CN109575760A - 透明导电性膜、用于形成透明导电性膜的涂层组合物以及透明导电性膜的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供耐湿热性和耐候性优异的透明导电性膜，以及用于形成透明导电性膜的保存稳定性优异的涂层组合物，以及透明导电性膜的制造方法。本发明的透明导电性膜是在透明基材的一个面所形成的透明导电性膜，其包含：含有聚噻吩系化合物/聚苯乙烯磺酸的导电性高分子、含有硅烷化合物的无机系粘合剂、无机酸以及表面调节剂，以该导电性高分子的含量为基准，以小于30质量％的量包含该无机酸。

Description

透明导电性膜、用于形成透明导电性膜的涂层组合物以及透 明导电性膜的制造方法
技术领域
本发明涉及在透明基材的一个面上所形成的透明导电性膜、用于形成该透明导电性膜的涂层组合物以及该透明导电性膜的制造方法。
背景技术
因为噻吩系、苯胺系的高分子具有优异的稳定性和导电性，所以期待其作为有机导电性材料的应用。作为其应用之一，在液晶显示器、透明触摸面板等各种器件所使用的透明电极和抗静电膜上使用了如下的透明导电性膜，该透明导电性膜由无机系粘合剂将在上述高分子中添加有掺杂物的导电性高分子结合而成。
例如，专利文献1中记载了一种透明导电性片，其在透明基材上具备透明导电性膜，上述透明导电性膜包含导电性高分子、以及含有硅烷化合物的粒子状的无机系粘合剂，上述导电性高分子配置于上述无机系粘合剂的粒子之间。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2016-170914
发明内容
发明所要解决的课题
近年来，对于各种器件所使用的透明电极和抗静电膜的要求性能提高，即使对于由无机系粘合剂将导电性高分子结合而成的透明导电性膜，也要求进一步提高耐湿热性和耐候性。特别是，用于形成该透明导电性膜的涂层组合物在短时间内特性发生变化，因此难以高效地制造膜厚的均匀性优异的透明导电性膜。
本发明解决上述问题，其目的在于提供耐湿热性和耐候性优异的透明导电性膜、以及用于形成该透明导电性膜的保存稳定性优异的涂层组合物。
用于解决课题的方法
本发明提供一种透明导电性膜，其是在透明基材的一个面所形成的透明导电性膜，其包含：含有聚噻吩系化合物/聚苯乙烯磺酸的导电性高分子、含有硅烷化合物的无机系粘合剂、无机酸以及表面调节剂，以该导电性高分子的含量为基准以30质量％以下的量包含该无机酸。
在某一方式中，上述透明导电性膜以上述导电性高分子的含量为基准进一步以10质量％以下的量包含抗氧化剂。
在某一方式中，上述无机酸为选自由磷酸、盐酸和硫酸所组成的组中的至少一种。
在某一方式中，上述抗氧化剂为醌化合物。
在某一方式中，以导电性高分子和无机系粘合剂的合计量为基准以1～75质量％的量包含上述导电性高分子。
此外，本发明提供一种涂层组合物，其包含：含有聚噻吩系化合物/聚苯乙烯磺酸的导电性高分子、硅烷化合物、无机酸、表面调节剂以及水性溶剂，以该导电性高分子的含量为基准以30质量％以下的量包含该无机酸。
在某一方式中，上述涂层组合物以上述导电性高分子的含量为基准进一步以10质量％以下的量包含抗氧化剂。
此外，本发明提供一种透明导电性膜的制造方法，其包括下述工序：通过将上述任一涂层组合物涂布于透明基材的一个面来形成涂膜，通过使该涂膜干燥和固化来成膜。
在某一方式中，上述涂布使用喷涂法来进行。
发明的效果
根据本发明，可提供耐湿热性和耐候性优异的透明导电性膜、以及用于形成该透明导电性膜的保存稳定性优异的涂层组合物。
具体实施方式
＜透明导电性膜＞
所谓导电性高分子是被称为导电聚合物(Conductive Polymers，CPs)的高分子，通过利用掺杂物进行的掺杂，在形成有聚自由基阳离子盐或聚自由基阴离子盐的状态下，其本身可以发挥导电性的高分子。
本发明中，作为导电性高分子，使用包含聚噻吩系化合物和掺杂物的导电性高分子。作为本发明中的导电性高分子，可以使用包含作为聚噻吩系化合物的聚(3,4-亚乙基二氧基噻吩)和作为掺杂物的聚苯乙烯磺酸的混合物(也称为PEDOT/PSS。)。PEDOT/PSS的导电性、耐湿热性和耐候性优异，是有用的。
作为无机系粘合剂，使用透明性高、可以构成粒子状的无机系粘合剂的包含硅烷化合物的粘合剂。通过将无机系粘合剂形成为粒子状，并将导电性高分子配置于无机系粘合剂的粒子之间，从而能够提高本发明的透明导电性片的透明导电性膜的电特性。
此外，无机系粘合剂的粒子的长轴直径优选为10nm以上300nm以下，更优选为20nm以上200nm以下。这是因为如果无机系粘合剂的粒子的长轴直径处于范围内，则能够致密地形成由导电性高分子形成的导电通路。
在本发明中，无机系粘合剂的粒子的长轴直径是利用扫描电子显微镜观察透明导电性膜的截面，求出至少100个粘合剂粒子的长轴直径，作为它们的长轴直径的算术平均值而求出的。
以导电性高分子和无机系粘合剂的合计量为基准，以1～75质量％的量使用导电性高分子。如果以导电性高分子和无机系粘合剂的合计量为基准，导电性高分子的使用量小于1质量％，则透明导电性膜的表面电阻变大，电特性恶化，如果超过75质量％，则涂膜密合性降低。以导电性高分子和无机系粘合剂的合计量为基准，导电性高分子的使用量优选为5～50质量％，更优选为10～25质量％。
作为无机酸，使用例如，磷酸、盐酸、硫酸等。特别优选的无机酸为磷酸。以导电性高分子的含量为基准以30质量％以下的量使用无机酸。如果以导电性高分子的含量为基准，无机酸的使用量超过30质量％，则无机酸与导电性高分子发生反应，因此透明导电性膜的耐候性降低，涂层组合物的保存稳定性降低。以导电性高分子的含量为基准，无机酸的使用量优选小于30质量％，为5重量％以上且小于30质量％，更优选为7～25质量％。
透明导电性膜可以进一步包含抗氧化剂。通过使用抗氧化剂，从而透明导电性膜的耐湿热性和耐候性提高，涂层组合物的保存稳定性进一步提高。作为抗氧化剂，使用醌化合物、亚硝基胺化合物、酚系抗氧化剂等。
作为醌化合物，可举出例如，氢醌、对羟基茴香醚、甲基氢醌、4-叔丁基邻苯二酚叔丁基氢醌、1,4-苯醌、二丁基羟基甲苯、1,1-二苯基-2-苦基偕腙肼自由基、对甲氧酚(Mequinol)、吩噻嗪、4-羟基TEMPO等。
作为亚硝基胺化合物，可举出例如，N-亚硝基-N-苯胲、N-亚硝基-N-苯胲铝盐、N-亚硝基-N-苯胲铈盐等。
作为酚系抗氧化剂，可举出例如，2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚、没食子酸丙酯、2,4,5-三羟基苯丁酮、去甲二氢愈创木酸、丁基羟基茴香醚、没食子酸辛酯、二丁基羟基甲苯、没食子酸十二烷基酯等。
特别优选的抗氧化剂为氢醌。以导电性高分子的含量为基准，以20质量％以下的量使用抗氧化剂。如果以导电性高分子的含量为基准，抗氧化剂的使用量超过20质量％，则无机系粘合剂的比率变少，涂膜硬度降低，因此以导电性高分子的含量为基准，抗氧化剂的使用量优选为1～15质量％，更优选为2～10质量％。
透明导电性膜可以进一步包含有机系粘合剂。通过透明导电性膜包含有机系粘合剂，从而能够提高透明导电性膜与透明基材的密合性。特别是，在使用塑料膜等柔性基材作为透明基材的情况下，从透明导电性膜与透明基材的密合性、追随性的观点出发，优选透明导电性膜包含有机系粘合剂。
作为有机系粘合剂，可举出例如，丙烯酸系树脂、三聚氰胺树脂、聚酯树脂、聚酰胺树脂、聚碳酸酯树脂、聚氨基甲酸酯树脂、聚苯乙烯树脂、聚氯乙烯树脂、聚偏二氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、聚偏二氟乙烯树脂、羟基乙基纤维素、聚乙烯醇、聚乙二醇(PEG)、聚氧化乙烯、聚氧化丙烯、多糖类、其他光聚合性树脂等。此外，作为有机系粘合剂的使用形态，可以使用溶剂溶解型或乳液型。如果有机系粘合剂的含量过多，则无机系粘合剂的效果减少，因此有机系粘合剂的含量限制在不产生这样的问题的范围内。
透明导电性膜的表面电阻值优选为150～3000Ω/□。表面电阻值越小，则越显示良好的电特性。透明导电性膜的表面电阻值更优选为250～2000Ω/□，进一步优选为500～1000Ω/□。
透明导电性膜的膜厚根据用途适当设定，通常为0.01～5μm左右。无论膜厚过薄还是过厚，都难以形成均匀的透明导电性膜。透明导电性膜的膜厚优选为0.05～1μm，更优选为0.1～0.3μm。
透明导电性膜的雾度优选为2％以下。雾度值越低，则表示透明性越高。雾度能够通过雾度计，例如，日本电色工业公司制的“NDH2000”来测定。透明导电性膜的雾度更优选为1％以下，进一步优选为0.5％以下。
透明导电性膜的全光线透过率优选为90％以上。全光线透过率越高，则越显示良好的光学特性。全光线透过率能够通过分光光度计，例如，日本分光公司制的“V-570”来测定。透明导电性膜的全光线透过率更优选为93％以上，进一步优选为95％以上。
透明导电性膜的硬度优选为铅笔硬度2H以上。铅笔硬度基于日本工业标准(JIS)K5400的测定方法来决定。透明导电性膜的硬度更优选为铅笔硬度3H以上。
透明导电性膜的耐湿热性是以在温度85℃、相对湿度85％的环境下保存240小时的湿热试验前后的表面电阻值的变化率为基准，来决定是否良好。湿热试验前后的表面电阻值的变化率优选为100％以下。
透明导电性膜的耐候性是以在放射照度60W/m2(波长300～400nm)的照射下保存120小时的暴露试验前后的表面电阻值的变化率为基准，来决定是否良好。暴露试验前后的表面电阻值的变化率优选为300％以下。
作为透明基材，可以使用例如，包含塑料、橡胶、玻璃、陶瓷等的各种透明材料。
＜透明导电性膜形成用涂层组合物＞
透明导电性膜形成用涂层组合物中的导电性高分子的含量以涂层组合物整体为基准为0.01～10质量％。在使表面电阻值为150～3000Ω/□的方式进行涂布的情况下，如果导电性高分子的含量小于0.01质量％，则湿膜厚成为50μm以上，如果超过10质量％，则膜厚小于1μm，难以分别控制涂布膜厚。以涂层组合物整体为基准，导电性高分子的含量优选为0.05～0.5质量％，更优选为0.08～0.3质量％。
硅烷化合物进行水解和脱水缩合。硅烷化合物优选为烷氧基硅烷。此外，作为烷氧基硅烷，可例示选自由四烷氧基硅烷、三烷氧基硅烷、二烷氧基硅烷和烷氧基硅烷低聚物所组成的组中的至少1种烷氧基硅烷。
作为四烷氧基硅烷的例子，可举出四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、四叔丁氧基硅烷等被碳原子数1～4的烷氧基四取代了的硅烷。作为具体例，可举出信越化学公司制的“KBE-04”(商品名)等。
作为三烷氧基硅烷的例子，可举出三甲氧基硅烷、三乙氧基硅烷、三丙氧基硅烷、三丁氧基硅烷、三异丙氧基硅烷、三L-丁氧基硅烷等被碳原子数1～4的烷氧基三取代了的硅烷。
作为二烷氧基硅烷的例子，可举出二甲基二甲氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、二苯基二乙氧基硅烷等。
烷氧基硅烷低聚物是具有烷氧基甲硅烷基的较低分子的树脂。作为具体例，可举出信越化学公司制的“X-40-2308”、“X-40-9225”、“X-40-9226”、“X-40-9238”、“X-40-9247”、“X-40-9250”、“KC-89S”、“KR-220LP”、“KR-401N”、“KR-500”、“KR-510”、“KR-9218”(商品名)、Colcoat公司制的“硅酸乙酯40”、“硅酸乙酯8”、“硅酸甲酯51”、“硅酸甲酯53A”、“EMS-485”、“SS101”(商品名)等。
此外，作为烷氧基硅烷，还可以使用乙烯基甲氧基硅烷、对苯乙烯基甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷、己基三乙氧基硅烷、癸基三甲氧基硅烷、三氟丙基三甲氧基硅烷等烷氧基硅烷单体。
此外，可以并用四烷氧基硅烷和三烷氧基硅烷。
在并用四烷氧基硅烷和三烷氧基硅烷作为烷氧基硅烷的情况下，四烷氧基硅烷与三烷氧基硅烷的摩尔比优选为9:1～5:5，更优选为8:2～6:4。该摩尔比关系优选的理由是因为，能够在防止透明导电性膜的硬度降低的同时，进一步消除因经时变化而在透明导电性膜产生龟裂的危险性，并且能够进一步提高与透明基材的密合性。可认为四烷氧基硅烷对于高膜硬度的表达起作用，三烷氧基硅烷对于防止透明导电性膜产生龟裂、与透明基材的密合性起作用。
透明导电性膜形成用涂层组合物中的硅烷化合物的含量以涂层组合物整体为基准为0.05～10质量％。如果硅烷化合物的含量小于0.05质量％，则铅笔硬度降低，如果超过10质量％，则油墨保存性恶化。
以涂层组合物整体为基准，硅烷化合物的含量优选为0.1～5质量％，更优选为0.3～3质量％。
透明导电性膜形成用涂层组合物中的无机酸的含量以涂层组合物整体为基准为0.0001～0.1质量％。如果无机酸的含量小于0.0001质量％，则可靠性试验后的表面电阻上升，如果超过0.1质量％，则油墨保存性恶化。以涂层组合物整体为基准，无机酸的含量优选为0.001～0.07质量％，更优选为0.003～0.04质量％。
透明导电性膜形成用涂层组合物中的抗氧化剂的含量以涂层组合物整体为基准为0.1质量％以下。如果抗氧化剂的含量超过0.1质量％，则铅笔硬度降低。以涂层组合物整体为基准，抗氧化剂的含量优选为0.05质量％以下，更优选为0.03质量％以下。透明导电性膜形成用涂层组合物可以不含抗氧化剂。
透明导电性膜形成用涂层组合物中的有机系粘合剂的含量以涂层组合物整体为基准为50质量％以下。如果有机系粘合剂的含量超过50质量％，则可靠性试验后的表面电阻上升。
以涂层组合物整体为基准，有机系粘合剂的含量优选为25质量％以下，更优选为10质量％以下。透明导电性膜形成用涂层组合物可以不含有机系粘合剂。
作为表面调节剂，可以使用硅系表面调节剂，例如，使用硅氧烷系表面调节剂等。以涂层组合物整体为基准，以0.01～10质量％的量使用表面调节剂。通过将表面调节剂的使用量调节至上述范围，从而透明导电性膜，特别是喷射皮膜的厚度能够均匀化。以涂层组合物整体为基准，表面调节剂的使用量优选为0.02～5质量％，更优选为0.05～0.3质量％。
水性溶剂是包含水的溶剂。水性溶剂优选包含质子性极性溶剂和非质子性极性溶剂。通过并用质子性极性溶剂和非质子性极性溶剂，从而能够在较低的干燥温度获得透明性优异的透明导电性膜。
作为质子性极性溶剂，可举出例如，水、乙醇、甲醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、乙二醇、丙二醇、乙酸等，作为非质子性极性溶剂，可举出二甲亚砜、N-甲基吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮、N,N-二甲基甲酰胺、乙腈、丙酮、四氢呋喃等。特别优选的水性溶剂是包含二甲亚砜、水和乙醇的水性溶剂。
非质子性极性溶剂的含量相对于溶剂整体优选为1.0质量％以上50.0质量％以下。如果非质子性极性溶剂的含量相对于溶剂整体低于1.0质量％，则透明导电性膜的光学特性降低，如果超过50.0质量％，则透明导电性膜的耐湿热性降低。
溶剂的含量不受特别限定，相对于涂层组合物整体，只要设为50.0质量％以上99.5质量％以下即可。此外，溶剂可以包含非极性溶剂。
涂层组合物可以通过将导电性高分子、硅烷化合物、无机酸、表面调节剂和水性溶剂等利用公知的方法进行适当混合来制造。例如，可以利用球磨机、砂磨机、皮磨机、调漆器等存在介质的机械处理，或利用超声波分散机、均质器、分散器、喷射式粉碎机等无介质处理，将各成分进行混合、分散。
此外，各成分的添加顺序也不受特别限定，例如，可以在包含导电性高分子和溶剂的溶液中，添加硅烷化合物和无机酸，也可以分别制作包含导电性高分子和溶剂的溶液，以及包含硅烷化合物、无机酸和溶剂的溶液，然后将各溶液进行混合。
以涂层组合物整体为基准，涂层组合物的固体成分浓度优选为3重量％以下。如果以涂层组合物整体为基准，涂层组合物的固体成分浓度超过3重量％，则涂层组合物的粘度变高，难以利用喷涂法进行涂布，结果难以形成膜厚的均匀性优异的透明导电性膜。以涂层组合物整体为基准，涂层组合物的固体成分浓度更优选为2.5重量％以下。所谓涂层组合物的固体成分，是指不挥发性成分。典型地，涂层组合物的固体成分包含导电性高分子、硅烷化合物、酸催化剂、抗氧化剂和表面调节剂。
涂层组合物的粘度优选为20cps以下。如果涂层组合物的粘度超过20cps，则难以利用喷涂法进行涂布，结果难以形成膜厚的均匀性优异的透明导电性膜。涂层组合物的粘度更优选为15cps以下，更优选为10cps以下。
涂层组合物的保存稳定性是否良好是通过制造涂层组合物之后，在室温下进行保存，从而在透明导电性膜的涂膜特性(例如，表面电阻、雾度、透过率或铅笔硬度)发生显著变化的情况下，将该涂层组合物被保存的时间作为指标来决定。涂层组合物的直至透明导电性膜的涂膜特性发生显著变化为止的保存时间优选为8小时以上，更优选为12小时以上。
＜透明导电性膜的形成＞
本发明的导电性膜在将本发明的涂层组合物涂布于透明基材来形成涂膜之后，使上述涂膜干燥和固化来成膜。
作为涂层组合物的涂布方法，可以使用例如，棒涂法、反转法、凹版涂布法、微凹版涂布法、模涂法、浸渍法、旋转涂布法、狭缝涂布法、喷涂法等公知的涂布方法。涂层组合物的涂布方法优选使用喷涂法。其理由是因为，通过使用喷涂法，从而即使在基材厚度存在偏差的情况下，也能够不受其影响而形成膜厚均匀的涂膜，能够控制涂膜的膜厚直至基材端部，对于不同尺寸的基材都能够容易地应对。
本发明的涂层组合物具有适于利用喷涂法进行涂布的粘度。此外，本发明的涂层组合物具有优异的保存稳定性。因此，能够在填充至喷射涂布机后直至涂布结束的时间都维持适于涂布的粘度，能够在基材的表面整体，形成膜厚均匀的涂膜。
将涂层组合物喷涂于基材的主面之后，通过加热来除去溶剂，使硅烷化合物脱水缩合来成膜。根据需要可以对涂膜照射UV光、EB光来使涂膜固化。使用本发明的涂层组合物和喷涂法来形成涂膜，使该涂膜干燥和固化来成膜的皮膜可以称为导电性喷射皮膜。导电性喷射皮膜是即使在基材厚度存在偏差的情况下，也不受其影响而具有均匀的膜厚，直至基材端部膜厚具有均匀的膜厚的皮膜。
涂布后的加热只要是涂层组合物的溶剂成分蒸发的条件即可，优选在100～150℃进行5～60分钟。通过加热，硅烷化合物利用水解和脱水缩合反应而成为包含聚硅氧烷的粒子状的无机系粘合剂，在无机系粘合剂的粒子之间配置导电性高分子，在透明导电性膜中形成三维的导电通路。作为加热方法，例如，可以通过热风干燥法、加热干燥法、真空干燥法、自然干燥等来进行。此外，可以根据需要对涂膜照射UV光、EB光来使涂膜固化，形成透明导电性膜。
以下，使用实施例来详细地描述本发明。然而，本发明不限定于以下的实施例。在没有特别指出的情况下，下述中，“份”和“％”为质量基准。
实施例
＜透明导电性膜形成用涂层组合物的制造＞
准备以下成分，以成为表1所示的组成的量进行混合，制造透明导电性膜形成用涂层组合物。
(1)导电性高分子分散液(Heraeus公司制，商品名“Clevios PH1000”，导电性高分子：PEDOT/PSS，固体成分浓度：1.12质量％，溶剂：水)
(2)硅烷化合物：烷氧基硅烷(信越化学工业公司制，商品名“X-40-2308”，“KR-220LP”，“KR-500”)
(3)非质子性极性溶剂(二甲亚砜)
(4)酸催化剂(磷酸)
(5)抗氧化剂(氢醌)
(6)表面调节剂(聚硅氧烷系)
(7)水
(8)质子性极性溶剂(乙醇)
＜保存稳定性＞
将制造的涂层组合物在室温下保存预定时间。将保存后的涂层组合物涂布于无碱玻璃基板的表面，在120℃的大气气氛下使其干燥来成膜，测定涂膜特性(表面电阻、雾度、透过率和铅笔硬度)。对于各涂层组合物，确定任一涂膜特性发生了显著变化的保存时间。如下评价保存稳定性：该保存时间为8小时以内的涂层组合物为×，8～12小时的涂层组合物为○，12小时以上的涂层组合物为◎。将结果示于表1中。
[表1]
＜透明导电性膜的制造＞
使用厚度0.7mm的10cm见方的无碱玻璃(全光线透过率：91.2％)作为基板，在基板的一个面的整面通过喷涂法来涂布上述透明导电性膜形成用涂布液，形成涂膜。喷射涂布机使用Nordson公司制的喷枪(旋流喷嘴，口径：1.0mm)。涂布条件如下。即，喷枪速度10～1500mm/秒，涂布间距2～30mm，喷枪高度1～20cm，雾化压0.01～0.5MPa。然后在120℃加热1小时。由此，制作出在一个面形成有透明导电膜性膜的透明导电性片。
接下来，对于上述透明导电性膜，进行以下所示的各评价。将透明导电性膜的组成和评价结果示于表2中。
＜表面电阻＞
透明导电性膜的表面电阻值(Ω/□)是使用三菱化学Analytech公司制的电阻率测定装置“Loresta-GP”(MCP-T610型)和LSP探针来进行测定。
＜膜厚＞
透明导电性膜的膜厚(μm)是将导电性膜与玻璃基板一起切断，利用扫描型电子显微镜(SEM，日立制作所公司制“S-4500”)进行截面观察，测定膜厚。
＜雾度＞
透明导电性膜的雾度(％)是使用日本电色工业公司制的雾度计"NDH2000"来进行测定。
＜全光透过率＞
透明导电性膜的全光线透过率(％)是使用日本分光公司制的分光光度计“V-570”来进行测定。
＜铅笔硬度＞
透明导电性膜的铅笔硬度是基于日本工业标准(JIS)K5400所规定的铅笔硬度的测定方法，使用新东科学公司制的表面性试验机“HEIDON-14DR”来进行测定。
＜耐湿热性＞
首先，与上述电特性的评价同样地操作，测定透明导电性膜的初始的表面电阻值。接下来，将透明导电性片放入至恒温恒湿槽，在温度85℃、相对湿度85％保存240小时。接着，与上述同样地操作，测定保存后的透明导电性片的透明导电性膜的表面电阻值。最后，通过下述式(1)算出表面电阻值的变化率。
表面电阻值变化率(％)＝(保存后的表面电阻值-初始的表面电阻值)/初始的表面电阻值(1)
＜耐候性＞
首先，与上述电特性的评价同样地操作，测定透明导电性膜的初始的表面电阻值。接下来，将透明导电性片放入耐候试验机，以放射照度60W/m2(波长300～400nm)保存120小时。接着，与上述同样地操作，测定保存后的透明导电性片的透明导电性膜的表面电阻值。最后，通过上述式(1)算出表面电阻值的变化率。
[表2]

Claims (9)

1.一种透明导电性膜，其是在透明基材的一个面所形成的透明导电性膜，其包含：含有聚噻吩系化合物/聚苯乙烯磺酸的导电性高分子、含有硅烷化合物的无机系粘合剂、无机酸以及表面调节剂，
以该导电性高分子的含量为基准，以30质量％以下的量包含该无机酸。
2.根据权利要求1所述的透明导电性膜，以所述导电性高分子的含量为基准，进一步以10质量％以下的量包含抗氧化剂。
3.根据权利要求1或2所述的透明导电性膜，所述无机酸为选自由磷酸、盐酸和硫酸所组成的组中的至少一种。
4.根据权利要求2或3所述的透明导电性膜，所述抗氧化剂为醌化合物。
5.根据权利要求1～4中任一项所述的透明导电性膜，以导电性高分子和无机系粘合剂的合计量为基准，以1～75质量％的量包含所述导电性高分子。
6.一种涂层组合物，其包含：含有聚噻吩系化合物/聚苯乙烯磺酸的导电性高分子、硅烷化合物、无机酸、表面调节剂以及水性溶剂，
以该导电性高分子的含量为基准，以30质量％以下的量包含该无机酸。
7.根据权利要求6所述的涂层组合物，以所述导电性高分子的含量为基准，进一步以10质量％以下的量包含抗氧化剂。
8.一种透明导电性膜的制造方法，其包括下述工序：通过将权利要求6或7所述的涂层组合物涂布于透明基材的一个面来形成涂膜，通过使该涂膜干燥和固化来成膜。
9.根据权利要求8所述的透明导电性膜的制造方法，所述涂布使用喷涂法来进行。
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