KR960705963A - 전기도금장치(electroplating apparatus) - Google Patents

전기도금장치(electroplating apparatus)

Info

Publication number
KR960705963A
KR960705963A KR1019960702340A KR19960702340A KR960705963A KR 960705963 A KR960705963 A KR 960705963A KR 1019960702340 A KR1019960702340 A KR 1019960702340A KR 19960702340 A KR19960702340 A KR 19960702340A KR 960705963 A KR960705963 A KR 960705963A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
workpiece
electroplating apparatus
support structure
conveyor
treatment zone
Prior art date
Application number
KR1019960702340A
Other languages
English (en)
Inventor
에릭 쯔베르너
Original Assignee
커니, 케빈 데이비스 니콜라스
빅토르 챔피언
선텍 트레이딩 아게
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 커니, 케빈 데이비스 니콜라스, 빅토르 챔피언, 선텍 트레이딩 아게 filed Critical 커니, 케빈 데이비스 니콜라스
Publication of KR960705963A publication Critical patent/KR960705963A/ko

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/02Electroplating of selected surface areas
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/02Electroplating of selected surface areas
    • C25D5/022Electroplating of selected surface areas using masking means

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Coating With Molten Metal (AREA)

Abstract

본 발명은 전기도금장치에 관한 것으로서, 연속으로 이동하는 전도성 공작물(95)의 한정된 구역을 선택적으로 전기분해에 의해 처리하는 장치에 관한 것이다. 이 장치는 공작물이 처리 전해질과 접촉되게 전해질 처리구역을 통해 공작물을 이송하는 수단; 전해질이 한정된 구역만 접촉하도록 마스킹 수단이 공작물을 마스크 할수 있게 하는 이송수단; 공작물이 마스킹수단으로 기록되도록 위치되게 인덱싱수단을 제공하는 엔들리스체인을 포함하는 이송수단; 마스크된 공작물에 전해질을 공급하는 수단; 및 한 전극으로서의 공작물과 다른 전극사이에 전류를 통과시키는 수단; 공작물이 처리구역을 통과하는 동안 공작물이 유지되게 전기적으로 비전도성 물질의 관절링크로 제조된 두개의 엔들리스체인커베이어(30,130)를 포함하는 공작물 이송수단으로 구성된다. 인덱싱수단(138,39)은 최소한 처리구역에서 서로 일치되게 두개의 엔들리스체인이 유지되는 것을 보장하기 위해 설치될 수 있다.

Description

전기도금장치(ELECTROPLATING APPARATUS)
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제 1도는 본 발명의 제 1실시에를 보여주는 일부단면 개략 평면도, 제 2도는 제 1도의 좌측단부의 입구단부로부터 도금구역까지 제 1도에 도시된 두 체인 컨베이어 장치의 일측면까지의 개략 사시도.

Claims (27)

  1. 연속적으로 이동하는 전도성 공작물의 한정된 구역을 선택적으로 전기 분해에 의해 처리하는 전기도금 장치에 있어서, 이 장치가 공작물이 처리 전해질과 접촉되게 전해질 처리 구역을 통해 공작물을 이송하는 수단; 전해질이 한정된 구역만 접촉하도록 마스킹 수단이 공작물을 마스크할 수 있게 하는 이송수단; 공작물이 마스킹 수단으로 기록되도록 위치되게 인덱싱수단을 제공하는 엔들리스체인을 포함하는 이송수단; 마스크된 공작물에 전해질을 공급하는 수단; 및 한 전극으로서의 공작물과 다른 전극 사이에 전류를 통과시키는 수단; 공작물이 처리구역을 통과하는 동안 공작물이 유지되게 전기적으로 비전도성 물질의 관절링크로 제조된 두개의 엔들리스체인컨베이어를 포함하는 공작물 이송수단으로 구성된 것을 특징으로 하는 전기도금장치.
  2. 제 1항에 있어서, 두개의 엔들리스체인컨베이어가 최소한 처리구역에서 서로 기록되게 유지되는 것을 보장하도록 인덱싱 수단이 설치된 것을 특징으로 하는 전기도금장치.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 인덱싱 수단은 상기 체인에 의해 제공된 협력하는 상호결합구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 전기도금장치.
  4. 제 2항 또는 제 3항에 있어서, 엔들리스체인컨베이어는 최소한 처리구역에 지지구조가 제공되고, 이 지지구조는 서로를 향해 그리고 서로 멀어지게 이도하도록 장착된 것을 특징으로 하는 전기도금장치.
  5. 제 4항에 있어서, 지지구조는 상호 대향 관게로 고정되게 유지하는 수단이 제공되고, 이 상태에서 엔들리스체인컨베이어는 서로 기록되게 지지체 사이에서 자유로이 슬라이드되는 것을 특징으로 하는 전기도금장치.
  6. 제 5항에 있어서, 상호대향 관계로 고정되게 지지구조를 유지하는 수단이 인덱싱 수단과 클램핑 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 전기도금장치.
  7. 제 6항에 있어서, 인덱싱 수단은 상기 지지구조에 의해 제공되거나 상기 지지구조에 구비된 협력하는 상호 결합구조를 포함하는 것을 특징으로 하는 전기도금장치.
  8. 제 1항 내지 제 7항 중 어느 하나에 있어서, 두개의 엔들리스체인컨베이어는 최소한 처리구역에서 서로 고정되고, 이 컨베이어 중 하나에만 구동수단이 제공되며, 구동되는 컨베이어는 처리구역을 통해 자체에 등록되게 다른 컨베이어를 이동시키게 작용하는 것을 특징으로 하는 전기도금장치.
  9. 제 1항 내지 제 8항 중 어느 하나에 있어서, 엔들리스체인컨베이어 중 적어도 하나는 최소한 처리구역에 지지구조가 제공되고, 상기 지지구조를 따라서 컨베이어 슬라이드 되는 동안 컨베이어를 지지구조에 유지하는 방식으로 최소한 처리구역에서 지지구조에 고정된 것을 특징으로 하는 전기도금장치.
  10. 제 9항에 있어서, 엔들리스체인컨베이어 양자는 최소한 처리구역에 지지구조 제공되고, 상기 구조를 따라서 슬라이드 되는 동안 각각의 컨베이어가 지지구조에 유지되는 방식으로 최소한 처리구역의 각 지지구조에 고정된 것을 특징으로 하는 전기도금장치.
  11. 제 9항 또는 제 10항에 있어서, 협력하는 돌기와 홈을 포함하는 협력하는 수단에 의해 컨베이어가 자체의 지지구조에 고정된 것을 특징으로 하는 전기도금장치.
  12. 제 11항에 있어서, 돌기가 체인컨베이어에 위치되고, 홈이 지지구조에 위치된 것을 특징으로 하는 전기도금장치.
  13. 제 11항 또는 제 12항에 있어서, 돌기와 홈이 체인컨베이어의 이동방향에 횡으로 삼각형 단면을 제공하는 것을 특징으로 하는 전기도금장치.
  14. 상기 항 중 어느 하나에 있어서, 엔들리스체인컨베이어 중 하나 또는 양자가 벨트와의 마찰접촉에 의해 구동되는 것을 특징으로 하는 전기도금장치.
  15. 상기 항 중 어느 하나에 있어서, 각각의 엔들리스체인컨베이어가 개별 지지구조상에서 운반되고, 지지구조 및 체인인컨베이어는 이들 사이에 공작물이 결합되도록 함께 이동될 수 있게 그리고 따로 떨어지게 이동되도록 서로 상대적으로 이동가능한 것을 특징으로 하는 전기도금장치.
  16. 제 15항에 있어서, 하나 또는 양자의 지지구조가 자체의 지지구조에 있는 체인 컨베이어와 마찰접촉하도록 그리고 상기 컨베이어를 구동시키기에 적합한 벨트를 구비한 것을 특징으로 하는 전기도금장치.
  17. 제 16항에 있어서, 구동벨트 또는 각 구동벨트는 공작물에서 멀리 떨어져 있는 체인컨베이어의 링크 표면과 결합하게 위치된 압축성 폴리머면을 갖고, 이 결합은 처리구역에서 생기는 것을 특징으로 하는 전기도금장치.
  18. 제 15항, 제 16항 또는 제 17항에 있어서, 지지구조 각각은 최소한 처리구역에서 체인을 지지구조에 고정하는 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 전기도금장치.
  19. 제 1항 내지 제 18항 중 어느 하나에 있어서, 각각의 엔들리스체인은 최소한 복귀이동부분에 지지수단이 제공된 것을 특징으로 하는 전기도금장치.
  20. 제 1항 내지 제 19항 중 어느 하나에 있어서, 체인컨베이어 중 최소한 하나의 링크는 상기 마스킹수단에 의해 한정된 구멍을 갖고, 전해질 배출수단은 전기분해제품을 증강시키는 어떤 경향을 감소시키도록 각각의 그와 같은 구머을 만들에 되는 것을 특징으로 하는 전기도금장치.
  21. 제 1항 내지 제 20항 중 어느 하나에 있어서, 양쪽 엔들리스체인컨베이어의 링크는 전해질이 공작물에 공급될 수 있는 구멍이 제공된 것을 특징으로 하는 전기도금장치.
  22. 제 21항에 있어서, 처리구역에서 기록되는 두 체인의 대향 링크에서 구멍이 일치되지 안흔 방식으로 체인의 링크에 구멍이 위치되는 것을 특징으로 하는 전기도금장치.
  23. 제 21항에 있어서, 링크가 처리구역의 각 기록에 서로 대향될때 기록되도록 구멍이 두 체인의 링크에 위치되는 것을 특징으로 하는 전기도금장치.
  24. 제 21항 또는 22항에 있어서, 공작물의 양면에 전해질을 공급하는 수단이 제공된 것을 특징으로 하는 전기도금장치.
  25. 제 23항에 있어서, 공작물의 일면으로부터 한 컨베이어를 통해 공작물을 지나고 다른 컨베이어를 통해 공작물의 다른면을 경유하여 외부로 전해질을 공급하는 수단이 제공된 것을 특징으로 하는 전기도금장치.
  26. 제 24항 또는 제 25항에 있어서, 양극은 공작물의 각 면 반대에 제공된 것을 특징으로 하는 전기도금장치.
  27. 연속으로 이동하는 전도성 공작물의 한정된 구역을 선택적으로 전기적으로 처리하는 장치에 있어서, 공작물이 처리 전해질과 접촉하는 장치의 전기분해 처리구역을 통해 공작물을 이송하는 수단; 전해질이 한정된구역만 접촉하도록 공작물을 마스킹하는 마스킹 수단을 제공하는 이송수단; 공작물이 마스킹 수단으로 기록되게 위치하도록 인덱싱 수단을 제공한ㄴ 엔돌리스체인을 포함하는 이송수단; 마스크된 공작물에 전해질을 공급하는 수단; 및 한 전극으로서의 공작물과 다른 전극 사이에 전류를 통과시키는 수단; 공작물이 처리구역을 통과하는 동안 두 컨베이어 사이에 공작물이 유지되게 전기적으로 비전도성 물질의 판결링크로 제조된 두 엔들리스체인컨베이어를 포함하는 공작물 이송수단; 최소한 처리 구역에서 두 엔들리스케인컨베이어가 서로 일치되게유지되는 것을 보장하도록 제공된 인덱싱수단; 각각의 엔들리스체인컨베이어가 개별 지지구조에 지지되고, 지지구조 및 체인이 체인커테이어와 지지구조 사이에 공작물을 결합시키도록 함께 운반될 수 있고 서로 떨어질 수 있도록 서로 상대적으로 이동가능하고; 엔들리스체인컨베이어 양자는 최소한 처리구역에 지지구조가 제공되어 컨베이어가 상기 지지구조를 따라서 슬라이드되는 동안 각각의 컨베이어가 자체의 각각의 지지구조에 유지되는 방식으로 양 컨베이어가 최소한 처리구역에서 자체의 각각의 지지구조에 고정되며; 그리고 하나 또는 양 지지구조는 자체의지지구조 상에 있는 엔들리스체인컨베이어와 마찰 접촉하기에 그리고 상기 컨베이어를 구동시키기에 적합한 벨트수단을 구비하여 구성된 것을 특징으로 하는 전기도금장치.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
KR1019960702340A 1993-11-04 1994-11-04 전기도금장치(electroplating apparatus) KR960705963A (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB9322769A GB2283497B (en) 1993-11-04 1993-11-04 Electroplating apparatus
GB9322769.2 1993-11-04
PCT/GB1994/002398 WO1995012696A1 (en) 1993-11-04 1994-11-04 Electroplating apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR960705963A true KR960705963A (ko) 1996-11-08

Family

ID=10744652

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1019960702340A KR960705963A (ko) 1993-11-04 1994-11-04 전기도금장치(electroplating apparatus)

Country Status (12)

Country Link
US (1) US5705043A (ko)
EP (1) EP0726972B1 (ko)
JP (1) JP3461832B2 (ko)
KR (1) KR960705963A (ko)
CN (1) CN1099475C (ko)
AT (1) ATE178664T1 (ko)
DE (1) DE69417762T2 (ko)
GB (1) GB2283497B (ko)
HK (1) HK1014199A1 (ko)
MY (1) MY114138A (ko)
SG (1) SG49177A1 (ko)
WO (1) WO1995012696A1 (ko)

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6046267A (en) * 1997-05-27 2000-04-04 Tecinomet S.A. Method and apparatus for producing gas occlusion-free and void-free compounds and composites
US7282240B1 (en) 1998-04-21 2007-10-16 President And Fellows Of Harvard College Elastomeric mask and use in fabrication of devices
WO2000006806A2 (de) * 1998-07-27 2000-02-10 Siemens Electromechanical Components Gmbh & Co. Kg Vorrichtung zum galvanischen abscheiden und abtragen von metall
IL151701A0 (en) 2000-03-17 2003-04-10 Harvard College Cell patterning technique
ATE278503T1 (de) * 2000-07-04 2004-10-15 Schumag Ag Werkstückhalter für eine bearbeitungsmaschine und entsprechende ablängmaschine
JP4330380B2 (ja) * 2003-05-29 2009-09-16 株式会社荏原製作所 めっき装置及びめっき方法
DE102004034078B4 (de) * 2004-07-15 2014-02-13 Robert Bosch Gmbh Verfahren zur Erzeugung einer lokalen Beschichtung
US7744732B2 (en) * 2005-04-06 2010-06-29 Leviton Manufacturing Company, Inc. Continuous plating system and method with mask registration
US7655117B2 (en) * 2005-04-06 2010-02-02 Leviton Manufacturing Co., Inc. Continuous plating system and method with mask registration
DE102005024102A1 (de) * 2005-05-25 2006-11-30 Atotech Deutschland Gmbh Verfahren, Klammer und Vorrichtung zum Transport eines Behandlungsgutes in einer Elektrolyseanlage
US9583125B1 (en) * 2009-12-16 2017-02-28 Magnecomp Corporation Low resistance interface metal for disk drive suspension component grounding
CN102337577B (zh) * 2010-07-22 2014-03-12 富葵精密组件(深圳)有限公司 电镀装置
SG191114A1 (en) * 2010-12-23 2013-07-31 Framatome Connectors Int Plating method and apparatus, and strip obtained by this method
KR101215859B1 (ko) * 2012-06-15 2012-12-31 (주)아이케이텍 리드프레임 스폿 도금장치
JP6024613B2 (ja) * 2013-07-19 2016-11-16 株式会社デンソー 電気めっき装置
TW201508080A (zh) * 2013-08-22 2015-03-01 Diji Tang 一種對連續條料選擇性施鍍的設備
CN110190000B (zh) * 2019-05-27 2020-10-13 山东新恒汇电子科技有限公司 一种引线框架的生产系统
CN112323111B (zh) * 2020-11-02 2021-07-23 昆山一鼎工业科技有限公司 连续端子的电解方法
CN113089068B (zh) * 2021-03-11 2022-09-20 深圳市鸿鑫源实业发展有限公司 连续电镀装置
CN114059134A (zh) * 2021-11-15 2022-02-18 东莞奥美特科技有限公司 高密度多排框架电镀装置

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4155815A (en) * 1978-04-03 1979-05-22 Francis William L Method of continuous electroplating and continuous electroplating machine for printed circuit board terminals
EP0052125A4 (en) * 1980-05-07 1982-09-03 Kontakta Alkatreszgyar TAPE PLATING APPARATUS.
DE3028635A1 (de) * 1980-07-29 1982-03-04 Degussa Ag, 6000 Frankfurt Vorrichtung zum partiellen galvanischen beschichten
GB2094344B (en) * 1980-12-23 1983-09-07 Owen S G Ltd Improvements in or relating to selective plating
US4425213A (en) * 1982-03-22 1984-01-10 National Semiconductor Corporation Discrete length strip plater
US4582583A (en) * 1984-12-07 1986-04-15 National Semiconductor Corporation Continuous stripe plating apparatus
CH663038A5 (en) * 1985-07-29 1987-11-13 Vanguard S A Cell for selective electrolytic deposition
GB2214930A (en) * 1988-02-11 1989-09-13 Twickenham Plating & Enamellin Mask for use in electriplating on elongate substrate

Also Published As

Publication number Publication date
CN1099475C (zh) 2003-01-22
JPH09504576A (ja) 1997-05-06
SG49177A1 (en) 1998-05-18
EP0726972A1 (en) 1996-08-21
ATE178664T1 (de) 1999-04-15
DE69417762D1 (de) 1999-05-12
GB9322769D0 (en) 1993-12-22
GB2283497B (en) 1997-07-30
GB2283497A (en) 1995-05-10
EP0726972B1 (en) 1999-04-07
JP3461832B2 (ja) 2003-10-27
WO1995012696A1 (en) 1995-05-11
CN1137810A (zh) 1996-12-11
MY114138A (en) 2002-08-30
HK1014199A1 (en) 1999-09-24
US5705043A (en) 1998-01-06
DE69417762T2 (de) 1999-10-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR960705963A (ko) 전기도금장치(electroplating apparatus)
ES2010839A6 (es) Mejoras en transformadores.
GB9421195D0 (en) Spacing conveyor mechanism
KR830009893A (ko) 자동조립장치
KR860000200A (ko) 물품의 반송 및 선별장치
GR3000907T3 (en) A chain conveyor, a conveyor chain and a bend segment for the track of such chain conveyor
FI864792A0 (fi) Sidriktare.
DK153198C (da) Apparat til elektrisk bedoevelse af slagtedyr, navnlig svin
ATE116622T1 (de) Bogensegment für kettenförderer und kettenförderer mit einem solchen bogensegment.
DE69919960D1 (de) Fördervorrichtung für Produkte, insbesondere Früchte
ES8400334A1 (es) Perfeccionamientos en transportadores moviles.
GB1444506A (en) Conveyor plate chain
JP3065970B2 (ja) 均一メッキ処理を可能にした電気メッキ処理システム
US3653491A (en) Conveyor chain and control method
ATE89615T1 (de) Galvanisiereinrichtung fuer plattenfoermige werkstuecke, insbesondere leiterplatten.
US2189983A (en) Chain conveyer for heat-treating furnaces
JPH06115680A (ja) 搬送振分装置
ATE275083T1 (de) Einstellbarer förderer, förderverfahren und bestrahlungsvorrichtung
DE58902868D1 (de) Vorrichtung zum foerdern von flaechenerzeugnissen.
DE69008890D1 (de) Mechanismus zum Wenden von Lastträgern.
SU1098632A2 (ru) Устройство дл подачи длинномерного материала в зону обработки
DE59709472D1 (de) Kettenförderer
KR920003736Y1 (ko) 패리트 이동장치
KR870001099A (ko) 수직 이송용 컨베이어의 물품이송대
ATE159914T1 (de) Vorrichtung zum transportieren von stückgut, wie werkstückträgern, behältern oder transporteinheiten, insbesondere an folgearbeitsplätzen

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid