CN1098396A - 钛酸锶基晶界层电容器材料制造方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 16
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 title claims abstract description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 12
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 2
- 229910002367 SrTiO Inorganic materials 0.000 claims abstract description 25
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims abstract description 20
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 13
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract description 6
- QKKWJYSVXDGOOJ-UHFFFAOYSA-N oxalic acid;oxotitanium Chemical compound [Ti]=O.OC(=O)C(O)=O QKKWJYSVXDGOOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 238000001149 thermolysis Methods 0.000 claims abstract description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 10
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 6
- 235000015895 biscuits Nutrition 0.000 claims description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 3
- 229910013553 LiNO Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 5
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000000498 ball milling Methods 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229960000935 dehydrated alcohol Drugs 0.000 description 1
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 1
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Ceramic Capacitors (AREA)
- Inorganic Insulating Materials (AREA)
Abstract
本发明介绍了电容器用SrTiO3基晶界层电容器
材料的制造方法,与以往的方法相比,在选料方面,采
用草酸氧钛锶[SrTiO(C2O4)2·4H2O]经热分解获得
严格按化学配比的SrTiO3原料,其SrO∶TiO2mol
严格比为1∶1,而这一比值对控制配方组成,进而对
晶粒生长,半导化性质及最终介电性能有很大影响,
又由于添了Li2CO3助烧结剂,降低了烧结温度400
~200℃,晶界绝缘化处理方面,采用了含有CuO的
扩散源,大大简化了工艺,降低了成本,最终,改进了产
品的介电性能。
Description
本发明涉及电容器制造领域。
迄今为止,SrTiO3基晶界层制造方法为:
以SrCO3和TiO2作为原料,在1100~1200℃下合成为SrTiO3,经粉碎、球磨后获得SrTiO3粉料,作为制作SrTiO3基晶界层电容器的原料,按一定比例在SrTiO3粉料中加入SrCO3、TiO2、Nb2O5以及其他添加物,利用通常的陶瓷制备工艺过程制成一定尺寸的园片素坯后,在≥1400℃温度,N2+H2的混合流动气体中进行烧结,获得半导化基片,然后在半导化基片上涂敷由Bi2O3-B2O3-CuO等混合组成的浆料,在1000~1250℃温度范围内,氧化(空气)气氛中进行烧成,使晶界绝缘化。
其不足之处在于以SrCO3和TiO2合成不易保证SrTiO3中的SrO∶TiO2mol比为1∶1,且烧成温度高,制品性能亦不易控制。
本发明的目的就是针对以上方法中的不足之处,提出了一种新的电容器用SrTiO3基晶界层电容器制造方法,该制造方法包括下列步骤:
①选用草酸氧钛锶[SrTiO(C2O4)2·4H2O]为原料,在900℃~1000℃温度范围内进行热分解,获得SrTiO3粉料;
②按下列配方配料:在1molSrTiO3中加入TiO2或SrCO3,调节配方中的Ti/Sr mol比,TiO2的添加量在0.03~0.005mol,SrCO3的添加量在0.005~0.04mol范围内,即Ti/Sr mol比可在1.03~0.96范围内调节,然后添加0.003~0.015 mol的Nb2O5作为施主杂质,再加入Li2CO3、LiNO3或LiF中一种或两种,作为助烧结剂,添加量为0.3~4.0wt%范围。将配制好的料按常规陶瓷工艺制成园片素坯;
③半导化烧结:根据配方中Ti/Sr mol比和助烧结剂的添加情况的不同,在900℃~1250℃温度范围内在N2+H2流动气体中进行半导化烧结;
④晶界绝缘化:采用气相扩散工艺进行晶界绝缘化,CuO或PbO中的一种或两种与Al2O3混合制成园筒或分层筒体作为气相扩散源。扩散温度为1000~1250℃,介质为空气。从而得到SrTiO3基晶界层电容器材料。
利用上述制备方法,可在低温下获得稳定均匀的电容器用SrTiO3基晶界层电容器材料。以往用SrTiO3和TiO2作为原料予合成的SrTiO3,不易保证SrO∶TiO2的mol比严格为1∶1,而该比值对控制配方组成,进而在很大程度上影响着晶粒的生长、半导化性质及产品最终的介电性能,另一方面,这样合成的SrTiO3粉体粒度也不易控制,本发明采用草酸氧钛锶[SrTiO(C2O4)2·4H2O]作为原料,经分解可获得纯的严格按化学配比SrO∶TiO2mol比为1∶1的SrTiO3并且粒度较小,具有较好的反应活性,易于烧结和晶粒长大。
在本发明的配方中,由于添加了一定量的Li2CO3等作为助烧结剂,在烧成过程中可在晶界形成具有化学反应活性的低熔液相,因此可比以往的工艺降低烧结温度400~200℃左右,即可在1000℃~1200℃的温度范围内进行致密化烧结。其烧结机理也有别于以往的工艺。以往配方的晶粒长大机制是气相传质下的蒸发-凝聚过程。而本发明是具有化学反应活性的液相存在下的溶解-淀析过程。同时,可在晶粒边界之间形成有钛酸锂微晶析出的中间液相层,这一液相层包裹在晶粒周围形成一层均匀的薄的液相网络,提高晶界的绝缘性能。
以往采用在半导化片表面涂敷绝缘剂浆料进行晶界绝缘化的方法,工艺繁琐,制品性能不均匀,本发明使用CuO和Al2O3制成的筒状容器作为扩散源,将一次烧成获得的半导化片堆放在该容器中,在1100℃~1200℃温度下,由于扩散源筒中CuO挥发,并扩散入半导化片中使晶界绝缘化,这种工艺简单,易于操作;扩散源制备容易,又可多次反复使用,产品不会发生粘接可任意堆放,产量大,性能好。
下面介绍实施例:
以草酸氧钛锶[SrTiO(C2O4)2·4H2O]作为原料,在950℃温度下,保温2小时,进行分解,获得SrTiO3粉料,按照化学分子式为Sr1.004TiNb0.006O3.019,在1molSrTiO3中加入0.004mol SrCO3和0.003molNb2O5,然后添加重量百分比为0.5%~3.5%的Li2CO3作为助烧结剂,具体添加量见下表:
表:Li2CO3添加量及介电性能
试样编号 | Li2CO3(wt%)` | εapp(×104) | ρ(Ω.cm) | tgδ(%) | ΔC/C☆(%) |
L1 | 0.5 | 9.7 | 1.1×1010 | 0.8 | 〈±15 |
L2 | 1.5 | 5.4 | 1.9×1012 | 1.7 | 〈±15 |
L3 | 2.5 | 2.1 | 3.6×1011 | 0.9 | 〈±15 |
L4 | 3.5 | 1.9 | 1.5×109 | 1.9 | 〈±15 |
*(-30~+85℃)
将上述配制好的料加入无水乙醇,经48小时球磨混料,球磨后经烘干,过筛,加入少量粘合剂充分拌匀后,陈腐30小时,过筛造粒,干压成型为φ10mm、厚度约1.0mm的园片素坯,经排胶后供烧结用。
排胶后的素坯在N2∶H2为1∶1体积比的流动气体中,在1200℃温度下保温6小时进行半导化烧结。
将半导化片堆放在多层园筒状CuO气相扩散源中进行扩散处理,扩散温度1200℃,扩散时间8小时,随炉冷却获得晶界被绝缘的晶界层电容器材料。
在经晶界绝缘化的园片两端面上被覆银电极,经焊接引线,包封后可制成晶界层电容器,其各项介电性能见下表。
Claims (1)
1、电容器用SrTiO3基晶界层电容器材料制造方法,其特征在于,该方法包括下列步骤:
①选用草酸氧钛锶[SrTiO(C2O4)2·4N2O]为原料,在900℃~1000℃温度范围内进行热分解,获得SrTiO3粉料;
②按下列配方配料:在1molSrTiO3中加入TiO2或SrCO3,调节Ti/Srmol比,TiO2的添加量0.03~0.005mol,SrCO3的添加量是0.005~0.04mol范围内,即Ti/Srmol比可在1.03~0.96范围内调节,然后添加0.003~0.015mol的Nb2O5作为施主杂质,再加入Li2CO3、LiNO3或LiF中一种或两种作为助烧结剂,添加量为0.3~4.0wt%范围。将配制好的料按常规陶瓷工艺制成园片素坯;
③半导化烧结,根据配方中Ti/Srmol比和助烧结剂的添加情况的不同,在900℃~1250℃温度范围内,在N2+H2流动气体中进行半导化烧结;
④晶界绝缘化,采用气相扩散工艺进行晶界绝缘化处理,用CuO或PbO中的一种或两种与Al2O3混合制成园筒或成分层筒体作为气相扩散源,扩散温度为1000~1250℃,介质为空气。从而得到电容器用SrTiO3基晶界层电容器材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN94104451A CN1063732C (zh) | 1994-05-06 | 1994-05-06 | 钛酸锶基晶界层电容器材料制造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN94104451A CN1063732C (zh) | 1994-05-06 | 1994-05-06 | 钛酸锶基晶界层电容器材料制造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1098396A true CN1098396A (zh) | 1995-02-08 |
CN1063732C CN1063732C (zh) | 2001-03-28 |
Family
ID=5031591
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN94104451A Expired - Fee Related CN1063732C (zh) | 1994-05-06 | 1994-05-06 | 钛酸锶基晶界层电容器材料制造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN1063732C (zh) |
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---|---|---|---|---|
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CN109516799A (zh) * | 2019-01-22 | 2019-03-26 | 电子科技大学 | 一种具有高温度稳定性的高介陶瓷电容器材料及其制备方法 |
CN113674994A (zh) * | 2021-09-23 | 2021-11-19 | 广州天极电子科技股份有限公司 | 一种钛酸锶单晶基晶界层电容器材料及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1014661B (zh) * | 1986-07-29 | 1991-11-06 | Tdk株式会社 | 制造半导体陶瓷电容器的方法 |
US4889837A (en) * | 1986-09-02 | 1989-12-26 | Tdk Corporation | Semiconductive ceramic composition |
BE1001780A4 (fr) * | 1988-06-13 | 1990-03-06 | Solvay | Procede pour la fabrication de cristaux de titanate de baryum et/ou de strontium et cristaux de titanate de baryum et/ou de strontium. |
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CN102173794A (zh) * | 2011-02-25 | 2011-09-07 | 汕头高新区松田实业有限公司 | 一种可配合铜电极使用的圆片电容器陶瓷介质材料及其制备方法 |
CN108409325A (zh) * | 2018-05-15 | 2018-08-17 | 湖南先导电子陶瓷科技产业园发展有限公司 | 一种超低温烧结的高q值微波介质陶瓷材料制备工艺及产品 |
CN109516799A (zh) * | 2019-01-22 | 2019-03-26 | 电子科技大学 | 一种具有高温度稳定性的高介陶瓷电容器材料及其制备方法 |
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CN113674994A (zh) * | 2021-09-23 | 2021-11-19 | 广州天极电子科技股份有限公司 | 一种钛酸锶单晶基晶界层电容器材料及其制备方法和应用 |
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
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