CN1099475C - 电镀设备 - Google Patents
电镀设备 Download PDFInfo
- Publication number
- CN1099475C CN1099475C CN94194358A CN94194358A CN1099475C CN 1099475 C CN1099475 C CN 1099475C CN 94194358 A CN94194358 A CN 94194358A CN 94194358 A CN94194358 A CN 94194358A CN 1099475 C CN1099475 C CN 1099475C
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- workpiece
- chain
- supporting structure
- equipment
- treatment zone
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/02—Electroplating of selected surface areas
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
- C25D5/02—Electroplating of selected surface areas
- C25D5/022—Electroplating of selected surface areas using masking means
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Coating With Molten Metal (AREA)
Abstract
本发明涉及有选择地电解处理连续移动的导电工件的被限定区域的设备,它包括将工件运送过电解处理区的装置;该装置提供了使电解液仅接触被限定区域的遮护装置;运输装置包括一具有使工件与遮护装置对准的定位装置的环形链;将电解液供给工件的装置;以及使电流通过工件和另一个电极之间的装置;运送工件的装置包括两个由不导电材料做的链节制成的环链传送带,其间夹持有工件。可以设置定位装置,使两环链传送带至少在处理区内保持彼此对准。
Description
本发明涉及一种用于有选择地电镀连续移动的金属或具有导电性的带状物的某一选定区域的电解槽。
更特别地,可将这种电解槽用于进行表面处理的设备和用贵重金属电镀集成电路(引线框)的接插件设备。
我们已经知道有以下的公开文件,即GB-A-2117405(国内半导体);GB-A-2094344(Owen);WO81/03187(Kontakta);USP-A-4155815(Francis);和由Eugene B.Madel于1987年1月出版的“金属精加工”一书的P29-31页。所有这些出版物都没有公开由本发明所公开的那些特征,但是为了表明背景技术,在此引用了它们。
本发明提供了用于有选择地电解处理连续移动的导电工件上被限定了的区域的设备,该设备包括用于运送工件使之通过设备的电解处理区的装置,在电解处理区内,工件与处理用的电解液接触;该运输装置提供了用于遮护工件的遮护装置,这样,电解液只能接触被限定的区域;运输装置包括提供了定位装置的环形链,通过定位装置,工件可处于与遮护装置对准的位置;用于把电解液输送给被遮护的工件的装置;以及用于使电流通过作为一个电极的工件和另一个电极之间的装置。可将这种设备认为是上述类型的设备。
本发明的主题还扩展到了有本发明特性的几个方面。可以把本发明的任一方面或任何两个以上的方面与上述类型的设备协调的结合,并且本发明的主题涉及所有的这种结合。
根据本发明的第一个方面,用于运送工件的装置包括两条由不导电的材料做的铰接的链节构成的环链传送带,该传送带是由电力驱动的,工件就夹持在其间并通过处理区。
根据本发明的第二个方面,可以设置定位装置,用于确保两条环链传送带至少在处理区内彼此保持对准。
定位装置包括由所述链条提供的配合互相接合的结构。
根据本发明的第三个方面,每条环链传送带至少在处理区内设有一支承结构。最好该支承结构安装成可用于彼此相对和相向移动。
本发明的第四个方面在于,支承结构可设有用于以固定的相互对置的关系夹持它们的装置,在这种条件下,环链传送带彼此对准地在其间自由滑动。这个用于保持支承结构处于固定的相互对置的关系的装置最好包括定位装置和夹紧装置。定位装置可包括由所述支承结构提供的或承载在所述支承结构上的配合相互接合的结构。
本发明的第五个方面在于,两条环链传送带可至少在处理区内用销彼此相互固定并且仅有一条传送带需要设有驱动装置,该被驱动的传送带起用于驱动与其对准的另一条传送带使之通过处理区的作用。该传送带可被拉过或推过处理区。
本发明的第六个方面在于,至少一条环链传送带可至少在处理区内设有一支承结构并且它最好至少在处理区内以这样一种方式用销固定在支承结构上,即使传送带固定在支承结构上,同时允许该传送带沿所述结构滑动。
最好,两条环链传送带都至少在处理区内设有一支承结构,并且两条传送带都至少在处理区内以这样一种方式用销固定在其各自的支承结构上,即使每条传送带固定在其各自的支承结构上同时允许它们沿所述支承滑动。传送带可由相配合的装置用销固定在其支承上,该相配合的装置包括一个或多个相配合的突起和一个或多个凹槽。最好将所述的一个或多个突起设置在链式传送带上,而将一个或多个凹槽设置在支承结构上。在这个方面的一种形式中,突起和凹槽具有与链式传送带的运动方向横交的基本上为三角形的横截面。
本发明的第七个方面在于,一条或两条环链传送带可由与皮带的摩擦接触驱动。
本发明的第八个方面在于,每条环链传送带装在一个单独的支承结构上,该支承结构和装于其上的链条可彼此相对的移动,从而能一起接合位于其间的工件或与之分开。
本发明的第九个方面在于,在一个或两个支承结构上可装有一皮带,它适于摩擦地接合位于相应支承上的环链传送带,从而驱动所述的传送带。
根据本发明的第十个方面,那条或每条传送带可有一可压缩的由聚合物制成的表面,该表面处于这样的位置上,即使其与远离工件的链式传送带的链节的表面接合,并且这种接合发生在处理区内。
根据本发明的第十一个方面,每个支承结构可至少在处理区内装有用于使链条由销固定在支承结构上的装置。
根据本发明的第十二个方面,每个环形链至少在其返回行程的一部分上设有支承装置。
根据本发明的第十三个方面,至少一条链式传送带的链节上有由所述遮护装置限定的开口,并且可用电解液排放装置打开每个这样的开口,从而减少电解产物积聚的任何趋势。
两条环链传送带的链节可设有开口,通过这些开口可将电解液供给工件。
根据本发明的第十四个方面,这些开口可以以这样的方式设置在两个链条的链节上,即在链节在处理区内对准的两个链条的相对链节上,开口并不对准。
根据本发明的第十五个方面,可将开口设置在两个链条的链节上,从而使其当链节在处理区内彼此对准地相对时是对准的。
最好设置用于把电解液输送到工件两面的装置。
根据本发明的第十六个方面,可以设置下述装置,即用于使电解液通过一条传送带从工件的一面流过工件并经工件的另一面通过另一条传送带流出的装置。
最好,在工件的相对的各面设置阳极。
在本发明的一个较佳形式中,用于有选择地电解处理连续移动的导电工件上被限定了的区域的设备包括用于特工件运送过设备的电解处理区的装置,在处理区内,工件与处理用的电解液接触;该运输装置提供了用以遮护工件的遮护装置,从而使电解液仅接触被限定的区域;传送装置包括提供了定位装置的环形链,通过该定位装置可使工件处于与遮护装置对准的位置;用于将电解液输送给工件的装置;以及用于使电流通过作为一个电极的工件和另一个电极之间的装置;用于传送工件的装置包括两个由用不导电材料做的铰接的链节而制成的环链传送带,该传送带由电力驱动,工件夹持在其间并通过处理区;设置定位装置,用以确保两条环链传送带至少在处理区内保持彼此对准;每条环链传送带支承在一个单独的支承结构上,该支承结构和由其承载的链条可彼此相对的移动,从而能一起接合位于其间的工件并与之分开;两条环链传送带至少在处理区内设有一支承结构,并且两条传送带至少在处理区内以这样一种方式用销固定在它们各自的支承结构上,即使每条传送带固定在其各自的支承结构上,同时允许其沿所述结构滑动;并且一个或两个支承结构上载有皮带装置,该装置适于与位于相应支承上的环链传送带摩擦地接合并驱动所述传送带。
本发明可以以各种方式实施,下面便参照附图描述几个具体的实施例以说明本发明及其几个方面,附图中:
图1是以局部剖开的方式表示本发明第一实施例的顶视平面示意图;
图2是一示意的透视图,它是从上方向图1中所示双链传送带组的一侧看的并从输入端朝向图1中的位于左面的电镀区;
图3是图1所示实施例适于在工件的一侧上镀敷一个部位或一条带的一种型式的示意剖视图;
图4是与图3相类似的视图,它以更加示意的方式表示图3的中心区域并示出了图1中所示实施例的这样一种型式,该型式适于在工件的两侧上同时但是在彼此不相互对准的不同的相对位置上镀敷一个部位或一个条带;
图5是与图4相类似的视图,示出了图1所示实施例的适于镀敷一种接插件,例如SIMM接插件的两侧或其边缘的一种型式;
图6是以更详细的方式表示链式传送带的一种型式的顶视示意透视图,这种链式传送带可用于水平设置的第一实施例中,该图示出了链条之一的三个链节;
图7以放大的比例示意地表示了一具有重复的图案并有导向孔的工件的细节,该图试图说明链节的长度和工件的纹距之间的较佳关系;
图8A和8B是与图1相类似的表示本发明第二实施例的视图,第二实施例与第一实施例的区别在于仅直接驱动链条中的一条,图8A表示输入端;
图9A和9B是图8A和8B中所示实施例的链条之一的示意侧视图,图9A表示输入端;
图10是设置与图3相类似的,图8所示第二实施例的示意剖视图;
图11是设置与图4相类似的,图8所示第二实施例的示意剖视图;
图12是设置与图5相类似的图8所示第二实施例的示意剖视图;
图13是以非常大的比例放大的典型工件的一种形式和带有垫板的区域的引线框的平面图,可能希望在垫板的中心区从一侧对上述工件进行电镀,在该图的下方以更大的比例示出了引线框;
图14是链节和遮护结构的分解透视图,该遮护结构可用于在遮蔽了垫板的同时仅电镀引线框;
图15是与图13类似的不同的典型工件的视图,可能希望给图中所示结构的顶部边缘镀敷以一种材料并给图中所示结构的底部两侧镀敷以另一种不同的材料;
图16是根据本发明的传送带链条的一对链节的顶视图,所示链节是图6所示设置的一种改进型,并适于用在图12的设置中;
图17是图16所示结构从输入侧(即图16的右侧)所看到的局部侧视图;
图18是与图17相类似的视图,示出了在输出侧上的链节,该图是从链节的内面看而得到的并示出了遮护板。
在图1中示出并且图2也对其进行了说明的槽是一种电镀槽,在图3,4和5中示出了该槽的三种不同的形式,而图6和7则进一步地给出了该槽的某些细部,这种槽与现有技术中的有选择力的电镀槽相比具有改进的操作灵活性。本发明的电镀槽可对工件的有选择的区域进行电镀,而工件的其它区域则不会被电镀沉积物所镀敷。有选择的区域可能是条或例如所需形状的较宽范围的部位之类的某些局部区域,或者可能是工件的边缘。
该实施例可适应沿工件的工件的线性方面的各种变化。它也允许不是平面的工件横交地处理。
与现有技术中的结构相比,本发明所提供的结构极大的增加了制造方面的灵活性。因此,本发明的设备只用极小的变动便可实施以下操作:
(1)(通过将电解液仅输送到一面)镀敷例如带钢的工件的一侧(见图3和10);
(2)(通过在链条上形成与另一传送带中的开口对准的开口并同时将电解液输送至两面)在同一位置同时镀敷两侧;
(3)(通过在链条上形成不与另一链条上的开口对准的开口并将电解液同时输送给工件的两个表面)在不同的位置同时镀敷两侧(见图4和11);
(4)(通过使边缘与彼此相互对准的两个链条上的开口对准并最好仅从一侧将电解液输送至所述边缘)镀敷例如带钢的工件的一个边缘(见图5和12);
(5)(通过使根据本发明的两台设备与位于其间的适当的洗涤装置相一致并将一种材料镀敷在第一台设备中的一个表面上或边缘上,而将另一种不同的材料或不同量的同一种材料镀敷在第二台设备中的另一表面或边缘上,同时在这两个阶段之间无需使带钢重新定向)在相对侧或在相对的边缘上镀敷不同的电镀材料。
第一实施例包括两个模件或箱,即一个固定箱20和一个可动箱120。每个箱设有一垂直设置的由链节组成的环形链30和130,链节彼此间以这样的方式铰接,即允许在预定的限度内有相对的运动。
链条为工件95提供了一种运送和遮掩的功能。该链条要分别通过工件的定位区40,电镀区41,工件的卸料区42和返回行程43,44,其中,工件95在工件的定位区40内与固定箱20的链条30和可动箱120的链条130形成定位关系,而链条在电镀区41内相互叠置并压靠在一起。电镀区的范围由图1中的线41标出。
环形链30在输入端31处由一弯曲的导向表面32支承,而在输出端33由一自由转动的导向轮34支承(该导向轮可由一导向表面替代)。
链条30由垂直设置的沿纵向延伸的第一和第二支承结构50和60支承在导向面32和34之间;支承结构50位于电镀区内并从该区延伸至卸料区42,支承结构60位于返回区内并且与支承结构50的长度相同。
链条130以同样的方式由结构与支承结构50和60相同的第一和第二支承结构150和160支承。
图2示出了这种支承结构的一种较佳型式,图中表示的是支承结构50和150的输入端。环形链30和130的内面设有适于与由支承结构50和150提供的配合构造以用销固定并自由滑动的关系接合的构造。
如图2,3,4和5所示,这些配合结构最好是环形链内面上的突起51,151,它们与在支承结构50和150的链接触面上的凹槽55和155(标号155示于图2中,标号55示于图3,4和5中)接合。
这保证了使至少处于电镀区的链条固定在支承结构上同时可以自由地沿运行方向滑过。
突起51和151最好以锥体的形式从链条的内面伸出,并且该突起有锥形的支承表面52和152(典型的情况是,该支承表面相对于链条平面的垂直面倾斜大约20°-40°,例如30°),其端部是一个平行于链条平面的扁平顶部53,153。凹槽55和155与突起51和151相匹配,但是在形状上比突起要稍宽并稍深,这样当一个突起在重力的作用下位于凹槽中时,会在该突起的上方形成一较大的间隙58,158,并在突起的端部53,153以及凹槽55和155的扁平内表面57,157之间形成一较大的间隙59,159。这些间隙对于使链条和支承结构之间产生运动是重要的,这样该设备可以适应在工件的垂直平面上的非线性变化,例如弯曲(由间隙158来调节),而且不会出现卡死的现象。间隙159使本设备可以处理有一凸出部或在横向于其长度的方向上弯曲的工件。
在第一实施例中,在两个箱上的链条30和130由用销固定的传动带驱动,该传动带有链接触表面,并且该接触表面有一个与链的材料相比有可压缩性并有高的摩擦系数的元件,这样转动带可以用摩擦接触来驱动链条。传动带将链条拉过电镀区,这对于适应压制公差有重要的影响,下面将参考图7对这点进行讨论。
将成对的用销固定的皮带65和66设置在固定箱20上,并将成对的用销固定的皮带165和166设置在可动箱120上。
使皮带65和66通过在输入端31处的齿形链轮67,68和在输出端33处的齿形链轮69,70。链轮69由安装在箱外部的变速电动机71通过皮带72沿逆时针方向驱动;(链轮169由电动机171和皮带172顺时针驱动)。皮带65和66位于沿纵向延伸的凹槽75和76(见图3,4和5)中,这些凹槽邻接链条30的边缘和支承机构51的外侧,并且电解液供应装置,即皮带65与链条的上部区域接合,而皮带66与链条的下部区域接合。
皮带165和166的设置和驱动与皮带65和66的相同。
如图3,4和5所示,皮带65,66,165,166的链条接触表面稍微凸出于或位于支承结构50和150之上,这样在链条的内表面和所述支承的表面之间便留有小的间隙61和62。皮带65,66和165,166的相应的可压缩的表面层63和163最好是硬的。
通过使导电的工件(例如是金属制的或是镀以金属的)作为阴极来实现电镀。这是通过使其与在输入端处的阴极固定器96和在输出端处的阴极固定器97连接而实现的。由惰轮98将工件引入并使其压靠在固定箱20的链条30上。
在图1所示的设置中,通过穿孔的或网状阳极80和180将电解液同时供给工件95的两面,这些穿孔如标号81和181所示。在箱的外部的泵机构(未示出)在适当的流率和压力下迫使电解液通过阳极由入口82,182进入歧管83,183并进入支承结构50和150上的输送槽84,184(可参见图3,4和5;这些图表示了稍微不同的设置,其中示出了槽84和184的较佳形状;槽184也示意地表示于图2中。)
电解液冲击链条并通过链条上的开口冲击在链条之间运送并定位的工件95,使电解液中的金属物质沉积在由链条上的开口限定的选择位置上。然后,使已用过的电解液流向排流口或回收。这个过程表示在图10,11和12中,并且将在下文中对图10至12加以描述。
现在特别地参看图2,应该知道,图2是非常示意性的并且用以清楚地表示工件和链条的定位功能,链条的支承功能和电解液的输送功能,图中省略了链条的驱动机构。链条的驱动机构总的表示在图1中,并且也表示于图3至6中。
定位是本发明的一个重要特征,下面将详细地描述定位的情况。
首先,使箱通过例如销88和孔89的相配合的机构彼此互相对准。例如使位于固定箱20上的销88处于可动箱120上的孔中(见图10,11和12)。这些销和孔位于链条30和130的外部,例如在链条30和130的上方或下方,以便不与它们的自由移动发生冲突。可动箱120可滑动地支承在其上固定着固定箱的横杆91,92(见图8A和8B)上。一旦销88已经插入孔89中,可动箱便可用由弹簧加载的可调压力钳99固定在固定箱上,所述压力钳最好位于箱的上方或下方(见图3)。
接着,使两个链条通过相配合的机构彼此相互对准,该相配合的机构例如是链条30上的销36,37和链条130上的孔136,137(见图3)或者是倒过来,是链条130上的销138,139和链条30上的孔38,39(见图1和2)。
然后,链条30上的销93接合工件95上的定位孔94和链条130上的孔49,使工件95对准位置。
到现在为止,已经描述了到将电解液输送到链条的内面时的电解液输送功能。
链条是由用绝缘树脂做成的链节24形成的,该绝缘树脂最好有低的热膨胀系数。每条链30和130中的链节24都是相同的。
图1和2示出了多个沿直线配置的链节,这些链节在它们绕过入口31和出口33时彼此互相铰接。图6示出了三个单独的链节24a,24b和24c。
如上所示,电解液经歧管83,183由泵的作用通过阳极80,180上的小孔81,181,并通过链节24上的开口26获得接触工件95的机会。
开口26有助于限定工件95的希望被电镀的区域。工件95可以是金属质的带状物或者是具有金属化的一个或多个表面的带状物。具体地表示于图2中的带状物95有接触腿100,101,并且在图2中,这些腿的端部与链节上的开口26对准,由此在一个面上进行电镀。如图2所示,每个链节24有两个这样的开口26,这样它可以镀敷相邻对的接触腿。
再参看图6(同时参看图2),工件的接触面上设有由例如硅酮橡胶(它比用销销住的皮带65,66,165,166的表面93更柔软(更易于压缩))的可压缩绝缘材料制成的密封板46。
链节24在其表面28上设有一沿纵向延伸的凹槽27,将该凹槽设置成使其在使用中朝向工件95。开口26穿过这个凹槽27,并且这个凹槽在开口26的边缘之外向链节的边缘延伸一大段距离。
密封板46用于以紧配合设置在凹槽27中,该板有一限定了工件的欲进行电镀的区域的开口。板46也设有导向孔49,该导向孔49的位置与开口48的位置有关,使得在开口48与开口26对准时,每个板46延伸过相邻链节,例如24a和24b之间的接合处(见图6)。
板46最好用在电镀条件下有抵抗力的弹性材料制造,并且希望板46可以被压缩,以便例如通过使其向外挤靠凹槽27的侧壁并沿纵向挤靠它们的对接的端部而确保密封良好。板46也最好是可挠曲的,以便不与绕环形链端部的链节的通道干涉。板46由适当的粘结剂固定在链节24上。
将导向孔49做成具有可安放位于链节24上的定向销93的大小,所述定向销93与工件95的定向孔94对准。
可以看到,板46的端部在标号125处有倒角,以使其彼此叠置并有利于形成密封。这个密封可以通过下述方式得到加强,即使链节24的端部形成相配的叠置结构,例如在两端的凸起和凹陷,比如在一端为阶梯形突起,在另一端为与之相配的阶梯形凹槽。这种结构也可以用在遮护板上。图16示出了一种这样的结构。
再请参看图6和7,从图中可以看到链节24a,24b,24c由松的连接件110相互连接,这些连接件110以这种方式构成,使得可以根据链节在移动的链条上所占据的位置轴向改变链节之间的距离。事实上,由于这些连接件的元件,即钉子或螺柱(在这里称之为“销”111)固定在链节24上并如图中(图6)所示的与一细长的环112以下述的方式配合,即所述销111的支承表面113可以在环112的眼中自由滑动,可以使链节24(24a,24b和24c)要么彼此相互接触(见链节24a和24b),要么可以以这样一种方式彼此分开(见链节24b和24c),以获得足够的角度方面的灵活性,从而使其在链条的回程上环行。可以注意到,为了进一步地提高这种灵活性,可以在链节24的轴向表面上做出倒角(见图6);但是,这种构造的特殊特征并不是必要的。销111可以被打入链节24的材料中。链节24最好用不导电的聚合树脂制成。但是,还可以注意到,在图6所示的构造中,销111的头114不能不加选择地定向,这是因为它具有特殊的形状,即它不是圆形,但是它有垂直于链节的扁平部分115,它们之间的间距对应于支承表面111的直径。由于这种设置,可以容易地拆下链条;事实上这是足够的,只要链条已经放置在一扁平表面上以翻转一个链节在下一个(或上一个)链条上的一个链节上,这样两链节的销111的扁平部分113相互定向为另一个的延伸部分,然后可以使环112自由地取出。但是,这种形状并不是必须的,螺柱111可以有圆形或多边形的头,在这种情况下,可以将这种螺柱拧入链节的材料中,在螺柱的部分116上攻有螺纹。
在本发明的电解槽中所采用的链条的链节的长度“L”(见图6)是作为所要镀敷的工件的间距“A”的函数而确定的。将工件的间距定义为工件的两个相应的图案之间的距离。
参看图2,可以看出,每隔一个导向孔94便出现一个重复的图案。因此,图2中所示工件的间距“A”是指从导向孔94到导向孔94b的距离,即是相邻导向孔94的中心之间的距离的两倍。
图7中示意地表示了这样的一个工件95的一部分,以及两个用于相对于由镀敷链条30的链节24所携带的销93定位该工件的孔94和94b。带状物的间距用“A”来表示,导向销93的半径用“R2”表示。理想的链节24的长度是“A”-“R2”和“A”-“X”之间的一个值,这里的“X”表示在制造工件例如压制工件时长度“A”的正或负的公差。图7示出了销93,其中,半径为“R2”的销杆的尺寸稍小于孔94或94b的直径“2R1”,而销93的尖端93a的直径“2R3”通常小于销93的销杆的直径“2R2的十分之一。因此,假如工件的间距“A”的误差(公差“X”)不超过一个对应于销93的杆和孔94及94b之间的直径差2(R1-R2)的值并且如果链节的长度“L”保持在A-R1和A-X之间,那么在销插入孔中时,相邻的链节24全部彼此离开,使销93的尖端93a指向由孔94和94b形成的圆的中心。这样可以容易地进行链节相对于工件95的接合。
我们还记得,由用可延伸的连接件112连接的铰接链节24构成的链条30和130在电镀区41中被拉动。这意味着相邻链节,例如24a和24b之间的轴向间隙“P”需要至少等于工件上的相邻导向孔,例如94和94b相隔距离的总公差“X”(将遇到的最大公差),但是不应大于销93的直径(2R2)(其中R2是销93的半径)减去总公差。
因此,最好应用以下关系:
X小于或等于P,而P小于或等于(2R2-X)。
遮蔽链节24的长度“L”最好由下述关系限定:
A-R2小于或等于L,而L小于或等于A-X。
事实上,在孔93的直径为1.5mm(R1-750μm)并且销93的销杆的直径R2为1.4mm,其顶端93a的直径R3为10-20μm时,可以容易地适应在平均间距“A”两侧上的50μm的误差(“X”)。由于压制的普通总公差在10-30mm的距离上一般不超过大约20μm,可以看到该设备可以容易地适应压制所产生的公差,从而可相对于欲电镀的工件95的部分有效地定位遮盖链节24。
在上文中已经提及了返回行程43和44以及支承结构60和160(见图1)。这些结构可以在图3中看得更加清楚。正如所看到的那样,这些结构中的每一个在本质上是一个朝上倾斜的架子,钩子或轨道,其上安置有突起51和151,并且这些突起在返回行程中可沿其自由滑动。最好维持这个自由的运动并且最好在返回行程中保持链条的相邻链节24彼此分开。在图8B中示出的实施例有助于保持这种状态。外导向件或轮34和134通过例如弹簧偏压向外偏向输出端33,上述的弹簧偏压是由例如螺旋弹簧77和177实施的,该弹簧垂直设置并且有位于弧形槽79,179中的端部78,178。这种设置也利于在整体结构中吸收任何的热膨胀。
在图8至12中所示的第二实施例在某些方面上不同于第一实施例,但是对相同的零部件用相同的参考标号标示出来。特别地,第二实施例在不同的意义上将输出端设置在右侧,而不是将其设置在左侧。另外,用一个电动机71来驱动链条,该电动机驱动在固定箱20上的链条30(为了清楚起见,从图8A和8B中省略了大段的链条,只有一小部分表示在图8A中)。与链条130接合的链条30也驱动链条130,这种设置比较简单并且已经发现它有优异的机械操作。
图8A示出了本设备的输入端,在图中工件95在阴极接触器96的上方通过,然后由惰轮98压靠在固定箱20的链条30上。固定箱20安装在横杆91和92上(图8B)。可动箱120也装在杆91和92上,但是它并没有固定在这些杆上;它可以从箱20滑开并可从杆上卸下。可动箱通过箱20上的销88和箱120上的孔89在箱20上定位(见图10-12)。一旦箱20和120对准,以便使两个箱彼此定位,便可由装于夹持装置99上的弹簧将可动箱120固定在箱20上。
特别地参看图10至12,每个箱20包括一个有后壁141,顶壁120和底壁143的壳体;箱120有一后壁191,一顶壁192和一底壁193。上夹持装置99安装在顶壁142上并接合壁143上的结构。后壁141支承用于链条30的返回支承结构60,而后壁191支承用于链条130的返回支承结构160。
在底壁143和193上设有孔109(见图9A),用于从各箱将用过的电解液排放掉或回收。
在图10,11和12所示实施例的每一个中,固定箱的前壁设有带有箱定位销88,槽75和76的第一支承结构50,传动带65和66在槽75和76中运行,凹槽55代替图1中的槽84,用以支承链条30和一排输入孔204。
每个孔204有一个圆锥形的入口205,该入口通向在支承结构50或后表面上的向上延伸的孔或槽207。支承结构50的后部由一个提供歧管83的歧管箱200封住。阳极80夹在支承结构50的后部和歧管箱200之间并设有供电装置208。孔或槽207与一个穿过歧管箱200的壁通入箱壳体内部的孔209连通,这可使用过的电解液经排放孔109流出箱子。
如图12所示,设有一电解液输入管210,用以向歧管83供给电解液。该管210通过顶壁141进入壳体140。
固定箱20也装有用销连接的传动轮67和68,在传动轮67和68上装有如上所述的绕箱子驱动环形链30的传动带65和66。通过使位于第二支承60(它装在后壁141上)上的突起51放置在第一支承50上的凹槽55中而将链条30支承在箱子上。链条30的链节24有孔38和39。这些孔可容放由链条130承载的销138和139,由此使链条130定位并保持与链条30对准,从而被链条30驱动。
如上所述,每个链条的链节24均带有遮盖板46和工件定位销93,在这种情况下,销93装在链条30上,而链条30则安装在固定箱20上。
迄今为止已经描述过的箱的设置可适用于图10至12中所示的所有实施例。
不同之处在于可动箱120。
图10表示一种用于有选择地仅在工件的一侧上进行沉积的设置。
在这种设置中,可动箱的壳体190的前壁由第一支承结构150封住,该第一支承结构150仅有一个用于链条130的突起151的凹槽155,在另一种方案中,支承结构150上没有开孔。支承结构150装在板299上。链条130的链节24不包含开口26并且遮盖板46也不包含开口。因此,仅仅对工件95的面向固定箱20的一侧进行处理。在操作中,由孔204将电解液喷射到工件上,使电解液流过工件的上表面,然后沿着凹槽207和孔209流出并因此而排放掉,供给电解液所用的压力足以实现这个循环。
图11表示了一种在并不对准的位置上同时处理工件95的两个表面的设置。
固定箱具有与图10所述结构相同的结构。可动箱有一个壳体190,在该壳体的前壁上设有一个如下所述的结构,即除了用前面加有3的参考标号代替前面加有2的参考标号的结构,例如用槽307来代替槽207之外,其余结构与图10所示的可动箱的结构相同。另外,孔304偏离孔204。
图12表示一种用以处理工件的边缘的设置。
在这种设置中,壳体140与图10及11所示的设置中的一样。
可动箱的壳体190与图10所示设置中的基本一样,除了第一支承结构150上有与开口204成一排的开口220并且阳极180位于支承150和板299之间以外。
板299有与孔220成一排的孔221。孔220和221的大小相同并且它们的直径比孔204的直径大。
在使用中,大多数电解液通过孔204流向孔220和221,由此经壳体190流出,但是也有用于经凹槽207和孔209排向壳体140的构造。这可以避免由电解作用而产生的任何气体积聚的危险。除此之外,图12的结构与图10和11的相同。
现在参看图13,该图以非常大的比例表示了一个压制出的金属工件,现在希望电镀包围它的垫板118和引线框117。间距“A”表示导向孔94的间距,在使用中,导向孔94中将配有定位销93。链节24和遮盖板46上的开口26,48用标号26表示。
可以采用图10中所示的设置镀敷这个工件的一侧,用图11中所示的设置电镀不对准的两侧。
图14是表示可以如何设置链节和遮盖板以便能在不电镀垫板118的同时仅电镀引线框117的分解透视图。
图14示出了一个单个的链节24,它在其表面28上有一个凹槽27,并且开口26是经过变型的。图14中也示出了遮盖板46,该板46也有一经过变型的开口49。我们还记得,工件在操作中将处于遮盖板46的上方,并且电解液将从链节24的下方引入(或者如果垂直设置组件,则从链节24的远离端板46的一侧引入)。
将孔26和48如此设置,以便提供一个矩形的分成四部分的槽,该槽可将电解液供给引线框,例如图13中的标号117,同时将垫板118盖住。
开口26保持了原有的大小,但是在环绕开口26的凹槽27的表面上形成一个凹槽210。在凹槽27的表面上形成相对的横槽211,这些横槽从开口26延伸出去,并经过了凹槽210。
绝缘板215设有臂216,这些臂的位置和大小使得当臂216处于两个槽211中并粘在其内时保持板215与凹槽27的表面齐平。绝缘板在其一面上也有凹槽218。该板的边缘220使槽225,226,227和228处于它们本身,臂216和开口26的内边缘之间。使电解液通过这些槽。
遮盖板46有两部分,即主部分230和垫片遮盖部分231。主部分230的外尺寸与例如图6所示的实施例相同,但是有一个适于作一封闭装置的肋234,该肋密封地装在链节24上的凹槽210中。在使用中,肋234设置在凹槽210中。垫板遮盖部分有四个突起236,这些突起适于装在凹槽218中并将垫块231固定在链节24上。
因此,矩形的环状电解液供给槽240是位于遮盖板的两个部分之间的并仅将电解液供给引线框117,并由此使引线框被电镀,同时保持不使由部分231遮盖的垫板118被电镀。
图15是与图13相类似的视图,在这里仅希望镀敷接插件结构350的末端351和352而不镀敷该结构的其余部分。在该图上叠加有位于遮盖板上的孔49的形状,最好采用这种形状来实现末端的电镀。
可以采用图12的设置来实施这项工作,并且可以用这种直流式的配置来实现末端的边缘和表面的电镀。
图16是传送带链条中的一对链节的侧视图,这对链节彼此相互对准并且它们的遮盖板46也相互接触,工件95在其间对准并被夹紧。
每个链节24有一个被倒角的端部125,其内面有互相配合的阶梯形的凸出端126和凹陷端127,由此形成叠置以利于密封,同时倒角利于链节相互向外地铰接。图6中示出了链节之间用销111和环112实现的连接。遮盖板有较小规模的相同的阶梯形构造并如上所述地连接。图6示出了相邻链节24之间的呈交错关系的连接。
图17是图16所示结构的侧视图,可以看到的链节24是取自链条30的,并且这些链节表示在图10中。(在图11中,两个链条30和130都有这种外形的链节)。图中示出了具有输入口205的孔204,也示出了链节和突起51之间的连接件111,112。正如从图中所看到的那样,最好为每个链节设置多个突起而不是单个突起,尽管这种设置也可以采用。
从图中可以看到链节的配合边缘处的倒角125,也可以看到相配合的凸出结构126。
可以看到,遮盖板46上的叠置的端部和相配合的凸出结构126延伸出链节的一端。图中示出了链节24上的孔38和39,并示出了位于孔38和39中的销138和139(在被挡住的链节上),它们用于定位两条传送带链条的链节。
图18是与图17相似的视图,示出了在图17中不能看到的(从链条130上取下的)后面一对链节24。从图中可以很容易地看到相邻链节24之间的连接件111,112,定位销138和139以及遮盖板46,同时可以看到在链节24的边缘之外的板46的叠放。
遮盖板上的孔48有特殊的形状,该形状可参看图15。在图中也示出了用于由链条30上的链节所承载的销93的定位孔49。
我们还记得,这些销93穿过工件95上的定位孔94,然后进入孔49。
图18所示设置的一种变型表示在图19中,在这里用一个槽或狭缝250来取代一排孔48,这个槽或狭缝的宽度稍小于孔204,由此沿着这个槽便限定了带状物将要被电镀的区域。
这样,如上所述,可以把链条推过或拉过处理区,另外,可以拉动一条传送带而推动另一条传送带。可以这样设置,以将链节传送到工件的定位区41,即使其彼此上推,这样使它们的抵靠着的边缘相互接触,而这种接触涉及推动,然后将链节送入工件的定位区。另外,也可以这样设置,在拉出链节以使彼此分开,即使销在链节12的端部时将它们传送至工件的定位区。在这两种设置中的任一种的情况下,都可以如参照图7所讨论的那样,容易地实现工件的定位。
已经对所使用的设备安置成工件是垂直设置的进行了基本的介绍。也可以将该系统旋转90°,该系统也可以对工件是水平设置的进行处理。
Claims (27)
1.用于有选择地电解处理连续移动的导电工件的受限定区域的设备,包括用于运送工件使之通过设备的电解处理区的装置,在该电解处理区内,工件与用于进行处理的电解液接触;运送装置提供了用于遮住工件的遮护装置,这样使电解液仅接触被限定的区域;运送装置包括一提供了定位装置的环形链,通过所述定位装置可使工件与遮护装置对准;用于将电解液供给被遮护的工件的装置;以及用于使电流通过作为一个电极的工件和另一个电极之间的装置;用于运送工件的所述装置包括两个环链传送带,它们由用不导电的材料制成的铰接的链节制成并由电力驱动,工件在这两条传送带之间被夹持并通过处理区。
2.如权利要求1所述的设备,其特征为,所述定位装置设置成确保两个环链传送带至少在处理区内保持彼此相互对准。
3.如权利要求1或2所述的设备,其特征为,所述定位装置包括由所述链条提供的配合相互接合的结构。
4.如权利要求2或3所述的设备,其特征为,每条环链传送带至少在处理区内设有一支承结构,该支承结构是为了使两条传送带彼此相向和相对运动而安装的。
5.如权利要求4所述的设备,其特征为,所述支承结构设有用于使它们保持固定的相互对置关系的装置,在这种条件下,所述的环链传送带在其间彼此相互对准的自由滑动。
6.如权利要求5所述的设备,其特征为,用于保持支承结构处于固定的相互对置关系的装置包括定位装置和夹紧装置。
7.如权利要求6所述的设备,其特征为,所述定位装置包括由所述支承结构提供或支承载于所述支承结构上的配合相互接合的结构。
8.如权利要求1至7中的任何一项所述的设备,其特征为,所述的两条环链传送带至少在处理区内彼此相互地由销接合,并且仅有一条传送带设有驱动装置,所述的被驱动装置驱动的传送带承担携带与其对准的另一条传送带通过处理区的作用。
9.如权利要求1至8中的任何一项所述的设备,其特征为,至少一条环链传送带至少在处理区内设有一支承结构,该传送带至少在处理区内以这样一种方式用销固定在所述支承结构上,即使传送带固定在支承结构上同时允许该传送带沿所述结构滑动。
10.如权利要求9所述的设备,其特征为,两条环链传送带都至少在处理区内设有一支承结构,并且这两条传送带都至少在处理区内以这样一种方式用销固定在它们各自的支承结构上,即使每条传送带固定在其各自的支承结构上,同时允许该传送带沿所述结构滑动。
11.如权利要求9或10所述的设备,其特征为,传送带由配合装置用销固定在其支承结构上,该配合装置包括一相配合的突起或数个突起和一个或数个凹槽。
12.如权利要求11所述的设备,其特征为,所述的一个或多个突起位于所述的链式传送带上,而所述的一个或多个凹槽位于支承结构上。
13.如权利要求11或12所述的设备,其特征为,所述突起和凹槽具有与链式传送带的运动方向横交的主要为三角形的横截面。
14.如上述任一项权利要求所述的设备,其特征为,一条或两条环链传送带由与一皮带的摩擦接触而被驱动。
15.如上述任一项权利要求所述的设备,其特征为,每条环链传送带支承在一个独立的支承结构上,该支承结构和由其支承的链条可彼此相对的移动,从而能使它们一起接合位于其间的工件或与之分开。
16.如权利要求15所述的设备,其特征为,一个或两个支承结构上装有一适用摩擦地接合环链传送带的皮带,该皮带位于其支承结构上并驱动所述传送带。
17.如权利要求16所述的设备,其特征为,那条或每条传送带有一可压缩的由聚合物形成的表面,该表面处于与远离工件的链式传送带的链节的表面接合的位置,并且这种接合发生在处理区内。
18.如权利要求15,16或17所述的设备,其特征为,每个所述的支承结构至少在处理区内装有用于使链条由销固定在支承结构上的装置。
19.如权利要求1至18中的任何一项所述的设备,其特征为,每个环形链至少在其返回行程的一部分上设有支承装置。
20.如权利要求1至19中的任何一项所述的设备,其特征为,至少一个链式传送带的链节上有由所述遮护装置限定的开口,并且电解液排放装置用于把每个这样的开口打开,以便减少任何的电解产物积聚的趋势。
21.如权利要求1至20中的任何一项所述的设备,其特征为,两条环链传送带的链节设有开口,通过这些开口可以把电解液供给工件。
22.如权利要求21所述的设备,其特征为,所述开口以这样一种方式设置在两个环链传送带的链节上,即在链节在处理区内对准的两个环链传送带的相对的链节上,所述开口并不对准。
23.如权利要求21所述的设备,其特征为,所述开口在两条环链传送带的链节上的位置使得其当链节在处理区内彼此对准的相对时是对准的。
24.如权利要求21或22所述的设备,其特征为,设置用于将电解液输送到工件的两个表面上的装置。
25.如权利要求23所述的设备,其特征为,设有下述装置,即用于通过一条传送带使电解液从工件的一面流过工件并由工件的另一面通过另一条传送带流出的装置。
26.如权利要求24或25所述的设备,其特征为,在工件的两面相对地设有阳极。
27.用于有选择地电解处理连续移动的导电工件的被限定区域的设备,包括用于运送工件使之通过该设备的电解处理区的装置,在该处理区内,工件与用于进行处理的电解液接触;该运输装置提供了用于遮护工件的遮护装置,这样电解液仅与被限定的区域接触;所述运输装置包括一提供了定位装置的环形链,通过所述定位装置使工件处于与遮护装置对准的位置;用于将电解液供给被遮护的工件的装置;以及用于使电流通过作为一个电极的工件和另一个电极之间的装置;所述的用于运送工件的装置包括两条环链传送带,它们由用不导电材料做的链节制成并用电力驱动,工件被夹持在这两条传送带之间并通过处理区;设置定位装置,用以确保至少在处理区内使两条环链传送带保持彼此对准;每条环链传送带支承在一独立的支承结构上,该支承结构和由此被承载的链条可彼此相对移动,从而能使其一起接合位于其间的工件并与之分开;两条环链传送带均至少在处理区内设有一支承结构,并且这两条传送带至少在处理区内以这样的一种方式用销固定在它们各自的支承结构上,即使每条传送带固定在其各自的支承结构上,同时允许它沿所述支承结构滑动;并且一个或两个支承结构上装有皮带装置,该装置适于摩擦地接合位于其支承上的环链传送带并驱动该传送带。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB9322769.2 | 1993-11-04 | ||
GB9322769A GB2283497B (en) | 1993-11-04 | 1993-11-04 | Electroplating apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1137810A CN1137810A (zh) | 1996-12-11 |
CN1099475C true CN1099475C (zh) | 2003-01-22 |
Family
ID=10744652
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN94194358A Expired - Fee Related CN1099475C (zh) | 1993-11-04 | 1994-11-04 | 电镀设备 |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5705043A (zh) |
EP (1) | EP0726972B1 (zh) |
JP (1) | JP3461832B2 (zh) |
KR (1) | KR960705963A (zh) |
CN (1) | CN1099475C (zh) |
AT (1) | ATE178664T1 (zh) |
DE (1) | DE69417762T2 (zh) |
GB (1) | GB2283497B (zh) |
HK (1) | HK1014199A1 (zh) |
MY (1) | MY114138A (zh) |
SG (1) | SG49177A1 (zh) |
WO (1) | WO1995012696A1 (zh) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7282240B1 (en) | 1998-04-21 | 2007-10-16 | President And Fellows Of Harvard College | Elastomeric mask and use in fabrication of devices |
WO2000006806A2 (de) * | 1998-07-27 | 2000-02-10 | Siemens Electromechanical Components Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung zum galvanischen abscheiden und abtragen von metall |
AU2001243656B2 (en) | 2000-03-17 | 2005-09-29 | President And Fellows Of Harvard College | Cell patterning technique |
ATE278503T1 (de) * | 2000-07-04 | 2004-10-15 | Schumag Ag | Werkstückhalter für eine bearbeitungsmaschine und entsprechende ablängmaschine |
JP4330380B2 (ja) * | 2003-05-29 | 2009-09-16 | 株式会社荏原製作所 | めっき装置及びめっき方法 |
DE102004034078B4 (de) * | 2004-07-15 | 2014-02-13 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zur Erzeugung einer lokalen Beschichtung |
US7655117B2 (en) * | 2005-04-06 | 2010-02-02 | Leviton Manufacturing Co., Inc. | Continuous plating system and method with mask registration |
US7744732B2 (en) * | 2005-04-06 | 2010-06-29 | Leviton Manufacturing Company, Inc. | Continuous plating system and method with mask registration |
DE102005024102A1 (de) * | 2005-05-25 | 2006-11-30 | Atotech Deutschland Gmbh | Verfahren, Klammer und Vorrichtung zum Transport eines Behandlungsgutes in einer Elektrolyseanlage |
US9583125B1 (en) * | 2009-12-16 | 2017-02-28 | Magnecomp Corporation | Low resistance interface metal for disk drive suspension component grounding |
CN102337577B (zh) * | 2010-07-22 | 2014-03-12 | 富葵精密组件(深圳)有限公司 | 电镀装置 |
CN103732803A (zh) * | 2010-12-23 | 2014-04-16 | Fci公司 | 电镀方法和装置以及通过该方法获得的带材 |
KR101215859B1 (ko) * | 2012-06-15 | 2012-12-31 | (주)아이케이텍 | 리드프레임 스폿 도금장치 |
JP6024613B2 (ja) * | 2013-07-19 | 2016-11-16 | 株式会社デンソー | 電気めっき装置 |
TW201508080A (zh) * | 2013-08-22 | 2015-03-01 | Diji Tang | 一種對連續條料選擇性施鍍的設備 |
CN110190000B (zh) * | 2019-05-27 | 2020-10-13 | 山东新恒汇电子科技有限公司 | 一种引线框架的生产系统 |
CN112323111B (zh) * | 2020-11-02 | 2021-07-23 | 昆山一鼎工业科技有限公司 | 连续端子的电解方法 |
CN113089068B (zh) * | 2021-03-11 | 2022-09-20 | 深圳市鸿鑫源实业发展有限公司 | 连续电镀装置 |
CN114059134A (zh) * | 2021-11-15 | 2022-02-18 | 东莞奥美特科技有限公司 | 高密度多排框架电镀装置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4155815A (en) * | 1978-04-03 | 1979-05-22 | Francis William L | Method of continuous electroplating and continuous electroplating machine for printed circuit board terminals |
WO1981003187A1 (en) * | 1980-05-07 | 1981-11-12 | Kontakta A | Band-plating apparatus |
DE3028635A1 (de) * | 1980-07-29 | 1982-03-04 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt | Vorrichtung zum partiellen galvanischen beschichten |
GB2094344B (en) * | 1980-12-23 | 1983-09-07 | Owen S G Ltd | Improvements in or relating to selective plating |
US4425213A (en) * | 1982-03-22 | 1984-01-10 | National Semiconductor Corporation | Discrete length strip plater |
US4582583A (en) * | 1984-12-07 | 1986-04-15 | National Semiconductor Corporation | Continuous stripe plating apparatus |
CH663038A5 (en) * | 1985-07-29 | 1987-11-13 | Vanguard S A | Cell for selective electrolytic deposition |
GB2214930A (en) * | 1988-02-11 | 1989-09-13 | Twickenham Plating & Enamellin | Mask for use in electriplating on elongate substrate |
-
1993
- 1993-11-04 GB GB9322769A patent/GB2283497B/en not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-11-04 SG SG1996007188A patent/SG49177A1/en unknown
- 1994-11-04 KR KR1019960702340A patent/KR960705963A/ko not_active Application Discontinuation
- 1994-11-04 EP EP94931142A patent/EP0726972B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-11-04 JP JP51308495A patent/JP3461832B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1994-11-04 DE DE69417762T patent/DE69417762T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-11-04 MY MYPI94002935A patent/MY114138A/en unknown
- 1994-11-04 AT AT94931142T patent/ATE178664T1/de not_active IP Right Cessation
- 1994-11-04 CN CN94194358A patent/CN1099475C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1994-11-04 WO PCT/GB1994/002398 patent/WO1995012696A1/en active IP Right Grant
- 1994-11-04 US US08/637,820 patent/US5705043A/en not_active Expired - Fee Related
-
1998
- 1998-11-27 HK HK98112413A patent/HK1014199A1/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2283497A (en) | 1995-05-10 |
EP0726972B1 (en) | 1999-04-07 |
ATE178664T1 (de) | 1999-04-15 |
JP3461832B2 (ja) | 2003-10-27 |
EP0726972A1 (en) | 1996-08-21 |
SG49177A1 (en) | 1998-05-18 |
HK1014199A1 (en) | 1999-09-24 |
DE69417762D1 (de) | 1999-05-12 |
DE69417762T2 (de) | 1999-10-07 |
JPH09504576A (ja) | 1997-05-06 |
MY114138A (en) | 2002-08-30 |
KR960705963A (ko) | 1996-11-08 |
GB2283497B (en) | 1997-07-30 |
CN1137810A (zh) | 1996-12-11 |
WO1995012696A1 (en) | 1995-05-11 |
GB9322769D0 (en) | 1993-12-22 |
US5705043A (en) | 1998-01-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN1099475C (zh) | 电镀设备 | |
CN1269394C (zh) | 元件安装机用供带器 | |
CN1107741C (zh) | 用来进行表面处理的设备和方法以及用上述表面处理设备进行接线的设备和方法 | |
CN1920105A (zh) | 用于对工件进行流体处理的方法和设备 | |
CN1250776C (zh) | 局部电镀设备 | |
CN1666385A (zh) | 具有改进的配合能力的高密度连接件组件 | |
CN1515051A (zh) | 具有集成电力触点的矩阵式连接器 | |
CN206109586U (zh) | 电镀处理器和供电镀处理器中使用的搅拌桨 | |
CN1092442C (zh) | 电话 | |
CN1885593A (zh) | 钮扣型电池夹具 | |
CN1093492A (zh) | 用于电子元件制造框架的预处理方法和设备 | |
CN1436388A (zh) | 用于各类型蜂窝式电话的电池充电装置 | |
CN1058811C (zh) | 电线处理装置 | |
CN1578036A (zh) | 总线装置和包含该总线装置的电气接线盒 | |
JP3065970B2 (ja) | 均一メッキ処理を可能にした電気メッキ処理システム | |
KR20200073239A (ko) | 표면처리 장치 | |
ATE89615T1 (de) | Galvanisiereinrichtung fuer plattenfoermige werkstuecke, insbesondere leiterplatten. | |
JPS60204516A (ja) | 瓶蓋の方向揃え装置 | |
MY137159A (en) | Apparatus and method for extending food dough | |
CN1388273A (zh) | 表面处理装置 | |
CN216262011U (zh) | 筛选设备 | |
KR200352766Y1 (ko) | 플라즈마 세척장치용 카세트 | |
CN214214717U (zh) | 一种用于灯泡底座的吹塑机的上料装置 | |
KR20020005352A (ko) | 전기도금 처리장치의 제품가이드기구 | |
CN113526008A (zh) | 加工部件输送装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C19 | Lapse of patent right due to non-payment of the annual fee | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |