CN109942845A - 一种光刻胶树脂的制备方法 - Google Patents

一种光刻胶树脂的制备方法 Download PDF

Info

Publication number
CN109942845A
CN109942845A CN201910134364.1A CN201910134364A CN109942845A CN 109942845 A CN109942845 A CN 109942845A CN 201910134364 A CN201910134364 A CN 201910134364A CN 109942845 A CN109942845 A CN 109942845A
Authority
CN
China
Prior art keywords
monomer
ester
solvent
preparation
added
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201910134364.1A
Other languages
English (en)
Inventor
陈鹏
马潇
樊丹
沈博
顾大公
毛智彪
祝晓岚
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ningbo Nata Opto Electronic Material Co Ltd
Original Assignee
Jiangsu Nata Opto Electronic Material Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Jiangsu Nata Opto Electronic Material Co Ltd filed Critical Jiangsu Nata Opto Electronic Material Co Ltd
Priority to CN201910134364.1A priority Critical patent/CN109942845A/zh
Publication of CN109942845A publication Critical patent/CN109942845A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Abstract

本发明公开了一种光刻胶树脂的制备方法,包括:预聚物的准备:将具有酸活性基团的单体以及具有极性基团的单体加入到溶剂中,溶剂的质量为单体总质量的1~4倍;待单体溶解后,加入引发剂,溶解后获得预聚物;在反应容器中加入溶剂,质量为单体总质量的1~4倍,搅拌并在氮气气氛下升温至60℃~100℃,滴加预聚物,2.5h~4h内滴加完,滴加完毕后恒温回流反应15h~25h;将反应后获得的树脂聚合物溶液冷却至室温,利用混合沉淀剂沉淀树脂溶液,沉淀剂用量为树脂聚合物溶液质量的4~10倍,沉淀处理后,经过滤、干燥,得到颗粒状的树脂固体;混合沉淀剂中极性溶剂与非极性溶剂的体积比为1∶(1~20)。本发明利用不同比例的混合沉淀剂去处理树脂聚合物,可以调控获得不同的分子量;并且,本发明能获得更小的分子量分布范围。

Description

一种光刻胶树脂的制备方法
技术领域
本发明涉及一种聚合物树脂的制备,具体涉及一种用于光刻胶的树脂的制备方法,尤其涉及光刻胶树脂的分子量的控制。
背景技术
光刻胶是目前制造先进集成电路的关键材料。光刻胶的组成中树脂是极为重要的一个成分。与KrF光刻胶的聚对羟基苯乙烯相比,(甲基)丙烯酸树脂在193nm处没有吸收,能够用于制备ArF光刻胶的树脂,具有很好的高透明性以及分辨率。但是为了达到光刻胶的性能要求,需要控制甲基丙烯酸树脂的分子量。对应自由基反应来说,分子量的控制主要的方式在于控制投料量和反应条件。控制较好的聚合反应得到的树脂分子量通常在符合使用要求的范围内波动。但这种方法只能在一定程度上实现分子量的控制,不能解决反应失控后树脂分子量的改善问题。
对于甲基丙烯酸树脂聚合物来说,在制备时通常利用极性较低的烷烃类作为甲基丙烯酸树脂聚合物的沉淀剂。如果改变沉淀剂的组成,在其中增加极性溶剂,使含量较少的其它分子量的树脂被溶解,就可以通过沉淀进行分离,优化树脂分子量的分布。本发明对上述设想进行了研究。
发明内容
本发明的发明目的是提供一种光刻胶树脂的制备方法,实现在反应后改善甲基丙烯酸树脂聚合物的分子量,以满足光刻胶制备的需求。
为达到上述发明目的,本发明采用的技术方案是:一种光刻胶树脂的制备方法,包括以下步骤:
(1) 预聚物的准备:将一种或多种具有酸活性基团的单体以及一种或多种具有极性基团的单体加入到溶剂中,并使其完全溶解,其中溶剂的质量为单体总质量的1~4倍;待单体溶解后,加入引发剂,溶解后获得预聚物;
(2) 在反应容器中加入溶剂,质量为单体总质量的1~4倍,搅拌并在氮气气氛下升温至60℃~100℃,滴加预聚物,2.5h~4h内滴加完,滴加完毕后恒温回流反应2h~25h;
(3) 将反应后获得的树脂聚合物溶液冷却至室温,利用混合沉淀剂沉淀树脂溶液,沉淀剂用量为树脂聚合物溶液质量的4~10倍,沉淀处理后,经过滤、干燥,得到颗粒状的树脂固体;其中,所述混合沉淀剂由极性溶剂和非极性溶剂混合而成,极性溶剂与非极性溶剂的体积比为1∶(1~20)。
上述技术方案中,以单体总的物质的量为100%计,单体的用量分别为:
酸活性单体:30~70%,
极性单体:70~30%。
所述光刻胶树脂中含不同取代基的酸活性单体,可能为酸活性(甲基)丙烯酸酯,其结构为符合化学通式中的至少一种单体,具体的酸活性单体结构通式如下:
R1= H、碳原子数在1-20的含碳基团。
R2=酸敏基团。
具体地,R2是一种碳原子数在6-30之间的四级酯,其和酯键氧原子相连的碳原子的氢原子全部被其它基团取代,其可能的结构为叔丁基酯、取代叔丁基酯、烷基取代的金刚烷酯、烷基取代的金刚烷衍生物酯、烷基取代的降冰片酯、烷基取代的降冰片衍生物酯、烷基取代的环状烷基酯、烷基取代的环状烷基衍生物酯等其中的一种或多种。
所述光刻胶树脂中含一个或多个极性单体,可能为含极性基团的(甲基)丙烯酸酯,其结构为符合化学通式中的至少一种单体,具体的极性单体结构通式如下:
R3= H、或碳原子数在1-20的含碳基团。
R4=极性基团。
具体地,R4为碳原子数在6~30之间含羟基的环状、笼状或直链型含碳结构和各类内酯结构,其可能的结构为含1个或多个独立羟基的金刚烷酯、含1个或多个独立羟基的环己酯、含1个或多个独立羟基的环戊酯、含1个或多个独立羟基的多环酯类化合物、含1个或多个独立羟基的笼状酯类化合物、丁内酯、戊内酯、取代戊内酯、己内酯、取代己内酯、含金刚烷结构的内酯、含多环结构的内酯、含笼状结构的内酯等其中的一种或多种。
优选的单体用量为,以摩尔计:
1-乙基环己基甲基丙烯酸酯:4-10份;
甲基丙烯酸酯丁内酯:3-9份;
3-羟基-1-金刚烷基甲基丙烯酸:3-9份。
上述技术方案中,优选的引发剂为偶氮二异丁腈,质量为单体总物质的量的4%-10%。
上述技术方案中,优选的溶剂为乙酸乙酯,沉淀剂为无水乙醇/正己烷,体积比为1∶(1~20)
优选的技术方案,步骤(1)中,加入单体后,通氮气并进行超声搅拌使单体完全溶解在溶剂中。
优选的技术方案,步骤(1)中,加入引发剂后,振荡使引发剂溶解。
本发明中,通过无水乙醇和正己烷的比例调节树脂产物的分子量。
由于上述技术方案运用,本发明与现有技术相比具有下列优点:
本发明利用不同比例的无水乙醇和正己烷混合沉淀剂去处理甲基丙烯酸树脂聚合物,可以调控获得不同的分子量;并且,本发明能获得更小的分子量分布范围。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明作进一步描述:
实施例:一种光刻胶树脂的制备方法,包括以下步骤:
(1) 预聚物的准备:将24g的1-乙基环己基甲基丙烯酸酯、10g的甲基丙烯酸丁内酯、16g的3-羟基-1-金刚烷基甲基丙烯酸酯置于含有乙酸乙酸的单口烧瓶中,其中用于溶解单体的乙酸乙酯用量为130g,将单口烧瓶中的混合物通氮气超声至溶解。待单体溶解后,加入一定量的偶氮二异丁腈作为引发剂,引发剂用量为2g,含量占单体总质量的4.9%,震荡溶解,待用。
(2) 甲基丙烯酸树脂聚合物的制备:在装有磁力搅拌、回流冷凝管的四口烧瓶中加入一定量的乙酸乙酯溶液,用量为50g,为单体总质量的1.11倍。设置搅拌速度为400rpm,通氮气升温至预定温度80℃,滴加预聚物,3h滴加完,滴加完毕后恒温回流反应至20h。
(3) 沉淀方法处理甲基丙烯酸树脂溶液:将反应后的甲基丙烯酸树脂聚合物溶液冷却后,利用不同比例的无水乙醇和正己烷混合沉淀剂沉淀树脂溶液,其中沉淀剂用量为甲基丙烯酸树脂聚合物溶液质量的6倍,沉淀处理后,经过滤,干燥,得到颗粒状的甲基丙烯酸树脂。
在上述总体方案的基础上,以下实施例和对比例分别给出了不同比例的无水乙醇和正己烷混合沉淀剂处理后的情况。
对比例:
纯正己烷沉淀剂处理:
将反应后的甲基丙烯酸树脂聚合物溶液冷却后,按照6倍质量比的正己烷作为沉淀剂去沉淀甲基丙烯酸树脂聚合物溶液,控制搅拌速度为400rpm,滴加速度为10mL/min,滴加完后静置半小时,过滤,干燥,得到颗粒状的甲基丙烯酸树脂。分子量为5072,分子量分布为1.980。
实施例一:
正己烷:无水乙醇=1,混合沉淀剂处理:
制备正己烷:无水乙醇=1的混合沉淀剂。将反应后的甲基丙烯酸树脂聚合物溶液冷却后,按照6倍质量比的混合沉淀剂去沉淀甲基丙烯酸树脂聚合物溶液,控制搅拌速度为400rpm,滴加速度为10mL/min,滴加完后静置半小时,过滤,干燥,得到颗粒状的甲基丙烯酸树脂。分子量为8969,分子量分布为1.390。
实施例二:
正己烷:无水乙醇=2,混合沉淀剂处理:
制备正己烷:无水乙醇=2的混合沉淀剂。将反应后的甲基丙烯酸树脂聚合物溶液冷却后,按照6倍质量比的混合沉淀剂去沉淀甲基丙烯酸树脂聚合物溶液,控制搅拌速度为400rpm,滴加速度为10mL/min,滴加完后静置半小时,过滤,干燥,得到颗粒状的甲基丙烯酸树脂。分子量为7439,分子量分布为1.468。
实施例三:
正己烷:无水乙醇=3,混合沉淀剂处理:
制备正己烷:无水乙醇=3的混合沉淀剂。将反应后的甲基丙烯酸树脂聚合物溶液冷却后,按照6倍质量比的混合沉淀剂去沉淀甲基丙烯酸树脂聚合物溶液,控制搅拌速度为400rpm,滴加速度为10mL/min,滴加完后静置半小时,过滤,干燥,得到颗粒状的甲基丙烯酸树脂。分子量为6824,分子量分布为1.506。
实施例四:
正己烷:无水乙醇=4,混合沉淀剂处理:
制备正己烷:无水乙醇=4的混合沉淀剂。将反应后的甲基丙烯酸树脂聚合物溶液冷却后,按照6倍质量比的混合沉淀剂去沉淀甲基丙烯酸树脂聚合物溶液,控制搅拌速度为400rpm,滴加速度为10mL/min,滴加完后静置半小时,过滤,干燥,得到颗粒状的甲基丙烯酸树脂。分子量为6323,分子量分布为1.574。
结论:
从上述的实施例的结果来看,对比纯正己烷处理的甲基丙烯酸树脂聚合物的结果,不同比例的无水乙醇和正己烷混合沉淀剂确实能达到控制甲基丙烯酸树脂聚合物的分子量目的,并且同时能够减小分子量分布数值。
本发明实施例中仅提供了以(甲基)丙烯酸酯为单体的树脂合成,但本发明还能应用于其它以自由基聚合的方式制备的树脂,如聚苯乙烯树脂等。

Claims (10)

1.一种光刻胶树脂的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1) 预聚物的准备:将一种或多种具有酸活性基团的单体以及一种或多种具有极性基团的单体加入到溶剂中,并使其完全溶解,其中溶剂的质量为单体总质量的1~4倍;待单体溶解后,加入引发剂,溶解后获得预聚物;
(2) 在反应容器中加入溶剂,质量为单体总质量的1~4倍,搅拌并在氮气气氛下升温至60℃~100℃,滴加预聚物,2.5h~4h内滴加完,滴加完毕后恒温回流反应2h~25h;
(3) 将反应后获得的树脂聚合物溶液冷却至室温,利用混合沉淀剂沉淀树脂溶液,沉淀剂用量为树脂聚合物溶液质量的4~10倍,沉淀处理后,经过滤、干燥,得到颗粒状的树脂固体;其中,所述混合沉淀剂由极性溶剂和非极性溶剂混合而成,极性溶剂与非极性溶剂的体积比为1∶(1~20)。
2.根据权利要求1所述的光刻胶树脂的制备方法,其特征在于:以单体总的物质的量为100%计,单体的用量分别为:
酸活性单体:30~70%,
极性单体:70~30%。
3.根据权利要求2所述的光刻胶树脂的制备方法,其特征在于:所述酸活性单体为含酸敏基团的(甲基)丙烯酸酯,其结构通式为:
式中,R1为H或碳原子数在1-20的含碳基团,R2为含酸敏基团的官能团;
所述极性单体为含极性基团的(甲基)丙烯酸酯,其结构通式为:
式中,R3为H或碳原子数在1-20的含碳基团,R4为含极性基团的官能团。
4.根据权利要求3所述的光刻胶树脂的制备方法,其特征在于:R2含有的碳原子数在6-30之间,其和酯键氧原子相连的碳原子的氢原子全部被其它基团取代,构成叔丁基酯、取代叔丁基酯、烷基取代的金刚烷酯、烷基取代的金刚烷衍生物酯、烷基取代的降冰片酯、烷基取代的降冰片衍生物酯、烷基取代的环状烷基酯、烷基取代的环状烷基衍生物酯中的一种或多种;
R4含有的碳原子数在6~30之间,其和酯键氧原子相连构成含1个或多个独立羟基的金刚烷酯、含1个或多个独立羟基的环己酯、含1个或多个独立羟基的环戊酯、含1个或多个独立羟基的多环酯类化合物、含1个或多个独立羟基的笼状酯类化合物、丁内酯、戊内酯、取代戊内酯、己内酯、取代己内酯、含金刚烷结构的内酯、含多环结构的内酯、含笼状结构的内酯中的一种或多种。
5.根据权利要求1所述的光刻胶树脂的制备方法,其特征在于:所述引发剂为有机过氧化物或偶氮类引发剂,引发剂质量为单体总质量的4%~10%;所述引发剂为过氧化环己酮、过氧化二苯甲酰、叔丁基过氧化氢、偶氮二异丁腈、偶氮二异庚腈中的一种或多种。
6.根据权利要求1所述的光刻胶树脂的制备方法,其特征在于:所述溶剂选自乙酸乙酯、醋酸丁酯、醋酸新戊酯、乳酸乙酯、丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇单醋酸醚、丙二醇单乙醚、二缩乙二醇甲醚、二缩乙二醇乙醚、四氢呋喃、甲基四氢呋喃、甲醇、乙醇、叔丁醇、异丙醇、丙酮、环己酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、甲苯、二甲苯、对二甲苯或联苯中的一种或多种。
7.根据权利要求1所述的光刻胶树脂的制备方法,其特征在于:通过调整极性溶剂和非极性溶剂的比例来调节树脂产物的分子量。
8.根据权利要求7所述的光刻胶树脂的制备方法,其特征在于:所述极性溶剂选自甲醇、乙醇、叔丁醇、异丙醇;所述非极性溶剂选自正戊烷、正己烷、环己烷、庚烷。
9.根据权利要求1所述的光刻胶树脂的制备方法,其特征在于: 步骤(1)中,加入单体后,通氮气并进行超声搅拌使单体完全溶解在溶剂中。
10.根据权利要求1所述的光刻胶树脂的制备方法,其特征在于:步骤(1)中,加入引发剂后,振荡使引发剂溶解。
CN201910134364.1A 2019-02-22 2019-02-22 一种光刻胶树脂的制备方法 Pending CN109942845A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910134364.1A CN109942845A (zh) 2019-02-22 2019-02-22 一种光刻胶树脂的制备方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910134364.1A CN109942845A (zh) 2019-02-22 2019-02-22 一种光刻胶树脂的制备方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN109942845A true CN109942845A (zh) 2019-06-28

Family

ID=67007659

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910134364.1A Pending CN109942845A (zh) 2019-02-22 2019-02-22 一种光刻胶树脂的制备方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN109942845A (zh)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111018758A (zh) * 2019-12-31 2020-04-17 山东益丰生化环保股份有限公司 一种含硫单体、其制备方法及应用
CN111718439A (zh) * 2020-06-19 2020-09-29 宁波南大光电材料有限公司 甲基丙烯酸树脂及其制备方法和应用
CN112679631A (zh) * 2020-12-22 2021-04-20 宁波南大光电材料有限公司 一种去除合成树脂中的小分子物质的方法
CN112759697A (zh) * 2020-12-29 2021-05-07 宁波南大光电材料有限公司 一种甲基丙烯酸树脂及其制备方法
CN112920314A (zh) * 2021-01-26 2021-06-08 宁波南大光电材料有限公司 一种酸活性树脂以及光刻胶
CN113198549A (zh) * 2021-04-26 2021-08-03 宁波南大光电材料有限公司 一种去除光刻胶树脂中的金属杂质的方法
CN115260348A (zh) * 2022-09-30 2022-11-01 北京八亿时空液晶科技股份有限公司 一种高分子量且窄分布phs树脂及其制备方法与应用

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003122010A (ja) * 2001-10-16 2003-04-25 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型レジスト組成物
WO2005006078A1 (ja) * 2003-07-09 2005-01-20 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. レジスト組成物、積層体、及びレジストパターン形成方法
CN1714110A (zh) * 2002-11-05 2005-12-28 Jsr株式会社 丙烯酸系共聚物与辐射敏感性树脂组合物
CN101638374A (zh) * 2008-07-28 2010-02-03 住友化学株式会社 肟类化合物及包含该化合物的抗蚀剂组合物
CN103172787A (zh) * 2011-12-21 2013-06-26 德莎欧洲公司 具有高的摩尔质量和窄的摩尔质量分布的压敏粘合剂及其制备方法
CN108373520A (zh) * 2017-12-22 2018-08-07 江苏汉拓光学材料有限公司 一种丙烯酸酯共聚物及包含其的光刻胶组合物
CN108628101A (zh) * 2018-04-26 2018-10-09 儒芯微电子材料(上海)有限公司 电子束光刻胶组合物及制备方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003122010A (ja) * 2001-10-16 2003-04-25 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型レジスト組成物
CN1714110A (zh) * 2002-11-05 2005-12-28 Jsr株式会社 丙烯酸系共聚物与辐射敏感性树脂组合物
WO2005006078A1 (ja) * 2003-07-09 2005-01-20 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. レジスト組成物、積層体、及びレジストパターン形成方法
CN101638374A (zh) * 2008-07-28 2010-02-03 住友化学株式会社 肟类化合物及包含该化合物的抗蚀剂组合物
CN103172787A (zh) * 2011-12-21 2013-06-26 德莎欧洲公司 具有高的摩尔质量和窄的摩尔质量分布的压敏粘合剂及其制备方法
CN108373520A (zh) * 2017-12-22 2018-08-07 江苏汉拓光学材料有限公司 一种丙烯酸酯共聚物及包含其的光刻胶组合物
CN108628101A (zh) * 2018-04-26 2018-10-09 儒芯微电子材料(上海)有限公司 电子束光刻胶组合物及制备方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
郝立新等: "《高分子化学与物理教程》", 31 December 1997, 化学工业出版社 *

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111018758A (zh) * 2019-12-31 2020-04-17 山东益丰生化环保股份有限公司 一种含硫单体、其制备方法及应用
CN111018758B (zh) * 2019-12-31 2021-02-23 山东益丰生化环保股份有限公司 一种含硫单体、其制备方法及应用
CN111718439A (zh) * 2020-06-19 2020-09-29 宁波南大光电材料有限公司 甲基丙烯酸树脂及其制备方法和应用
CN112679631A (zh) * 2020-12-22 2021-04-20 宁波南大光电材料有限公司 一种去除合成树脂中的小分子物质的方法
CN112679631B (zh) * 2020-12-22 2022-07-08 宁波南大光电材料有限公司 一种去除合成树脂中的小分子物质的方法
CN112759697A (zh) * 2020-12-29 2021-05-07 宁波南大光电材料有限公司 一种甲基丙烯酸树脂及其制备方法
CN112920314A (zh) * 2021-01-26 2021-06-08 宁波南大光电材料有限公司 一种酸活性树脂以及光刻胶
CN113198549A (zh) * 2021-04-26 2021-08-03 宁波南大光电材料有限公司 一种去除光刻胶树脂中的金属杂质的方法
CN115260348A (zh) * 2022-09-30 2022-11-01 北京八亿时空液晶科技股份有限公司 一种高分子量且窄分布phs树脂及其制备方法与应用

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109942845A (zh) 一种光刻胶树脂的制备方法
JP5631550B2 (ja) フォトレジスト用共重合体の製造方法
DE4319178C2 (de) Resist-Zusammensetzung enthaltend ein Polymermaterial und einen Säuregenerator
CN1976913B (zh) 内酯化合物、含内酯的单体、它们的聚合物、使用该聚合物的抗蚀剂组合物、使用该抗蚀剂组合物的图形形成方法
TW201100448A (en) Process for producing photoresist polymeric compounds
CA2752117A1 (en) Preparation containing at least one conazole fungicide a further fungicide and a stabilising copolymer
US9546133B2 (en) Method for producing copolymer for semiconductor lithography containing reduced amount of metal impurities, and method for purifying polymerization initiator for production of copolymer
CN103588926B (zh) 一种可阳离子光固化的丙烯酸树脂及其制备方法
TW200424769A (en) Process for refining crude resin for resist
CN107814868A (zh) 一种Pickering乳液聚合法制备的新型水性丙烯酸树脂/聚氨酯复合皮革涂饰剂
CN109369839A (zh) 一种自交联型氯乙烯共聚物乳液及其制备方法
KR102217181B1 (ko) 공중합체의 제조 방법
JPS6178808A (ja) 不溶性で膨潤性の少ない粉末状重合体の製法
CN109942741A (zh) 一种光刻胶用树脂的制备方法
CN101580565A (zh) 一种α-甲基苯乙烯与马来酸酐共聚反应的方法
CN100503686C (zh) 一种两亲性大环聚合物及其制备方法
US7312294B2 (en) Norbornane lactone (meth)acrylate and polymer thereof
CN109880149A (zh) 一种大尺寸聚脲中空微球的制备方法
JPS6318602B2 (zh)
CN101348596A (zh) 一种含多脂环戊烯基(甲基)丙烯酸酯单体组合物的乳液
CN104292378A (zh) 一种基于改变种子亲水性和交联度的非球形粒子制备方法
CN108047833A (zh) 一种无需底胶的阻隔胶及其制备方法
JP2014109022A (ja) フォトリソグラフィー用樹脂の精製方法
JP5206065B2 (ja) フォトレジスト用重合体の製造方法及びそれに用いる蒸留缶
CN113980536B (zh) 一种甲醛吸收乳液及其制备方法和应用

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
TA01 Transfer of patent application right
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20201217

Address after: 315800 21 Qingshan Road, Chaiqiao street, Beilun District, Ningbo City, Zhejiang Province

Applicant after: NINGBO NANDA OPTOELECTRONIC MATERIAL Co.,Ltd.

Address before: 7 / F, Yueliangwan International Center, 9 Cuiwei street, Suzhou Industrial Park, Suzhou, Jiangsu Province

Applicant before: JIANGSU NATA OPTO-ELECTRONIC MATERIAL Co.,Ltd.

RJ01 Rejection of invention patent application after publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Application publication date: 20190628