DE102004034078B4

DE102004034078B4 - Verfahren zur Erzeugung einer lokalen Beschichtung

Info

Publication number: DE102004034078B4
Application number: DE102004034078.1A
Authority: DE
Inventors: Joerg Jockel; Andreas Mueller
Original assignee: Robert Bosch GmbH
Current assignee: Robert Bosch GmbH
Priority date: 2004-07-15
Filing date: 2004-07-15
Publication date: 2014-02-13
Anticipated expiration: 2024-07-16
Also published as: DE102004034078A1; US20060019413A1; US7399705B2

Abstract

Verfahren zur Erzeugung mindestens einer lokalen Beschichtung, insbesondere Elektrode, auf einem Substrat (10), wobei in einem ersten Schritt auf dem Substrat (10) eine zerstörungsfrei abnehmbare Maske (16) angeordnet wird, die mindestens eine Durchbrechung (20) aufweist, wobei in einem zweiten Schritt die Durchbrechung (20) mit einer Reaktionslösung (22) zumindest teilweise gefüllt wird, und wobei in einem dritten Schritt eine Beschichtungsreaktion der Reaktionslösung (22) mit der Substratoberfläche (10) unter Ausbildung der lokalen Beschichtung (26) induziert wird, dadurch gekennzeichnet, dass auf dem Substrat (10) mindestens zwei hinsichtlich ihrer Zusammensetzung verschiedene lokale Beschichtungen (26) simultan erzeugt werden, wobei die Maske (16) mindestens zwei Durchbrechungen (20) aufweist und jede Durchbrechung (20) im zweiten Schritt mit einer hinsichtlich ihrer stofflichen Zusammensetzung anderen Reaktionslösung (22) gefüllt wird.

Description

Stand der Technik
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Erzeugung und Überprüfung von Verbundanordnungen nach dem Oberbegriff des unabhängigen Anspruchs.
Die Auffindung und Entwicklung neuer Stoffe und Materialien stellt ein vorrangiges Ziel der Materialwissenschaften, der Chemie und Pharmazie dar. Die Suche nach geeigneten Verbindungen ist jedoch oft mit einem großen finanziellen und zeitlichen Aufwand verbunden. Um diese Suche effektiver und kostengünstiger durchführen zu können, wurde schon vor Jahren in der Pharmazie, dann auch in anderen Anwendungsgebieten eine systematische Methodik eingeführt, die unter der Bezeichnung „Kombinatorische Chemie” bekannt geworden ist. Dabei werden quasi parallel mehrere potentiell interessante Verbindungen erzeugt und analysiert. Der Vorteil dieser Methode ist in der Möglichkeit zur Automatisierung zu sehen, die einen großen Durchsatz in kürzester Zeit gestattet.
Grundlage dieser Methode ist die Verwendung von Substraten, auf denen eine Vielzahl von chemischen Verbindungen, die möglicherweise eine nützliche Eigenschaft aufweisen, räumlich getrennt voneinander aufgebracht sind. Im Einzelfall stellt die Herstellung derartiger Substrate eine Herausforderung dar. Sollen beispielsweise mittels eines kombinatorische Substrats mögliche Materialien für Elektroden überprüft werden, so werden die entsprechenden Elektroden gemäß der bisher üblichen Abscheidungsverfahren von Hand galvanisch aufgebracht bzw. oxidiert.
Dabei wird für jedes aufzubringende Elektrodenmaterial das gesamte Substrat in ein entsprechendes Galvanisierungsbad eingetaucht, das Substrat zumindest im Bereich des abzuscheidenden Elektrodenmaterials elektrisch kontaktiert und durch Anlegen einer entsprechenden galvanischen Spannung zwischen Substrat und Galvanisierungsbad eine ausreichende Menge des metallischen Elektrodenmaterials abgeschieden. Zur Erzeugung von Elektroden zweiter Art kann zusätzlich eine anodische Oxidation des abgeschiedenen Elektrodenmaterials in einer entsprechenden Metallsalzlösung erfolgen. Abschließend erfolgt die Entnahme des Substrats aus dem Galvanisierungsbad bzw. ein Spülvorgang. Somit entspricht die Zahl der auf einem Substrat vorgesehenen verschiedenen Elektromaterialien der Zahl der vorzunehmenden einzelnen Abscheidungsvorgänge.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren bereitzustellen, das die Erzeugung von lokalen Beschichtungen auf einem Substrat auf effektive und somit kostengünstige Weise gestattet.
Vorteile der Erfindung
Das erfindungsgemäße Verfahren gemäß den Merkmalen des Anspruchs 1 hat den Vorteil, dass mehrere lokale Beschichtungen auf der Basis unterschiedlicher Materialien auf einem Substrat simultan auf einfache Weise erzeugt werden können. Dabei wird in einem ersten Schritt auf dem Substrat eine zerstörungsfrei abnehmbare Maske angeordnet, die mindestens eine Durchbrechung aufweist. In einem zweiten Schritt werden die Durchbrechungen der Maske mit unterschiedlichen, für die Erzeugung der jeweiligen lokalen Beschichtungen geeigneten Reaktionslösungen zumindest teilweise gefüllt und in einem dritten Schritt wird eine Beschichtungsreaktion der Reaktionslösungen induziert.
Erfindungsgemäß werden auf dem Substrat mindestens zwei hinsichtlich ihrer Zusammensetzung verschiedene lokale Beschichtungen simultan erzeugt, wobei die Maske mindestens zwei Durchbrechungen aufweist und jede Durchbrechung im zweiten Schritt mit einer hinsichtlich ihrer stofflichen Zusammensetzung anderen Reaktionslösung gefüllt wird.
Auf diese Weise lassen sich simultan eine große Zahl verschiedener lokaler Beschichtungen auf einem Substrat erzeugen.
Aus der DE 26 48 274 A1 ist ein Verfahren zum selektiven Elektroplattieren eines Bereiches einer Oberfläche gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1 bekannt. Es wird ein Dielektrikum zwischen einer Anodenelektrode und einer leitfähigen Oberfläche angeordnet, wobei das Dielektrikum in unmittelbarer Berührung mit der gesamten Oberfläche von dieser Anodenelektrode steht und diese maskiert, welche auf die leitfähige Oberfläche zugerichtet ist, ohne diese zu berühren. Es wird eine passende Form des Dielektrikums ausgewählt, um die Stromlinienverteilung zwischen der Anodenelektrode und der leitfähigen Oberfläche zu regeln, derartig, dass lediglich dieser eine ausgewählte Bereich der leitfähigen Oberfläche galvanisch beschichtet wird. Es wird lediglich ein einziges Elektrolyt offenbart, das dem Galvanisieren dient.
Aus der EP 0 726 972 B1 ist eine Vorrichtung zur selektiven elektrolytischen Behandlung bestimmter Bereiche eines sich kontinuierlich bewegenden Werkstücks gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1 bekannt. Hierbei besitzt eine Fördereinrichtung eine Maskierungseinrichtung, damit der Elektrolyt nur mit bestimmten Bereichen in Berührung kommt. Auch dort wird nur ein einziges Elektrolyt durchgepumpt.
Durch die in den Unteransprüchen aufgeführten Maßnahmen sind vorteilhafte Weiterbildungen und Verbesserungen des Verfahrens möglich.
So ist es beispielsweise von Vorteil, wenn zur Induzierung der Beschichtungsreaktion auf das Substrat zunächst elektrisch leitfähige Schichten in Form von Elektroden an den zu beschichtenden Positionen des Substrats aufgebracht werden, und zwischen diesen und einer weiteren Elektrode bzw. der Reaktionslösung eine Galvanisierspannung angelegt wird. Alternativ oder zusätzlich kann vorteilhafterweise eine Anodisierspannung angelegt werden.
In einer besonders vorteilhaften Ausführungsform des vorliegenden Verfahrens erfolgt die vor der galvanischen Abscheidung der Beschichtung nötige Kontaktierung mehrerer auf dem Substrat aufgebrachter leitfähiger Schichten simultan. Eine vorteilhafte Alternativlösung besteht darin, die Kontaktierung der leitfähigen Schichten nacheinander mittels einem beweglichen Kontaktstift auszuführen, der nacheinander Kontaktpunkte der einzelnen leitfähigen Schichten ansteuert und kontaktiert.
Um die Anwendbarkeit der abgeschiedenen Materialien im Hinblick auf ihre mögliche Funktion als Messelektroden eines elektrochemischen Gassensors überprüfen zu können, ist von Vorteil, wenn die als lokale Beschichtungen aufgebrachten Elektrodenmaterialien als Messelektroden kontaktiert werden und beispielsweise auf der Rückseite des Substrats eine Referenzelektrode aufgebracht ist, sodass eine Potenzialdifferenz zwischen dem Referenzpotential der Referenzelektrode und dem an den einzelnen Elektrodenmaterialien sich einstellenden Potential bestimmt werden kann.
Vorteilhafterweise weist dazu das verwendete Substrat, auf dem sich mindestens zwei definierte Stellen befinden, auf denen jeweils ein Material abgeschieden werden soll, dazu mindestens ein Mittel zur elektrischen Kontaktierung der entsprechenden Stellen des Substrats auf, so dass die auf dem Substrat abgeschiedenen Materialien elektrisch adressierbar sind.
Zeichnung
Ein Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Verfahrens ist in der Zeichnung dargestellt und in der nachfolgenden Beschreibung näher erläutert. 1 zeigt schematisch die einzelnen Verfahrensschritte zur Aufbringung lokaler Beschichtungen, 2a zeigt schematisch eine Aufsicht auf ein Substrat mit lokalen Beschichtungen in Form von Elektrodenmaterialien, die gemäß dem in 1 dargestellten Verfahren aufgebracht wurden und 2b eine Vergrößerung eines Ausschnitts der 2a.
Ausführungsbeispiele
Die der Erfindung zugrunde liegende Idee ist es, die Methodik einer parallelen Synthese und Untersuchung verschiedener potentiell interessanter Substanzen auf Forschungsgebiete auszudehnen, bei denen die Erforschung der Eigenschaften von Einzelmaterialien allein nicht zum Ziel führt, sondern nur Untersuchungen an Anordnungen, die aus zwei oder mehr Komponenten bestehen, zu aussagekräftigen Resultaten führen. Dies ist unter anderem auf dem Gebiet der Sensorik der Fall. So läßt sich beispielsweise eine metallische Verbindung zwar in Hinblick auf ihre Leitfähigkeit mit den bisher bekannten Methoden untersuchen. Ob diese Verbindung jedoch als Messelektrode eines Sensors geeignet ist, kann nur ausreichend getestet werden, wenn die metallische Verbindung beispielsweise im Verbund mit einer Gegenelektrode hergestellt und untersucht wird.
In 1 sind schematisch die einzelnen Arbeitsschritte eines Verfahrens zur Erzeugung eines mit lokalen Beschichtungen versehenen Substrats dargestellt. Dabei können die lokalen Beschichtungen beispielsweise als mögliche Elektrodenmaterialien für Sensoranwendungen ausgeführt sein.
Dabei wird in einem ersten Arbeitsschritt A ein Substrat 10, das beispielsweise aus einer Keramik oder einem geeigneten Polymer ausgeführt ist, durch ein geeignetes Verfahren mit elektrisch leitfähigen Beschichtungen in Form von Elektroden 15 versehen, die vorzugsweise aus dem gleichen metallischen Material ausgeführt sind. Die Elektroden 15 werden mittels nicht dargestellter Leiterbahnen elektrisch kontaktiert. Benachbart zu den Elektroden 15 werden jeweils nicht dargestellte Gegenelektroden aufgebracht, die vorzugsweise aus dem selben Material ausgeführt sind wie die Elektroden 15.
In einem zweiten Arbeitsschritt B wird auf das Substrat 10 eine Maske 16 reversibel aufgelegt, die zu einem späteren Zeitpunkt wieder abgenommen werden kann, ohne dass diese dabei zerstört wird. Die Maske 16 weist Durchbrechungen 20 auf, wobei die Maske 16 auf dem Substrat 10 so positioniert wird, dass sich die Elektroden 15 im Bereich der Durchbrechungen 20 befinden und frei zugänglich sind. Die Durchbrechungen 20 sind in Form und Größe so ausgeführt, dass innerhalb der jeweiligen Durchbrechung 20 je eine Elektrode 15 sowie die zugehörige Gegenelektrode offen zugänglich ist. Die Auflage der Maske 16 auf das Substrat 10 erfolgt vorzugsweise so, dass eine in die Durchbrechungen 20 eingefüllte Flüssigkeit nicht durch ein Spalt zwischen Maske 20 und Substrat 10 entweichen kann. Die Maske 16 ist aus einem chemisch inerten Material, wie beispielsweise PVC ausgeführt.
In einem dritten Arbeitsschritt C wird in die Durchbrechungen 20 jeweils eine Reaktionslösung 22 eingefüllt, wobei die Reaktionslösung 22 die jeweilige Durchbrechung 20 zumindest teilweise füllt und die Elektrode 15 vollständig bedeckt. Die Dosierung und Aufbringung kann mittels der üblichen Verfahren, beispielsweise durch einen Dispenser erfolgen. Dabei wird jeder Durchbrechung 20 eine Reaktionslösung zugeführt, die sich in ihrer stofflichen Zusammensetzung hinsichtlich der gelösten Substanzen und/oder deren Konzentration in der Lösung von den den weiteren Durchbrechungen 20 zugeführten Reaktionslösungen 22 unterscheidet. Bei den zugeführten Reaktionslösungen 22 handelt es sich vorzugsweise um geeignete Galvanisierbäder.
Nach dem Einbringen der Reaktionslösungen 22 in die Durchbrechungen 20 werden die Elektroden 15 sowie ggf. deren Gegenelektroden jeweils mittels Kontaktelektroden vorzugsweise an den zugehörigen Leiterbahnen elektrisch kontaktiert.
Zur Abscheidung der lokalen Beschichtungen 26 wird zwischen den Elektroden 15 und den jeweiligen Gegenelektroden eine Galvanisierspannung angelegt. Dabei kann für alle Durchbrechungen 20 eine identische Galvanisierspannung vorgesehen sein. In diesem Fall bietet sich die simultane Anwendung mehrerer Kontaktelektroden zur Kontaktierung der Elektroden 15 bzw. deren Gegenelektroden an. Vorzugsweise wird jedoch an jede eingefüllte Reaktionslösung 22 eine individuell bestimmte, am Abscheidungspotential des als lokale Beschichtung vorgesehenen Elektrodenmaterials 26 orientierte Galvanisierspannung angelegt. In diesem Fall ist die Verwendung beweglicher Kontaktstifte zur Kontaktierung der Elektroden 15 bzw. deren Gegenelektroden besonders vorteilhaft.
Eine Alternative besteht darin, zur Kontaktierung der einzelnen Reaktionslösungen 22 simultan in jede dieser in die Durchbrechungen 20 eingefüllten Lösungen eine Kontaktelektrode einzutauchen bzw. einen beweglichen Kontaktstift nacheinander in jede der eingefüllten Reaktionslösungen einzutauchen. Die eingetauchten Kontaktelektroden bzw. der eingetauchte Kontaktstift dient anstelle von Gegenelektroden der elektrischen Kontaktierung der als Galvanisierbad ausgeführten Reaktionslösungen 22.
Wird das Substrat 10 aus einem den elektrischen Strom leitenden Material oder einem Halbleitermaterial ausgeführt, so kann auf die Aufbringung von Gegenelektroden zu den Elektroden 15 auf das Substrat 10 auch verzichtet werden. In diesem Fall sollte zwischen dem Substrat 10 und der Elektrode 15 eine isolierende Zwischenschicht vorgesehen sein. Eine Galvanisierspannung wird dann zwischen der Elektrode 15 und dem Substrat 10 angelegt. Eine weitere Möglichkeit besteht darin, die Galvanisierspannung zwischen dem Substrat 10 und den in die Reaktionslösung 22 eintauchenden Kontaktelektroden bzw. Kontaktstiften anzulegen. In diesem Fall werden weder Elektroden 15 noch zugehörige Gegenelektroden benötigt.
Alternativ ist es möglich, die Abscheidung der lokalen Beschichtungen 26 auf stromlosem Wege vorzunehmen. Dazu werden entsprechende Reaktionslösungen 22 verwendet, die bei Zugabe eines geeigneten Reduktionsmittels zu einer Abscheidung der lokalen Beschichtungen 26 führen. Dabei erübrigt sich die Verwendung der Elektroden 15 bzw. der Kontaktelektroden.
Weiterhin ist es möglich, die lokalen Beschichtungen 26 aus einem Material auszuführen, das eine katalytisch aktive Substanz in feinstverteilter Form enthält.
Nach erfolgter Abscheidung der Elektrodenmaterialien werden in einem vierten Arbeitsschritt D die verbliebenen Reaktionslösungen 22 abgesaugt und die Maske 16 entfernt. Abschließend erfolgt vorzugsweise ein Spülvorgang, beispielsweise mit demineralisiertem Wasser.
In den 2a bzw. 2b ist beispielhaft ein mit Beschichtungen 26 versehenes Substrat 10 dargestellt. Dieses weist an mindestens einer Stelle 11a, deren genaue Position auf dem Substrat bekannt ist, jeweils eine lokale Beschichtung 26 in Form einer Elektrode 26a auf. Weiterhin ist vorzugsweise an der Stelle 11a eine Gegenelektrode 26a' vorgesehen, die mit der Elektrode 26a sowie dem gemeinsamen Substrat 10 und gegebenenfalls weiteren Komponenten eine Verbundanordnung bildet. Die so in zusammenhängender Form erzeugten Verbundanordnungen werden dann einer Untersuchung auf eine ausgewählte Eigenschaft hin unterzogen.
Dabei wird ein Substrat 10 verwendet, das elektrisch isolierend wirkt und weitgehend aus hochohmigen Materialien wie Aluminiumoxid oder mit Siliciumdioxid überzogenenem Silicium besteht. Auf dem Substrat 10 sind an definierten Stellen 11a, 11b, ... vorzugsweise jeweils ein Elektrodenpaar 26a, 26a', 26b, 26b', ... beispielsweise in Form von in der Ausschnittsvergrößerung 2b dargestellten Interdigitalelektroden aufgebracht. Diese werden, wie in 2a schematisch verdeutlicht, durch separate Leiterbahnen 13a, 13a', 13b, 13b', ... mit Kontaktstellen 14a, 14a', 14b, 14b' ... am Rand des Substrats 10 verbunden. Die Kontaktstellen 14a, 14a', 14b, 14b' ... können grundsätzlich auch auf der Rückseite des Substrats 10 angeordnet sein und mittels einer Bohrung kontaktiert werden.
Abschließend werden die Leiterbahnen 13a, 13a', 13b, 13b' ... vorzugsweise mit einer oder mehreren verschiedenen, nicht dargestellten Inertschichten bedeckt. Optional werden in den Bereichen zwischen den Elektroden 26a, 26a', 26b, 26b', ... zusätzlich Widerstandschichten 18a, 18b, ... vorgesehen, die die zugehörigen Elektroden 26a, 26a', 26b, 26b' auch bedecken können.
Es ist jedoch nicht zwingend, an jeder Stelle 11a, 11b, ... zwei Elektroden 26a, 26a', 26b, 26b', ... vorzusehen und als Interdigitalelektroden auszuführen. Es ist auch möglich, an jeder Stelle 11a, 11b, ... nur eine Elektrode 26a, 26b, ... aufzubringen und gegebenenfalls eine gemeinsame Bezugselektrode, beispielsweise auf der Rückseite des Substrats 10 vorzusehen.
Zur Überprüfung der Elektrodenmaterialien 26 hinsichtlich ihrer Eignung beispielsweise für Sensoranwendungen, werden die Elektroden 26a, 26a', 26b, 26b', ... mit einem Strom beaufschlagt, der zu einem messbaren Spannungsabfall zwischen den Elektroden 26a, 26a', 26b, 26b', ... führt. Die Überprüfung der Elektrodenmaterialien 26 auf eine gewünschte Eigenschaft hin erfolgt unter Einwirkung eines externen Stimulus. Darunter läßt sich in allgemeinster Weise der direkte Kontakt der Elektrodenmaterialien 26 mit einem auf physikalischem oder chemischem Wege mit diesen in Wechselwirkung tretenden Medium verstehen. Im vorliegenden Fall wird darunter bevorzugt die Einwirkung von Gasen verstanden, insbesondere derjenigen, die mittels des zu entwickelnden Sensors detektiert werden sollen.
Die Anzahl der auf dem Substrat 10 vorzusehenden Stellen 11a, 11b, ... kann variabel gestaltet werden. Sie hängt von praktischen Erwägungen ab. So treten bei einer Stellenzahl kleiner 16 die Vorteile einer parallelen Synthese und Untersuchung der lokalen Beschichtungen kaum mehr zu Tage, wohingegen eine Obergrenze nur in Bezug auf eine ausreichend effektive Verwaltung der gewonnenen Datenmenge und auf eine gerade noch hinreichend exakte Belegung der Substratoberfläche mit Leiterbahnen 13a, 13a', 13b, 13b' bzw. Inertschichten 18a, 18b, ... gegeben ist. Eine erfahrungsgemäß gut handhabbare Zahl der Stellen 11a, 11b, ... liegt bei 256.
Als Gaskomponenten, die mittels des beschriebenen mit Elektrodenmaterialien 26 belegten Substrats 10 bestimmt werden können, sind unter anderem Sauerstoff, Stickoxide, Schwefeloxide, Kohlenmonoxid, Kohlenwasserstoffe, Ozon, Ammoniak, Wasserstoff und Schwefelwasserstoff zu nennen. Weiterhin können mit dem beschriebenen Substrat auch für flüssige Medien vorgesehene Elektrodenmaterialien auf eine gewünschte Eigenschaft hin untersucht werden. Dabei wird das mit Elektrodenmaterialien 26 belegte Substrat 10 in eine entsprechende Analytlösung eingetaucht, in die zusätzlich eine entsprechende Referenzelektrode eintaucht. Werden die Referenzelektrode und die entsprechenden Elektrodenmaterialien 26 mit einer entsprechenden Strom- oder Spannungsquelle verbunden, so kann bei Durchführung von entsprechenden voltammetrischen oder polarographischen Konzentrationsbestimmungen in der vorgelegten Testlösung die Güte der für die einzelnen Elektrodenmaterialien 26 gewonnenen Messsignale bestimmt werden.
Wird während des Herstellungsverfahrens eine anodische Oxidation der Elektrodenmaterialien 26 durchgeführt, so werden dabei die Elektrodenmaterialien 26 beispielsweise in Elektroden zweiter Art überführt. Unter Elektroden zweiter Art werden Elektroden verstanden, die in ein schwerlösliches Salz desjenigen Metalls, aus dem sie ausgeführt sind, eintauchen. Diese Elektroden zeigen ein weitgehend konstantes Potenzial, solange ein Bodenkörper des schwerlöslichen Salzes vorliegt. Anodisch oxidierte Elektrodenmaterialien gestatten somit die Entwicklung von Elektroden, die beispielsweise als Referenzelektroden geeignet sind.
Das beschriebene Verfahren und das beschriebene Substrat sind jedoch nicht auf die Aufbringung und Überprüfung von Elektrodenmaterialien beschränkt. Vielmehr können mit dem Verfahren auch beispielsweise potentiell katalytisch aktiv Schichten, leitfähige Polymere oder enzymatisch oder immunologisch aktive Beschichtungen erzeugt und überprüft werden.

Claims

Verfahren zur Erzeugung mindestens einer lokalen Beschichtung, insbesondere Elektrode, auf einem Substrat (10), wobei in einem ersten Schritt auf dem Substrat (10) eine zerstörungsfrei abnehmbare Maske (16) angeordnet wird, die mindestens eine Durchbrechung (20) aufweist, wobei in einem zweiten Schritt die Durchbrechung (20) mit einer Reaktionslösung (22) zumindest teilweise gefüllt wird, und wobei in einem dritten Schritt eine Beschichtungsreaktion der Reaktionslösung (22) mit der Substratoberfläche (10) unter Ausbildung der lokalen Beschichtung (26) induziert wird, dadurch gekennzeichnet, dass auf dem Substrat (10) mindestens zwei hinsichtlich ihrer Zusammensetzung verschiedene lokale Beschichtungen (26) simultan erzeugt werden, wobei die Maske (16) mindestens zwei Durchbrechungen (20) aufweist und jede Durchbrechung (20) im zweiten Schritt mit einer hinsichtlich ihrer stofflichen Zusammensetzung anderen Reaktionslösung (22) gefüllt wird.
Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass zunächst das Substrat (10) mit einer elektrisch leitfähigen Schicht (15) versehen wird und diese dann zur Induzierung der Beschichtungsreaktion durch eine Elektrode elektrisch kontaktiert wird und eine Galvanisierspannung zwischen der elektrisch leitfähigen Schicht (15) und dem Substrat (10) und/oder einer weiteren Elektrode (26a') angelegt wird.
Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass in einem vierten Schritt eine Anodisierspannung zwischen der elektrisch leitfähigen Schicht (15) und dem Substrat (10) und/oder einer weiteren Elektrode (26a') angelegt wird.
Verfahren nach Anspruch 1 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass simultan eine erste Elektrode eine erste leitfähige Schicht (15) kontaktiert und eine zweite Elektrode eine zweite leitfähige Schicht (15) kontaktiert und an die erste und die zweite Elektrode eine Galvanisier- oder Anodisierspannung angelegt wird.
Verfahren nach Anspruch 1 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Elektrode als beweglicher Kontaktstift ausgeführt ist, der nacheinander die leitfähigen Schichten (15) kontaktiert, wobei an die Elektrode eine Galvanisier- oder Anodisierspannung angelegt wird.