオンオフ（ｏｎ／ｏｆｆ）制御してレーザビームを変調（偏向）し、変調されたレーザビームを露光面（記録面）上に照射して露光する。

このマルチビーム露光装置は、記録面に平板印刷版等を配置し、露光装置に設けた複数の露光ヘッドからそれぞれ平板印刷版等の上にレーザビームが照射されて結像されたビームスポットの位置を平板印刷版等に対して相対的に移動させながら、各々のＤＭＤを画像データに応じて変調することにより、平板印刷版等の上にパターン露光する処理を実行可能に構成されている。なお、画像が露光記録された平板印刷版等の記録媒体は、必要に応じて自動現像機にかけられて、平板印刷版等の記録媒体上に形成された潜像が顕像に変換される。

従来、このようなマルチビーム露光装置に用いられるＤＭＤは、走査方向にｍ行、走査方向と直交する方向にｎ列配列するよう構成されている。さらに、このＤＭＤは、その画素の行を、露光ヘッドの走査方向に対して所定角度傾けるように配置され、走査方向に時間をずらしてＮ回多重露光することで、走査線の間にｍ／Ｎ−１のドットを形成することができる。このように、走査方向の多重露光回数を調整することで、ドットピッチを変え、走査方向と直交する方向の分解能（Ａｄｄｒｅｓｓａｂｉｌｉｔｙ）を上げることが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。

しかし、このようなマルチビーム露光装置でＤＭＤの画素の行を露光ヘッドの走査方向に対して所定角度傾けるように配置し走査方向に時間をずらしてＮ回多重露光する方式で記録する場合には、主走査ラインに対して斜めに傾いた画素で時間をずらして複数回露光し平板印刷版上に１ドットを形成することになる。このとき平板印刷版上に１ドットを記録するため多重露光される各ビームスポットの位置は、副走査方向にずれる。このため、記録されるドットにおける露光量分布が副走査方向に広がって、記録されたドットが副走査方向にいわゆるボケた形状となってしまう。

また、従来の平板印刷版に画像露光を行うマルチビーム露光装置では、平板印刷版に露光処理して中間調を表現する場合に、ＡＭスクリーン（網点画像により濃淡画像を形成する手法）を利用して網形状（いわゆる極小の市松模様状）で中間調を表現するのが普通である。すなわち、ＡＭスクリーンでは、最小単位の網点画像が、一例として１４（水平方向ドット数）×１４（垂直方向ドット数）の合計１９６ドット等、比較的多数のドットで構成されており、この網点画像を２次元平面状に並べて記録することにより濃淡画像を記録するようにしている。ただ、このＡＭスクリーンを利用して中間調を表現する場合には、モアレ縞を生じたり、またトーンジャンプが発生することがある。

また、網点画像により濃淡画像を形成する手法として、ＦＭスクリーン（FM Screen）と呼ばれる手法がある。このＦＭスクリーンは、規則性を持たない不定形ドットの集合密度によって記録画像の濃淡を表現するものであり、例えば、２×２の合計４ドット等、比較的少数のドットで構成された画像を２次元平面状に分散させて階調表現を行う。このＦＭスクリーンでは、原理的にモアレ縞の発生等を抑制することができるという利点がある。

そこで、平板印刷版等の記録媒体に画像露光を行うマルチビーム露光装置では、ＦＭスクリーンを使って、小さな網形状で中間調を形成することが望まれている。

しかし、マルチビーム露光装置において、ＤＭＤの画素の行を露光ヘッドの走査方向に対して所定角度傾けるように配置し走査方向に時間をずらしてＮ回多重露光する方式で記録する場合には、平板印刷版等の記録媒体上に１ドットを記録するため多重露光した際、この１ドットとなる同一露光点に対し多重露光される複数のビームスポットの位置が相互に副走査方向にずれ、記録されるドットにおける露光量分布が副走査方向に広がって、記録された１ドットが副走査方向にいわゆるボケた形状となってしまう場合がある。

このように記録される１ドットが副走査方向にボケた形状となり、いわゆるエッジをシャープに保つことができない状態で露光してＦＭスクリーンを記録したときの画像は、光パワー変動や刷り枚数といった記録条件や、自動現像機の現像の度合いといった現像条件等によって記録画素の周長が少しでも変わると網点画像の割合（網点面積率特性）が急激に変わり易いから濃度変動を起こし易い。このため、従来のＤＭＤの画素の行を露光ヘッドの走査方向に対して所定角度傾けるように配置し走査方向に時間をずらしてＮ回多重露光する方式のマルチビーム露光装置でＦＭスクリーンを利用することが困難であるという問題がある。
特開２００４−６２１５６号公報

本発明は、上述した問題に鑑み、２次元光変調器であるＤＭＤ等の複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段を用いて露光処理する際に、走査方向と直交する方向に対して一度に露光可能なドットの数（ビームスポットの数）を増加でき、しかもＦＭスクリーンを用い安定した中間調の表現を記録できるマルチビーム露光方法及び装置を新たに提供することを目的とする。

本発明の請求項１に記載のマルチビーム露光方法は、複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段によるマルチビーム露光方法において、複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段から、走査方向と平行に並ぶよう露光面上に投影される複数の露光ビームスポットを、走査方向に対して複数のブロック毎に分けると共に、ブロック相互間の相対的な位置を走査方向と直交する方向にシフトさせることにより少なくとも一方のブロックによって露光面上に投影される露光ビームスポットと、他方のブロックによって露光面上に投影される露光ビームスポットとが一致しないようにした状態で、走査露光することを特徴とする。

上述のマルチビーム露光方法によれば、複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段から露光面上に投影される、一つのブロックで露光する走査方向に並んだ複数の露光ビームスポットにより、多重露光して１のドットを記録できる。よって、１ドットを記録するため多重露光される各ビームスポットの位置を正確に一致させて１ドットにおける露光量分布の広がりを防止し、記録されたドットの形状のエッジをシャープに保つことにより、エッジがシャープにされたドットでＦＭスクリーンを記録できるので、光パワー変動や刷り枚数といった記録条件や、自動現像機の現像の度合いといった現像条件等によって、記録画素の周長が変わり網点画像の割合（網点面積率特性）が急激に変わって濃度変動を起こすことを防止し、ＦＭスクリーンを用い安定した中間調の表現を記録できる。しかも、走査方向と直交する方向に対して一度に露光可能なドットの数（ビームスポットの数）を増加できる。

本発明の請求項２に記載のマルチビーム露光方法は、光を変調する画素を２次元的に配列した２次元光変調器を用いたマルチビーム露光方法において、２次元光変調器から、走査方向と平行に並ぶよう露光面上に投影される、２次元的に配列した複数の露光ビームスポットを、走査方向に対して複数のブロック毎に分けると共に、ブロック相互間の相対的な位置を走査方向と直交する方向にシフトさせることにより、少なくとも一方のブロックによって露光面上に投影される走査方向と直交する方向に隣接する露光ビームスポットで露光される間位置を、他方のブロックによって露光面上に投影される露光ビームスポットで走査露光することを特徴とする。

上述のマルチビーム露光方法によれば、２次元光変調器から露光面上に投影される、一つのブロックで露光する走査方向に並んだ複数行の露光ビームスポットにより、各行毎に多重露光して２次元的に各ドットを記録できる。よって、各ドットを記録するため多重露光される各ビームスポットの位置を正確に一致させて各ドットにおける露光量分布の広がりを防止し、記録されたドットの形状のエッジをシャープに保つことにより、エッジがシャープにされた各ドットでＦＭスクリーンを記録できるので、光パワー変動や刷り枚数といった記録条件や、自動現像機の現像の度合いといった現像条件等によって、記録画素の周長が変わり網点画像の割合（網点面積率特性）が急激に変わって濃度変動を起こすことを防止し、ＦＭスクリーンを用い安定した中間調の表現を記録できる。しかも、走査方向と直交する方向に対して一度に露光可能なドットの数（ビームスポットの数）を増加できる。このため、例えば、拡大光学系を利用し、２次元光変調器により露光面上にビームスポットを投影したときの露光エリアの面積を拡大し、記録媒体に対する走査処理の速度を向上させて、露光処理の能率を向上できる。また例えば、２次元光変調器により露光面上にビームスポットを投影したときの走査方向と直交する方向に隣接するビームスポット間のピッチが縮小された状態で露光処理すれば、いわゆる分解能（位置分解能）を向上させることができる。

本発明の請求項３に記載のマルチビーム露光装置は、露光面上に投影される２次元的に配列された複数の露光ビームスポットが、走査方向と平行に並ぶように配設された２次元光変調器と、２次元光変調器から出射された複数の露光ビームを、走査方向に対して複数のブロック毎に分けると共に、ブロック相互間の相対的な位置を走査方向と直交する方向にシフトさせて露光面上に投影させることにより、少なくとも一方のブロックによって露光面上に投影される走査方向と直交する方向に隣接する露光ビームスポットで露光される間位置を、他方のブロックによって露光面上に投影される露光ビームスポットで露光させる一部画素シフト部材と、を有することを特徴とする。

請求項４に記載の発明は、請求項３に記載のマルチビーム露光装置において、一部画素シフト部材が、少なくとも、露光ビームの光軸に対して所定角度傾斜させて配置されることにより、一部の光ビームをブロックに分けて屈折させ、走査方向と直交する方向にシフトさせて露光面上に投影させるように構成した透明な平板状の第１の光学部材と、露光ビームの光路上における走査方向に対し第１の光学部材と隣接して配置されると共に、露光ビームの光軸と直交するよう配置された透明な平板状の第２の光学部材と、を有することを特徴とする。

請求項５に記載の発明は、請求項３に記載のマルチビーム露光装置において、一部画素シフト部材が、少なくとも、露光ビームの光軸に対して第１の所定角度傾斜させて配置されることにより、一部分の光ビームをブロックに分けて屈折させ、走査方向と直交する第１の方向にシフトさせて露光面上に投影させるように構成した透明な平板状の光学部材と、露光ビームの光軸に対して第２の所定角度傾斜させて配置されることにより、他部分の光ビームをブロックに分けて屈折させ、走査方向と直交する第２の方向にシフトさせて露光面上に投影させるように構成した透明な平板状の光学部材と、を有することを特徴とする。

請求項６に記載の発明は、請求項３に記載のマルチビーム露光装置において、一部画素シフト部材が、少なくとも、一部の光ビームをブロックに分けて回折することにより走査方向と直交する方向にシフトさせて露光面上に投影させるように構成した第１の回析部材と、露光ビームの光路上における走査方向に対し第１の回析部材に隣接して配置されると共に、光ビームを直線の光路に沿って透過させるよう構成された第２の透過部と、を有することを特徴とする。

請求項７に記載の発明は、請求項３に記載のマルチビーム露光装置において、一部画素シフト部材が、少なくとも、一部分の光ビームをブロックに分けて回折することにより走査方向と直交する第１の方向にシフトさせて露光面上に投影させるように構成した一の回析部材と、他部分の光ビームをブロックに分けて回折することにより走査方向と直交する第２の方向にシフトさせて露光面上に投影させるように構成した他の回析部材と、を有することを特徴とする請求項３に記載のマルチビーム露光装置。

請求項８に記載の発明は、請求項３に記載のマルチビーム露光装置において、一部画素シフト部材が、少なくとも、一部の光ビームをブロックに分けて透過させことにより、走査方向と直交する方向にシフトして出射された異常光線を露光面上に投影させるように構成した第１の偏光部と、露光ビームの光路上における走査方向に対し第１の偏光部に隣接して配置されると共に、光ビームを直線の光路に沿って透過させるよう構成された第２の透過部と、を有することを特徴とする。

請求項９に記載の発明は、請求項３に記載のマルチビーム露光装置において、一部画素シフト部材が、少なくとも、一部分の光ビームをブロックに分けて透過させことにより、走査方向と直交する第１の方向にシフトして出射された異常光線を露光面上に投影させるように構成した一の偏光部と、他部分の光ビームをブロックに分けて透過させことにより、走査方向と直交する第２の方向にシフトして出射された異常光線を露光面上に投影させるように構成した他の偏光部と、を有することを特徴とする。

前述のように構成することにより、このマルチビーム露光装置では、２次元光変調器から露光面上に投影される、一つのブロックで露光する走査方向に並んだ複数行の露光ビームスポット各々により、各行毎に多重露光して２次元的に各ドットを記録できる。よって、各ドットを記録するため多重露光される各ビームスポットの位置を正確に一致させて各ドットにおける露光量分布の広がりを防止し、記録されたドットの形状のエッジをシャープに保ちながらＦＭスクリーンを記録できるので、光パワー変動や刷り枚数といった記録条件や、自動現像機の現像の度合いといった現像条件等によって、記録画素の周長が変わり網点画像の割合（網点面積率特性）が急激に変わって濃度変動を起こすことを防止し、ＦＭスクリーンを用い安定した中間調の表現を記録できる。しかも、走査方向と直交する方向に対して一度に露光可能なドットの数（ビームスポットの数）を増加できる。このため、このマルチビーム露光装置では、例えば、拡大光学系を利用し、２次元光変調器により露光面上にビームスポットを投影したときの露光エリアの面積を拡大し、記録媒体に対する走査処理の速度を向上させて、露光処理の能率を向上できる。またこのマルチビーム露光装置では、例えば、２次元光変調器により露光面上にビームスポットを投影したときの走査方向と直交する方向に隣接するビームスポット間のピッチが縮小された状態で露光処理すれば、いわゆる分解能（位置分解能）を向上させることができる。

本発明のマルチビーム露光方法及び装置には、２次元光変調器であるＤＭＤ等の複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段を用いて露光処理する際に、走査方向と直交する方向に対して一度に露光可能なドットの数（ビームスポットの数）を増加でき、しかもＦＭスクリーンを用い安定した中間調の表現を記録できるという効果がある。

本発明のマルチビーム露光方法及び装置に関する実施の形態について、図１乃至図１１を参照しながら説明する。

本発明の実施の形態に係るマルチビーム露光装置としての画像形成装置は、図示しないが、例えば、制御ユニットで駆動制御されるいわゆるフラットベッド型の画像形成装置（セッタ）に構成し、図１１に示すように、移動ステージ１０上に平板印刷版（ＰＳ版）等である記録媒体１２を載置し、この移動ステージ１０により記録媒体１２を主走査方向に移動しながら、露光ヘッド１４により、制御ユニットで画像データから生成した変調信号に基づいて光源側から出射されたマルチビームを空間変調して記録媒体１２上に照射することにより露光処理を行うように構成する。

露光ヘッド１４による露光エリア１６は、例えば送り方向（主走査方向）を短辺とする矩形状に構成する。この場合、記録媒体１２には、その走査露光の移動動作に伴って帯状の露光済み領域１８が形成される。なお、画像形成装置（セッター）では、複数の露光ヘッド１４を、ｍ行ｎ列（例えば、２行４列）の略マトリックス状に配列して複数（例えば、８個）の露光ヘッド１４で同時に露光処理を行うように構成しても良い。

図１に示すように、この露光ヘッド１４は、それぞれ入射された光ビームを画像データに応じて各画素毎に変調する空間光変調素子（２次元光変調器）として、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）２０を備えている。この２次元光変調器であるＤＭＤ２０は、データ処理手段とミラー駆動制御手段を備えた制御ユニット（制御手段）２２により駆動制御される。

この制御ユニット２２のデータ処理部では、入力された画像データに基づいて、露光ヘッド１４にＤＭＤ２０の制御すべき領域内の各マイクロミラーを駆動制御（各マイクロミラー反射面の角度の制御）するための制御信号を生成する。

露光ヘッド１４におけるＤＭＤ２０の光入射側には、マルチビームをレーザ光として射出する照明装置である光源ユニット２４からそれぞれ引き出されたバンドル状光ファイバ２８が接続される。

光源ユニット２４は、複数の半導体レーザチップから射出された紫外線等のレーザ光を合波して光ファイバに入力する合波モジュール２６が複数個設置されている。各合波モジュール２６から延びる光ファイバは、合波したレーザ光を伝搬する合波光ファイバであって、複数の光ファイバが１つに束ねられてバンドル状の光ファイバ（ファイババンドル）２８として形成され、出射するレーザ光の強度を向上するよう構成されている。

この露光ヘッド１４におけるＤＭＤ２０の光入射側には、バンドル状光ファイバ２８の接続端部から出射されたレーザ光を、ロッドレンズ等を有する光学レンズを通しＤＭＤ２０に向けて反射するミラー３２とを備えた照明光学系を配置する。

このＤＭＤ２０は、図１０に示すように、画素（ピクセル）を構成する多数の（例えば、６００個×８００個）の微小ミラーであるマイクロミラー３６を格子状に配列したミラーデバイスとして全体がモノリシック（一体型）に構成されている。

各ピクセルの最上部に配設されるマイクロミラー３６の表面には、アルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。また、各マイクロミラー３６の下面中央には、支柱３４が突設されている。

このＤＭＤ２０は、各ピクセルに対応して、通常の半導体メモリの製造ラインで製造されるシリコンゲートのＣＭＯＳのＳＲＡＭセル３８上にそれぞれ設けられたヒンジ４０に、マイクロミラー３６に突設された支柱３４の基端部を取り付けて、ヒンジ４０を軸としてマイクロミラー３６が対角線方向に±ａ度（±１０度）傾斜可能に装着して構成する。

また、このＤＭＤ２０では、ＳＲＡＭセル３８上のマイクロミラー３６が傾斜する対角線方向の両端部にそれぞれ構成された各ミラー アドレス エレクトロード（Ｍｉｒｒｏｒ Ａｄｄｒｅｓｓ Ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ）４２の一方側又は他方側に蓄えた電荷による静電気力を利用して、マイクロミラー３６がオン状態である＋ａ度に傾いた状態又はマイクロミラー３６がオフ状態である−ａ度に傾いた状態に駆動制御可能に構成されている。

このように構成されたＤＭＤ２０では、ＳＲＡＭセル３８にデジタル信号が書き込まれると、画像信号に応じて、ＤＭＤ２０の各ピクセルにおけるマイクロミラー３６が、それぞれ対角線を中心としてＤＭＤ２０が配置された基板側に対してオン状態である＋ａ度に傾いた状態又はオフ状態である−ａ度に傾いた状態となるように制御され、ＤＭＤ２０に入射された光をそれぞれのマイクロミラー３６の傾き方向へ反射させる。

このオン状態のマイクロミラー３６により反射された光は露光状態に変調され、ＤＭＤ２０の光出射側に設けられた投影光学系（図１参照）へ入射する。またオフ状態のマイクロミラー３６により反射された光は非露光状態に変調され、光吸収体（図示省略）に入射する。

次に、露光ヘッド１４におけるＤＭＤ２０の光反射側に設けられる投影光学系（結像光学系）について説明する。図１に示すように、露光ヘッド１４におけるＤＭＤ２０の光反射側に設けられる結像光学系（投影光学系）は、ＤＭＤ２０の光反射側の露光面にある記録媒体１２上に光源像を結像するため、ＤＭＤ２０の側から記録媒体１２へ向って順に、第１の結像光学レンズ系４４，４６、中間結像部であるマイクロレンズアレイ４８、このマイクロレンズアレイ４８より光路上の後方近傍位置に配置した一部画素シフト部材５０と、第２の結像光学レンズ系５２，５４及びオートフォーカス用のプリズムペア５６との各露光用の光学部材が配置されて構成されている。なお、この露光ヘッド１４では、図示しないが、マイクロレンズアレイ４８の光路上の前後近傍位置に、それぞれアパーチャアレイを配置して構成しても良い。

ここで用いる中間結像部であるマイクロレンズアレイ４８は、光源ユニット２４から光ファイバ２８を通じて照射されたレーザ光を反射するＤＭＤ２０の各マイクロミラー３６に１対１で対応する複数のマイクロレンズが一体的に成形されたものであり、各マイクロレンズは、それぞれ第１の結像光学レンズ系４４，４６を透過した各レーザビームの光軸上にそれぞれ配置されている。なお、この露光ヘッド１４では、露光面上におけるビームスポットの大きさを縮小する必要がない場合（例えば大きなビームスポット形状で露光処理することが適切な場合、光学系の構成を簡素化し、マイクロレンズアレイを装着するための手間のかかる調整作業を省略したい場合等）にマイクロレンズアレイ４８を省略し、図１に示すマイクロレンズアレイ４８の配置位置（焦点位置）に一部画素シフト部材５０を配置して構成しても良い。

この画像形成装置の露光ヘッド１４に用いられる一部画素シフト部材５０は、ＤＭＤ２０を用いて露光処理する際に、走査方向と直交する方向に対して一度に露光可能なドットの数（ビームスポットの数であるチャンネル数）を、ＤＭＤ２０の縦方向の画素を有効活用することによって増加し、かつＦＭスクリーンを用い安定した中間調の表現を記録可能とするための光学部材である。

この一部画素シフト部材５０は、ＤＭＤ２０における２次元上でＭ行Ｎ列の格子状に配列されたマイクロミラー３６群から露光面（記録媒体１２の表面）上に投影される複数の露光ビームスポットの位置を露光面上で走査方向（送り方向である主走査方向）に対して複数のブロック毎に分け、これらブロック相互間の相対的な位置を走査方向（主走査方向）と直交する方向（副走査方向）に所定量シフトさせて、一つのブロックで露光する複数の露光ビームスポットの位置における送り方向の間隙を他のブロックにおける複数の露光ビームスポットで露光するようにして、ＤＭＤ２０を用いて露光処理する際に走査方向と直交する方向に対して一度に露光可能なドットの数（ビームスポットの数であるチャンネル数）を増加させる。

なお、露光ヘッド１４から露光面上に投影される露光ビームスポットの位置を露光面上で複数のブロックに分けて走査方向と直交する方向にシフトさせることにより、一度に露光可能なドットの数（ビームスポットの数であるチャンネル数）を増加させるときの、露光可能なドットの数（ビームスポットの数であるチャンネル数）の増加率は、ブロックに分けて、ブロック毎の露光位置が相互に重ならないようにシフト（例えば均等な間隔にシフト）されたブロックの分割数に比例するので、要求される露光可能なドットの数（ビームスポットの数であるチャンネル数）の増加率は、分割数とシフト量を適切に調整して選定することで設定することができる。

この一部画素シフト部材５０は、光の屈折を利用した光学素子若しくは光の回折を利用した光学素子又は光の偏光を利用した光学素子として構成することができる。

この一部画素シフト部材５０を光の屈折を利用した光学素子として構成する場合には、例えば、図２、図３及び図７に示すように構成するもので、透明な平板状の光学部材（同じ厚みの平面部材に形成された光学ガラス等の光学材料）を複数（この図２、図３及び図７に示す一部画素シフト部材５０では３枚であるが、１枚に一体的に構成しても良い）用いて構成する。すなわち、図２に示すように、一部画素シフト部材５０は、屈折利用の第１光学部材５０Ａと、第２光学部材５０Ｂと、第３光学部材５０Ｃとを、光路上における走査方向（送り方向）に対して３つが隙間なく連なるように配置し、かつ第２光学部材５０Ｂを光軸と直交するよう配置し、第１光学部材５０Ａを光軸に対して一方に所定角度傾斜させて配置し、第３光学部材５０Ｃを光軸に対して他方に所定角度傾斜させて配置する。すなわち、この一部画素シフト部材５０は、光路上の上段、中段、下段にそれぞれ位置する場所に屈折利用の第１光学部材５０Ａと、第２光学部材５０Ｂと、第３光学部材５０Ｃとを設置し、上段、下段の第１光学部材５０Ａと、第３光学部材５０Ｃとを、走査方向を軸として所定角度回転させた状態（図３に図示）に設置して構成する。

なお、上段の第１光学部材５０Ａを、走査方向を軸として所定方向に第１の角度回転させた状態に設置する。これと共に、下段の第３光学部材５０Ｃを、走査方向を軸として第１光学部材５０Ａと同じ所定方向に第２の角度回転させた状態に設置して構成しても良い。

また、第２光学部材５０Ｂは、その走査方向（送り方向）に対する長さ（第１光学部材５０Ａと第３光学部材５０Ｃとの間の距離）を、一部画素シフト部材５０の配置位置におけるＤＭＤ２０の全マイクロミラー３６群から露光面（記録媒体１２の表面）に至る光路の走査方向（送り方向）に対応した光路幅を３等分した長さに設定する。さらに、第２光学部材５０Ｂは、その走査方向に対する長さの中央位置が、一部画素シフト部材５０の配置位置におけるＤＭＤ２０の全マイクロミラー３６群から露光面に至る光路の走査方向に対応した光路幅の中央位置に一致するように配置する。

このように配置構成することにより、この一部画素シフト部材５０は、ＤＭＤ２０の２次元的に配置されたマイクロミラー３６群を、露光面上で走査方向に対して３等分（走査方向に対するビームスポットの数が等しくなる３つに分割）し、図８に例示するように均等に分割された３つのブロックＧ１、Ｇ２、Ｇ３を設定することができる。

また、光の屈折を利用した光学素子として構成した一部画素シフト部材５０では、第１光学部材５０Ａを光軸に対して一方に傾斜させる角度を適切に調整して設定することにより図３に示すようにレーザ光のマルチビームを屈折させて、第１のブロックＧ１のビームスポット群ＢＳ１が、第２のブロックＧ２におけるビームスポット群ＢＳ２の走査方向と直交する方向に隣接して並ぶ相互間の１／３の距離だけ一方にシフト（例えば図２に向かって左に１／３ピッチシフト）するよう構成する。

さらに、この一部画素シフト部材５０では、第３光学部材５０Ｃを光軸に対して他方に傾斜させる角度を適切に調整して設定することにより図３に示すようにレーザ光のマルチビームを屈折させて、第３のブロックＧ３のビームスポット群ＢＳ３が、第２のブロックＧ２におけるビームスポット群ＢＳ２の走査方向と直交する方向に隣接して並ぶ相互間の１／３の距離だけ他方にシフト（例えば図２に向かって右に１／３ピッチシフト）するよう構成する。

このように一部画素シフト部材５０を配置構成することにより、この画像形成装置の露光ヘッド１４では、走査方向と直交する方向に対して、第２のブロックＧ２におけるビームスポットＢＳ２の各隣接相互間に、第１のブロックＧ１の各ビームスポットＢＳ１と、第３のブロックＧ３における各ビームスポットＢＳ３とが、それぞれ等間隔で配置された状態により露光処理できる。よって、このように一部画素シフト部材５０を配置構成した露光ヘッド１４では、図８に示すように露光面に走査露光した結果、走査方向と直交する方向のある一直線上の位置に対して一度に露光可能なドットの数（ビームスポットの数であるチャンネル数）を３倍に増加させる（隣接するビームスポット間のピッチが１／３になり、いわゆる分解能（位置分解能）が３倍に向上した状態にさせる）ことができる。

また、一部画素シフト部材５０で相互にシフトした３つのブロックＧ１、Ｇ２、Ｇ３を設定する露光ヘッド１４では、第２の結像光学レンズ系５２，５４を、例えば拡大光学系として構成し、ＤＭＤ２０により反射される光線束の断面積を拡大することで記録媒体１２上のＤＭＤ２０により反射された光線束による露光エリア１６（図１１に図示）の面積を、ＤＭＤ２０の多数のマイクロミラー３６が格子状に配列されて構成された光反射面の面積の３倍に拡大するよう構成する。

なお、第２の結像光学レンズ系５２，５４を、拡大光学系として構成するときには、例えばマイクロレンズアレイ又はその他の光学部材を利用して、記録媒体１２の露光面上に結像される各ビームスポットが所定のビームスポット径となるように縮小して結像するように集光させても良い。

さらに、この露光ヘッド１４では、第２の結像光学レンズ系５２，５４から投射された光ビームを、プリズムペア５６のオートフォーカス機能によって露光面上に置かれた記録媒体１２上に焦点を合わせて結像させるよう構成する。なお、投影光学系における各第１の結像光学レンズ系４４，４６、第２の結像光学レンズ系５２，５４は、図１においてそれぞれ１枚のレンズとして示されているが、複数枚のレンズ（例えば、凸レンズと凹レンズ）を組み合せたものであっても良い。

前述のように露光ヘッド１４を構成した場合には、走査方向の送り速度が同じであるという条件の下で、記録媒体１２の露光面上における走査方向と直交する方向に対して一回で走査露光できる範囲を、図９に示すＤＭＤ２０の走査方向と直交する方向に並んでいる所定個数のマイクロミラー３６だけで走査露光する場合（ＤＭＤ２０を走査方向に傾斜させて露光処理しない場合）である比較例の３倍にできる。

よって、同じ数の露光ヘッド１４を利用して記録媒体１２を複数回走査方向に往復移動させながら記録媒体１２の露光面全体に対する露光処理を行う場合には、走査処理の速度（同じ数の露光ヘッド１４を利用して、一枚の記録媒体１２に対する露光処理を開始してから完了するまでの速度）を向上させて、露光処理の能率を向上できる。

また、一部画素シフト部材５０で相互にシフトした複数（ここでは３つ）のブロックＧ１、Ｇ２、Ｇ３を設定する露光ヘッド１４では、第２の結像光学レンズ系５２，５４を、シフトしたブロックの数未満の拡大率（ここでは３倍未満の拡大率）をもつ光学系として構成し、図９に示すＤＭＤ２０の走査方向と直交する方向に並んでいる所定個数のマイクロミラー３６だけで走査露光する場合の比較例で露光処理する場合よりも、走査方向と直交する方向に隣接するビームスポット間のピッチを縮小し、いわゆる分解能（位置分解能）を向上させるように構成しても良いことは勿論である。

また、一部画素シフト部材５０で相互にシフトした複数（ここでは３つ）のブロックＧ１、Ｇ２、Ｇ３を設定する露光ヘッド１４では、記録媒体１２の露光面上で、３つのブロックＧ１、Ｇ２、Ｇ３の境目で画素同士を明確に区別して露光処理すること（３つのブロックＧ１、Ｇ２、Ｇ３の境目で画素同士をくっきりと切り分けて露光処理すること）ができず、３つのブロックＧ１、Ｇ２、Ｇ３の境目で画素同士にクロストークを生じる場合がある。このような場合には、クロストークを減ずるために、その境目に当たるＤＭＤ２０上の画素を使わないこととして対応することができる。

なお、一部画素シフト部材５０は、第１光学部材５０Ａ若しくは第３光学部材５０Ｃと、第２光学部材５０Ｂとの組み合わせで２つのブロックに分割してシフトさせるよう構成し、又は一部画素シフト部材５０を、第１光学部材５０Ａと、第３光学部材５０Ｃとの組み合わせで２つのブロックに分割してシフトさせるよう構成しても良い。

次に、前述した一部画素シフト部材５０を、光の回折を利用した光学素子として構成してもよい。光の回折を利用する素子としては、ホログラムやバイナリー・オプティカル・エレメント（回析部材）をブレーズ化したもの等がある。ここではバイナリー・オプティカル・エレメントを使用した構成例について、図４乃至図６により説明する。

図４に示す光の回折を利用した光学素子として構成された一部画素シフト部材５０は、透明で同じ厚みの平面部材に形成された光学ガラス等である一枚の平面プレートを走査方向（主走査方向）に対して上段、中段、下段の３つのエリア（部分）に分け、上段を第１回折部５０Ｄとし、中段を第２透過部５０Ｅとし、下段を第３回折部５０Ｆとする。

また、第２透過部５０Ｅは、光ビームを直線の光路に沿って透過させるよう構成され、その走査方向（送り方向）に対する長さ（第１回折部５０Ｄと第３回折部５０Ｆとの間の距離）を、一部画素シフト部材５０の配置位置におけるＤＭＤ２０の全マイクロミラー３６群から露光面（記録媒体１２の表面）に至る光路の走査方向（送り方向）に対応した光路幅を３等分した長さに設定する。さらに、第２透過部５０Ｅは、その走査方向に対する長さの中央位置が、一部画素シフト部材５０の配置位置におけるＤＭＤ２０の全マイクロミラー３６群から露光面に至る光路の走査方向に対応した光路幅の中央位置に一致するように配置する。

このように配置構成することにより、この一部画素シフト部材５０は、ＤＭＤ２０の２次元的に配置されたマイクロミラー３６群を、露光面上で走査方向に対して３等分（走査方向に対するビームスポットの数が等しくなる３つに分割）し、図８に例示するように均等に分割された３つのブロックＧ１、Ｇ２、Ｇ３を設定することができる。

この光の回折を利用した光学素子として構成された一部画素シフト部材５０では、その第１回折部５０Ｄの表裏両面を図５に示すように光ビームを回折して走査方向と直交する方向の一方にビームスポットを所定量シフトさせる作用を奏する第１ＢＯＥ（バイナリー・オプティカル・エレメント）５１に構成する。

また、第３回折部５０Ｆの表裏両面を図６に示すように光ビームを回折して走査方向と直交する方向の他方にビームスポットを所定量シフトさせる作用を奏する第２ＢＯＥ（バイナリー・オプティカル・エレメント）５３に構成する。

これら第１ＢＯＥ５１と、第２ＢＯＥ５３とは、一般に利用されているバイナリー・オプティカル・エレメント（回析部材）として加工形成されるもので、例えば、一部画素シフト部材５０全体を形成する板状の光学ガラスにおける第１回折部５０Ｄと第３回折部５０Ｆとの表裏両面部分にそれぞれ断面視微細な傾斜面（実際には、いわゆるエッチング加工を繰り返して凹部に微細な階段状の傾斜を形成したもの）を加工して構成することができる。

これら第１ＢＯＥ５１と、第２ＢＯＥ５３とは、それぞれ第１回折部５０Ｄと第３回折部５０Ｆとの表裏両面における走査方向と直交する方向の一方端部から他方の端部に向けて直線状に伸びる微細な略断面三角形の斜面として構成する。これら第１ＢＯＥ５１と、第２ＢＯＥ５３とは、微細な略断面三角形の高さ（段差の高さ）が回折部材の屈折率をｎ、空気の屈折率を１、光の波長をλ、段差の数をNとしたとき、次式の整数倍となるように形成する。

式

これら第１ＢＯＥ５１と、第２ＢＯＥ５３とは、理論的に、それぞれの凹部内の傾斜に形成された微細な階段部分の段数（レベル）が８レベルの傾斜面の場合に、第１ＢＯＥ５１と、第２ＢＯＥ５３とで所定の方向に回折される光の割合が約９５％となり、１６レベルの傾斜面の場合に約９８．７％，３２レベルで９９．５％となる。従って、第１ＢＯＥ５１と、第２ＢＯＥ５３とは、露光面上での迷光限界に応じて１６レベルあるいは３２レベル程度に加工することで、十分実用に耐え得るものとなる。

また、これら第１ＢＯＥ５１を設けた第１回折部５０Ｄと、第２ＢＯＥ５３を設けた第３回折部５０Ｆとは、図５と図６とを対比して見ると分かるように、バイナリー・オプティカル・エレメントの傾斜の方向が逆となるように構成し、第１ＢＯＥ５１で光ビームを回折してビームスポットの位置をシフトさせる方向と、第２ＢＯＥ５３で光ビームを回折してビームスポットの位置をシフトさせる方向とが逆方向となるように構成する。

さらに、これら第１ＢＯＥ５１を設けた第１回折部５０Ｄと、第２ＢＯＥ５３を設けた第３回折部５０Ｆとは、それぞれの厚さを変更調整することによって記録媒体１２の露光面上に照射されるビームスポットの位置のシフト量を所定量に設定することができる。

なお、マルチビーム露光装置の露光ヘッド１４に設ける一部画素シフト部材５０を、光の回折を利用した光学素子として構成したものは、前述した一部画素シフト部材５０を、光の屈折を利用した光学素子として構成したものと、同様な作用、効果を得ることができる。

また、一部画素シフト部材５０は、第１回折部５０Ｄ若しくは第３回折部５０Ｆと、第２透過部５０Ｅとの組み合わせで２つのブロックに分割してシフトさせるよう構成し、又は一部画素シフト部材５０を、第１回折部５０Ｄと、第３回折部５０Ｆとの組み合わせで２つのブロックに分割してシフトさせるよう構成しても良い。

次に、前述した一部画素シフト部材５０を、光の偏光を利用した光学素子として構成する構成例について、図７により説明する。

図７に示す光の偏光を利用した光学素子として構成された一部画素シフト部材５０は、透明で同じ厚みの平面プレートに形成され、その走査方向（主走査方向）に対して上段、中段、下段の３つのエリア（部分）に分けられた、上段を第１偏光部５０Ｇとし、中段を第２透過部５０Ｈとし、下段を第３偏光部５０Ｉに構成する。

また、第２透過部５０Ｈは、光ビームを直線の光路で透過させるよう構成され、その走査方向（送り方向）に対する長さ（第１偏光部５０Ｇと第３偏光部５０Ｉとの間の距離）を、一部画素シフト部材５０の配置位置におけるＤＭＤ２０の全マイクロミラー３６群から露光面（記録媒体１２の表面）に至る光路の走査方向（送り方向）に対応した光路幅を３等分した長さに設定する。さらに、第２透過部５０Ｈは、その走査方向に対する長さの中央位置が、一部画素シフト部材５０の配置位置におけるＤＭＤ２０の全マイクロミラー３６群から露光面に至る光路の走査方向に対応した光路幅の中央位置に一致するように配置する。

このように配置構成することにより、この一部画素シフト部材５０は、ＤＭＤ２０の２次元的に配置されたマイクロミラー３６群を、露光面上で走査方向に対して３等分（走査方向に対するビームスポットの数が等しくなる３つに分割）し、図８に例示するように均等に分割された３つのブロックＧ１、Ｇ２、Ｇ３を設定することができる。

以下、シフト方向と平行な偏光方向を有する光が、一部画素シフト部材に入射する場合を考える。

この光の偏光を利用した光学素子として構成された一部画素シフト部材５０では、その第１偏光部５０Ｇを、一般に用いられているビームディスプレイサーで形成し、このビームディスプレイサーに光線（光ビーム）を透過させることによって生じる異常光線の出射方向を、走査方向と直交する方向の一方にシフトさせる作用を奏するように構成する。ビームディスプレイサーは、入射面法線に対して、ビームをシフトする方向に４５°結晶光軸が傾斜するよう構成されたものである。

また、第３偏光部５０Ｉを、一般に用いられているビームディスプレイサーで形成し、このビームディスプレイサーに光線（光ビーム）を透過させることによって生じる異常光線の出射方向を、走査方向と直交する方向の他方にシフトさせる作用を奏するように構成する。すなわち、第１偏光部５０Ｇで光ビームを偏光して露光面上に投影されるビームスポットの位置をシフトさせる方向と、第３偏光部５０Ｉで光ビームを偏光して露光面上に投影されるビームスポットの位置をシフトさせる方向とが逆方向となるように構成する。さらに、これら第１偏光部５０Ｇと、第３偏光部５０Ｉとは、それぞれの厚さを変更調整することによって記録媒体１２の露光面上に投影されるビームスポットの位置のシフト量を所定量に設定することができる。

シフト方向に対して光の偏光方向が平行になるようにする方法としては種々の方法が考えられるが、例えば、一部画素シフト部材５０に入射する前に偏光板部材５８を設置してもよい。

なお、マルチビーム露光装置の露光ヘッド１４に設ける一部画素シフト部材５０を、光の偏光を利用した光学素子として構成したものは、前述した一部画素シフト部材５０を、光の屈折を利用した光学素子として構成したものと、同様な作用、効果を得ることができる。

また、一部画素シフト部材５０は、第１偏光部５０Ｇ若しくは第３偏光部５０Ｉと、第２透過部５０Ｈとの組み合わせで２つのブロックに分割してシフトさせるよう構成し、又は一部画素シフト部材５０を、第１偏光部５０Ｇと、第３偏光部５０Ｉとの組み合わせで２つのブロックに分割してシフトさせるよう構成しても良い。

次に、露光ヘッド１４にマイクロミラー３６群の格子状の配列方向を走査方向及び走査方向と直交する方向に一致させて配置し、前述した一部画素シフト部材５０を設けて、ＤＭＤ２０の２次元的に配置されたマイクロミラー３６群を露光面上で走査方向に対して３等分し、図８に例示するように均等に分割された３つのブロックＧ１、Ｇ２、Ｇ３を設定して記録媒体１２上に露光処理する場合の、作用、効果について説明する。

図８に例示するように、この露光ヘッド１４で走査方向と直交する方向に並んだある第１の露光点位置を露光する場合には、ブロックＧ１に属する３個のビームスポット群ＢＳ１で多重露光する。また、この第１の露光点位置に隣接する第２の露光点位置（図８に向かって右隣の位置）を露光する場合には、ブロックＧ２に属する３個のビームスポット群ＢＳ２で多重露光する。さらに、第２の露光点位置に隣接する第３の露光点位置（図８に向かって右隣の位置）を露光する場合には、ブロックＧ３に属する３個のビームスポット群ＢＳ３で多重露光する。このように連続して走査方向と直交する方向に並んだ所定複数の露光点を、それぞれ選択して多重露光すると共に、記録媒体１２を走査方向へ移動することによって、記録媒体１２の露光範囲の全体に対して露光処理を行う。

よって、上述のマイクロミラー３６群の格子状配列を走査方向に一致させて配置し、一部画素シフト部材５０を備えた露光ヘッド１４により記録媒体１２上に露光処理する場合には、主走査ラインに沿って配置された画素で時間をずらして複数回露光し記録媒体１２上に１ドットを形成することになる。このとき記録媒体１２に１ドットを記録するため多重露光される各ビームスポットの位置を正確に一致させることができるから、記録される１ドットにおける露光量分布が副走査方向に広がることはなく、記録されたドットの形状のエッジをシャープに保つことができる。このため、この露光ヘッド１４では、エッジがシャープにされたドットでＦＭスクリーンを記録できるので、光パワー変動や刷り枚数といった記録条件や、自動現像機の現像の度合いといった現像条件等によって、記録画素の周長が変わり網点画像の割合（網点面積率特性）が急激に変わって濃度変動を起こすことを防止し、ＦＭスクリーンを用い安定した中間調の表現を記録できる。

次に、上述のように構成したマルチビーム露光装置の露光ヘッドの動作について説明する。

このマルチビーム露光装置では、露光パターンに応じた画像データが、ＤＭＤ２０に接続された制御ユニット２２に入力され、制御ユニット２２内のメモリに一旦記憶される。この画像データは、画像を構成する各画素の濃度を２値（ドットの記録の有無）で表したデータである。

記録媒体１２は、図示しない移動ステージの表面に吸着された状態で走査方向の上流側から下流側に露光ヘッドが１走査した後（走査中は移動ステージは止まっている）移動される。移動ステージ上の記録媒体１２が露光ヘッド１４の下を通過する際に、メモリに記憶された画像データが複数ライン分ずつ順次読み出され、データ処理部としての制御装置によって、この読み出した画像データに基づいて、露光ビームスポットの２次元配置が複数のブロックに分割されて相互間で走査方向と直交する方向に所定距離シフトした配置となっていることに対応した制御信号（制御データ）が生成される。

そして、この生成された制御信号に基づいて露光ヘッド１４に設置されたＤＭＤ２０のマイクロミラーの各々がオンオフ制御される。光源ユニット２４から制御ユニット２２にレーザ光が照射されると、ＤＭＤ２０のマイクロミラーがオン状態のときに反射されたレーザ光は、送り分解能が向上された所要の露光ビームスポット位置に結像され露光される。

また、記録媒体１２が移動ステージと共に、露光ヘッドが１走査した後、移動されることを繰り返すことにより、記録媒体１２が露光ヘッド１４により二次元的に露光される。

また、本実施の形態に係るマルチビーム露光装置では、露光ヘッド１４に用いる空間光変調素子としてＤＭＤを用いたが、例えば、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）タイプの空間光変調素子（ＳＬＭ；Special Light Modulator）や、電気光学効果により透過光を変調する光学素子（ＰＬＺＴ素子）や、液晶光シャッタ（ＦＬＣ）等、ＭＥＭＳタイプ以外の空間光変調素子をＤＭＤに代えて用いることができる。

また、ｏｎ／ｏｆｆ状態のみを取る空間光変調素子に限らず、ｏｎ／ｏｆｆ状態に加え複数の中間値を取り、階調を表現できる空間光変調素子を用いても良い。

なお、ＭＥＭＳとは、ＩＣ製造プロセスを基盤としたマイクロマシニング技術によるマイクロサイズのセンサ、アクチュエータ、そして制御回路を集積化した微細システムの総称であり、ＭＥＭＳタイプの空間光変調素子とは、静電気力を利用した電気機械動作により駆動される空間光変調素子を意味している。

また、本実施形態に係るマルチビーム露光装置では、露光ヘッド１４に用いる空間光変調素子であるＤＭＤ２０を、１次元又は２次元に配置された複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段に置き換えて構成しても良い。この複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段は、例えば、各画素に対応したレーザビームを選択的にｏｎ／ｏｆｆして出射可能にしたレーザ光源で構成し、または、各微小レーザ発光面を各画素に対応して配置することにより面発光レーザ素子を形成し、各微小レーザ発光面を選択的にｏｎ／ｏｆｆして発光可能にしたレーザ光源で構成することができる。

なお、本発明のマルチビーム露光装置は、前述した実施の形態に限定されるものではなく、ＰＳ版の露光用セッタとして構成しても良く、また本発明の要旨を逸脱しない範囲において、その他種々の構成をとり得ることは勿論である。

本発明のマルチビーム露光方法及び装置に関する実施の形態に係る、マルチビーム露光装置の露光ヘッド部分を示す概略構成図である。 本発明のマルチビーム露光方法及び装置に関する実施の形態に係る、マルチビーム露光装置の露光ヘッドに用いる光の屈折を利用した一部画素シフト部材を取り出して示す概略構成斜視図である。 本発明のマルチビーム露光方法及び装置に関する実施の形態に係る、マルチビーム露光装置の露光ヘッドに用いる光の屈折を利用した一部画素シフト部材の作用を示す概略説明図である。 本発明のマルチビーム露光方法及び装置に関する実施の形態に係る、マルチビーム露光装置の露光ヘッドに用いる光の回折を利用した一部画素シフト部材を取り出して示す概略構成斜視図である。 本発明のマルチビーム露光方法及び装置に関する実施の形態に係る、マルチビーム露光装置の露光ヘッドに用いる光の回折を利用した一部画素シフト部材における第１回折部の作用を示す概略説明図である。 本発明のマルチビーム露光方法及び装置に関する実施の形態に係る、マルチビーム露光装置の露光ヘッドに用いる光の回折を利用した一部画素シフト部材における第３回折部の作用を示す概略説明図である。 本発明のマルチビーム露光方法及び装置に関する実施の形態に係る、マルチビーム露光装置の露光ヘッドに用いる光の偏光を利用した一部画素シフト部材を取り出して示す概略構成斜視図である。 本発明のマルチビーム露光方法及び装置に関する実施の形態に係る、マルチビーム露光装置の露光ヘッドで露光する際に露光面に投影されるビームスポットの状態を示す概略説明図である。 本発明のマルチビーム露光方法及び装置に関する実施の形態に係る、マルチビーム露光装置の露光ヘッドで露光下際の効果を比較説明するための、露光面に投影されるビームスポットの状態の比較例を示す概略説明図である。 本発明のマルチビーム露光方法及び装置に関する実施の形態に係る、マルチビーム露光装置の露光ヘッドに用いるＤＭＤの概略構成を示す斜視図である。 本発明のマルチビーム露光方法及び装置に関する実施の形態に係る、マルチビーム露光装置の露光ヘッドで露光処理している状態を示す要部の斜視図である。

符号の説明

１２ 記録媒体
１４ 露光ヘッド
１６ 露光エリア
２４ 光源ユニット
３６ マイクロミラー
４８ マイクロレンズアレイ
５０ 一部画素シフト部材
５０Ａ 第１光学部材
５０Ｂ 第２光学部材
５０Ｃ 第３光学部材
５０Ｄ 第１回折部
５０Ｅ 第２透過部
５０Ｆ 第３回折部
５０Ｇ 第１偏光部
５０Ｈ 第２透過部
５０Ｉ 第３偏光部
５８ 偏光板部材
Ｇ１ ブロック
Ｇ２ ブロック
Ｇ３ ブロック

Claims (9)

1. 複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段によるマルチビーム露光方法において、
   前記複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段から、走査方向と平行に並ぶよう露光面上に投影される複数の露光ビームスポットを、走査方向に対して複数のブロック毎に分けると共に、当該ブロック相互間の相対的な位置を走査方向と直交する方向にシフトさせることにより少なくとも一方の前記ブロックによって露光面上に投影される前記露光ビームスポットと、他方の前記ブロックによって露光面上に投影される前記露光ビームスポットとが一致しないようにした状態で、走査露光することを特徴とするマルチビーム露光方法。
2. 光を変調する画素を２次元的に配列した２次元光変調器を用いたマルチビーム露光方法において、
   前記２次元光変調器から、走査方向と平行に並ぶよう露光面上に投影される、２次元的に配列した複数の露光ビームスポットを、走査方向に対して複数のブロック毎に分けると共に、当該ブロック相互間の相対的な位置を走査方向と直交する方向にシフトさせることにより、少なくとも一方の前記ブロックによって露光面上に投影される走査方向と直交する方向に隣接する前記露光ビームスポットで露光される間位置を、他方の前記ブロックによって露光面上に投影される前記露光ビームスポットで走査露光することを特徴とするマルチビーム露光方法。
3. 露光面上に投影される２次元的に配列された複数の露光ビームスポットが、走査方向と平行に並ぶように配設された２次元光変調器と、
   前記２次元光変調器から出射された複数の露光ビームを、走査方向に対して複数のブロック毎に分けると共に、当該ブロック相互間の相対的な位置を走査方向と直交する方向にシフトさせて前記露光面上に投影させることにより、少なくとも一方の前記ブロックによって露光面上に投影される走査方向と直交する方向に隣接する前記露光ビームスポットで露光される間位置を、他方の前記ブロックによって露光面上に投影される前記露光ビームスポットで露光させる一部画素シフト部材と、
   を有することを特徴とするマルチビーム露光装置。
4. 前記一部画素シフト部材が、少なくとも、前記露光ビームの光軸に対して所定角度傾斜させて配置されることにより、一部の光ビームをブロックに分けて屈折させ、走査方向と直交する方向にシフトさせて前記露光面上に投影させるように構成した透明な平板状の第１の光学部材と、前記露光ビームの光路上における走査方向に対し前記第１の光学部材と隣接して配置されると共に、前記露光ビームの光軸と直交するよう配置された透明な平板状の第２の光学部材と、を有することを特徴とする請求項３に記載のマルチビーム露光装置。
5. 前記一部画素シフト部材が、少なくとも、前記露光ビームの光軸に対して第１の所定角度傾斜させて配置されることにより、一部分の光ビームをブロックに分けて屈折させ、走査方向と直交する第１の方向にシフトさせて前記露光面上に投影させるように構成した透明な平板状の光学部材と、前記露光ビームの光軸に対して第２の所定角度傾斜させて配置されることにより、他部分の光ビームをブロックに分けて屈折させ、走査方向と直交する第２の方向にシフトさせて前記露光面上に投影させるように構成した透明な平板状の光学部材と、を有することを特徴とする請求項３に記載のマルチビーム露光装置。
6. 前記一部画素シフト部材が、少なくとも、一部の光ビームをブロックに分けて回折することにより走査方向と直交する方向にシフトさせて前記露光面上に投影させるように構成した第１の回析部材と、前記露光ビームの光路上における走査方向に対し前記第１の回析部材に隣接して配置されると共に、光ビームを直線の光路に沿って透過させるよう構成された第２の透過部と、を有することを特徴とする請求項３に記載のマルチビーム露光装置。
7. 前記一部画素シフト部材が、少なくとも、一部分の光ビームをブロックに分けて回折することにより走査方向と直交する第１の方向にシフトさせて前記露光面上に投影させるように構成した一の回析部材と、他部分の光ビームをブロックに分けて回折することにより走査方向と直交する第２の方向にシフトさせて前記露光面上に投影させるように構成した他の回析部材と、を有することを特徴とする請求項３に記載のマルチビーム露光装置。
8. 前記一部画素シフト部材が、少なくとも、一部の光ビームをブロックに分けて透過させことにより、走査方向と直交する方向にシフトして出射された異常光線を前記露光面上に投影させるように構成した第１の偏光部と、前記露光ビームの光路上における走査方向に対し前記第１の偏光部に隣接して配置されると共に、光ビームを直線の光路に沿って透過させるよう構成された第２の透過部と、を有することを特徴とする請求項３に記載のマルチビーム露光装置。
9. 前記一部画素シフト部材が、少なくとも、一部分の光ビームをブロックに分けて透過させことにより、走査方向と直交する第１の方向にシフトして出射された異常光線を前記露光面上に投影させるように構成した一の偏光部と、他部分の光ビームをブロックに分けて透過させことにより、走査方向と直交する第２の方向にシフトして出射された異常光線を前記露光面上に投影させるように構成した他の偏光部と、を有することを特徴とする請求項３に記載のマルチビーム露光装置。

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