JPWO2015056609A1 - 透明導電膜形成用組成物、透明導電体及び透明導電体の製造方法 - Google Patents

Abstract

本発明は、透明導電膜とした際に透明性及び導電性に優れるとの特性を有する透明導電膜形成用組成物を提供することを目的とする。また、本発明の透明導電膜形成用組成物からなる透明導電膜を備えた透明導電体、及び、本発明の透明導電膜形成用組成物を用いた透明導電体の製造方法を提供することを目的とする。本発明の透明導電膜形成用組成物は、（Ａ）金属ナノワイヤ、（Ｂ）導電性ポリマー、（Ｃ）導電性向上剤、及び、（Ｄ）バインダーを含有し、前記（Ｄ）バインダーの固形分の含有量は、前記（Ａ）金属ナノワイヤの固形分と前記（Ｂ）導電性ポリマーの固形分との合計含有量１００重量部に対して０．１〜１０００重量部であることを特徴とする。

Description

本発明は、透明導電膜形成用組成物、当該透明導電膜形成用組成物からなる透明導電膜を備えた透明導電体、及び、当該透明導電体の製造方法に関する。

近年、各種電子機器のタッチパネルや表示素子に必須の構成要素である透明電極として用いられる透明導電体の需要が高まっている。透明導電体は、透明基材上に導電性ポリマーを含有する組成物を用いて透明導電膜が形成された構造を有する。このような透明導電膜には、高い透明性と導電性とが要求される。

透明導電膜とした際の透明性及び導電性に優れる組成物として、例えば、特許文献１には、導電性高分子と金属ナノワイヤとを含む組成物が提案されている。しかしながら、特許文献１に記載された組成物を硬化させて得られた透明導電膜は、未だ透明性及び導電性が十分ではないとの課題があった。加えて、基材との密着性が十分でないため、保護膜が必要となり、回路との接触抵抗が大きくなりすぎるという課題もあった。

特開２００９−２０５９２４号公報

本発明は、透明導電膜とした際に透明性及び導電性に優れるとの特性を有する透明導電膜形成用組成物を提供することを目的とする。
また、本発明は、本発明の透明導電膜形成用組成物からなる透明導電膜を備えた透明導電体、及び、本発明の透明導電膜形成用組成物を用いた透明導電体の製造方法を提供することを目的とする。

本発明者らは、鋭意検討の結果、（Ａ）金属ナノワイヤ、（Ｂ）導電性ポリマー及び（Ｄ）バインダーからなる混合物に、（Ｃ）導電性向上剤を配合して得られる組成物が、（Ａ）金属ナノワイヤと（Ｃ）導電性向上剤との組み合わせに基づいて、透明導電膜とした際に透明性及び導電性に優れるとの特性を特異的に有することを見出した。
そして、本発明者らはこれらの知見に基づき、本発明の透明導電膜形成用組成物、本発明の透明導電体、及び、本発明の透明導電体の製造方法を完成した。

即ち、本発明の透明導電膜形成用組成物は、
（Ａ）金属ナノワイヤ、
（Ｂ）導電性ポリマー、
（Ｃ）導電性向上剤、及び、
（Ｄ）バインダー
を含有し、
上記（Ｄ）バインダーの固形分の含有量は、上記（Ａ）金属ナノワイヤの固形分と上記（Ｂ）導電性ポリマーの固形分との合計含有量１００重量部に対して０．１〜１０００重量部であることを特徴とする。

本発明の透明導電膜形成用組成物において、上記（Ｂ）導電性ポリマーは、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体であり、０．０１Ｓ／ｃｍ以上の導電率を有することが好ましい。

本発明の透明導電膜形成用組成物において、上記（Ｄ）バインダーは、ポリエステル、ポリウレタン、アクリル樹脂、アルキルシリケート及びポリオレフィンからなる群より選択される少なくとも１つであることが好ましい。

本発明の透明導電膜形成用組成物は、さらに、（Ｅ）界面活性剤を含有し、
上記（Ｅ）界面活性剤は、シロキサン系化合物又はフッ素系化合物であることが好ましい。

本発明の透明導電膜形成用組成物は、さらに、（Ｆ）水溶性酸化防止剤を含有し、
上記（Ｆ）水溶性酸化防止剤は、２個の水酸基で置換されたラクトン環を有する化合物又はフェノール性水酸基を２個以上有する化合物であることが好ましい。

本発明の透明導電膜形成用組成物において、上記（Ｃ）導電性向上剤は、
（ｉ）沸点が６０℃以上で分子内に少なくとも１つのケトン基を有する化合物、
（ｉｉ）沸点が１００℃以上で分子内に少なくとも１つのエーテル基を有する化合物、
（ｉｉｉ）沸点が１００℃以上で分子内に少なくとも１つのスルフィニル基を有する化合物、
（ｉｖ）沸点が１００℃以上で分子内に少なくとも１つのアミド基を有する化合物、
（ｖ）沸点が５０℃以上で分子内に少なくとも１つのカルボキシル基を有する化合物、
（ｖｉ）沸点が１００℃以上で分子内に２つ以上のヒドロキシル基を有する化合物、及び、
（ｖｉｉ）沸点が１００℃以上で分子内に少なくとも１つのラクタム基を有する化合物
からなる群より選択される少なくとも１つであることが好ましい。

本発明の透明導電膜形成用組成物において、上記（Ｃ）導電性向上剤のＳＰ値は、δＤ＝１２〜３０、δＨ＝３〜３０、δＰ＝５〜３０、且つ、δＤ＋δＨ＋δＰ＝３５〜７０であることが好ましい。

本発明の透明導電体は、透明基材と、上記透明基材の少なくとも１面に積層された透明導電膜とを備えた透明導電体であって、
上記透明導電膜は、本発明の透明導電膜形成用組成物を透明基材の少なくとも１面に塗布し、１５０℃以下の温度条件で加熱処理することにより得られた膜であることを特徴とする。

本発明の透明導電体の製造方法は、（Ｉ）本発明の透明導電膜形成用組成物を透明基材の少なくとも１面に塗布する塗布工程、及び、
（ＩＩ）上記（Ｉ）塗布工程で得られた少なくとも１面に透明導電膜形成用組成物が塗布された透明基材を１５０℃以下の温度条件で加熱処理することにより、上記透明基材の少なくとも１面に透明導電膜を形成する形成工程
を含むことを特徴とする。

本発明の透明導電体、及び、本発明の透明導電体の製造方法により得られる透明導電体は、タッチパネル、液晶駆動用の透明電極、ＥＬ駆動用の透明電極、エレクトロクロミック素子駆動用の透明電極、電磁波シールド材、透明発熱体、又は、電解めっきプライマーに用いられることが好ましい。

本発明の透明導電膜形成用組成物は、（Ａ）金属ナノワイヤ、（Ｂ）導電性ポリマー及び（Ｄ）バインダーに加えて（Ｃ）導電性向上剤を含有するため、透明導電膜とした際に透明性及び導電性に優れるとの特性を有する。
そのため、本発明の透明導電膜形成用組成物は、透明導電体における透明導電膜の形成に極めて好適に用いることができる。

本発明の透明導電体は、透明導電膜とした際に透明性及び導電性に優れるとの特性を有する本発明の透明導電膜形成用組成物を用いて形成された透明導電膜を備えるため、透明性に優れる。また、本発明の透明導電体が備える透明導電膜は、透明性及び導電性に優れる。

本発明の透明導電体の製造方法によれば、透明基材上に本発明の透明導電膜形成用組成物を用いて透明導電膜を形成するため、透明基材上に透明性及び導電性に優れる透明導電膜を形成された、透明性に優れた透明導電体を好適に製造することができる。

＜＜透明導電膜形成用組成物＞＞
まず、本発明の透明導電膜形成用組成物について説明する。
本発明の透明導電膜形成用組成物は、
（Ａ）金属ナノワイヤ、
（Ｂ）導電性ポリマー、
（Ｃ）導電性向上剤、及び、
（Ｄ）バインダー
を含有し、
上記（Ｄ）バインダーの固形分の含有量は、上記（Ａ）金属ナノワイヤの固形分と上記（Ｂ）導電性ポリマーの固形分との合計含有量１００重量部に対して０．１〜１０００重量部であることを特徴とする。

＜（Ａ）金属ナノワイヤ＞
上記（Ａ）金属ナノワイヤとしては、金属単体や金属含有化合物からなるものが挙げられる。
上記金属単体としては、特に限定されないが、例えば、銀、銅、鉄、コバルト、ニッケル、亜鉛、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、カドミウム、オスミウム、イリジウム、白金等が挙げられ、上記金属含有化合物としては、特に限定されないが、例えば、これらの金属を含むものが挙げられる。
これらの（Ａ）金属ナノワイヤは、単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。

上記（Ａ）金属ナノワイヤは、銀ナノワイヤ、銅ナノワイヤ及び金ナノワイヤからなる群より選択される少なくとも１つであることが好ましい。その理由は、他の（Ａ）金属ナノワイヤと比べて自由電子濃度が高く、導電性が高いためである。

上記（Ａ）金属ナノワイヤの径は、特に限定されないが、１〜１０００ｎｍであることが好ましく、１〜１００ｎｍであることがより好ましい。上記（Ａ）金属ナノワイヤの径が１ｎｍ未満であるとワイヤー自体が切断されやすくなることがあり、１０００ｎｍを超えると、塗布膜のヘイズ値が高くなることがある。
上記（Ａ）金属ナノワイヤの長さは、特に限定されないが、１〜１０００μｍであることが好ましく、１〜１００μｍであることがより好ましい。上記（Ａ）金属ナノワイヤの長さが１μｍ未満であると塗布膜の導電性の低下の原因となることがあり、１０００μｍを超えると、金属ナノワイヤ分散体の安定性が悪くなることがある。

上記（Ａ）金属ナノワイヤのアスペクト比は、特に限定されないが、５０〜１００００であることが好ましく、７０〜７０００であることがより好ましい。
上記（Ａ）金属ナノワイヤのアスペクト比が５０未満であると塗布膜の導電性低下の原因になり、１００００を超えると金属ナノワイヤ分散体の安定性が悪くなる原因となるからである。
なお、本発明において、アスペクト比とは、（Ａ）金属ナノワイヤの径に対する長さの比を表す。

＜（Ｂ）導電性ポリマー＞
上記（Ｂ）導電性ポリマーは、透明導電膜に導電性を付与するための配合物である。
上記（Ｂ）導電性ポリマーとしては特に限定されず、従来公知の導電性ポリマーを用いることができ、具体例としては、例えば、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレン、ポリフェニレンビニレン、ポリナフタレン、これらの誘導体、及び、これらとドーパントとの複合体等が挙げられる。
これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用してもよい。

上記（Ｂ）導電性ポリマーとしては、分子内にチオフェン環を少なくとも１つ含む導電性ポリマーが好ましい。その理由は、チオフェン環を分子内に含むことで導電性が高い分子ができやすいからである。

上記（Ｂ）導電性ポリマーとしては、ポリ（３，４−二置換チオフェン）、又は、ポリ（３，４−二置換チオフェン）とポリ陰イオンとの複合体がより好ましい。
導電性や化学的安定性に極めて優れているからである。また、上記透明導電膜形成用組成物が、ポリ（３，４−二置換チオフェン）、又は、ポリ（３，４−二置換チオフェン）とポリ陰イオンとの複合体を含有する場合、この透明導電膜形成用組成物を用いることで、低温短時間で透明導電膜を形成することができ、生産性にも優れることとなる。

上記ポリ（３，４−二置換チオフェン）としては、ポリ（３，４−ジアルコキシチオフェン）又はポリ（３，４−アルキレンジオキシチオフェン）が特に好ましい。
上記ポリ（３，４−ジアルコキシチオフェン）又はポリ（３，４−アルキレンジオキシチオフェン）としては、以下の式（Ｉ）：

で示される反復構造単位からなる陽イオン形態のポリチオフェンが好ましい。
ここで、Ｒ１及びＲ２は相互に独立して水素原子又はＣ１−４のアルキル基を表すか、又は、Ｒ１及びＲ２が結合している場合にはＣ１−４のアルキレン基を表す。
上記Ｃ１−４のアルキル基としては、特限定されないが、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基等が挙げられる。
また、Ｒ１及びＲ２が結合している場合、上記Ｃ１−４のアルキレン基としては、特に限定されないが、例えば、メチレン基、１，２−エチレン基、１，３−プロピレン基、１，４−ブチレン基、１−メチル−１，２−エチレン基、１−エチル−１，２−エチレン基、１−メチル−１，３−プロピレン基、２−メチル−１，３−プロピレン基等が挙げられる。これらの中では、メチレン基、１，２−エチレン基、１，３−プロピレン基が好ましく、１，２−エチレン基がより好ましい。
上記Ｃ１−４のアルキル基、及び、上記Ｃ１−４のアルキレン基は、その水素の一部が置換されていても良い。
上記Ｃ１−４のアルキレン基を有するポリチオフェンとしては、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）が特に好ましい。

上記ポリ陰イオンは、ポリチオフェン（誘導体）とイオン対をなすことにより複合体を形成し、ポリチオフェン（誘導体）を水中に安定に分散させることができる。
上記ポリ陰イオンとしては、特に限定されないが、例えば、カルボン酸ポリマー類（例えば、ポリアクリル酸、ポリマレイン酸、ポリメタクリル酸等）、スルホン酸ポリマー類（例えば、ポリスチレンスルホン酸、ポリビニルスルホン酸、ポリイソプレンスルホン酸等）等が挙げられる。これらのカルボン酸ポリマー類及びスルホン酸ポリマー類はまた、ビニルカルボン酸類及びビニルスルホン酸類と他の重合可能なモノマー類、例えば、アクリレート類、スチレン、ビニルナフタレン等の芳香族ビニル化合物との共重合体であっても良い。
これらの中では、ポリスチレンスルホン酸が特に好ましい。

上記ポリスチレンスルホン酸は、重量平均分子量が２００００より大きく、５０００００以下であることが好ましく、４００００〜２０００００であることがより好ましい。分子量がこの範囲外のポリスチレンスルホン酸を使用すると、ポリチオフェン系導電性ポリマーの水に対する分散安定性が低下する場合がある。
なお、上記重量平均分子量はゲル透過クロマトグラフィー（ＧＰＣ）にて測定した値である。測定にはウォーターズ社製ｕｌｔｒａｈｙｄｒｏｇｅｌ５００カラムを使用した。

上記（Ｂ）導電性ポリマーは、透明性及び導電性に特に優れることから、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体であることが好ましい。

上記（Ｂ）導電性ポリマーの導電率は、特に限定されないが、透明電導膜に十分な導電性を付与する観点からは、０．０１Ｓ／ｃｍ以上であることが好ましく、０．０５Ｓ／ｃｍ以上であることがより好ましい。

上記（Ｂ）導電性ポリマーは、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体であり、０．０１Ｓ／ｃｍ以上の導電率を有することが好ましい。その理由は、このような（Ｂ）導電性ポリマーを用いて得た透明導電膜形成用組成物は、透明導電膜とした際の透明性及び導電性に特に優れるためである。

上記（Ａ）金属ナノワイヤと上記（Ｂ）導電性ポリマーとの含有量の重量比は、特に限定されないが、１００：１〜１：１００であることが好ましく、２０：１〜１：１０であることがより好ましい。その理由は、１００：１よりも（Ａ）金属ナノワイヤの割合が多い場合、塗布膜の成膜性が悪くなる原因となり、１：１００よりも（Ｂ）導電性ポリマーの割合が多くなる場合は、表面抵抗率が大きくなる原因となることがあるからである。

上記透明導電膜形成用組成物における上記ポリチオフェン系導電性ポリマーの含有量は特に限定されないが、透明導電膜とした際に、０．０１〜５０．０ｍｇ／ｍ２となる量が好ましく、０．１〜１０．０ｍｇ／ｍ２となる量がより好ましい。０．０１ｍｇ／ｍ２未満では、透明導電膜中の（Ｂ）導電性ポリマーの存在割合が少なくなり、透明導電膜の導電性を十分に確保することができない場合があり、一方、５０．０ｍｇ／ｍ２を超えると、透明導電膜中の（Ｂ）導電性ポリマーの存在割合が多くなり、塗布膜の強度、成膜性に悪影響を与える原因となる場合があるからである。

＜（Ｃ）導電性向上剤＞
上記（Ｃ）導電性向上剤は、透明導電膜形成用組成物を用いて形成した透明導電膜の導電性を向上させる目的で添加される。上記（Ｃ）導電性向上剤は、透明導電膜を形成する際に加熱により蒸散するが、その際に（Ｂ）導電性ポリマーの配向を制御することで透明導電膜の導電性を向上させるものと推定される。
また、上記（Ｃ）導電性向上剤を使用する場合、上記（Ｃ）導電性向上剤を使用しない場合と比較して、表面抵抗率を維持しつつ（Ｂ）導電性ポリマーの配合量を少なく出来る結果、透明性を改善できる利点がある。

上記（Ｃ）導電性向上剤は、透明導電膜の用途に必要な導電性を確実に確保するとの観点から、以下（ｉ）〜（ｖｉｉ）からなる群より選択される少なくとも１つであることが好ましい。
（ｉ）沸点が６０℃以上で分子内に少なくとも１つのケトン基を有する化合物
（ｉｉ）沸点が１００℃以上で分子内に少なくとも１つのエーテル基を有する化合物
（ｉｉｉ）沸点が１００℃以上で分子内に少なくとも１つのスルフィニル基を有する化合物
（ｉｖ）沸点が１００℃以上で分子内に少なくとも１つのアミド基を有する化合物
（ｖ）沸点が５０℃以上で分子内に少なくとも１つのカルボキシル基を有する化合物
（ｖｉ）沸点が１００℃以上で分子内に２つ以上のヒドロキシル基を有する化合物
（ｖｉｉ）沸点が１００℃以上で分子内に少なくとも1つのラクタム基を有する化合物

沸点が６０℃以上で分子内に少なくとも１つのケトン基を有する化合物（ｉ）としては、例えば、イソホロン、プロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、β−ブチロラクトン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。

沸点が１００℃以上で分子内に少なくとも１つのエーテル基を有する化合物（ｉｉ）としては、例えば、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、２−フェノキシエタノール、ジオキサン、モルホリン、４−アクリロイルモルホリン、Ｎ−メチルモルホリンＮ−オキシド、４−エチルモルホリン、２−メトキシフラン等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。

沸点が１００℃以上で分子内に少なくとも１つのスルフィニル基を有する化合物（ｉｉｉ）としては、例えば、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。

沸点が１００℃以上で分子内に少なくとも１つのアミド基を有する化合物（ｉｖ）としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−エチルアセトアミド、Ｎ−フェニル−Ｎ−プロピルアセトアミド、ベンズアミド等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。

沸点が５０℃以上で分子内に少なくとも１つのカルボキシル基を有する化合物（ｖ）としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、メタン酸、エタン酸、プロパン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、オクタン酸、デカン酸、ドデカン酸、安息香酸、ｐ−トルイル酸、ｐ−クロロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、１−ナフトエ酸、２−ナフトエ酸、フタル酸、イソフタル酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、アジピン酸、マレイン酸、フマル酸等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。

沸点が１００℃以上で分子内に２つ以上のヒドロキシル基を有する化合物（ｖｉ）としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、β−チオジグリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、カテコール、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、グリセリン、エリトリトール、グリセリン、インマトール、ラクチトール、マルチトール、マンニトール、ソルビトール、キシリトール、スクロース等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。

沸点が１００℃以上で分子内に少なくとも１つのラクタム基を有する化合物（ｖｉｉ）としては、例えば、Ｎ−メチルピロリドン、β−ラクタム、γ−ラクタム、δ−ラクタム、ε−カプロラクタム、ラウロラクタム等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。

上記（Ｃ）導電性向上剤の沸点が特定温度以上であると、透明導電膜形成時の加熱によって当該（Ｃ）電性向上剤が徐々に揮発していくことになるが、その過程で、上記（Ｂ）導電性ポリマーの配向を導電性にとって有利な配向に制御することになり、その結果、導電性が向上するものと考えられる。一方、上記（Ｃ）導電性向上剤の沸点が特定温度に満たないものであると、急激に当該（Ｃ）導電性向上剤が蒸発してしまうため、上記（Ｂ）導電性ポリマーの配向が十分に制御されず導電性の向上につながらないものと考えられる。

また、上記（Ｃ）導電性向上剤としては、特に限定されないが、δＤ＝１２〜３０、δＨ＝３〜３０、δＰ＝５〜３０、且つ、δＤ＋δＨ＋δＰ＝３５〜７０のＳＰ値を有するものであることが好ましく、δＤ＝１５〜２５、δＨ＝１０〜２５、δＰ＝１０〜２５、且つ、δＤ＋δＨ＋δＰ＝３５〜７０のＳＰ値を有するものであることがより好ましい。

本明細書において、ＳＰ値とはハンセンの溶解パラメーターのことをいい、物質の溶解性を分散項δＤ、極性項δＨ、水素結合項δＰの３つのパラメーターで表現する。上記範囲内のＳＰ値を有する（Ｃ）導電性向上剤を添加することで、（Ｂ）導電性ポリマーを疑似的に溶解し、蒸発過程で配列を促進させると考えられる。一方、上記範囲外のＳＰ値を有する（Ｃ）導電性向上剤は、（Ｂ）導電性ポリマーとの相互作用が生じにくいため、配列の制御による十分な導電性向上効果を得ることが出来ないことがある。
加えて、上記範囲内のＳＰ値を有する（Ｃ）導電性向上剤は、（Ｂ）導電性ポリマーとの親和性が高いため、（Ｂ）導電性ポリマーの分散液の安定性が向上され得る。更に、分散液中で（Ｂ）導電性ポリマー、特にポリ陰イオンは、その極性によって（Ａ）金属ナノワイヤの分散安定性に寄与すると考えられ、（Ｃ）導電性向上剤の添加によって（Ｂ）導電性ポリマーだけでなく、（Ａ）金属ナノワイヤの分散安定性も向上され得る。

ＳＰ値がδＤ＝１２〜３０、δＨ＝３〜３０、δＰ＝５〜３０、且つ、δＤ＋δＨ＋δＰ＝３５〜７０である（Ｃ）導電性向上剤としては、特に限定されないが、例えば、イソシアナート（δＤ＝１５．８、δＨ＝１０．５、δＰ＝１３．６）、イソチオシアン酸メチル（δＤ＝１７．３、δＨ＝１６．２、δＰ＝１０．１）、リン酸トリメチル（δＤ＝１５．７、δＨ＝１０．５、δＰ＝１０．２）、２−メチルラクトニトリル（δＤ＝１６．６、δＨ＝１２．２、δＰ＝１５．５）、エフェドリン（δＤ＝１８．０、δＨ＝１０．７、δＰ＝２４．１）、チオ尿素（δＤ＝２０．０、δＨ＝１９．４、δＰ＝１４．８）、カルバモニトリル（δＤ＝１５．５、δＨ＝２７．６、δＰ＝１６．８）、エチレンシアノヒドリン（δＤ＝１７．２、δＨ＝１８．８、δＰ＝１７．６）、ピラゾール（δＤ＝２０．２、δＨ＝１０．４、δＰ＝１２．４）等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。

また、上記（Ｃ）導電性向上剤として、上記（ｉ）〜（ｖｉｉ）であり、且つ、上記範囲内のＳＰ値を有するものも用いることが出来る。

上記（Ｃ）導電性向上剤の配合量は、特に限定されないが、（Ｂ）導電性ポリマー１００質量部に対して５〜２０００質量部が好ましく、１０〜１５００質量部がより好ましい。
上記（Ｃ）導電性向上剤の配合量が５質量部未満であると、（Ｃ）導電性向上剤添加による導電性改善効果を充分に享受することができないことがある。一方、２０００質量部を超えると、透明導電膜形成用組成物中の（Ａ）金属ナノワイヤ及び（Ｂ）導電性ポリマーの配合量が相対的に少なくなり、透明導電膜とした際に十分な導電性が得られなくなることがある。

＜（Ｄ）バインダー＞
上記（Ｄ）バインダーとしては、特に限定されないが、例えば、ポリエステル、ポリウレタン、アクリル樹脂、アルキルシリケート、ポリオレフィン、シランカップリング剤等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。

上記（Ｄ）バインダーは、ポリエステル、ポリウレタン、アクリル樹脂、アルキルシリケート及びポリオレフィンからなる群より選択される少なくとも１つであることが好ましい。その理由は、（Ｂ）導電性ポリマー及び（Ａ）金属ナノワイヤとの相溶性が良好だからである。

上記ポリエステルとしては、２つ以上のカルボキシル基を分子内に有する化合物と２つ以上のヒドロキシル基を有する化合物とを重縮合して得られた高分子化合物であれば特に限定されず、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。

上記ポリウレタンとしては、イソシアネート基を有する化合物とヒドロキシル基を有する化合物を共重合させて得られた高分子化合物であれば特に限定されず、例えば、エステル・エーテル系ポリウレタン、エーテル系ポリウレタン、ポリエステル系ポリウレタン、カーボネート系ポリウレタン、アクリル系ポリウレタン等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。

上記アクリル樹脂としては、特に限定されないが、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、ビニルエステル系樹脂等が挙げられる。これらのアクリル樹脂としては、例えば、カルボキシル基、酸無水物基、スルホン酸基、燐酸基などの酸基を有する重合性単量体を構成モノマーとして含む重合体であればよく、例えば、上記酸基を有する重合性単量体の単独又は共重合体、上記酸基を有する重合性単量体と共重合性単量体との共重合体等が挙げられる。
これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。

上記（メタ）アクリル系樹脂は、（メタ）アクリル系単量体を主たる構成モノマー（例えば、５０モル％以上）として含んでいれば共重合性単量体と重合していてもよく、この場合、（メタ）アクリル系単量体及び共重合性単量体のうち、少なくとも一方が酸基を有していればよい。
上記（メタ）アクリル系樹脂としては、例えば、上記酸基を有する（メタ）アクリル系単量体［（メタ）アクリル酸、スルホアルキル（メタ）アクリレート、スルホン酸基含有（メタ）アクリルアミド等］又はその共重合体、上記酸基を有していてもよい（メタ）アクリル系単量体と、酸基を有する他の重合性単量体［他の重合性カルボン酸、重合性多価カルボン酸又は無水物、ビニル芳香族スルホン酸等］及び／又は上記共重合性単量体［例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、グリシジル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロニトリル、芳香族ビニル単量体等］との共重合体、上記酸基を有する他の重合体単量体と（メタ）アクリル系共重合性単量体［例えば、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロニトリル等］との共重合体、ロジン変性ウレタンアクリレート、特殊変性アクリル樹脂、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレートエマルジョン等が挙げられる。

これらの（メタ）アクリル系樹脂の中では、（メタ）アクリル酸−（メタ）アクリル酸エステル重合体（アクリル酸−メタクリル酸メチル共重合体等）、（メタ）アクリル酸−（メタ）アクリル酸エステル−スチレン共重合体（アクリル酸−メタクリル酸メチル−スチレン共重合体等）等が好ましい。

上記アルキルシリケートとしては、特に限定されないが、例えば、メチルシリケート、エチルシリケート、プロピルシリケート、ブチルシリケート、メチルシリケートオリゴマー、エチルシリケートオリゴマー、プロピルシリケートオリゴマー、ブチルシリケートオリゴマー等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。

上記ポリオレフィンとしては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、塩素化ポリプロピレン、無水マレイン酸変性ポリプロピレン、無水マレイン酸変性塩素化ポリプロピレン等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。

上記シランカップリング剤としては、特に限定されないが、例えば、有機官能基としてビニル基、エポキシ基、メタクリル基、アクリル基、メルカプト基、スルフィド基、イソシアネート基等を有するものが挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。

上記（Ｄ）バインダーの固形分の含有量は、上記（Ａ）金属ナノワイヤの固形分と上記（Ｂ）導電性ポリマーの固形分との合計含有量１００重量部に対して０．１〜１０００重量部である。
上記（Ｄ）バインダーの固形分の含有量は、上記（Ａ）金属ナノワイヤの固形分と上記（Ｂ）導電性ポリマーの固形分との合計含有量１００重量部に対して５〜５００重量部であることが好ましい。
上記（Ｄ）バインダーの固形分の含有量が０．１重量部未満であると、透明導電膜の強度が弱くなることがあり、一方、１０００質量部を超えると、透明導電膜中の（Ａ）金属ナノワイヤ及び（Ｂ）導電性ポリマーの割合が相対的に少なくなり、透明導電膜の導電性を十分に確保することができないことがある。

＜任意成分＞
本発明の透明導電膜形成用組成物は、ここまで説明した（Ａ）金属ナノワイヤ、（Ｂ）導電性ポリマー、（Ｃ）導電性向上剤及び（Ｄ）バインダー以外に、任意に他の成分を含有していてもよい。
上記他の成分としては、（Ｅ）界面活性剤及び／又はレベリング剤、（Ｆ）水溶性酸化防止剤、（Ｇ）溶媒、（Ｈ）架橋剤、（Ｉ）触媒等が挙げられる。

（Ｅ）界面活性剤及び／又はレベリング剤
本発明の透明導電膜形成用組成物に上記（Ｅ）界面活性剤及び／又はレベリング剤を配合することにより、上記透明導電膜形成用組成物のレベリング性を向上させることができ、上記透明導電膜形成用組成物を用いて透明導電膜を形成することで均一な透明導電膜を得ることができる。
なお、本発明においては、一の化合物が界面活性剤にもレベリング剤にも相当することがある。

上記界面活性剤としては、レベリング性向上効果を有するものであれば特に限定されず、その具体例としては、例えば、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性シロキサン、ポリエーテルエステル変性水酸基含有ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性アクリル基含有ポリジメチルシロキサン、ポリエステル変性アクリル基含有ポリジメチルシロキサン、パーフルオロポリジメチルシロキサン、パーフルオロポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、パーフルオロポリエステル変性ポリジメチルシロキサン等のシロキサン系化合物；パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロアルキルポリオキシエチレンエタノール等のフッ素含有有機化合物；ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、プロピレンオキシド重合体、エチレンオキシド重合体などのポリエーテル系化合物；ヤシ油脂肪酸アミン塩、ガムロジン等のカルボン酸；ヒマシ油硫酸エステル類、リン酸エステル、アルキルエーテル硫酸塩、ソルビタン脂肪酸エステル、スルホン酸エステル、コハク酸エステル等のエステル系化合物；アルキルアリールスルホン酸アミン塩、スルホコハク酸ジオクチルナトリウム等のスルホン酸塩化合物；ラウリルリン酸ナトリウム等のリン酸塩化合物；ヤシ油脂肪酸エタノールアマイド等のアミド化合物；アクリル系化合物等が挙げられる。
これらの界面活性剤は単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
これらの中でも、シロキサン系化合物及びフッ素含有有機化合物が好ましく、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサンがより好ましい。その理由は、シロキサン系化合物及びフッ素含有有機化合物は（Ａ）金属ナノワイヤとの相溶性が良好であり、透明導電膜形成用組成物とした際に分散安定性に優れ、容易に均一な塗膜とすることができるためである。

上記界面活性剤としては市販品も使用することができ、その具体例としては、例えば、ＢＹＫ−３０１、ＢＹＫ−３０２、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３３１、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３３７、ＢＹＫ−３４１、ＢＹＫ−３７５、ＢＹＫ−３７８、ＢＹＫ−３８０Ｎ、ＢＹＫ−３４０、ＢＹＫ−ＤＹＮＷＥＴ８００（いずれもビックケミー・ジャパン株式会社製）、ＮＩＫＫＯＬ ＡＭ−１０１、ＮＩＫＫＯＬ ＡＭ−３０１、ＮＩＫＫＯＬ ＡＭ−３１３０Ｎ（いずれも日本サーファクタント工業株式会社製）、アサヒガードＡＧ−８０２５、アサヒガードＭＡ−９１（ともに明成化学工業株式会社製）、アミポールＡＳ−８（日華化学株式会社製）、アモーゲンＡＯＬ、アモーゲンＣＢ−Ｃ、アモーゲンＣＢ−Ｈ、アモーゲンＬＢ−Ｃ、アモーゲンＮｏ．８、アモーゲンＳ、アモーゲンＳ−Ｈ（いずれも第一工業製薬株式会社製）、アンヒトールシリーズ（花王株式会社製）、アンホレックス３５Ｎ、アンホレックス５０、アンホレックス５０−ＳＦ（いずれもミヨシ油脂株式会社製）、プラスコートＲＹ−２（互応化学工業株式会社製）、エナジーコールＣ−３０ Ｂ（ライオン株式会社製）、オバゾリン６６２Ｎ、カチナールＡＯＣ（いずれも東邦化学工業株式会社製）、オフノンＤ（ユシロ化学工業株式会社製）、クリンクＡ−２７（吉村油化学株式会社製）、ゲナゲンＢ １５６６（クラリアントジャパン株式会社製）、ＫＦ−６０１１、ＫＦ−６０１２、（ともに信越シリコーン株式会社製）、メガファックシリーズ（ＤＩＣ株式会社）等が挙げられる。

本発明の透明導電膜形成用組成物が上記界面活性剤を含有する場合、その含有量は特に限定されないが、固形分換算で、上記（Ｂ）導電性ポリマーの固形分１００質量部に対して、０．００１〜２３００質量部が好ましく、０．０１〜５００質量部がより好ましい。
上記界面活性剤の含有量が０．００１質量部未満であると、透明導電膜の膜厚を均一にする事が困難となる場合があり、一方、２３００質量部を超えると、透明導電膜中の（Ａ）金属ナノワイヤ及び（Ｂ）導電性ポリマーの存在割合が少なくなり、透明導電膜の導電性を十分に確保することができないことがある。

上記レベリング剤としては、特に限定されず、例えば、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性シロキサン、ポリエーテルエステル変性水酸基含有ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性アクリル基含有ポリジメチルシロキサン、ポリエステル変性アクリル基含有ポリジメチルシロキサン、パーフルオロポリジメチルシロキサン、パーフルオロポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、パーフルオロポリエステル変性ポリジメチルシロキサン等のシロキサン系化合物；パーフルオロアルキルカルボン酸、パーフルオロアルキルポリオキシエチレンエタノール等のフッ素含有有機化合物；ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、プロピレンオキシド重合体、エチレンオキシド重合体等のポリエーテル系化合物；ヤシ油脂肪酸アミン塩、ガムロジン等のカルボン酸；ヒマシ油硫酸エステル類、リン酸エステル、アルキルエーテル硫酸塩、ソルビタン脂肪酸エステル、スルホン酸エステル、コハク酸エステル等のエステル系化合物；アルキルアリールスルホン酸アミン塩、スルホコハク酸ジオクチルナトリウム等のスルホン酸塩化合物；ラウリルリン酸ナトリウム等のリン酸塩化合物；ヤシ油脂肪酸エタノールアマイド等のアミド化合物；アクリル系化合物等が挙げられる。
これらのレベリング剤は、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

上記レベリング剤としては市販品も使用することができ、その具体例としては、例えば、ＢＹＫ−３２５、ＢＹＫ−３４５、ＢＹＫ−３４６、ＢＹＫ−３４７、ＢＹＫ−３４８、ＢＹＫ−３４９、ＢＹＫ−ＵＶ３５００、ＢＹＫ−３８１、ＢＹＫＥＴＯＬ−ＡＱ、ＢＹＫＥＴＯＬ−ＷＳ（いずれもビックケミー・ジャパン株式会社製）、ポリフローＷＳ、ポリフローＷＳ−３０、ポリフローＷＳ−３１４（いずれも共栄社化学工業株式会社製）等が挙げられる。

本発明の透明導電膜形成用組成物が上記レベリング剤を含有する場合、その含有量は、特に限定されないが、固形分換算で、上記（Ｂ）導電性ポリマーの固形分１００質量部に対して、０．００１〜２３００質量部が好ましく、０．０１〜５００質量部がより好ましい。
上記レベリング剤の含有量が０．００１質量部未満であると、透明導電膜の膜厚を均一にする事が困難となる場合があり、一方、２３００質量部を超えると、透明導電膜中の（Ａ）金属ナノワイヤ及び（Ｂ）導電性ポリマーの存在割合が少なくなり、透明導電膜の導電性を十分に確保することができないことがある。

（Ｆ）水溶性酸化防止剤
本発明の透明導電膜形成用組成物に上記（Ｆ）水溶性酸化防止剤を配合することにより、上記透明導電膜形成用組成物を用いて形成した透明導電膜の耐熱性、耐湿熱性を向上させることができる。

上記（Ｆ）水溶性酸化防止剤としては、特に限定されず、還元性の水溶性酸化防止剤、非還元性の水溶性酸化防止剤等が挙げられる。
上記還元性の水溶性酸化防止剤としては、例えば、Ｌ−アスコルビン酸、Ｌ−アスコルビン酸ナトリウム、Ｌ−アスコルビン酸カリウム、Ｄ（−）−イソアスコルビン酸（エリソルビン酸）、エリソルビン酸ナトリウム、エリソルビン酸カリウム等の２個の水酸基で置換されたラクトン環を有する化合物；マルトース、ラクトース、セロビオース、キシロース、アラビノース、グルコース、フルクトース、ガラクトース、マンノース等の単糖類又は二糖類（但し、スクロースを除く）；カテキン、ルチン、ミリセチン、クエルセチン、ケンフェロール、サンメリン（登録商標）Ｙ−ＡＦ等のフラボノイド；クルクミン、ロスマリン酸、クロロゲン酸、ヒドロキノン、没食子酸、没食子酸プロピル、タンニン酸、３，４，５−トリヒドロキシ安息香酸等のフェノール性水酸基を２個以上有する化合物；システイン、グルタチオン、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）等のチオール基を有する化合物等が挙げられる。
上記非還元性の水溶性酸化防止剤としては、例えば、フェニルイミダゾールスルホン酸、フェニルトリアゾールスルホン酸、２−ヒドロキシピリミジン、サリチル酸フェニル、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸ナトリウム等の酸化劣化の原因となる紫外線を吸収する化合物が挙げられる。
これらの（Ｆ）水溶性酸化防止剤は、単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

これらの中では、２個の水酸基で置換されたラクトン環を有する化合物又はフェノール性水酸基を２個以上有する化合物が好ましく、Ｄ（−）−イソアスコルビン酸、タンニン酸、又は、サンメリン（登録商標）Ｙ−ＡＦがより好ましい。その理由は、（Ａ）金属ナノワイヤを配合する場合、時間の経過に伴い塗膜表面に（Ｆ）水溶性酸化防止剤が浮き出るブリードアウト現象が顕著となるが、２個の水酸基で置換されたラクトン環を有する化合物やフェノール性水酸基を２個以上有する化合物といった（Ｆ）水溶性酸化防止剤は塗膜内の（Ｂ）導電性ポリマーと強固に相互作用するため、ブリードアウト現象が生じづらいためである。

本発明の透明導電膜形成用組成物が上記（Ｆ）水溶性酸化防止剤を含有する場合、その含有量は特に限定されないが、上記（Ｂ）導電性ポリマー１００質量部に対して０．００１〜５００質量部が好ましく、０．０１〜２５０質量部がより好ましく、０．０５〜１００質量部がさらに好ましい。
上記（Ｆ）水溶性酸化防止剤の含有量が０．００１質量部未満であると、透明導電膜形成用組成物を用いて形成した透明導電膜の耐熱性及び耐湿熱性を十分に向上させることができない場合があり、一方、５００質量部を超えると、透明導電膜形成用組成物を用いて形成した透明導電膜中の（Ａ）金属ナノワイヤ及び（Ｂ）導電性ポリマーの存在割合が少なくなり、透明導電膜の導電性を十分に確保することができないことがある。

（Ｇ）溶媒
上記（Ｇ）溶媒としては、特に限定されず、例えば、水；メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール等のアルコール類；エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール等のエチレングリコール類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル類；エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のグリコールエーテルアセテート類；プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のプロピレングリコール類；プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリコールジエチルエーテル等のプロピレングリコールエーテル類；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールエーテルアセテート類；テトラヒドロフラン；アセトン；アセトニトリル等が挙げられる。
これらの（Ｇ）溶媒は単独で用いても良いし、２種類以上を併用しても良い。

上記（Ｇ）溶媒は、水、又は、水と有機溶媒との混合物であることが好ましい。
本発明の透明導電膜形成用組成物が上記（Ｇ）溶媒として水を含有する場合、水の含有量は、特に限定されないが、上記（Ｂ）導電性ポリマーの固形分１００質量部に対して、２０〜１００００００質量部が好ましく、２００〜５０００００質量部がより好ましい。水の含有量が２０質量部未満であると、粘度が高くなりハンドリングが困難になることがあり、１００００００質量部を超えると、溶液の濃度が低くなりすぎて透明導電膜の厚さの調整が難しくなることがあるからである。

本発明の透明導電膜形成用組成物が上記（Ｇ）溶媒として水と有機溶媒との混合物を含有する場合、有機溶媒は、メタノール、エタノール、又は、２−プロパノールであることが好ましい。この場合、有機溶媒の含有量は特に限定されず、上記（Ｂ）導電性ポリマーの固形分１００質量部に対して、２０〜７０００００質量部が好ましく、２００〜３５００００質量部がより好ましい。また、水と有機溶媒との比率は、１００：０〜５：９５が好ましく、１００：０〜３０：７０がより好ましい。

上記（Ｇ）溶媒は、上記透明導電膜形成用組成物を用いて形成する透明導電膜中には残留しないことが好ましい。
なお、本明細書においては、透明導電膜形成用組成物の全ての成分を完全に溶解させるもの（即ち、「溶媒」）と、不溶成分を分散させるもの（即ち、「分散媒」）とを特に区別せずに、いずれも「溶媒」と記載する。

（Ｈ）架橋剤
本発明の透明導電膜形成用組成物に上記（Ｈ）架橋剤を配合することにより、上記透明導電膜形成用組成物を用いて形成する透明導電膜の強度をさらに向上させることができる。これは、上記（Ｈ）架橋剤を上記（Ｄ）バインダーと併用することで、（Ｄ）バインダーを架橋させることができるからである。

上記（Ｈ）架橋剤としては、特に限定されないが、例えば、メラミン系、ポリカルボジイミド系、ポリオキサゾリン系、ポリエポキシ系、ポリイソシアネート系等の架橋剤が挙げられる。
これらの（Ｈ）架橋剤は、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

上記透明導電膜形成用組成物が上記（Ｈ）架橋剤を含有する場合、その含有量は特に限定されないが、固形分換算で、上記（Ｂ）導電性ポリマーの固形分１００質量部に対して、０．１〜１７０００質量部が好ましく、１〜１０００質量部がより好ましい。
上記（Ｈ）架橋剤の含有量が０．１質量部未満であると、透明導電膜の強度が不十分となる場合があり、一方、１７０００質量部を超えると、透明導電膜中の（Ａ）金属ナノワイヤ及び（Ｂ）導電性ポリマーの存在割合が少なくなり、透明導電膜の導電性を十分に確保することができないことがある。

本発明の透明導電膜形成用組成物が上記（Ｈ）架橋剤を含有する場合、上記（Ｄ）バインダーを架橋させるための触媒としては、ドーパントが有する酸性基を利用しても良いし、新たに有機酸又は無機酸を添加してもよい。また、感熱性酸発生剤、感放射線性酸発生剤、感電磁波性酸発生剤等を添加してもよい。

（Ｉ）触媒
上記（Ｉ）触媒としては、特に限定されず、例えば、光重合開始剤や熱重合開始剤等が挙げられる。
上記（Ｄ）バインダーとしてアクリル樹脂を使用する場合には、上記（Ｉ）触媒として光重合開始剤を用いることが好ましい。

上記光重合開始剤としては、特に限定されないが、例えば、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、ベンゾフェノン、１−｛４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル｝−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、オキシ−フェニル−アセチックアシッド２−｛２−オキソー２−フェニル−アセトキシ−エトキシ｝−エチルエステル＋オキシ−フェニル−アセチックアシッド２―［２−ヒドロキシ−エトキシ］−エチルエステル、２−メチル１−｛４−（エチルチオ）フェニル｝−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１＋２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキッサイド、ビス（２，３，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ベンチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルーケトン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフォンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフォンオキサイド、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−ケトン、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス［２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル］チタニウム、（１．２−オクタンジオン・１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］）、（４−イソブチルフェニル）−４−メチルフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスファート・プロピレンカーボネート、エチル−４−ジメチルアミノオベンゾエート、２−エチルヘキシル−４−ジメチルアミノベンゾエート等が挙げられる。
これらは単独で使用しても良いし、２種以上を併用しても良い。

上記熱重合開始剤としては、特に限定されないが、例えば、２−メチルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、−２−ヘプタデシルイミダゾール、１，２−ジメチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、１−ベンジル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、２，４−ジアミノ−６−［２’−メチルイミダゾリル−（１’）］−エチル−ｓ−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−［２’−メチルイミダゾリル−（１’）］−エチル−ｓ−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−［２’−ウンデシルイミダゾリル−（１’）］−エチル−ｓ−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−［２’−エチル−４’−メチルイミダゾリル−（１’）］−エチル−ｓ−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−［２’−メチルイミダゾリル−（１’）］−エチル−ｓ−トリアジンイソシアヌルサンフカブツ、２，４−ジアミノ−６−［２’−メチルイミダゾリル−（１’）］−エチル−ｓ−トリアジンイソシアヌルサンフカブツ、２−フェニルイミダゾールイソシアヌルサンフカブツ、２−フェニル−４，５−ジヒドロキシメチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロキシメチルイミダゾール、２，３−ジヒドロ−１Ｈ−ピロロ［１，２−ａ］ベンズイミダゾール、１−ドデシル−２−メチル−３−ベンジルイミダゾリウムクロライド、２−メチルイミダゾリン、２−フェニルイミダゾリン、２，４−ジアミノ−６−ビニル−ｓ−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−ビニル−ｓ−トリアジンイソシアヌルサンフカブツ、２，４−ジアミノ−６−メタクリロイルオキシエチル−ｓ−トリアジン、エポキシ−イミダゾールアダクト、エポキシ−フェノール−ホウサンエステル、芳香族スルフォニウム塩、アセトフェノン、４，４’−ジメトキシベンジル、ジベンゾイル、ベンゾフェノン、ジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド、２−フェニル−２−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）アセトフェノン、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスファート、ｐ−クメニル（ｐ−トリル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボラート、トリ−ｐ−トリルスルホニウムヘキサフルオロホスファート、ニフェジピン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−［２−（フラン−２−イル)ビニル］−１，３，５−トリアジン、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセナート等が挙げられる。
これらは単独で使用しても良いし、２種以上を併用しても良い。

本発明の透明導電膜形成用組成物が上記（Ｉ）触媒を含有する場合、その含有量は特に限定されないが、上記（Ｄ）バインダー１００重量部に対して、０．０１〜１００重量部であることが好ましく、０．１〜１０重量部であることがより好ましい。
上記（Ｉ）触媒の含有量が０．０１重量部未満であると、触媒としての働きが十分でなくなることがあり、１００重量部を超えると、（Ａ）金属ナノワイヤ及び（Ｂ）導電性ポリマーの存在割合が少なくなり、透明導電膜の導電性を十分に確保することができないことがあるためである。

本発明の透明導電膜形成用組成物は、（Ａ）金属ナノワイヤ、（Ｂ）導電性ポリマー及び（Ｄ）バインダーに加えて（Ｃ）導電性向上剤を含有するため、透明導電膜とした際に透明性及び導電性に優れるとの特性を有する。
そのため、本発明の透明導電膜形成用組成物は、透明導電体における透明導電膜の形成に極めて好適に用いることができる。

＜＜透明導電体＞＞
次に、本発明の透明導電体について説明する。
本発明の透明導電体は、透明基材と、上記透明基材の少なくとも１面に積層された透明導電膜とを備えた透明導電体であって、
上記透明導電膜は、本発明の透明導電膜形成用組成物を透明基材の少なくとも１面に塗布し、１５０℃以下の温度条件で加熱処理することにより得られた膜であることを特徴とする。

なお、本発明において、「透明基材」とは、全光線透過率が６０％以上の基材をいう。

上記透明基材の材質としては、透明である限り特に限定されないが、例えば、ガラス、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、変性ポリエステル等のポリエステル系樹脂、ポリエチレン（ＰＥ）樹脂、ポリプロピレン（ＰＰ）樹脂、ポリスチレン樹脂、環状オレフィン系樹脂等のポリオレフィン類樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）樹脂、ポリサルホン（ＰＳＦ）樹脂、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）樹脂等が挙げられる。

上記透明基材の厚みは、特に限定されないが、１０〜１００００μｍであることが好ましく、２５〜５０００μｍであることがより好ましい。
また、上記透明基材の全光線透過率は、６０％以上である限り特に限定されないが、７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。

上記透明導電膜は、本発明の透明導電膜形成用組成物を透明基材の少なくとも１面に塗布し、１５０℃以下の温度条件で加熱処理することにより得られた膜であり、具体的には、例えば、後述する本発明の透明導電膜の製造方法における（Ｉ）塗布工程及び（ＩＩ）形成工程により得ることができる。

上記透明導電膜は、非導電部分と導電部分とを備えていても良く、この場合、導電部分を導体パターンとすることができる。非導電部分と導電部分とを備える透明導電膜は、例えば、後述する本発明の透明導電膜の製造方法における（Ｉ）塗布工程及び（ＩＩ）形成工程に加えて、（ＩＩＩ）パターニング工程を行うことにより得ることができる。

上記透明導電膜が非導電部分と導電部分とを備える場合、上記非導電部分と上記導電部分とが下記（１）〜（３）の要件を充足することが、良好な外観を維持しつつ電極として作用するために必要な性能であるため好ましい。
（１）非導電部分の表面抵抗率の導電部分の表面抵抗率に対する比が１００００以上；
（２）非導電部分の全光線透過率と導電部分の全光線透過率の差が±１０％以内；及び
（３）非導電部分のヘイズ値の導電部分のヘイズ値に対する比率が９５〜１０５％。

上記透明導電膜の表面抵抗率（非導電部分と導電部分とを備える場合は導電部分の表面抵抗値）は、特に限定されないが、１０００Ω／□以下であることが好ましく、９００Ω／□以下であることがより好ましく、８００Ω／□以下であることがさらに好ましい。
上記表面抵抗率が１０００Ω／□を超えると、透明導電膜に要求される導電性を確保することができないことがある。なお、上記表面抵抗率は小さければ小さいほど好ましいため、その下限は特に限定されないが、例えば、０．１Ω／□である。

上記透明導電体の全光線透過率は、特に限定されないが、５０％以上であることが好ましく、６０％以上であることがより好ましく、８０％以上であることがさらに好ましい。

上記透明導電体の用途としては、透明性及び導電性が要求される用途であれば特に限定されないが、例えば、液晶、プラズマ、フィールドエミッション等の各種ディスプレイ方式のテレビ、携帯電話等の各種電子機器のタッチパネルや表示素子における透明電極が挙げられる。また、上記透明導電体は、太陽電池、電磁波シールド材、電子ペーパー、エレクトロルミネッセンス調光素子等における透明電極、透明発熱体、電解めっきプライマー等の用途に用いることもできる。
これらの用途の中では、液晶駆動用の透明電極、ＥＬ駆動用の透明電極、エレクトロクロミック素子駆動用の透明電極、電磁波シールド材、透明発熱体、又は、電解めっきプライマーに用いられることが好ましい。

本発明の透明導電体は、透明導電膜とした際に透明性及び導電性に優れるとの特性を有する本発明の透明導電膜形成用組成物を用いて形成された透明導電膜を備えるため、透明性に優れる。また、本発明の透明導電体が備える透明導電膜は、透明性及び導電性に優れる。

＜＜透明導電体の製造方法＞＞
次に、本発明の透明導電体の製造方法について説明する。
本発明の透明導電体の製造方法は、
（Ｉ）本発明の透明導電膜形成用組成物を透明基材の少なくとも１面に塗布する塗布工程、及び、
（ＩＩ）上記（Ｉ）塗布工程で得られた少なくとも１面に透明導電膜形成用組成物が塗布された透明基材を１５０℃以下の温度条件で加熱処理することにより、上記透明基材の少なくとも１面に透明導電膜を形成する形成工程
を含むことを特徴とする。

上記（Ｉ）塗布工程において、本発明の透明導電膜形成用組成物を透明基材の少なくとも１面に塗布する方法としては、特に限定されず公知の方法を用いることができ、例えば、ロールコート法、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、キャスティング法、ダイコート法、ブレードコート法、バーコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ドクターコート法、凸版（活版）印刷法、孔版（スクリーン）印刷法、平版（オフセット）印刷法、凹版（グラビア）印刷法、スプレー印刷法、インクジェット印刷法等を用いることができる。

本発明の透明導電膜の製造方法においては、必要に応じて、あらかじめ上記透明基材の表面に表面処理を施した後に上記（Ｉ）塗布工程を行っても良い。上記表面処理としては、例えば、コロナ処理、プラズマ処理、イトロ処理、火炎処理等が挙げられる。

上記（ＩＩ）形成工程における加熱処理は、特に限定されず公知の方法により行えば良く、例えば、送風オーブン、赤外線オーブン、真空オーブン等を用いて行えば良い。
なお、上記（Ｉ）塗布工程で用いる本発明の透明導電膜形成用組成物が上記（Ｇ）溶媒を含有する場合、上記（Ｇ）溶媒は、上記加熱処理により除去される。

上記加熱処理は、１５０℃以下の温度条件で行う。上記加熱処理の温度が１５０℃を超えると、用いる基材の種類が限定され、例えば、ＰＥＴフィルムポリカーボネートフィルム、アクリルフィルム等の一般に透明電極フィルムに用いられる基材を用いることが出来なくなる。本発明では、１５０℃以下の温度条件での加熱処理であっても、十分な透明性及び導電性を有する透明導電体を得ることが出来る利点を有する。上記加熱処理の温度は、５０〜１４０℃であることが好ましく、６０〜１３０℃であることがより好ましい。
上記加熱処理の処理時間は、特に限定されないが、０．１〜６０分間であることが好ましく、０．５〜３０分間であることがより好ましい。

なお、従来、金属ナノワイヤを含有する組成物を用いて透明導電膜を形成する際に、透明導電膜中の金属ナノワイヤ同士の接点を増加させ、透明導電膜の導電性を向上させる目的で、カレンダー処理が行われることがあった。
一方、本発明の透明導電体の製造方法においては、このようなカレンダー処理は特に排除されるものではないが、透明導電膜とした際に透明性及び導電性に優れるとの特性を有する本発明の透明導電膜形成用組成物を用いていることから、透明導電膜の導電性をさらに向上させたいとの要求はさほど強くない。そのため、工程数を減らし容易に透明導電体を製造することができる点や、カレンダー処理する際の圧力のムラに起因する表面抵抗率のバラツキの発生を抑制することができる点からは、カレンダー処理を行わないことが好ましい。

本発明の透明導電体の製造方法においては、上記（Ｉ）塗布工程及び（ＩＩ）形成工程を行った後、
（ＩＩＩ）上記（ＩＩ）形成工程で形成された透明導電膜の上部にパターニングされた保護レジストを形成し、その後、不活性化剤を用いて、上記透明導電膜の保護レジストで保護されていない領域を非導電性にするパターニング工程
を行っても良い。
上記（ＩＩＩ）パターニング工程を行うことにより、透明導電膜が非導電部分と導電部分とを備えた透明電導体を製造することができる。

上記（ＩＩＩ）パターニング工程において、上記（ＩＩ）形成工程で形成された透明導電膜の上部にパターニングされた保護レジストを形成する方法としては、特に限定されず公知の方法を用いることができ、例えば、透明導電膜の上部にポジ型又はネガ型の保護レジスト形成用組成物を塗布した後、所望の形状にパターニングしたフォトマスクを介して露光し、現像液を用いて露光部分又は非露光部分の保護レジスト形成用組成物を除去する方法等が挙げられる。

上記（ＩＩＩ）パターニング工程においては、上記不活性化剤を上記透明導電膜の保護レジストで保護されていない領域に接触させることにより、上記透明導電膜に含まれる上記（Ｂ）導電性ポリマーのπ共役結合を切断し、上記透明導電膜の保護レジストで保護されていない領域を非導電性にする。

上記不活性化剤としては、上記（Ｂ）導電性ポリマーのπ共役結合を切断するものであれば特に限定されないが、例えば、酸化剤、過酸化物、強酸性液体、強塩基性液体等が挙げられる。これらの不活性化剤は単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。

本発明の透明導電体の製造方法において、上記（ＩＩＩ）パターニング工程を行う場合、上記不活性化剤は、酸化剤であることが好ましい。その理由は、（Ｂ）導電性ポリマーの色味を退色させることなく、導電性を不活性化させることが出来るからである。

本発明の透明導電体の製造方法によれば、透明基材上に本発明の透明導電膜形成用組成物を用いて透明導電膜を形成するため、透明基材上に透明性及び導電性に優れる透明導電膜を形成された、透明性に優れた透明導電体を好適に製造することができる。

以下に、本発明の実施例及び比較例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものでない。

１．使用材料
以下の合成例においては、下記の材料を使用した。
１−１．（Ａ）金属ナノワイヤ
Ｙ．Ｓｕｎ、Ｂ．Ｇａｔｅｓ、Ｂ．Ｍａｙｅｒｓ＆Ｙ．Ｘｉａ，“Ｃｒｙｓｔａｌｌｉｎｅ ｓｉｌｖｅｒ ｎａｎｏｗｉｒｅｓ ｂｙ ｓｏｆｔ ｓｏｌｕｔｉｏｎ ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ”、Ｎａｎｏｌｅｔｔｅｒｓ、（２００２）、２（２）１６５〜１６８に記載される方法に従い、以下の材料を作製した。
・Ａｇナノワイヤ（アスペクト比１００、固形分１．０％）
・Ａｇナノワイヤ（アスペクト比２３０、固形分１．０％）
・Ａｇナノワイヤ（アスペクト比５００、固形分１．０％）
・Ａｇナノワイヤ（アスペクト比５０００、固形分１．０％）

１−２．（Ｂ）導電性ポリマー
・ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）ポリスチレンスルホン酸（ヘレウス株式会社製、Ｃｌｅｖｉｏｓ ＰＨ１０００、導電率０．４８Ｓ／ｃｍ、固形分１．０％）
・ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）ポリスチレンスルホン酸（ヘレウス株式会社製、Ｃｌｅｖｉｏｓ Ｐ、導電率０．０９Ｓ／ｃｍ、固形分１．０％）

１−３．（Ｃ）導電性向上剤
・エチレンシアノヒドリン（東京化成工業株式会社製、δＤ＝１７．２、δＨ＝１８．８、δＰ＝１７．６）
・ピラゾール（東京化成工業株式会社製、δＤ＝２０．２、δＨ＝１０．４、δＰ＝１２．４）
・２−メトキシフラン（和光純薬工業株式会社製、沸点１１０℃）

１−４．（Ｄ）バインダー
・ポリエステル（ナガセケムテックス株式会社製、ガブセンＥＳ−２１０、固形分２５％）
・ポリウレタン（第一工業製薬株式会社製、スーパーフレックス３００、固形分３０％）
・アクリル樹脂（東亞合成株式会社製、ジュリマーＳＥＫ３０１、固形分４０％）
・メチルシリケートオリゴマー（三菱化学株式会社製、ＭＫＣシリケートＭＳ５７、固形分１００％）
・ポリオレフィン（東洋紡株式会社製、ハードレンＥＺ−２００１、固形分３０％）

１−５．（Ｅ）界面活性剤及び／又はレベリング剤
・ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン（ビックケミー・ジャパン株式会社製、ＢＹＫ−３０７、固形分１００％）
・ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン（信越シリコーン株式会社製、ＫＦ−６０１１、固形分１００％）
・アラルキル変性ポリメチルアルキルシロキサン（ビックケミー・ジャパン株式会社製、ＢＹＫ−３２２、固形分１００％）
・アクリル系共重合物（ビックケミー・ジャパン株式会社製、ＢＹＫ−３５０、固形分１００％）
・フッ素系界面活性剤（ＡＧＣセイミケミカル株式会社製、サーフロンＳ−２３１、固形分１００％）
・フッ素系界面活性剤（ＤＩＣ株式会社製、メガファックＦ−５５６、固形分１００％）
・ヤシ油脂肪酸アミドプロピルベタイン（第一工業製薬株式会社製、アモーゲンＣＢ−Ｈ）

１−６．（Ｆ）水溶性酸化防止剤
・Ｌ−アスコルビン酸（和光純薬工業株式会社製）
・タンニン酸（和光純薬工業株式会社製）
・４，４’−ブチリデンビス−（６−ｔ−ブチル−３−メチルフェノール)（株式会社エーピーアイコーポレーション製、ヨシノックスＢＢ）
・グルコース（東京化成工業株式会社製）
・クルクミン（和光純薬工業株式会社製）
・ロスマリン酸（和光純薬工業株式会社製）
・エリソルビン酸（和光純薬工業株式会社製）
・没食子酸（和光純薬工業株式会社製）
・没食子酸プロピル（和光純薬工業株式会社製）
・グルタチオン（和光純薬工業株式会社製）

２．合成例
（合成例１）組成物Ａの作製
（Ａ）金属ナノワイヤとしてＡｇナノワイヤ（星光ＰＭＣ株式会社製、Ｔ−ＹＰ８０８、アスペクト比２３０、固形分１．０％）１００重量部、（Ｂ）導電性ポリマーとしてポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）ポリスチレンスルホン酸（ヘレウス株式会社製、Ｃｌｅｖｉｏｓ ＰＨ１０００、導電率０．４８Ｓ／ｃｍ、固形分１．０％）１００重量部、（Ｃ）導電性向上剤としてエチレンシアノヒドリン（東京化成工業株式会社製、δＤ＝１７．２、δＨ＝１８．８、δＰ＝１７．６）４０重量部、（Ｄ）バインダーとしてポリエステル（ナガセケムテックス株式会社製、ガブセンＥＳ−２１０、固形分２５％）７．２重量部、（Ｅ）界面活性剤及び／又はレベリング剤のうち界面活性剤としてポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン（ビックケミー・ジャパン株式会社製、ＢＹＫ−３０７、固形分１００％）１重量部、レベリング剤としてアラルキル変性ポリメチルアルキルシロキサン（ビックケミー・ジャパン株式会社製、ＢＹＫ−３２２、固形分１００％）０．１重量部、（Ｇ）溶剤として水１５１．７重量部をそれぞれ秤量し、マグネティックスターラーにて１０分間混合し、得られた組成物を組成物Ａとした。

（合成例２〜４１）組成物Ｂ〜Ｔ、Ｒ１〜Ｒ７、Ａ１〜Ａ７、Ｕ〜Ｚ及びＵ１の作製
使用材料及び配合量を下記表１に記載の通り変更したことを除き、上記合成例１と同様にして組成物Ｂ〜Ｔ、Ｒ１〜Ｒ７、Ａ１〜Ａ７、Ｕ〜Ｚ及びＵ１を作製した。

合成例１〜４１で作製した組成物Ａ〜Ｔ、Ｒ１〜Ｒ７、Ａ１〜Ａ７、Ｕ〜Ｚ及びＵ１について、下記３−６．に記載の方法により分散安定性を評価した。結果を表１に示す。

３．評価方法
下記実施例及び比較例における測定及び評価は、以下の方法にて行った。
３−１．全光線透過率の測定方法
全光線透過率及びヘイズ値は、ＪＩＳ Ｋ７１５０に従い、ヘイズコンピュータＨＧＭ−２Ｂ（スガ試験機株式会社製）を用いて測定した。

３−２．密着性評価方法
下記実施例及び比較例で得られた透明導電体を用いて、ＪＩＳ Ｋ ５４００（１９９０）に準拠して、基体に形成されたコーティング層上にセロハンテープを接着して、１分後に剥離した後、積層シート上の剥離部分の膜剥がれを目視で確認することで、透明基材と透明導電膜との密着性試験を行い、下記２段階で評価した。
○：８点以上
×：６点以下

３−３．表面抵抗率の測定方法
下記実施例及び比較例で得られた透明導電体の透明導電膜について、抵抗率計（三菱化学株式会社製、ロレスタ−ＧＰ ＭＣＰ−Ｔ６００）により表面抵抗率を測定した。

３−４．耐熱性評価方法
下記実施例及び比較例で得られた透明導電体の透明導電膜について、上述の表面抵抗率の測定方法により、初期の表面抵抗率と、８０℃で２４０時間保存した後の表面抵抗率とを測定し、保存後の表面抵抗率上昇倍率（保存後の表面抵抗率／初期の表面抵抗率）を算出し、下記３段階で評価した。
○：表面抵抗率上昇倍率が１．５以下である
△：表面抵抗率上昇倍率が１．５より大きく、２．０以下である
×：表面抵抗率上昇倍率が２．０より大きい

３−５．導電率
下記実施例及び比較例で得られた透明導電体の透明導電膜について、触針式膜厚測定器で膜厚を測定した。その後、透明導電膜の表面抵抗率を抵抗率計（三菱化学株式会社製、ロレスタ−ＧＰ ＭＣＰ−Ｔ６００）で測定した。測定した膜厚と表面抵抗率の値を下記式に代入して透明導電膜の導電率を求めた。
導電率（Ｓ／ｃｍ）＝１／｛表面抵抗率（Ω／□）×膜厚（ｃｍ）｝

３−６．分散安定性
作製した組成物を温度２５℃にて１０分静置した後、組成物の液状態を目視観察し、下記３段階で評価した。
○：沈殿物が観測されない。
△：沈殿物が観測されるが、ごく少量である。
×：大量の沈殿物が観測される。

３−７．ブリードアウト特性
下記実施例及び比較例で得られた透明導電体を温度６０℃、相対湿度９０％の環境下に７日間静置した後、目視と手触りにより、ブリードアウトの有無を確認した。
○：塗膜表面は均一であり、触れても粘着性は認められない。
△：塗膜表面は少し曇がかっており、わずかにタックがある状態である。

４．実施例／比較例
（実施例１）
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）製の透明基材（東レ社製、ルミラーＴ６０、縦１５０ｍｍ×横１００ｍｍ×厚さ１８８μｍ、全光線透過率８７．７％）の１面に、上記合成例１で得られた組成物ＡをＮｏ．１６のバーコーターを用いて１８．５μｍの厚みで塗布した後、送風オーブンを用いて１３０℃で５分間加熱処理することにより、透明基材の１面に透明導電膜を形成し、透明導電体を得た。

（実施例２）
加熱処理温度を１００℃にしたことを除き、実施例１と同様にして透明導電体を得た。

（実施例３〜３５）
組成物Ａに代えて上記合成例２〜３４で得られた組成物Ｂ〜Ｔ、Ｒ１〜Ｒ７及びＡ１〜Ａ７を用いたことを除き、実施例１と同様にして透明導電体を得た。

（比較例１〜７）
組成物Ａに代えて上記合成例３５〜４１で得られた組成物Ｕ〜Ｚ及びＵ１を用いたことを除き、実施例１と同様にして透明導電体を得た。

（比較例８）
加熱処理を行った後、さらにカレンダー処理装置（由利ロール株式会社社製、ゴムロール）を用いてライン速１０ｍ／ｍｉｎ、処理圧４５０ｋＮ／ｍの条件でカレンダー処理を行ったことを除き、比較例５と同様にして透明導電体を得た。

（比較例９）
ＰＥＴ製の透明基材に代えてガラス製の透明基材（関谷理化株式会社製青板がらす、１００×１００×２ｍｍ、全光線透過率９１．０％）を用いたこと、及び、加熱処理条件を２００℃、２０分としたことを除き、比較例５と同様にして透明導電体を得た。

上記実施例１〜３５、比較例１〜９で得られた透明導電体について、全光線透過率の測定及び密着性評価を行った。また、得られた透明導電体の透明導電膜について、表面抵抗率の測定、耐熱性評価、導電率の算出及びブリードアウト特性の評価を行った。結果を下記表２に示す。

Claims (10)

1. （Ａ）金属ナノワイヤ、
   （Ｂ）導電性ポリマー、
   （Ｃ）導電性向上剤、及び、
   （Ｄ）バインダー
   を含有し、
   前記（Ｄ）バインダーの固形分の含有量は、前記（Ａ）金属ナノワイヤの固形分と前記（Ｂ）導電性ポリマーの固形分との合計含有量１００重量部に対して０．１〜１０００重量部であることを特徴とする、透明導電膜形成用組成物。
2. 前記（Ｂ）導電性ポリマーは、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との複合体であり、０．０１Ｓ／ｃｍ以上の導電率を有する、請求項１記載の透明導電膜形成用組成物。
3. 前記（Ｄ）バインダーは、ポリエステル、ポリウレタン、アクリル樹脂、アルキルシリケート及びポリオレフィンからなる群より選択される少なくとも１つである、請求項１又は２記載の透明導電膜形成用組成物。
4. さらに、（Ｅ）界面活性剤を含有し、
   前記（Ｅ）界面活性剤は、シロキサン系化合物又はフッ素系化合物である請求項１〜３のいずれか１項記載の透明導電膜形成用組成物。
5. さらに、（Ｆ）水溶性酸化防止剤を含有し、
   前記（Ｆ）水溶性酸化防止剤は、２個の水酸基で置換されたラクトン環を有する化合物又はフェノール性水酸基を２個以上有する化合物である請求項１〜４のいずれか１項記載の透明導電膜形成用組成物。
6. 前記（Ｃ）導電性向上剤は、
   （ｉ）沸点が６０℃以上で分子内に少なくとも１つのケトン基を有する化合物、
   （ｉｉ）沸点が１００℃以上で分子内に少なくとも１つのエーテル基を有する化合物、
   （ｉｉｉ）沸点が１００℃以上で分子内に少なくとも１つのスルフィニル基を有する化合物、
   （ｉｖ）沸点が１００℃以上で分子内に少なくとも１つのアミド基を有する化合物、
   （ｖ）沸点が５０℃以上で分子内に少なくとも１つのカルボキシル基を有する化合物、
   （ｖｉ）沸点が１００℃以上で分子内に２つ以上のヒドロキシル基を有する化合物、及び、
   （ｖｉｉ）沸点が１００℃以上で分子内に少なくとも１つのラクタム基を有する化合物
   からなる群より選択される少なくとも１つである、請求項１〜５のいずれか１項記載の透明導電膜形成用組成物。
7. 前記（Ｃ）導電性向上剤のＳＰ値は、δＤ＝１２〜３０、δＨ＝３〜３０、δＰ＝５〜３０、且つ、δＤ＋δＨ＋δＰ＝３５〜７０である請求項１〜６のいずれか1項記載の透明導電膜形成用組成物。
8. 透明基材と、前記透明基材の少なくとも１面に積層された透明導電膜とを備えた透明導電体であって、
   前記透明導電膜は、請求項１〜７のいずれか１項記載の透明導電膜形成用組成物を透明基材の少なくとも１面に塗布し、１５０℃以下の温度条件で加熱処理することにより得られた膜であることを特徴とする透明導電体。
9. （Ｉ）請求項１〜７のいずれか１項記載の透明導電膜形成用組成物を透明基材の少なくとも１面に塗布する塗布工程、及び、
   （ＩＩ）前記（Ｉ）塗布工程で得られた少なくとも１面に透明導電膜形成用組成物が塗布された透明基材を１５０℃以下の温度条件で加熱処理することにより、前記透明基材の少なくとも１面に透明導電膜を形成する形成工程
   を含むことを特徴とする、透明導電体の製造方法。
10. タッチパネル、液晶駆動用の透明電極、ＥＬ駆動用の透明電極、エレクトロクロミック素子駆動用の透明電極、電磁波シールド材、透明発熱体、又は、電解めっきプライマーに用いられる、請求項８に記載の透明導電体、又は、請求項９に記載の透明導電体の製造方法により得られる透明導電体。