KR101464933B1 - 침투형 석면 안정화제 조성물 및 이를 이용한 석면 안정화 처리 방법 - Google Patents

침투형 석면 안정화제 조성물 및 이를 이용한 석면 안정화 처리 방법 Download PDF

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최용선
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Abstract

본 발명은, 실리카 입자가 소수화 처리된 수성 실리카 졸 10∼80중량%과, 알칼리 실리케이트 0.1∼65중량%과, 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al) 및 철(Fe) 중에서 선택된 1종 이상의 금속 성분을 포함하는 질산염, 염산염 및 황산염 중에서 선택된 1종 이상의 수용성 염 0.01∼30중량%를 포함하는 석면 안정화제 조성물 이를 이용한 석면 안정화 처리 방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 석면 함유 자재 내부에 침투하여 석면을 고형화 또는 고화시킴으로써 석면 함유 자재를 해체하거나 철거시키지 않고도 석면의 비산을 방지할 수 있고 석면 함유 자재의 내구성 향상에도 기여할 수 있으며, 석면의 비산 발생이 많은 건축물 철거 현장에서 분사되거나 살수되어 석면 입자 표면에 점착 코팅됨으로써 석면 입자가 비산되는 것을 방지하여 쾌적한 작업환경을 조성할 수 있으며, 스프레이 형태로 분사할 수 있는 분사용기에 담겨져서 간편하게 사용할 수도 있다.

Description

침투형 석면 안정화제 조성물 및 이를 이용한 석면 안정화 처리 방법{Composition for stabilizing asbestos and treatment method for suppressing asbestos scattering}
본 발명은 석면 함유 자재의 석면 비산을 방지하기 위한 석면 안정화제 조성물 및 이를 이용한 석면 안정화 처리 공법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 석면 함유 자재 내부에 침투하여 석면을 고형화 또는 고화시킴으로써 석면 함유 자재를 해체하거나 철거시키지 않고도 석면의 비산을 방지할 수 있고 석면 함유 자재의 내구성 향상에도 기여할 수 있으며, 석면의 비산 발생이 많은 건축물 철거 현장에서 분사되거나 살수되어 석면 입자 표면에 점착 코팅됨으로써 석면 입자가 비산되는 것을 방지하여 쾌적한 작업환경을 조성할 수 있으며, 스프레이 형태로 분사할 수 있는 분사용기에 담겨져서 간편하게 사용할 수 있는 석면 안정화제 조성물 및 이를 이용한 석면 안정화 처리 방법에 관한 것이다.
일반적으로, 석면은 가격이 저렴하고, 다른 물질과 결합력이 뛰어나며, 기계적인 강도가 우수하고, 또한 불연성, 단열성, 내구성, 절연성, 보온성이 좋다. 이러한 이유로 석면이 함유된 물질을 이용한 각종 내·외장재가 건축 자재로서 오랫동안 사용되어 왔다. 건축 자재, 예컨데 석면 슬레이트 등의 건축용 자재, 방화재, 내화재, 보온재, 단열재, 전기 절연재, 전해막 용재, 브레이크 라이닝 용재 등의 다양한 용도에 석면이 광범위하게 사용되어 왔다.
그러나, 석면은 아무리 작은 양에 노출되더라도 건강에 악영향을 끼치는 유해물질이다. 석면은 석면폐증, 폐암, 흉막이나 복막에 생기는 암인 악성중피종 등을 일으키는 원인이 된다. 석면은 섬유 형태가 가늘고, 날카로우며, 매우 뻣뻣하고, 특히, 체내 보존성이 높아 인체에 미치는 유해성이 매우 크다. 석면에 대한 최근의 연구결과를 살펴보면, 석면 분진을 장기간 호흡기를 통해 흡수하게 되면 석면폐(폐선유증), 폐암 악성 중피종 등을 유발하는 것으로 밝혀졌다.
석면이 함유된 건축 자재와 같은 석면 함유 자재는 우리의 생활 환경에서 많이 사용되어 왔는데, 건강에 위험을 끼치지 않는 안전 노출량이란 없기 때문에 국민의 건강에 중대한 위협이 되고 있다. 석면의 유해성은 일찌기 알려져 있었지만, 석면 중 그나마 유해성이 덜한 백석면의 경우는 지금까지도 널리 쓰여 왔다.
하지만, 현재 국내는 물론 국외에서도 석면 사용을 법적으로 규제하고 있으며, 석면이 함유된 건축 자재의 사용 또한 규제하고 있는 상황이다. 그러나 규제 이전에 석면을 사용한 건축 자재가 많이 제조되었고, 많은 건물의 건축에 사용되었으며, 그 결과 석면 함유 자재가 시공된 건축물이 현재에도 별도의 조치 없이 존재하고 있는 실정이다. 특히 유동인구가 많은 공공시설물이나 교육시설물은 석면 함유 자재 사용 규제 이전에 건축된 시설물이 많고, 현재까지도 계속 사용되어 오고 있기 때문에 이러한 시설물에 대한 석면의 비산 방지 처리가 시급한 상황이다.
석면의 비산 방지 처리 방법에는 석면 비산 방지제를 도포하여 처리하는 방법이 있는데, 종래의 석면 비산 방지제는 유기용제를 사용하거나 유기계 수지를 주원료로 한 제품이 대다수이다. 유기용제를 주원료로 하는 경우에 취급 과정에서 휘발성유기화합물(Volatile Organic Compounds; VOC) 발생으로 2차 오염 문제를 유발하기 쉬운 단점이 있으며, 유기계 수지를 주원료로 하는 제품은 도포면 표면만을 코팅 처리하는 정도에 불과하여 건축물 해체에 사용하거나 장시간 경과할 경우 석면 함유 자재의 진동이나 파손으로 인해 석면 함유 자재 내부의 석면이 비산하는 것까지 방지하기에는 부족하다는 단점이 있다.
대한민국 공개번호 10-2011-0075101
본 발명이 해결하고자 하는 과제는 석면 함유 자재 내부에 침투하여 석면을 고형화 또는 고화시킴으로써 석면 함유 자재를 해체하거나 철거시키지 않고도 석면의 비산을 방지할 수 있고 석면 함유 자재의 내구성 향상에도 기여할 수 있으며, 석면의 비산 발생이 많은 건축물 철거 현장에서 분사되거나 살수되어 석면 입자 표면에 점착 코팅됨으로써 석면 입자가 비산되는 것을 방지하여 쾌적한 작업환경을 조성할 수 있으며, 스프레이 형태로 분사할 수 있는 분사용기에 담겨져서 간편하게 사용할 수 있는 석면 안정화제 조성물 및 이를 이용한 석면 안정화 처리 방법을 제공함에 있다.
본 발명은, 실리카 입자가 소수화 처리된 수성 실리카 졸 10∼80중량%과, 알칼리 실리케이트 0.1∼65중량%과, 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al) 및 철(Fe) 중에서 선택된 1종 이상의 금속 성분을 포함하는 질산염, 염산염 및 황산염 중에서 선택된 1종 이상의 수용성 염 0.01∼30중량%를 포함하는 석면 안정화제 조성물을 제공한다.
상기 석면 안정화제 조성물은 폴리메타크릴산, 폴리인산, 폴리스티렌술폰산, 폴리아크릴산 및 폴리비닐아민 중에서 선택된 1종 이상의 수용성 고분자 0.001∼10중량%를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 석면 안정화제 조성물은 폴리테트라메틸렌에테르글리콜, 에틸렌아크릴산, 스티렌아크릴산 및 스티렌말레익산 중에서 선택된 1종 이상의 수용성 고분자 0.001∼10중량%를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 석면 안정화제 조성물은 산화아연 0.001∼3중량%를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 석면 안정화제 조성물은 벤토나이트 0.001∼5중량%를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 석면 안정화제 조성물은 붕산(B2O3) 0.01∼5중량%를 더 포함할 수 있다.
또한, 상기 석면 안정화제 조성물은 계면활성제 0.01∼5중량%를 더 포함할 수 있다.
상기 소수화 처리된 수성 실리카 졸은, 10∼100㎚ 크기의 단분산 형태의 미립자 형상을 갖고, 수성 실리카 졸과 다음의 분자식을 갖는 알콕시 실란이 가수분해 반응하여 가수분해물이 단분산 실리카 졸의 입자 표면에 덮여 있는 구조를 갖는다.
[화학식]
R1 nSi(OR2)4-n (여기서, R1은 선형 또는 분지형의 C1 ∼ C20 알킬기이고, R2은 지환식 에폭시기를 포함하는 선형의 또는 분지형의 C1 ~ C20 알킬기, C3 ∼ C8 사이클로알킬기, C2 ∼ C20 알케닐기, C2 ∼ C20 알키닐기, C6 ∼ C20 아릴기, 아크릴기, 메타크릴기, 할로겐기, 아미노기, 머캅토기, 에테르기, 에스테르기, 카르보닐기, 카르복실기, 비닐기, 나이트로기, 술폰기 및 알키드기 중에서 선택된 1종 이상의 작용기이며, n은 1 내지 3의 정수임)
상기 수성 실리카 졸은 알콕시 실란으로 소수화 처리된 것이고, 상기 알콕시 실란은, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 메틸트리프로폭시실란, 다이메틸다이메톡시실란, 다이메틸다이에톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 다이페닐다이메톡시실란, 다이페닐다이에톡시실란, 트리페닐메톡시실란, 트리페닐에톡시실란, 에틸트리에톡시실란, 프로필에틸트리메톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리프로폭시실란, N-(3-아크릴옥시-2-하이드록시프로필)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(3-아크릴옥시-2-하이드록시프로필)-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-(3-아크릴옥시-2-하이드록시프로필)-3-아미노프로필트리프로폭시실란, 3-아크릴옥시프로필메틸비스(트리메톡시)실란, 3-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리프로폭시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리프톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리프로폭시실란, N-(아미놀에틸-3-아미노프로필)트리메톡시실란, N-(아미놀에틸-3-아미노프로필)트리에톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 클로로프로필트리메톡시실란, 크롤로프로필트리에톡시실란 및 헵타데카플루오르데실트리메톡시실란 중에서 선택된 1종 이상의 물질을 포함할 수 있다.
상기 알칼리 실리케이트는, 규산 칼륨 및 규산 리튬 중에서 선택된 1종 이상의 물질일 수 있다.
또한, 본 발명은, 하지면의 이물질과 먼지를 제거하는 단계와, 도장에 의한 오염을 방지하기 위하여 도장하려는 영역 이외의 부분에 대하여 보양하는 단계와, 상기 석면 안정화제 조성물을 스프레이, 붓 또는 로울러로 1차 도장하는 단계와, 상기 1차 도장 후 건조한 후 2차 도장하는 단계 및 2차 도장 후 건조시킨 다음에 보양 제거를 실시하는 단계를 포함하는 석면 안정화 처리 방법을 제공한다.
본 발명의 석면 안정화제 조성물에 의하면, 석면 함유 자재 내부에 침투하여 석면을 고형화 또는 고화시킴으로써 석면 함유 자재를 해체하거나 철거시키지 않고도, 즉 현장상태 그대로인 실온 및 실압 하에서도, 석면의 비산을 방지하는 효과가 있다.
본 발명에 따른 석면 안정화제 조성물은 석면 함유 자재 내부로의 높은 침투성을 나타내고, 석면 함유 자재에 도포하면 자재 내부에 효과적으로 침투하여 고화 안정화시키면서 석면 함유 자재의 휨강도도 증대시키기 때문에 석면 함유 자재의 내구성 향상에도 기여한다. 필요시에 석면 함유 자재를 해체하거나 철거하는 경우에도 석면이 안정화되어 비산이 방지되는 효과가 있다.
석면의 비산 발생이 많은 건축물 철거 현장에서 본 발명의 석면 안정화제 조성물이 분사되거나 살수되어 석면 입자 표면에 점착 코팅됨으로써 석면 입자가 비산되는 것을 방지하여 쾌적한 작업환경을 조성할 수 있다. 석면 안정화제 조성물은 석면 표면에 부착되어 석면의 미세 침상결정을 비대화 시킬 뿐만 아니라 시멘트나 석고 등의 결합력을 증가시키면서 고화되게 함으로써 석면의 비산을 방지할 수 있다.
본 발명에 따른 석면 안정화제 조성물은 중금속 및 휘발성유기화합물이 함유되어 있지 않아 인체 및 환경에 유해성이 낮다는 장점이 있다.
또한, 본 발명에 따른 석면 안정화제 조성물은 스프레이 형태로 분사할 수 있는 분사용기에 담겨져서 간편하게 사용할 수는 장점이 있다.
이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 상세하게 설명한다. 그러나, 이하의 실시예는 이 기술분야에서 통상적인 지식을 가진 자에게 본 발명이 충분히 이해되도록 제공되는 것으로서 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 다음에 기술되는 실시예에 한정되는 것은 아니다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 석면 안정화제 조성물은 실리카 입자가 소수화 처리된 수성 실리카 졸과, 알칼리 실리케이트과, 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al) 및 철(Fe) 중에서 선택된 1종 이상의 금속 성분을 포함하는 질산염, 염산염 및 황산염 중에서 선택된 1종 이상의 수용성 염을 포함한다.
상기 석면 안정화제 조성물은 실리카 입자가 소수화 처리된 수성 실리카 졸 10∼80중량%와, 알칼리 실리케이트 0.1∼65중량% 및 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al) 및 철(Fe) 중에서 선택된 1종 이상의 금속 성분을 포함하는 질산염, 염산염 및 황산염 중에서 선택된 1종 이상의 수용성 염 0.01∼30중량%를 포함하는 것이 바람직하다.
상기 석면 안정화제 조성물은 스프레이 형태로 분사할 수 있는 분사용기에 담겨져서 간편하게 사용할 수 있는 장점이 있다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 석면 안정화 처리 방법은, 하지면의 이물질과 먼지를 제거하는 단계와, 도장에 의한 오염을 방지하기 위하여 도장하려는 영역 이외의 부분에 대하여 보양하는 단계와, 상기 석면 안정화제 조성물을 스프레이, 붓 또는 로울러로 1차 도장하는 단계와, 상기 1차 도장 후 건조한 후 2차 도장하는 단계 및 2차 도장 후 건조시킨 다음에 보양 제거를 실시하는 단계를 포함할 수 있다.
이하에서, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 석면 안정화제 조성물 및 이용한 석면 안정화 처리 방법을 더욱 구체적으로 설명한다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 석면 안정화제 조성물은 실리카 입자가 소수화 처리된 수성 실리카 졸을 포함한다.
수성 실리카 졸을 제조하는 방법을 설명한다.
수성 실리카 졸은 물유리를 이온교환법으로 제조하거나 알콕시 실란(Alkoxy silane)을 가수분해하여 제조할 수 있다.
수성 실리카 졸은 물유리를 사용하여 일반적으로 잘 알려진 이온교환법으로 얻을 수 있다. 물유리는 이산화규소와 알칼리를 융해해서 얻은 규산알칼리염 수용액을 말한다.
일 예로서, 물유리(규산소다)를 활성화된 양이온 교환수지를 통과시켜 규산(silicic acid) 용액을 제조하고, pH를 약 알카리로 보정하여 소정 온도(예컨대, 60℃)에서 소정 시간(예컨대, 24시간) 동안 숙성시켜 수성 실리카 졸(예컨대, 고형분: 30중량%, 입자크기: 10∼20nm, 졸의 pH: 9.4)을 얻을 수 있다.
다른 예로서, 물유리(규산소다)를 활성화된 양이온 교환수지를 통과시켜 규산(silicic acid) 용액을 제조하고, pH를 약 알카리로 보정하여 소정 온도(예컨대, 80℃)에서 소정 시간(예컨대, 12시간) 동안 숙성시켜 알카리 수성 실리카 졸을 제조한 후에, 다시 양이온 교환 수지를 통과시켜 수성 실리카 졸(예컨대, 고형분: 30중량%, 입자크기: 10∼20nm, 졸의 pH: 3.5)을 얻을 수 있다.
또한, 테트라 에톡시 실란(tetra ethoxy silane, Si(OC2H5)4) 또는 테트라 메톡시 실란(tetra methoxy silane, Si(OCH3)4) 등과 같은 알콕시 실란(Alkoxy silane)을 가수분해하여 수성 실리카 졸을 얻을 수도 있다. 상기 가수분해는 용매와 촉매를 사용하는데, 상기 용매로는 에탄올과 같은 알콜류 또는 물 등을 사용할 수 있고, 상기 촉매로는 산계 촉매 또는 알칼리계 촉매를 사용할 수 있다. 상기 산계 촉매로는 염산(HCl), 황산(H2SO4), 질산(HNO3), 초산(CH3COOH) 등을 사용할 수 있고, 상기 알칼리계 촉매로는 수산화암모늄(NH4OH), 수산화나트륨(NaOH), 수산화칼륨(KOH), 유기 아민 등을 사용할 수 있다. 이때, 상기 알콕시 실란은 5∼70 중량% 정도 함유되게 첨가하는 것이 바람직하다. 상기 용매는 30∼40 중량% 정도 함유되게 첨가하며, 상기 촉매는 0.1∼10 중량% 정도 함유되게 첨가하는 것이 바람직하다. 상기 가수분해 반응은 상온(예컨대, 15∼25℃ 정도의 온도)에서 실시할 수 있다.
예컨대, 용매인 에탄올 35중량%와, 촉매인 가성소다(NaOH) 5중량%와, 테트라 에톡시 실란 60중량%를 혼합하고, 상온에서 테트라 에톡시 실란을 가수분해하여 수성 실리카 졸(예컨대, 고형분: 20중량%, 입자크기: 10∼20nm, 졸의 pH: 10.5)을 얻을 수 있다.
이렇게 제조된 수성 실리카 졸은 단분산 형태를 갖는 미립자로서 입자크기가 약 10∼100㎚를 가진다.
소수화 처리된 수성 실리카 졸을 제조하는 방법을 설명한다.
상기 수성 실리카 졸에 알콕시 실란을 투입하여 가수분해 반응을 시킨다. 상기 가수분해 반응은 용매와 촉매를 사용할 수 있는데, 상기 용매로는 에탄올과 같은 알콜류 또는 물 등을 사용할 수 있고, 상기 촉매로는 산계 촉매 또는 알칼리계 촉매를 사용할 수 있다. 상기 산계 촉매로는 염산(HCl), 황산(H2SO4), 질산(HNO3), 초산(CH3COOH) 등을 사용할 수 있고, 상기 알칼리계 촉매로는 수산화암모늄(NH4OH), 수산화나트륨(NaOH), 수산화칼륨(KOH), 유기 아민 등을 사용할 수 있다. 이때, 수성 실리카 졸은 5∼60중량% 정도 함유되게 첨가하며, 바람직하게는 20∼40중량% 정도 첨가한다. 상기 알콕시 실란은 1∼50중량% 정도 함유되게 첨가하며, 바람직하게는 5∼20중량% 정도 첨가한다. 상기 용매는 30∼40 중량% 정도 함유되게 첨가하며, 상기 촉매는 0.1∼10 중량% 정도 함유되게 첨가하는 것이 바람직하다. 상기 가수분해 반응은 20∼90℃ 정도의 온도에서 실시할 수 있다.
상기 가수분해에 의해 가수분해물이 단분산 실리카 졸의 입자 표면에 생성됨과 함께 축합 반응을 일으켜 소수화된 수성 실리카 졸을 얻을 수 있다. 수성 실리카 졸에 알콕시 실란을 처리하는 것에 의해 실리카 입자가 소수화되어 소수성의 특성을 발현하게 된다.
알콕시 실란으로 소수화 처리된 수성 실리카 졸은 수성 실리카 졸과 다음의 분자식을 갖는 알콕시 실란이 가수분해 반응하여 가수분해물이 단분산 실리카 졸의 입자 표면에 덮여 있는 구조를 갖는다.
하기 반응식 1 내기 반응식 2는 물과 촉매의 존재 하에 알콕시 실란의 가수분해와 축합 반응을 개략적으로 나타낸 것이다.
[반응식 1]
Figure 112014079099878-pat00001
[반응식 2]
Figure 112014079099878-pat00002
상기 반응식 1 및 반응식 2에서, R은 선형 또는 분지형의 C1 ∼ C20 알킬기이고, R'은 지환식 에폭시기를 포함하는 선형의 또는 분지형의 C1 ~ C20 알킬기, C3 ∼ C8 사이클로알킬기, C2 ∼ C20 알케닐기, C2 ∼ C20 알키닐기, C6 ∼ C20 아릴기, 아크릴기, 메타크릴기, 할로겐기, 아미노기, 머캅토기, 에테르기, 에스테르기, 카르보닐기, 카르복실기, 비닐기, 나이트로기, 술폰기 및 알키드기 중에서 선택된 1종 이상의 작용기를 포함할 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 반응식 1은 출발 물질인 알콕시 실란의 알콕시기가 물에 의해 가수분해되어 수산화기를 형성하는 것을 나타낸 것이다. 이를 통해 형성된 수산화기는 반응식 2에서 볼 수 있듯이 다른 실란의 수산화기 또는 알콕시 간의 축합반응을 통해서 실록산 결합을 형성한다.
상기 반응식 1 및 반응식 2를 이용하여 실록산 화합물을 제조할 때, 반응속도를 조절하기 위해 촉매를 사용하게 되는데, 사용 가능한 촉매로는, 예를 들어, 염산, 아세트산, 질산, 황산, 클로로술폰산, 요오드산, 필로인산 등의 산계 촉매나, 암모니아, 수산화칼륨, 수산화바륨, 이미다졸 등의 염기계 촉매가 있으며, 또한 이들을 혼합하여 사용할 수도 있다. 촉매의 양은 특별히 제한되지 않으나, 산계 촉매나 염기계 촉매의 경우 알콕시 실란 100중량부에 대하여 0.01∼3중량부를 첨가하는 것이 바람직하며, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 가수분해 및 상기 축합반응은 상온에서 약 2∼24시간 정도 교반에 의해 진행될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
상기 알콕시 실란은 하기 화학식으로부터 1종 이상 선택하여 사용할 수 있다.
[화학식]
R1 nSi(OR2)4-n
상기 화학식에서, R1은 선형 또는 분지형의 C1 ∼ C20 알킬기이고, R2은 지환식 에폭시기를 포함하는 선형의 또는 분지형의 C1 ~ C20 알킬기, C3 ∼ C8 사이클로알킬기, C2 ∼ C20 알케닐기, C2 ∼ C20 알키닐기, C6 ∼ C20 아릴기, 아크릴기, 메타크릴기, 할로겐기, 아미노기, 머캅토기, 에테르기, 에스테르기, 카르보닐기, 카르복실기, 비닐기, 나이트로기, 술폰기 및 알키드기 중에서 선택된 1종 이상의 작용기를 포함할 수 있으며, n은 1 내지 3의 정수일 수 있다.
예컨대, 상기 알콕시 실란은, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 메틸트리프로폭시실란, 다이메틸다이메톡시실란, 다이메틸다이에톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 다이페닐다이메톡시실란, 다이페닐다이에톡시실란, 트리페닐메톡시실란, 트리페닐에톡시실란, 에틸트리에톡시실란, 프로필에틸트리메톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리프로폭시실란, N-(3-아크릴옥시-2-하이드록시프로필)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(3-아크릴옥시-2-하이드록시프로필)-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-(3-아크릴옥시-2-하이드록시프로필)-3-아미노프로필트리프로폭시실란, 3-아크릴옥시프로필메틸비스(트리메톡시)실란, 3-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리프로폭시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리프톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리프로폭시실란, N-(아미놀에틸-3-아미노프로필)트리메톡시실란, N-(아미놀에틸-3-아미노프로필)트리에톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 클로로프로필트리메톡시실란, 크롤로프로필트리에톡시실란, 헵타데카플루오르데실트리메톡시실란 또는 이들의 혼합물 등일 수 있다.
소수화 처리된 수성 실리카 졸은, 10∼100㎚ 크기의 단분산 형태의 미립자 형태를 갖는다. 상기 소수화 처리된 수성 실리카 졸은 석면 안정화제 조성물에 10∼80중량% 함유되는 것이 바람직하다. 상기 소수화 처리된 수성 실리카 졸은 고형분이 1∼60중량%가 함유된 졸인 것이 바람직하다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 석면 안정화제 조성물은 알칼리 실리케이트(alkali silicate, R2O·SiO2)를 포함한다.
상기 알칼리 실리케이트(alkali silicate, R2O·SiO2)는 규산 칼륨(potassium silicate) 및 규산 리튬 (lithium silicate) 중에서 선택된 1종 이상의 물질을 사용하는 것이 바람직하다.
알칼리 실리케이트 중 규산 나트륨(sodium silicate)은 콘크리트의 보수재로 사용할 때 칼륨 이온과의 치환반응에 의해 불용성의 규산 칼슘(Calcium silicate)을 형성하나, 본 발명에서는 우수한 내수성을 구현하기 위하여 규산 나트륨보다 내수성이 우수한 규산 칼륨 및 규산 리튬 중에서 선택된 1종 이상의 물질을 사용한다.
상기 알칼리 실리케이트는 석면 안정화제 조성물에 0.1∼65중량% 함유되는 것이 바람직하며, 더욱 바람직한 알칼리 실리케이트의 함량은 20∼50중량% 정도이다.
상기 석면 안정화제 조성물은 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al) 및 철(Fe) 중에서 선택된 1종 이상의 금속 성분을 포함하는 질산염, 염산염 및 황산염 중에서 선택된 1종 이상의 수용성 염을 포함할 수 있다. 석면은 Mg, Al, Fe 등의 금속 성분을 포함하고 있다. 석면의 구성 원소와 유사한 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al) 및 철(Fe) 중에서 선택된 1종 이상의 금속 성분을 포함하는 질산염, 염산염, 황산염 또는 이들의 혼합 염은 석면과의 친화도가 우수한 수용성 염으로서 결합증진제의 역할을 하며, 석면 구조물에 주입 시 석면 구조물의 구성원소와 화학 반응을 통해 화학적으로 일체화되어 석면 고화 특성을 향상시킨다. 결합증진제의 역할을 하는 수용성 염의 예로서, 마그네슘 질산염(magnesium nitrate), 알루미늄 질산염(aluminium nitrate), 철 질산염(iron nitrate), 마그네슘 염산염(magnesium hydrochloride), 알루미늄 염산염(aluminium hydrochloride), 철 염산염(iron hydrochloride), 마그네슘 황산염(magnesium sulfate), 알루미늄 황산염(aluminium sulfate), 철 황산염(iron sulfate) 등을 들 수 있다. 상기 마그네슘(Mg), 알루미늄(Al) 및 철(Fe) 중에서 선택된 1종 이상의 금속 성분을 포함하는 질산염, 염산염 및 황산염 중에서 선택된 1종 이상의 수용성 염은 상기 석면 안정화제 조성물에 0.01∼30중량% 함유되는 것이 바람직하다. 상기 수용성 염은 고형분이 1∼80중량%가 함유된 염인 것이 바람직하다.
또한, 상기 석면 안정화제 조성물은 폴리메타크릴산, 폴리인산, 폴리스티렌술폰산, 폴리아크릴산 및 폴리비닐아민 중에서 선택된 1종 이상의 수용성 고분자를 더 포함할 수 있다. 이러한 수용성 고분자는 고분자 사슬 중에 해리기가 있으며, 물에 녹은 상태에서는 고분자 이온이 되는 특성을 갖고 있다. 상기 수용성 고분자는 석면 함유 자재에 함유된 극성 물질의 표면에 쉽게 점착되어 서로 간의 결합을 유도하거나 석면 안정화제 조성물의 접착력 또는 부착력을 개선하는 역할을 한다. 상기 수용성 고분자는 상기 석면 안정화제 조성물에 0.001∼10중량% 함유되는 것이 바람직하다. 상기 수용성 고분자의 함량이 0.001중량% 미만이면 결합 유도, 접착력 또는 부착력 개선 효과가 미약할 수 있고, 상기 수용성 고분자의 함량이 10중량%를 초과하면 점성이 높아져 석면 안정화제 조성물의 침투력이 떨어질 수 있고 석면 안정화제 조성물의 분사, 분무 등의 작업성이 떨어질 수 있는 문제점이 있다.
또한, 상기 석면 안정화제 조성물은 폴리테트라메틸렌에테르글리콜, 에틸렌아크릴산, 스티렌아크릴산 및 스티렌말레익산 중에서 선택된 1종 이상의 수용성 고분자를 더 포함할 수 있다. 이러한 수용성 고분자는 석면 함유 자재에 함유된 석면이나 무기물의 표면에 쉽게 점착 코팅되어 고형화 또는 고화시키고 석면의 미세 침상결정을 더욱 비대화시키는 역할을 할 수 있다. 상기 수용성 고분자는 상기 석면 안정화제 조성물에 0.001∼10중량% 함유되는 것이 바람직하다. 상기 수용성 고분자의 함량이 0.001중량% 미만이면 고형화 개선 효과가 미약할 수 있고, 상기 수용성 고분자의 함량이 10중량%를 초과하면 점성이 높아져 석면 안정화제 조성물의 침투력이 떨어질 수 있고 석면 안정화제 조성물의 분사, 분무 등의 작업성이 떨어질 수 있는 문제점이 있다.
또한, 상기 석면 안정화제 조성물은 산화아연을 더 포함할 수 있다. 상기 산화아연은 방부 또는 항균 역할을 위해 사용할 수 있다. 상기 산화아연은 상기 석면 안정화제 조성물에 0.001∼3중량% 함유되는 것이 바람직하다. 상기 산화아연의 함량이 0.001중량% 미만일 경우 방부 또는 항균 개선 효과가 미약할 수 있고, 상기 산화아연의 함량이 3중량%를 초과할 경우에는 제조 원가가 높아져 경제적이지 못하다.
또한, 상기 석면 안정화제 조성물은 수성 실리카 졸에 함유된 액상 물질을 용이하게 함침할 수 있는 벤토나이트(bentonite)를 더 포함할 수 있다. 벤토나이트는 비중이 비교적 가볍고 공극이 많으므로 많은 양의 액상 물질을 함침시키는 역할을 할 수 있다. 벤토나이트는 물에 분산 시에 팽윤성이 있으며, 미세 입자 형태로 석면 함유 자재에 깊숙이 들어가는 특징이 있으며, 흡습성이 강하기 때문에 석면의 비산을 효과적으로 억제할 수 있다. 상기 벤토나이트는 상기 석면 안정화제 조성물에 0.001∼5중량% 함유되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 석면 안정화제 조성물은 붕산(B2O3)을 더 포함할 수 있다. 상기 붕산(B2O3)은 유리화를 촉진시키고 강도를 증진시키기 위해 사용한다. 상기 붕산(B2O3)은 상기 석면 안정화제 조성물에 0.01∼5중량% 함유되는 것이 바람직하며, 더욱 바람직한 붕산(B2O3)의 함량은 0.1∼2중량% 정도이다.
또한, 상기 석면 안정화제 조성물은 계면활성제를 더 포함할 수 있다. 상기 계면활성제는 음이온계, 양이온계 및 비이온계 계면활성제 중에서 선택된 적어도 어느 하나일 수 있다. 상기 계면활성제는 상기 석면 안정화제 조성물에 0.01∼5중량% 함유되는 것이 바람직하다.
또한, 상기 석면 안정화제 조성물은 pH 조절을 위한 알칼리 물질을 더 포함할 수 있다. 상기 알칼리 물질은 에틸렌디아민 등일 수 있다. 상기 알칼리 물질은 상기 석면 안정화제 조성물에 0.01∼10중량% 함유될 수 있다.
본 발명의 바람직한 실시예에 따른 석면 안정화제 조성물을 이용한 석면 안정화 방법은, 하지면의 이물질과 먼지를 제거하는 하지면 정리 단계와, 도장에 의한 오염을 방지하기 위하여 도장하려는 영역 이외의 부분에 대하여 보양하는 단계와, 보양 단계 후 상기 석면 안정화제 조성물을 스프레이, 붓, 로울러 등으로 1차 도장하는 단계와, 1차 도장 후 충분히 건조한 후 2차 도장하는 단계와, 2차 도장 후 충분히 건조시킨 다음에 보양 제거, 비산 잔분 제거 등을 실시하는 작업종료 단계를 포함한다.
상기 보양하는 단계는 도장에 의해 부착물이나 벽면 등이 오염되게 되므로 도장하려는 영역 이외의 부분에 대하여 비닐이나 테이프 등을 덮어서 오염되는 것을 방지하는 작업을 의미한다.
상기 보양 제거는 도장하려는 영역 이외의 부분에 덮여진 비닐이나 테이프 등을 제거하는 작업을 의미한다.
상기 석면 안정화제 조성물은 수성 실리카 졸을 알콕시 실란으로 처리하는 것에 의해, 실리카 입자가 소수화되어 소수성의 특성을 발현하게 된다. 석면을 안정화 처리하는 경우, 실리카 졸의 소수 특성에 의해 침투 시 석면 표면에 부착되어 석면의 미세 침상결정을 비대화 시킬 뿐만 아니라, 시멘트나 석고 등의 결합력을 증가시켜서 고화되게 함으로써 석면의 비산을 방지할 수 있다.
본 발명의 석면 안정화제 조성물에 의하면, 석면 함유 자재 내부에 침투하여 석면을 고형화 또는 고화시킴으로써 석면 함유 자재를 해체하거나 철거시키지 않고도, 즉 현장상태 그대로인 실온 및 실압 하에서도, 석면의 비산을 방지하는 효과가 있다.
상기 석면 안정화제 조성물은 석면 함유 자재 내부로의 높은 침투성을 나타내고, 석면 함유 자재에 도포하면 자재 내부에 효과적으로 침투하여 고화 안정화시키면서 석면 함유 자재의 휨강도도 증대시키기 때문에 석면 함유 자재의 내구성 향상에도 기여한다. 필요시에 석면 함유 자재를 해체하거나 철거하는 경우에도 석면이 안정화되어 비산이 방지되는 효과가 있다.
석면의 비산 발생이 많은 건축물 철거 현장에서 상기 석면 안정화제 조성물이 분사되거나 살수되어 석면 입자 표면에 점착 코팅됨으로써 석면 입자가 비산되는 것을 방지하여 쾌적한 작업환경을 조성할 수 있다. 석면 안정화제 조성물은 석면 표면에 부착되어 석면의 미세 침상결정을 비대화 시킬 뿐만 아니라 시멘트나 석고 등의 결합력을 증가시키면서 고화되게 함으로써 석면의 비산을 방지할 수 있다.
상기 석면 안정화제 조성물은 중금속 및 휘발성유기화합물이 함유되어 있지 않아 인체 및 환경에 유해성이 낮다는 장점이 있다.
또한, 상기 석면 안정화제 조성물은 스프레이형으로 제조되어 간편하게 사용할 수 있는 장점이 있다.
이하에서, 본 발명에 따른 실시예들을 구체적으로 제시하며, 다음에 제시하는 실시예들에 의하여 본 발명이 한정되는 것은 아니다.
<실시예 1>
물유리(규산소다 30%)를 활성화된 양이온 교환수지를 통과시켜 규산(silicic acid) 용액을 제조하고, pH를 약 알카리(pH 9.0)로 보정하여 40℃에서 6시간 동안 숙성 및 농축하여 알카리 수성 실리카 졸(고형분: 30중량%, 입자크기: 10∼20nm, 졸의 pH: 3.5)을 얻었다.
15ℓ 반응기에 상기 수성 실리카 졸 3kg을 투입하고, 반응기의 온도를 40℃로 유지하면서, 알콕시 실란의 일종인 γ-글리시독시프로필트리메톡시실란 0.8kg을 정량펌프를 이용하여 20㎖/min의 속도로 투입하고, 40℃의 온도에서 24시간 동안 가수분해와 축합반응시켜 소수화 처리된 수성 실리카 졸을 만들고 상온까지 냉각하였다. 상기 가수분해는 용매와 촉매를 사용하였는데, 상기 용매로는 에탄올을 사용하였고, 상기 촉매로는 산계 촉매인 염산(HCl)을 사용하였다. 상기 용매는 35중량% 정도가 함유되게 첨가하였으며, 상기 촉매는 1중량% 정도가 함유되게 첨가하였다.
냉각된 반응물에 물 5kg을 투입하여 2시간 동안 150rpm 정도의 속도로 교반하면서, 규산칼륨 5kg을 투입하여 4시간 동안 150rpm 정도의 속도로 교반하였다.
규산칼륨이 투입된 결과물의 온도를 50℃로 유지하면서, 마그네슘 질산염(magnesium nitrate) 0.5kg을 투입하고 교반하여 석면 안정화제 조성물을 제조하였다.
<실시예 2>
물유리(규산소다 30%)를 활성화된 양이온 교환수지를 통과시켜 규산(silicic acid) 용액을 제조하고, pH를 약 알카리로 보정하여 60℃에서 24시간 동안 숙성시켜 수성 실리카 졸(고형분: 30중량%, 입자크기: 10∼20nm, 졸의 pH: 9.4)을 얻었다.
15ℓ 반응기에 상기 수성 실리카 졸을 3kg 투입하고, 반응기의 온도를 40℃로 유지하면서, 알콕시 실란의 일종인 γ-아미노프로필트리메톡시실란 0.4kg을 정량펌프를 이용하여 20㎖/min의 속도로 투입하고, 40℃의 온도에서 24시간 동안 가수분해와 축합반응시켜 소수화 처리된 수성 실리카 졸을 만들고 상온까지 냉각하였다. 상기 냉각은 소수화 처리된 수성 실리카 졸을 상온에 두어 자연적으로 냉각하는 방법으로 실시하였다. 상기 가수분해는 용매와 촉매를 사용하였는데, 용매로는 메탄올을 사용하였고, 촉매로는 산계 촉매인 질산(HNO3)을 사용하였다. 상기 용매는 35중량% 정도가 함유되게 첨가하였으며, 촉매는 1중량% 정도가 함유되게 첨가하였다.
냉각된 반응물에 물 3kg을 투입하여 2시간 동안 150rpm 정도의 속도로 교반하였다. 위 반응물에 규산칼륨 4kg과 규산리튬 1kg을 혼합한 용액을 투입하여 4시간 동안 150rpm 정도의 속도로 교반하였다.
규산칼륨과 규산리튬이 투입된 결과물의 온도를 50℃로 유지하면서, 마그네슘 질산염(magnesium nitrate) 0.4kg와 폴리아크릴산 0.2kg를 투입하고 교반하여 석면 안정화제 조성물을 제조하였다.
<실시예 3>
테트라 에톡시 실란을 가수분해하여 수성 실리카 졸(고형분: 20중량%, 입자크기: 10∼20nm, 졸의 pH: 10.5)을 얻었다. 상기 가수분해는 용매와 촉매를 사용하였는데, 상기 용매로는 에탄올을 사용하였고, 상기 촉매로는 알칼리계 촉매인 가성소다(NaOH)을 사용하였다. 상기 용매는 35중량% 정도가 함유되게 첨가하였으며, 상기 촉매는 5중량% 정도가 함유되게 첨가하였다. 상기 가수분해 반응은 상온에서 실시하였다.
10ℓ 반응기에 상기 수성 실리카 졸을 3kg 투입하고, 반응기의 온도를 80℃로 유지하면서, 알콕시 실란의 일종인 메틸트리에톡시실란 0.3kg을 정량펌프를 이용하여 20㎖/min의 속도로 투입하고, 80℃의 온도에서 12시간 동안 가수분해와 축합반응시켜 소수화 처리된 수성 실리카 졸을 만들고 상온까지 냉각하였다. 상기 냉각은 소수화 처리된 수성 실리카 졸을 상온에 두어 자연적으로 냉각하는 방법으로 실시하였다. 상기 가수분해는 용매와 촉매를 사용하였는데, 용매로는 에탄올을 사용하였고, 촉매로는 알칼리계 촉매인 가성소다(NaOH)을 사용하였다. 상기 용매는 35중량% 정도가 함유되게 첨가하였으며, 상기 촉매는 5중량% 정도가 함유되게 첨가하였다.
냉각된 반응물에 물 3kg을 투입하여 2시간 동안 150rpm 정도의 속도로 교반하였다. 위 반응물에 규산칼륨 4kg과 규산리튬 1kg을 혼합한 용액을 투입하여 4시간 동안 150rpm 정도의 속도로 교반하였다.
규산칼륨과 규산리튬이 투입된 결과물의 온도를 50℃로 유지하면서, 마그네슘 질산염(magnesium nitrate)0.3kg와 에틸렌아크릴산 0.1kg을 투입하고 교반하여 석면 안정화제 조성물을 제조하였다.
상기의 실시예 1 내지 실시예 3의 특성을 보다 용이하게 파악할 수 있도록 본 발명의 실시예들과 비교할 수 있는 비교예 1의 조성물을 제시한다.
<비교예 1>
고형분이 25%인 액상 규산나트륨을 제조하였다.
아래의 실험예들은 본 발명에 따른 실시예 1 내지 실시예 3의 특성을 보다 용이하게 파악할 수 있도록 본 발명에 따른 실시예들과 비교예 1의 특성을 비교한 실험결과들을 나타낸 것이다.
<실험예 1>
실시예 1 내지 실시예 3에 따라 제조된 석면 안정화제 조성물과 비교예 1에 따라 제조된 조성물의 성능을 비교하기 위하여, 육안검사를 통한 형상 시험, KS A 0601에 의한 비중 시험, KS A 0531에 의한 점도 시험을 실시하였으며, 그 결과를 하기 표 1에 나타내었다.
내충격강도는 자석 등에 의해 시험체의 윗면에서 1m 이상의 높이로부터 JIS B 1501 베어링용 강구 - 1988에 규정하는 병급 강구(직경 50.8mm, 질량 530g)을 회전하지 않도록 하며 자유 낙하시키는 기구를 가지는 충격을 주는 장치를 이용하였으며, 시험체를 단단히 고정시키고 표면을 위로하여 평편하게 놓은 시험체에 장치를 이용하여 시험체의 중앙부에 1m의 높이로부터 강구를 낙하시키고, 이후 충격에 의한 비산방지층의 패인 깊이는 60cm 떨어진 곳에서 표면을 관찰하고 패인부분의 깊이를 측정하여 내충격강도 시험을 실시하였다. 이때, 석면 안정화제 조성물의 도포 전 시험편의 깊이는 약 15 내지 17mm 였다.
에어 에어로존 시험은 외경 9.5 내지 11.5mm, 내경 1.7mm , 길이 25 내지 35mm, 확산각도 90°의 노즐을 가진 공기의 분사 장치를 이용하였으며, 섬유 비산 측정은 장치 내부를 청정하게 한 후에 시험체를 설치하여 분산 장치 노즐에서 압력차이 98kPa의 공기로 분사하고, 해당 공기의 약 15cm 거리에서 균일하게 분사하여 장치 내 공기를 직경 25mm의 멤브레인 필터로 매분 10ℓ씩 60분 동안 채취하였으며, 채취된 공기 중의 섬유의 계수를 위상차현미경을 이용하여 JIS K 3850-1 공기 중의 섬유상입자의 측정법 - 2006의 측정방법에 의해 측정하였다. 섬유 모두를 계수하고, 계수시야는 100 이상으로 한다. 이때, 석면 안정화제 조성물의 도포 전 시험편은 약 0.38 내지 0.45 개/cc 였다.
각각의 시험 결과를 측정하여 아래의 표 1에 나타내었다.
구분 실시예 1 실시예 2 실시예 3 비교예 1
형상 무색 투명 무색 투명 무색 투명 무색 투명
비중 1.154 1.172 1.150 1.113
점도(mPa) 3.3 4.5 3.7 4.3
내충격강도
(mm)		 7 6 5 17
에어로존 시험
(개/cc)		 0.006 0.0055 0.005 0.045
상기 표 1에서 나타낸 바와 같이, 실시예 1에 따라 제조된 석면 안정화제 조성물은 스프레이형으로 제조가 용이한 비중, 점도를 가지며, 무색 투명한 형상을 나타낸다는 것을 확인할 수 있었다.
또한, 실시예 1 내지 실시예 3에 따라 제조된 석면 안정화제 조성물의 내충격강도는 비교예 1에 따라 제조된 조성물에 비해 현저히 향상되었음을 확인할 수 있었다.
에어로존 시험도 석면 안정화제 조성물의 도포 전 및 비교예 1에 따라 제조된 조성물에 비해 현저히 우수하다는 것을 확인할 수 있었다. 그 양은 일반 실내 공기질 기준 이하(0.01 개/cc)의 수치를 나타내었다.
비교예 1에 따라 제조된 조성물은 내충격강도 및 에어로존 시험이 조성물의 도포 전과 유사한 수치를 보여 석면의 비산 방지효과가 거의 발휘되지 않음을 확인할 수 있었다.
이상, 본 발명의 바람직한 실시예를 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예에 한정되는 것은 아니며, 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 변형이 가능하다.

Claims (11)

  1. 실리카 입자가 소수화 처리된 수성 실리카 졸 10∼80중량%;
    알칼리 실리케이트 0.1∼65중량%; 및
    마그네슘(Mg), 알루미늄(Al) 및 철(Fe) 중에서 선택된 1종 이상의 금속 성분을 포함하는 질산염, 염산염 및 황산염 중에서 선택된 1종 이상의 수용성 염 0.01∼30중량%를 포함하는 것을 특징으로 하는 석면 안정화제 조성물.
  2. 제1항에 있어서, 상기 석면 안정화제 조성물은 폴리메타크릴산, 폴리인산, 폴리스티렌술폰산, 폴리아크릴산 및 폴리비닐아민 중에서 선택된 1종 이상의 수용성 고분자 0.001∼10중량%를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 석면 안정화제 조성물.
  3. 제1항에 있어서, 상기 석면 안정화제 조성물은 폴리테트라메틸렌에테르글리콜, 에틸렌아크릴산, 스티렌아크릴산 및 스티렌말레익산 중에서 선택된 1종 이상의 수용성 고분자 0.001∼10중량%를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 석면 안정화제 조성물.
  4. 제1항에 있어서, 상기 석면 안정화제 조성물은 산화아연 0.001∼3중량%를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 석면 안정화제 조성물.
  5. 제1항에 있어서, 상기 석면 안정화제 조성물은 벤토나이트 0.001∼5중량%를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 석면 안정화제 조성물.
  6. 제1항에 있어서, 상기 석면 안정화제 조성물은 붕산(B2O3) 0.01∼5중량%를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 석면 안정화제 조성물.
  7. 제1항에 있어서, 상기 석면 안정화제 조성물은 계면활성제 0.01∼5중량%를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 석면 안정화제 조성물.
  8. 제1항에 있어서, 상기 소수화 처리된 수성 실리카 졸은,
    10∼100㎚ 크기의 단분산 형태의 미립자 형상을 갖고,
    수성 실리카 졸과 다음의 분자식을 갖는 알콕시 실란이 가수분해 반응하여 가수분해물이 단분산 실리카 졸의 입자 표면에 덮여 있는 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 석면 안정화제 조성물.
    [화학식]
    R1 nSi(OR2)4-n (여기서, R1은 선형 또는 분지형의 C1 ∼ C20 알킬기이고, R2은 지환식 에폭시기를 포함하는 선형의 또는 분지형의 C1 ~ C20 알킬기, C3 ∼ C8 사이클로알킬기, C2 ∼ C20 알케닐기, C2 ∼ C20 알키닐기, C6 ∼ C20 아릴기, 아크릴기, 메타크릴기, 할로겐기, 아미노기, 머캅토기, 에테르기, 에스테르기, 카르보닐기, 카르복실기, 비닐기, 나이트로기, 술폰기 및 알키드기 중에서 선택된 1종 이상의 작용기이며, n은 1 내지 3의 정수임)
  9. 제1항에 있어서, 상기 수성 실리카 졸은 알콕시 실란으로 소수화 처리된 것이고,
    상기 알콕시 실란은,
    테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 메틸트리프로폭시실란, 다이메틸다이메톡시실란, 다이메틸다이에톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 다이페닐다이메톡시실란, 다이페닐다이에톡시실란, 트리페닐메톡시실란, 트리페닐에톡시실란, 에틸트리에톡시실란, 프로필에틸트리메톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리프로폭시실란, N-(3-아크릴옥시-2-하이드록시프로필)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(3-아크릴옥시-2-하이드록시프로필)-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-(3-아크릴옥시-2-하이드록시프로필)-3-아미노프로필트리프로폭시실란, 3-아크릴옥시프로필메틸비스(트리메톡시)실란, 3-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-아크릴옥시프로필트리프로폭시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리프톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리프로폭시실란, N-(아미놀에틸-3-아미노프로필)트리메톡시실란, N-(아미놀에틸-3-아미노프로필)트리에톡시실란, 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 클로로프로필트리메톡시실란, 크롤로프로필트리에톡시실란 및 헵타데카플루오르데실트리메톡시실란 중에서 선택된 1종 이상의 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 석면 안정화제 조성물.
  10. 제1항에 있어서, 상기 알칼리 실리케이트는,
    규산 칼륨 및 규산 리튬 중에서 선택된 1종 이상의 물질인 것을 특징으로 하는 석면 안정화제 조성물.
  11. 하지면의 이물질과 먼지를 제거하는 단계;
    도장에 의한 오염을 방지하기 위하여 도장하려는 영역 이외의 부분에 대하여 보양하는 단계;
    제1항에 기재된 석면 안정화제 조성물을 스프레이, 붓 또는 로울러로 1차 도장하는 단계;
    상기 1차 도장 후 건조한 후 2차 도장하는 단계; 및
    2차 도장 후 건조시킨 다음에 보양 제거를 실시하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 석면 안정화 처리 방법.
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