CN1056130C - 钛酸锶基晶界层电容器材料制造方法 - Google Patents

钛酸锶基晶界层电容器材料制造方法 Download PDF

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Abstract

电容器用SrTiO3基晶界层电容器材料,以前大多用二次高温烧成工艺,烧结温度高,配料方式不尽合理,且性能均一性不尽理想。本发明改进了配料方法,以草酸氧钛锶[SrTiO(C2O4).nH2O]分解获得的纯SrTiO3为原料,加入Li2CO3等为助烧结剂,(Li1/4Nb3/4)O3为施主掺杂剂及以Bi2O3和SiO2为晶界绝缘剂,因此可在较低温度1000℃~1200℃,流动气体中进行半导体化烧结,然后降到650℃~900℃,在空气中进行晶界绝缘化,制成电容器用SrTiO3基晶界层电容器材料。该方法工艺简单,降低了烧结温度,变二次烧结为一次烧结,且制品性能易于控制、均匀性好。

Description

钛酸锶基晶界层电容器材料制造方法
该发明创造属于电器制造方法领域。
迄今为止,制造电容器用SrTiO3基晶界层电容器材料的方法,大都采用二次高烧工艺,即在SrTiO3中加入适量的SrCO3或TiO2,调节Sr/Ti比,然后添加适量的Nb2O5作为半导化剂,按常规陶瓷工艺制成园片素坯,然后,在1400℃左右温度,流动H2+N2气氛中进行半导化烧结,再在半导化园片两端面涂覆由Bi2O3-B2O3-CuO等氧化物混合组成的浆料,在1000~1250℃温度范围内,空气气氛中进行第2次烧成,使晶界绝缘化,从而获得电容器用SrTiO3基晶界层电容器材料。
已有的SrTiO3基晶界层电容器也有采用一次烧成方法制造的,以SrTiO3和TiO2作为原料,在1100℃~1200℃下予合成为SrTiO3,经粉碎,球磨后获得SrTiO3粉体作为制造SrTiO3基晶界层电容器的原料。配方中大多采用Nb2O5为施主掺杂剂,少量Bi2O3、CuO或其他氧化物混合物等作为晶界绝缘剂,按一定比例配料,经常规陶瓷工艺制成园片素坯,在1400℃左右温度下,H2+N2的流动气体中进行晶界半导化烧结,然后在<1000℃温度,空气中进行晶界绝缘化获得晶界层电容材料。
以有技术中存在下列不足之处,①已有技术中采用的二次或一次主烧结工艺,烧结温度高;②以往用SrCO3和TiO2作为原料予合成SrTiO3的方法不易获得按化学配比SrO∶TiO2为1∶1mol比的纯SrTiO3;③性能亦不尽理想。
本发明的目的正是为克服上述不足之处而提供一种SrTiO3基晶界层电容器材料的制造方法。
该制造方法包括下列步骤:
1、选用草酸氧钛锶[SrTiO(C2O4).nH2O]为原料,在900℃~1000℃温度范围内进行热分解,获得用于制造SrTiO3基晶界层电容器的SrTiO3粉料。
2.在上述粉料中加入Li2CO3、LiF或LiNO3三种中的一种为助烧结剂,并且加入Sr(Li1/4Nb3/4)O3作为施主掺杂剂,加入Bi2O3-SiO2或CuO-SiO2两种复合组份系统中的一种作为晶界绝缘剂,其配方范围为:对100mol的SrTiO3加入0.5~1.30mol的Sr(Li1/4Nb3/4)O3;1.0~3.0mol的Li2CO3或LiF或LiNO3三种中的一种,再加入1.0~0.005mol的TiO2,0.005~1.5mol的SrCO3以调节Ti/Srmol比,Ti/Srmol比为1.003~0.98,加入1.0~1.8mol的Bi2O3或CuO两种中的一种,以及0.05~0.15mol的SiO2作为绝缘剂。然后将配制好的料按常规陶瓷工艺干压成园片素坯。
3.烧成:在1000℃~1200℃,N2+H2流动气体中进行半导体化烧结,然后降温到650℃~900℃在空气中进行晶界绝缘化,制成电容器用SrTiO3基晶界层电容器材料。
利用本发明中提供的制造方法,可以在较低的温度下一次烧成获得性能均匀的晶界层电容器材料。配方中的Sr/Ti比在很大程度上影响着晶粒生长、半导化及产品的最终性能,本发明中采用草酸氨钛锶作为原料,经分解可获得纯的严格按化学配比SrO∶TiO2mol比为1∶1的SrTiO3,并且细度小,具有较好的反应活性,易于烧结和晶粒生长。
在本发明中,由于添加了Li2CO3或LiNO3作为助烧结剂,在烧成过程中可在晶界处形成具有化学反应活性的低熔液相,因此,可比以往的制造方法降低烧结温度400℃~200℃左右,即可在1000℃~1200℃宽温度范围内进行致密化烧结。在烧结机理上也有区别,以往的高烧工艺中,晶粒长大是气相传质下的蒸发—凝聚过程;而本发明是在具有化学反应活性的液相下的溶解—淀析过程,同时可在晶粒之间形成液相网络层,并且有(Bi2O2)2+(An-1BnO3n+1)2-,例如Bi4Ti3O12的微晶物析出,有利于氧的扩散,从而提高晶界的绝缘特性。
以往采用的施主掺杂剂大多是Nb2O5等高价元素的氧化物,由于Nb2O5的反应活性较低,必须在较高的烧结温度如1400℃左右才能进入SrTiO3晶粒,使晶格半导体化。本发明采用予先合成的 化合物作为掺杂物,该化合物在烧成过程中起着施主掺杂剂和助熔剂的双重作用。因为
Figure C9410445200042
化合物具有与SrTiO3完全相同的钙钛矿型结构,可以在较低的烧成温度下,如1000~1200℃下与SrTiO3形成固溶体,有利于Nb5+进入SrTiO3晶格,加快晶粒半导体化;同时在有锂盐参与的情况下,可形成低熔液相,有利于烧结。
下面介绍实施例:
选草酸氧钛锶[SrTiO(C2O4).nH2O]作为原料,在950℃温度下,保温2小时进行分解,获SrTiO3粉料。
在上述的100mol的SrTiO3中加入1.5mol的Li2CO3添加不同含量的Sr(Li1/4Nb3/4)O3,并添加不同量的SrCO3以调节配方中的Ti/Sr比,详细配方见表1:
               表1:SrTiO3基晶界层电容器材料配方
试样编号   Ti/Sr(mol比)  SrTiO3(mol)     Sr(Li1/4Nb3/4)O3(mol)    Li2CO3(mol)   SrCO3(mol)   Bi2O3(mol)    SiO2(mol)
    S1   0.993   100     0.67     1.5   0.035    1.5     0.1
    S2   0.990   100     0.97     1.5   0.040    1.5     0.1
    S3   0.987   100     1.27     1.5   0.047    1.5     0.1
将配制好的料加入适量无水乙醇经48小时球磨混料,球磨后经烘干、过筛,加入少量粘合剂充分拌匀后陈腐30小时,过筛造粒,干压成型为Φ10mm,厚度1.0mm的园片素坯,经排胶后供烧结用。
排胶后的素坯在N2∶H2为1∶1体积比的流动气体中,在1150℃下烧成4小时,使晶粒长大并半导体化。然后将温度降到800℃,在空气中保温30分钟后自然冷却,获得晶界被绝缘的SrTiO3基晶界层电容器材料。
在烧结后的园片两端面被覆银浆,经700℃烧很银后,进行引线和包封,制成晶界层电容器。其各项介电性能平均值见表2。
表2:SrTiO3基晶界层电容器的介电性能
 试样编号 εapp(×104)  ρ(×1011Ω,cm)  tgδ(%) Δc/C(%)
    S1     2.2      2.5     0.4    <±8
    S2     3.8      4.9     1.9    <±6
    S3     3.0      2.1     0.9    <±5

Claims (1)

1.电容器用SrTiO3基晶界层电容器材料的制造方法,其特征在于该方法包括下列步骤:
①选用草酸氧钛锶[SrTiO(C2O4).nH2O]为原料,在900℃~1000℃温度范围内进行热分解,获得用于制造SrTiO3基晶界层电容器的SrTiO3粉料;
②在上述粉料中加入Li2CO3、LiF或LiNO3三种中的一种作为助烧结剂,并且加入Sr(Li1/4Nb3/4)O3作为施主掺杂剂,加入Bi2O3-SiO2或CuO-SiO2两种复合组份系统中的一种作为晶界绝缘剂,其配方范围为:对100mol的SrTiO3加入0.5~1.30mol的Sr(Li1/4Nb3/4)O3;1.0~3.0mol的Li2CO3或LiF或LiNO3三种中的一种,再加入1.0~0.005mol的TiO2,0.005~1.5mol的SrCO3以调节Ti/Srmol比,Ti/Srmol比为1.003~0.98,加入1.0~1.8mol的Bi2O3或CuO两种中的一种,以及0.05~0.15mol的SiO2作为绝缘剂,然后将配制好的料按常规陶瓷工艺干压成园片素坯;
③烧成:在1000℃~1200℃,N2+H2流动气体中进行半导体化烧结,然后降温到650℃~900℃在空气中进行晶界绝缘化,制成电容器用SrTiO3基晶界层电容器材料。
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