CN109753183A - 一种透明电极图案的修复方法及触控显示面板 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及显示技术领域，公开了一种透明电极图案的修复方法及触控显示面板，该制备方法中，包括检测形成的透明电极图案是否存在缺陷；在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层；对光刻胶层进行图案化处理，形成与理想透明电极图案互补的光刻胶图案，并暴露出存在缺陷的透明电极图案；在光刻胶图案和存在缺陷的透明电极图案上形成修复层；剥离光刻胶图案的同时去除修复层位于光刻胶图案之上的部分，使修复层保留的部分与存在缺陷的透明电极图案构成理想透明电极图案。上述透明电极层的制备方法中，通过在存在图案残缺的透明电极图案上制备修复层以构成理想透明电极图案，实现对残缺的透明电极图案进行修复，提高了终端产品的良率和屏幕的性能。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种透明电极图案的修复方法及触控显示面板。
背景技术
在薄膜场效应晶体管液晶显示器行业中，主要是通过像素电极和公共电极之间产生的电场，来控制液晶分子的转动，达到所要显示画面的效果。像素电极的电位能否达到要求值，与数据信号是否存在延误息息相关。
SLOC产品兼具触控功能越来越受到关注，成为未来发展的趋势。传统SLOC工艺为：玻璃对盒、ITO沉积、曝光、刻蚀、OC层沉积。ITO膜层沉积前存在的颗粒、光刻胶膜层下的颗粒等污渍导致在有污渍的区域的光刻胶容易发生断裂，在ITO湿刻时药液的渗入容易导致额外的ITO断路，从而影响产品的触摸功能和良率。
因此现有技术中制备的ITO结构很容易产生触摸电极断路点，这直接影响了终端产品的良率和触摸性能，并且由于触摸电极基本都是处于面板的透光区即有效显示区，因此无法通过常规的修复工艺进行直接修复，因此造成了良率极大损失。
发明内容
本发明提供了一种透明电极图案的修复方法及触控显示面板，该透明电极图案的修复方法中，通过在存在图案残缺的透明电极图案上制备修复层以构成理想透明电极图案，实现对残缺的透明电极图案进行修复，提高了终端产品的良率和屏幕的性能。
为达到上述目的，本发明提供以下技术方案：
一种透明电极图案的修复方法，包括：
检测形成的透明电极图案是否存在缺陷；
在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层；
对光刻胶层进行图案化处理，形成与理想透明电极图案互补的光刻胶图案，并暴露出存在缺陷的透明电极图案；
在所述光刻胶图案和存在缺陷的透明电极图案上形成修复层；
剥离所述光刻胶图案的同时去除所述修复层位于所述光刻胶图案之上的部分，使所述修复层保留的部分与存在缺陷的透明电极图案构成所述理想透明电极图案。
上述透明电极图案的修复方法中，首先对已形成的透明电极图案进行检测，将存在图案残缺的显示面板筛选出来，然后在存在图案残缺的透明电极图案上涂覆光刻胶，并对光刻胶进行图案化处理，形成与理想透明电极图案互补的光刻胶图案，并暴露出存在透明电极图案，最后在光刻胶图案以及透明电极图案上形成修复层并将光刻胶进行剥离，使得修复层保留的部分与存在缺陷的透明电极图案构成理想透明电极图案，以实现对残缺的透明电极图案进行修复，在制备修复层的时候大大降低了由于污渍、光刻胶受损产生透明电极图案中发生断路的几率，提高了终端产品的良率和屏幕的性能。
并且，当制备修复层时，若透明电极图案中没有残缺的位置处有污渍，并不会影响已形成的透明电极的走线，若修复层的制备导致透明电极图案发生短路，可通过常规的激光切割进行修复；
因此，通过本透明电极图案的修复方法可有效对透明电极图案中缺失的部分进行修复，提高了产品的良率。
优选地，所述对光刻胶层进行图案化处理，具体包括：
采用与形成所述透明电极图案相同的掩模板，对所述光刻胶层进行图案化处理。
优选地，所述在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层，具体包括：
在采用负性光刻胶形成所述透明电极图案时，采用正性光刻胶在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层。
优选地，所述在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层，具体包括：
在采用正性光刻胶形成所述透明电极图案时，采用负性光刻胶在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层。
优选地，所述在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层，具体包括：
在采用正性光刻胶形成所述透明电极图案时，采用正性光刻胶在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层；其中，
所述透明电极图案的具体形成过程包括：在正性光刻胶图案上形成透明电极层，之后剥离所述正性光刻胶图案的同时去除所述透明电极层位于所述正性光刻胶图案之上的部分，得到所述透明电极图案。
优选地，所述透明电极图案的具体形成过程还包括：
在剥离所述正性光刻胶图案之前，对所述透明电极层位于所述正性光刻胶图案之上的部分进行激光打孔处理。
优选地，所述在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层，具体包括：
在采用负性光刻胶形成所述透明电极图案时，采用负性光刻胶在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层；其中，
所述透明电极图案的具体形成过程包括：在负性光刻胶图案上形成透明电极层，之后剥离所述负性光刻胶图案的同时去除所述透明电极层位于所述负性光刻胶图案之上的部分，得到所述透明电极图案。
优选地，所述透明电极图案的具体形成过程还包括：
在剥离所述负性光刻胶图案之前，对所述透明电极层位于所述负性光刻胶图案之上的部分进行激光打孔处理。
优选地，在所述光刻胶图案和存在缺陷的透明电极图案上形成修复层之后，且剥离所述光刻胶图案的同时去除所述修复层位于所述光刻胶图案之上的部分之前，还包括：
对所述修复层位于所述光刻胶图案之上的部分进行激光打孔处理。
本发明还提供一种触控显示面板，包括显示面板，位于所述显示面板显示面的触控电极图案，所述触控电极图案采用上述技术方案中提供的任意一种修复方法形成。
附图说明
图1a-图1g为本发明提供的透明电极图案的修复方法中方式一的制备方法示意图；
图2a-图2g为本发明提供的透明电极图案的修复方法中方式二的制备方法示意图；
图3a-图3h为本发明提供的透明电极图案的修复方法中方式三的制备方法示意图；
图4a-图4h为本发明提供的透明电极图案的修复方法中方式四的制备方法示意图。
图标：1-显示面板；2-透明电极层；3-透明电极图案；4-修复层；5-修复层保留的部分；6-正性光刻胶；7-负性光刻胶；8-理想透明电极图案；9-污渍；10-掩膜板。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供的一种透明电极图案的修复方法，包括：
检测形成的透明电极图案3是否存在缺陷；
在存在缺陷的透明电极图案3上形成光刻胶层；
对光刻胶层进行图案化处理，形成与理想透明电极图案8互补的光刻胶图案，并暴露出存在缺陷的透明电极图案3；
在光刻胶图案和存在缺陷的透明电极图案3上形成修复层4；
剥离光刻胶图案的同时去除修复层4位于光刻胶图案之上的部分，使修复层保留的部分5与存在缺陷的透明电极图案3构成理想透明电极图案8。
上述透明电极图案的修复方法中，首先对已形成的透明电极图案3进行检测，将存在图案残缺的显示面板筛选出来，然后在存在图案残缺的透明电极图案3上涂覆光刻胶，并对光刻胶进行图案化处理，形成与理想透明电极图案8互补的光刻胶图案，并暴露出存在透明电极图案3，最后在光刻胶图案以及透明电极图案3上形成修复层4并将光刻胶进行剥离，使得修复层保留的部分5与存在缺陷的透明电极图案3构成理想透明电极图案8，以实现对残缺的透明电极图案3进行修复，在制备修复层4的时候大大降低了由于污渍9、光刻胶受损产生透明电极图案3中发生断路的几率，提高了终端产品的良率和屏幕的性能。
并且，当制备修复层4时，若透明电极图案3中没有残缺的位置处有污渍，并不会影响已形成的透明电极的走线，若修复层4的制备导致透明电极图案3发生短路，可通过常规的激光切割进行修复；
因此，通过本透明电极图案的修复方法可有效对透明电极图案3中缺失的部分进行修复，提高了产品的良率。
具体地，对光刻胶层进行图案化处理，具体包括：
采用与形成透明电极图案3相同的掩模板，对光刻胶层进行图案化处理。
本发明实施例中，形成透明电极图案3时和制备修复层4对光刻胶进行图案化处理时采用相同的掩膜板10，避免了增加掩膜板的数量，降低了制备修复层4的成本。
根据透明电极图案3和修复层4的制备方法，透明电极图案3和修复层4存在以下实施方式：
方式一：
参照图1a至图1g，制备透明电极层2，并在透明电极层2上涂覆负性光刻胶7，之后对透明电极层2进行刻蚀，并剥离负性光刻胶7，得到透明电极图案3；
在得到的透明电极图案3中存在缺陷的透明电极图案3上涂覆正性光刻胶6，形成光刻胶层。
对光刻胶层进行图案化处理，形成与理想透明电极图案8互补的光刻胶图案，并暴露出存在缺陷的透明电极图案3；
在光刻胶图案和存在缺陷的透明电极图案3上形成修复层4；
剥离光刻胶图案的同时去除修复层4位于光刻胶图案之上的部分，使修复层保留的部分5与存在缺陷的透明电极图案3构成理想透明电极图案8。
方式二：
参照图2a至图2g，制备透明电极层2，并在透明电极层2上涂覆正性光刻胶6，之后对透明电极层2进行刻蚀，并剥离正性光刻胶6，得到透明电极图案3；
在得到的透明电极图案3中存在缺陷的透明电极图案3上涂覆负性光刻胶7，形成光刻胶层。
对光刻胶层进行图案化处理，形成与理想透明电极图案8互补的光刻胶图案，并暴露出存在缺陷的透明电极图案3；
在光刻胶图案和存在缺陷的透明电极图案3上形成修复层4；
剥离光刻胶图案的同时去除修复层4位于光刻胶图案之上的部分，使修复层保留的部分5与存在缺陷的透明电极图案3构成理想透明电极图案8。
方式三：
参照图3a至图3h，涂覆正性光刻胶6，并采用掩膜板10进行图案化处理，得到正性光刻胶图案，在正性光刻胶图案上形成透明电极层2，之后剥离正性光刻胶图案的同时去除透明电极层2位于正性光刻胶图案之上的部分，得到透明电极图案3；
在得到的透明电极图案3中存在缺陷的透明电极图案3上涂覆正性光刻胶6，形成光刻胶层；
对光刻胶层进行图案化处理，形成与理想透明电极图案8互补的光刻胶图案，并暴露出存在缺陷的透明电极图案3；
在光刻胶图案和存在缺陷的透明电极图案3上形成修复层4；
剥离光刻胶图案的同时去除修复层4位于光刻胶图案之上的部分，使修复层保留的部分5与存在缺陷的透明电极图案3构成理想透明电极图案8。
方式三中，在剥离正性光刻胶图案之前，对透明电极层2位于正性光刻胶图案之上的部分进行激光打孔处理。
方式四：
参照图4a至图4h，涂覆负性光刻胶7，并采用掩膜板10进行图案化处理，得到负性光刻胶图案，在负性光刻胶图案上形成透明电极层2，之后剥离负性光刻胶图案的同时去除透明电极层2位于负性光刻胶图案之上的部分，得到透明电极图案3；
在得到的透明电极图案3中存在缺陷的透明电极图案3上涂覆负性光刻胶7，形成光刻胶层。
对光刻胶层进行图案化处理，形成与理想透明电极图案8互补的光刻胶图案，并暴露出存在缺陷的透明电极图案3；
在光刻胶图案和存在缺陷的透明电极图案3上形成修复层4；
剥离光刻胶图案的同时去除修复层4位于光刻胶图案之上的部分，使修复层保留的部分5与存在缺陷的透明电极图案3构成理想透明电极图案8。
方式四中，在剥离负性光刻胶图案之前，对透明电极层2位于负性光刻胶图案之上的部分进行激光打孔处理。
上述四种实施方式中，在光刻胶图案和存在缺陷的透明电极图案3上形成修复层4之后，且剥离光刻胶图案的同时去除修复层4位于光刻胶图案之上的部分之前，还包括：
对修复层4位于光刻胶图案之上的部分进行激光打孔处理。
本发明实施例还提供一种触控显示面板，包括显示面板1，位于显示面板1显示面的触控电极图案，触控电极图案采用上述实施例中提供的任意一种修复方法形成。
显然，本领域的技术人员可以对本发明实施例进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (10)
1.一种透明电极图案的修复方法，其特征在于，包括：
检测形成的透明电极图案是否存在缺陷；
在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层；
对光刻胶层进行图案化处理，形成与理想透明电极图案互补的光刻胶图案，并暴露出存在缺陷的透明电极图案；
在所述光刻胶图案和存在缺陷的透明电极图案上形成修复层；
剥离所述光刻胶图案的同时去除所述修复层位于所述光刻胶图案之上的部分，使所述修复层保留的部分与存在缺陷的透明电极图案构成所述理想透明电极图案。
2.根据权利要求1所述的修复方法，其特征在于，所述对光刻胶层进行图案化处理，具体包括：
采用与形成所述透明电极图案相同的掩模板，对所述光刻胶层进行图案化处理。
3.根据权利要求2所述的修复方法，其特征在于，所述在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层，具体包括：
在采用负性光刻胶形成所述透明电极图案时，采用正性光刻胶在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层。
4.根据权利要求2所述的修复方法，其特征在于，所述在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层，具体包括：
在采用正性光刻胶形成所述透明电极图案时，采用负性光刻胶在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层。
5.根据权利要求2所述的修复方法，其特征在于，所述在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层，具体包括：
在采用正性光刻胶形成所述透明电极图案时，采用正性光刻胶在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层；其中，
所述透明电极图案的具体形成过程包括：在正性光刻胶图案上形成透明电极层，之后剥离所述正性光刻胶图案的同时去除所述透明电极层位于所述正性光刻胶图案之上的部分，得到所述透明电极图案。
6.根据权利要求5所述的修复方法，其特征在于，所述透明电极图案的具体形成过程还包括：
在剥离所述正性光刻胶图案之前，对所述透明电极层位于所述正性光刻胶图案之上的部分进行激光打孔处理。
7.根据权利要求2所述的修复方法，其特征在于，所述在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层，具体包括：
在采用负性光刻胶形成所述透明电极图案时，采用负性光刻胶在存在缺陷的透明电极图案上形成光刻胶层；其中，
所述透明电极图案的具体形成过程包括：在负性光刻胶图案上形成透明电极层，之后剥离所述负性光刻胶图案的同时去除所述透明电极层位于所述负性光刻胶图案之上的部分，得到所述透明电极图案。
8.根据权利要求7所述的修复方法，其特征在于，所述透明电极图案的具体形成过程还包括：
在剥离所述负性光刻胶图案之前，对所述透明电极层位于所述负性光刻胶图案之上的部分进行激光打孔处理。
9.根据权利要求1-8任一项所述的修复方法，其特征在于，在所述光刻胶图案和存在缺陷的透明电极图案上形成修复层之后，且剥离所述光刻胶图案的同时去除所述修复层位于所述光刻胶图案之上的部分之前，还包括：
对所述修复层位于所述光刻胶图案之上的部分进行激光打孔处理。
10.一种触控显示面板，其特征在于，包括显示面板，位于所述显示面板显示面的触控电极图案，所述触控电极图案采用如权利要求1-9任一项所述的修复方法形成。
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