CN109153802B - 底漆层形成用固化性组合物、阻气性层合膜和阻气性层合体 - Google Patents

底漆层形成用固化性组合物、阻气性层合膜和阻气性层合体 Download PDF

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Abstract

本发明涉及：阻气性层合膜的底漆层形成用固化性组合物，其至少含有含极性基团的聚烯烃系聚合物、及多官能丙烯酸酯系化合物；具有由该固化性组合物的固化物构成的底漆层的阻气性层合膜；和在该阻气性层合膜的表面上层合有含有有机化合物的层而成的阻气性层合体。根据本发明，提供适合在制造层间粘附性优异的阻气性层合体时使用的底漆层形成用固化性组合物；具有由该固化性组合物的固化物构成的底漆层的阻气性层合膜；和在该阻气性层合膜的表面上层合有含有有机化合物的层而成的阻气性层合体。

Description

底漆层形成用固化性组合物、阻气性层合膜和阻气性层合体
技术领域
本发明涉及底漆层形成用固化性组合物、具有由该固化性组合物的固化物构成的底漆层的阻气性层合膜、和在该阻气性层合膜的表面上层合有含有有机化合物的层而成的阻气性层合体。
背景技术
近年来，在液晶显示器或电致发光(EL)显示器等的显示器中，为了实现薄型化、轻量化、柔性化等，作为具有电极的基板，使用具有阻气性的膜(以下，有时称为“阻气膜”)代替玻璃板。另外，通过在阻气膜上层合其他层，还开发出具有新功能的膜。
例如，专利文献1中记载了：在带阻气层的基材(阻气膜)的阻气层面上，形成粘结剂层而成的粘结片。通过使用该粘结片，可以将有机EL元件等有效地密封。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：国际公开第2012/032907号(US2013209800A1)。
发明内容
发明所要解决的课题
如专利文献1所记载，通过在阻气膜的阻气层上，层合具有特定功能的其他层，可以获得具有新功能的阻气性层合体。
然而，通常，阻气膜的阻气层由于与含有有机化合物的层的亲和性较低，因此若在阻气膜的阻气层上形成含有有机化合物的层，则所获得的阻气性层合体会有层间粘附性差的倾向。
本发明是鉴于上述实际情况而进行的发明，其目的在于，提供适合在制造层间粘附性优异的阻气性层合体时使用的底漆层形成用固化性组合物；具有由该固化性组合物的固化物构成的底漆层的阻气性层合膜；和在该阻气性层合膜的表面上层合有含有有机化合物的层而成的阻气性层合体。
用于解决课题的手段
本发明人为了解决上述课题，针对具有以阻气膜为材料的阻气层的阻气性层合膜进行了深入研究。其结果发现：表面具有由特定底漆层形成用固化性组合物的固化物构成的底漆层的阻气性层合膜，可在该底漆层上粘附性良好地形成含有有机化合物的层，从而完成了本发明。
如此，根据本发明，提供下述(1)~(4)的底漆层形成用固化性组合物、(5)~(10)的阻气性层合膜、和下述(11)的阻气性层合体。
(1) 阻气性层合膜的底漆层形成用固化性组合物，其至少含有：含极性基团的聚烯烃系聚合物、及多官能丙烯酸酯系化合物。
(2) (1)所述的底漆层形成用固化性组合物，其中，上述多官能丙烯酸酯系化合物的含量，相对于含极性基团的聚烯烃系聚合物100质量份，为5~30质量份。
(3) (1)或(2)所述的底漆层形成用固化性组合物，其中，上述底漆层形成用固化性组合物进一步含有聚异氰酸酯系交联剂，且聚异氰酸酯系交联剂的含量，相对于含极性基团的聚烯烃系聚合物100质量份，为1~10质量份。
(4) (1)~(3)中任一项所述的底漆层形成用固化性组合物，其中，上述底漆层形成用固化性组合物进一步含有硅烷偶联剂，且硅烷偶联剂的含量，相对于含极性基团的聚烯烃系聚合物100质量份，为0.01~5质量份。
(5) 阻气性层合膜，其是具有阻气层、及与上述阻气层直接接触的底漆层的阻气性层合膜，其特征在于：上述阻气层是以阻气膜为材料的层，上述底漆层是由(1)~(4)中任一项所述的底漆层形成用固化性组合物的固化物构成的层，至少一侧的最外层是上述底漆层。
(6) (5)所述的阻气性层合膜，其中，上述阻气膜的厚度是0.5~500μm。
(7) (5)或(6)所述的阻气性层合膜，其中，上述阻气膜是具有树脂制基材、及含有无机化合物和/或金属的层的层合膜。
(8) (7)所述的阻气性层合膜，其中，上述含有无机化合物和/或金属的层是经表面改性的含硅高分子化合物层。
(9) (5)~(8)中任一项所述的阻气性层合膜，其中，上述底漆层的厚度是0.05~2.5μm。
(10) (5)~(9)中任一项所述的阻气性层合膜，其中，进一步具有与上述阻气层直接接触的其他层。
(11) 阻气性层合体，其是在构成上述(5)~(10)中任一项所述的阻气性层合膜的最外层的底漆层上，层合有含有有机化合物的层而成的阻气性层合体。
发明效果
根据本发明，提供适合在制造层间粘附性优异的阻气性层合体时使用的底漆层形成用固化性组合物；具有由该固化性组合物的固化物构成的底漆层的阻气性层合膜；和由在该阻气性层合膜的表面上层合有含有有机化合物的层而成的阻气性层合体。
具体实施方式
以下，将本发明分项为1) 底漆层形成用固化性组合物、2) 阻气性层合膜、和3)阻气性层合体，进行详细地说明。
1) 底漆层形成用固化性组合物
本发明的底漆层形成用固化性组合物是至少含有：含极性基团的聚烯烃系聚合物、及多官能丙烯酸酯系化合物的阻气性层合膜的底漆层形成用固化性组合物。
底漆层形成用固化性组合物中所含的含极性基团的聚烯烃系聚合物是包含极性基团的聚烯烃系聚合物。通过使用含极性基团的聚烯烃系聚合物，可以有效地形成与阻气层的粘附性优异的底漆层。
聚烯烃系聚合物是指包含：来自乙烯的重复单元、来自丙烯的重复单元等的来自烯烃的重复单元的聚合物。来自烯烃的重复单元的含量，相对于总重复单元，通常为50摩尔%以上、优选为70摩尔%以上、更优选为90摩尔%以上。
作为聚烯烃系聚合物的具体例，可举出：聚丙烯、高密度聚乙烯、超高分子量聚乙烯、线型低密度聚乙烯、低密度聚乙烯、超低密度聚乙烯、超级低密度聚乙烯、聚甲基戊烯、乙烯-丙烯共聚物、丙烯-1-丁烯无规共聚物、丙烯-乙烯-1-丁烯无规共聚物、由丙烯与碳数5~12的α-烯烃构成的共聚物、丙烯-非共轭二烯共聚物、乙烯-非共轭二烯共聚物、乙烯-丙烯-非共轭二烯共聚物、聚丁烯、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-乙烯基三甲氧基硅烷共聚物、乙烯-丙烯酸甲酯共聚物、乙烯-丙烯酸乙酯共聚物、乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物、苯乙烯-丁二烯嵌段共聚物、及其氢化物等。
这些聚烯烃系聚合物可单独使用1种、或组合使用2种以上。
作为极性基团，可举出：羟基、羧酸基、羧酸酯基、酸酐基等。这些之中，作为极性基团，优选羧酸基、酸酐基或羟基，更优选羟基。
含极性基团的聚烯烃系聚合物可以通过对聚烯烃系聚合物使用具有极性基团的化合物进行改性处理、或者使用烯烃系单体与具有极性基团的单体进行共聚而获得。这些之中，作为含极性基团的聚烯烃系聚合物，优选后述的酸改性聚烯烃系聚合物或导入羟基的聚烯烃系聚合物。
作为酸改性聚烯烃系聚合物，可举出：将聚烯烃树脂利用不饱和羧酸或其酸酐进行改性而获得的聚合物。
作为不饱和羧酸或其酸酐，可举出：马来酸、富马酸、衣康酸、柠康酸、戊烯二酸、四氢酞酸、乌头酸、(甲基)丙烯酸、马来酸酐、衣康酸酐、戊烯二酸酐、柠康酸酐、乌头酸酐、降冰片烯二羧酸酐、四氢酞酸酐等。这些可单独使用1种、或组合使用2种以上。
作为导入羟基的聚烯烃系聚合物，可举出：将聚烯烃利用含羟基的(甲基)丙烯酸酯或含羟基的乙烯醚进行末端改性、或接枝改性而获得的聚合物。
作为含羟基的(甲基)丙烯酸酯，可举出：(甲基)丙烯酸羟乙酯、(甲基)丙烯酸羟丙酯、(甲基)丙烯酸甘油酯等。
作为含羟基的乙烯醚，可举出：2-羟乙基乙烯醚、二乙二醇单乙烯醚、4-羟丁基乙烯醚等。
这些可单独使用1种、或组合使用2种以上。
含极性基团的聚烯烃系聚合物的数均分子量(Mn)优选为500~500,000、更优选为1,000~200,000、进一步优选为1,200~150,000。
底漆层形成用固化性组合物中所含的多官能丙烯酸酯系化合物，具有使底漆层形成用固化性组合物固化的作用。通过使用含有多官能丙烯酸酯系化合物的底漆层形成用固化性组合物，可以形成不易发生凝聚破坏的底漆层。
多官能丙烯酸酯系化合物是指具有2个以上的参与聚合反应的不饱和键的丙烯酸酯化合物或甲基丙烯酸酯化合物。
作为多官能丙烯酸酯系化合物，可举出：三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇己二酸酯二(甲基)丙烯酸酯、羟基三甲基乙酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二(甲基)丙烯酸双环戊酯、己内酯改性二(甲基)丙烯酸双环戊烯酯、环氧乙烷改性磷酸二(甲基)丙烯酸酯、二(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯、二(甲基)丙烯酸烯丙基化环己酯等的双官能丙烯酸酯系化合物；
三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、丙酸改性二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三(2-丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯等的三官能丙烯酸酯系化合物；
二甘油四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯等的四官能丙烯酸酯系化合物；
丙酸改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯等的五官能丙烯酸酯系化合物；
二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等的六官能丙烯酸酯系化合物等。
这些多官能丙烯酸酯系化合物可单独使用一种、或组合使用二种以上。
在此，“(甲基)丙烯酸酯”是指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。
底漆层形成用固化性组合物中的多官能丙烯酸酯系化合物的含量，从可以形成更不易产生凝聚破坏的底漆层的观点出发，相对于含极性基团的聚烯烃系聚合物100质量份，通常为5~30质量份、优选为5~20质量份。
底漆层形成用固化性组合物也可含有光聚合引发剂。通过使用含有光聚合引发剂的底漆层形成用固化性组合物，利用紫外线或可见光线的照射有效地进行固化反应，可以形成底漆层。
作为光聚合引发剂，例如可举出：2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、1-羟基-环己基-苯酮等的酮系光聚合引发剂；2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基氧化膦、双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦、亚膦酸乙基(2,4,6-三甲基苯甲酰基)苯酯、双(2,6-二甲氧基苯甲酰基)-2,4,4-三甲基-戊基氧化膦等的磷系光聚合引发剂；双(η5-2,4-环戊二烯-1-基)-双[2,6-二氟-3-(1H-吡咯-1-基)-苯基]钛等的二茂钛系光聚合引发剂；肟酯系光聚合引发剂；二苯甲酮、对氯二苯甲酮、4,4'-二乙氨基二苯甲酮等的二苯甲酮系光聚合引发剂；噻吨酮等的噻吨酮系光聚合引发剂；三异丙醇胺等的胺系光聚合引发剂等。这些可单独使用一种、或组合使用二种以上。
在底漆层形成用固化性组合物含有光聚合引发剂的情况下，其含量相对于多官能丙烯酸酯系化合物100质量份，通常为0.01~20质量份的范围。
底漆层形成用固化性组合物也可含有聚异氰酸酯系交联剂。通过使用含有聚异氰酸酯系交联剂的底漆层形成用固化性组合物，可以形成更加抑制凝聚破坏的底漆层。
作为聚异氰酸酯系交联剂，没有特别限定，可使用分子中具有2个以上异氰酸酯基的化合物。作为此种聚异氰酸酯系交联剂，可举出：甲苯二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、亚二甲苯二异氰酸酯等的芳香族聚异氰酸酯；六亚甲基二异氰酸酯等的脂肪族聚异氰酸酯；异佛尔酮二异氰酸酯、氢化二苯基甲烷二异氰酸酯等的脂环式聚异氰酸酯；和这些的双缩脲体、异氰脲酸酯体、以及与乙二醇、丙二醇、新戊二醇、三羟甲基丙烷、蓖麻油等的含低分子活性氢化合物的反应物之加成体等。这些可单独使用一种、或组合使用二种以上。
在底漆层形成用固化性组合物含有聚异氰酸酯系交联剂的情况下，从可以形成更不易产生凝聚破坏的底漆层的观点出发，其含量相对于含极性基团的聚烯烃系聚合物100质量份，通常为1~10质量份、优选为2~8质量份。
底漆层形成用固化性组合物也可含有硅烷偶联剂。通过使用含有硅烷偶联剂的底漆层形成用固化性组合物，可以形成层间粘附性更优异的底漆层。
作为硅烷偶联剂，可举出：3-氨丙基三甲氧基硅烷、3-氨丙基三乙氧基硅烷、3-(2-氨乙基)氨丙基三甲氧基硅烷、3-(2-氨乙基)氨丙基三乙氧基硅烷、3-(2-氨乙基)氨丙基甲基二甲氧基硅烷、3-(2-氨乙基)氨丙基甲基二乙氧基硅烷等的氨基硅烷偶联剂；3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷等的环氧硅烷偶联剂；3-巯基丙基三甲氧基硅烷；3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷；日本特开2000-239447号公报、日本特开2001-40037号公报等中所记载的高分子硅烷偶联剂等。这些可单独使用一种、或组合使用二种以上。
在底漆层形成用固化性组合物含有硅烷偶联剂的情况下，其含量相对于含极性基团的聚烯烃系聚合物100质量份，通常为0.01~5质量份、优选为0.01~3质量份。
底漆层形成用固化性组合物也可含有溶剂。
含有溶剂的底漆层形成用固化性组合物可用作底漆层形成用涂布液。
作为溶剂，可举出：正己烷、正庚烷等的脂肪族烃系溶剂；甲苯、二甲苯等的芳香族烃系溶剂；二氯甲烷、氯乙烯、氯仿、四氯化碳、1,2-二氯乙烷、单氯苯等的卤化烃系溶剂；甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、丙二醇单甲醚等的醇系溶剂；丙酮、甲乙酮、2-戊酮、异佛尔酮、环己酮等的酮系溶剂；乙酸乙酯、乙酸丁酯等的酯系溶剂；乙基溶纤剂等的溶纤剂系溶剂；1,3-二氧杂环戊烷等的醚系溶剂等。
本发明的底漆层形成用固化性组合物，可以通过将含极性基团的聚烯烃系聚合物、多官能丙烯酸酯系化合物、以及光聚合引发剂、聚异氰酸酯系交联剂、硅烷偶联剂等的其他成分，依照常规方法进行适当混合/搅拌而调制。
通过使用本发明的底漆层形成用固化性组合物，可以在阻气膜的阻气层上，有效地形成与含有有机化合物的层的亲和性高的底漆层。所以，本发明的底漆层形成用固化性组合物可适合在制造层间粘附性优异的阻气性层合体时使用。
2) 阻气性层合膜
本发明的阻气性层合膜是具有阻气层、及与上述阻气层直接接触的底漆层的阻气性层合膜，其特征在于，上述阻气层是以阻气膜为材料的层，上述底漆层是由本发明的底漆层形成用固化性组合物的固化物构成的层，至少一侧的最外层是上述底漆层。
(阻气层)
构成本发明阻气性层合膜的阻气层是将阻气膜用作材料而形成的层。
本发明所使用的阻气膜是具有抑制氧或水蒸气透过的特性(以下，称为“阻气性”)的膜。
本发明所使用的阻气膜在40℃、相对湿度90%的环境下，水蒸气透过率优选为5.0g/m2/day以下、更优选为0.5g/m2/day以下。通过使用具有此种阻气性的阻气膜，可以获得阻气性更优异的阻气性层合膜。
另外，阻气膜根据JIS K7361-1测定的总透光率优选80%以上、更优选85%以上。通过使用此种透明性优异的阻气膜，可以获得透明性优异的阻气性层合膜。
对阻气膜的厚度没有特别限定，可配合阻气性层合膜的使用目的等而适宜确定。阻气膜的厚度通常为0.5~500μm、优选为1~100μm。
作为阻气膜，可举出：合成树脂制的膜；由2种以上合成树脂制的膜构成的层合膜；合成树脂膜表面经改性而得的表面改性膜(但，被改性的层除外含有无机化合物和/或金属的层)；具有树脂制基材、及含有无机化合物和/或金属的层(以下，有时称为“含无机化合物等的层”)的层合膜等。
其中，作为阻气膜，优选具有树脂制基材、及含无机化合物等的层的层合膜。由于此种阻气膜的阻气性更优异，因此可轻易获得更薄、更轻、耐屈挠性能更优异的阻气性层合膜。
作为具有树脂制基材、及含无机化合物等的层的层合膜所使用的树脂制基材的材质，可举出：聚酰亚胺、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺、聚亚苯醚、聚醚酮、聚醚醚酮、聚烯烃、聚酯、聚碳酸酯、聚砜、聚醚砜、聚苯硫醚、丙烯酸系树脂、环烯烃系聚合物、芳香族系聚合物等。
这些之中，从透明性优异、且具通用性的观点出发，优选聚酯、聚酰胺或环烯烃系聚合物，更优选聚酯或环烯烃系聚合物。
作为聚酯，可举出：聚对苯二甲酸乙二酯、聚对苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚芳酯等，优选聚对苯二甲酸乙二酯。
作为聚酰胺，可举出：全芳香族聚酰胺、尼龙6、尼龙66、尼龙共聚物等。
作为环烯烃系聚合物，可举出：降冰片烯系聚合物、单环的环状烯烃系聚合物、环状共轭二烯系聚合物、乙烯脂环式烃聚合物、和这些的氢化物。作为其具体例，可举出：APEL(三井化学公司制的乙烯-环烯烃共聚物)、Arton(JSR公司制的降冰片烯系聚合物)、ZEONOR(日本ZEON公司制的降冰片烯系聚合物)等。
树脂制基材在不妨碍本发明效果的范围内也可含有各种添加剂。作为添加剂，可举出：紫外线吸收剂、抗静电剂、稳定剂、抗氧化剂、增塑剂、滑剂、着色颜料等。这些添加剂的含量可配合目的而适宜确定。
树脂制基材的厚度范围通常为0.4~400μm、优选为0.5~95μm、更优选为0.9~90μm。
树脂制基材可以通过调制含有树脂成分和根据需要的各种添加剂的树脂组合物，将其成形为膜状而获得。对成形方法没有特别限定，可利用浇铸法或熔融挤出法等的公知方法。另外，也可使用市售的树脂制膜作为树脂制基材。
上述含无机化合物等的层是具有阻气性的层。
含无机化合物等的层可形成于树脂制基材的单面上、也可形成于树脂制基材的双面上。另外，含无机化合物等的层可为单层、也可为多个层层合而得的层。
作为含无机化合物等的层中所含的无机化合物，可举出：氧化硅、氧化铝、氧化镁、氧化锌、氧化铟、氧化锡等的无机氧化物；氮化硅等的无机氮化物；无机碳化物；无机硫化物；作为这些复合物的无机氧氮化物；无机氧碳化物；无机氮碳化物；无机氧氮碳化物等。
作为含无机化合物等的层中所含的金属，可举出：铝、镁、锌、锡等。
对含无机化合物等的层的厚度没有特别限制，通常为20nm至50μm、优选为30nm至1μm、更优选为40nm至500nm。
作为形成含无机化合物等的层的方法，没有特别限定。例如可举出：将上述无机化合物或金属，利用蒸镀法、溅射法、离子电镀法、热CVD法、等离子体CVD法等形成于树脂制基材上的方法(方法1)；将由上述无机化合物或金属溶解或分散于有机溶剂中而得的溶液，利用公知的涂布方法涂布于树脂制基材上，再将所获得的涂膜适度地干燥而形成的方法(方法2)；在树脂制基材上，直接或隔着其他层，形成含有含硅高分子化合物的层(含硅高分子化合物层)之后，再将该含硅高分子化合物层的表面进行改性的方法(方法3)等。需要说明的是，在利用方法3形成含无机化合物等的层的情况下，“含无机化合物等的层”是指将经改性的表面部与未改性的内部合在一起的层。
作为含硅高分子化合物，可举出：聚硅氮烷系化合物、聚碳硅烷系化合物、聚硅烷系化合物、聚有机硅氧烷系化合物、聚(亚乙硅烷基亚苯)系化合物、和聚(亚乙硅烷基亚乙炔)系化合物等。
上述含硅高分子化合物层，除含硅高分子化合物之外，也可在不妨碍本发明目的之范围内含有其他成分。作为其他成分，可举出：固化剂、抗老化剂、光稳定剂、阻燃剂等。
含硅高分子化合物层中的含硅高分子化合物的含量，从可获得阻气性更优异的阻气膜的观点出发，优选50质量%以上、更优选70质量%以上。
对含硅高分子化合物层的厚度没有特别限制，通常为20nm至50μm、优选为30nm至1μm、更优选为40nm至500nm。
含硅高分子化合物层例如可以通过将由高分子化合物溶解或分散于有机溶剂中而得的溶液，利用公知的涂布方法涂布于树脂制基材上，将所获得的涂膜适度地干燥而形成。
作为含硅高分子化合物层的表面的改性方法，可举出：离子注入处理、等离子体处理、紫外线照射处理、热处理等。
如后所述，离子注入处理是将经加速的离子注入至含硅高分子化合物层中，而改性含硅高分子化合物层的方法。
等离子体处理是将含硅高分子化合物层暴露于等离子体中，而改性含硅高分子化合物层的方法。例如可以依照日本特开2012-106421号公报中所记载的方法进行等离子体处理。
紫外线照射处理是对含硅高分子化合物层照射紫外线，而改性含硅高分子化合物层的方法。例如可以依照日本特开2013-226757号公报中所记载的方法，进行紫外线改性处理。
这些之中，从不会使含硅高分子化合物层的表面粗糙、可有效地改性至其内部、可获得阻气性更优异的阻气膜的观点出发，作为改性含硅高分子化合物层的表面的方法，优选离子注入处理。
作为方法3中的更优选方法，可举出下述的方法：在树脂制基材上，直接或隔着其他层，形成含有聚硅氮烷系化合物的层(以下，有时称为“聚硅氮烷层”)之后，再对该聚硅氮烷层的表面利用离子注入处理进行改性。
聚硅氮烷层中所含的聚硅氮烷系化合物是分子内具有包含-Si-N-键(硅氮烷键)的重复单元的化合物。具体而言，优选具有由式(1)所表示的重复单元的化合物。
[化学式1]
Figure 6093DEST_PATH_IMAGE001
另外，对待使用的聚硅氮烷系化合物的数均分子量没有特别限定，优选为100~50,000。
上述式(1)中，n表示任意的自然数。Rx、Ry、Rz各自独立地表示氢原子、无取代或具有取代基的烷基、无取代或具有取代基的环烷基、无取代或具有取代基的烯基、无取代或具有取代基的芳基或烷基甲硅烷基等的非水解性基团。
作为上述无取代或具有取代基的烷基的烷基，例如可举出：甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、新戊基、正己基、正庚基、正辛基等的碳数1~10的烷基。
作为无取代或具有取代基的环烷基的环烷基，例如可举出：环丁基、环戊基、环己基、环庚基等的碳数3~10的环烷基。
作为无取代或具有取代基的烯基的烯基，例如可举出：乙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基、1-丁烯基、2-丁烯基、3-丁烯基等的碳数2~10的烯基。
作为上述烷基、环烷基和烯基的取代基，可举出：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等的卤原子；羟基；硫醇基；环氧基；环氧丙氧基；(甲基)丙烯酰氧基；苯基、4-甲基苯基、4-氯苯基等的无取代或具有取代基的芳基等。
作为无取代或具有取代基的芳基的芳基，例如可举出：苯基、1-萘基、2-萘基等的碳数6~15的芳基。
作为上述芳基的取代基，可举出：氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等的卤原子；甲基、乙基等的碳数1~6的烷基；甲氧基、乙氧基等的碳数1~6的烷氧基；硝基；氰基；羟基；硫醇基；环氧基；环氧丙氧基；(甲基)丙烯酰氧基；苯基、4-甲基苯基、4-氯苯基等的无取代或具有取代基的芳基等。
作为烷基甲硅烷基，可举出：三甲基甲硅烷基、三乙基甲硅烷基、三异丙基甲硅烷基、三叔丁基甲硅烷基、甲基二乙基甲硅烷基、二甲基甲硅烷基、二乙基甲硅烷基、甲基甲硅烷基、乙基甲硅烷基等。
这些之中，作为Rx、Ry、Rz，优选氢原子、碳数1~6的烷基、或苯基，特别优选氢原子。
作为具有由上述式(1)所表示的重复单元的聚硅氮烷系化合物，可以是Rx、Ry、Rz全部为氢原子的无机聚硅氮烷，Rx、Ry、Rz的至少1个不为氢原子的有机聚硅氮烷中的任一种。
另外，在本发明中，作为聚硅氮烷系化合物，也可使用聚硅氮烷改性物。作为聚硅氮烷改性物，例如可举出：日本特开昭62-195024号公报、日本特开平2-84437号公报、日本特开昭63-81122号公报、日本特开平1-138108号公报等、日本特开平2-175726号公报、日本特开平5-238827号公报、日本特开平5-238827号公报、日本特开平6-122852号公报、日本特开平6-306329号公报、日本特开平6-299118号公报、日本特开平9-31333号公报、日本特开平5-345826号公报、日本特开平4-63833号公报等中所记载的化合物。
这些之中，作为聚硅氮烷系化合物，从易获取性和可形成具有优异的阻气性的离子注入层的观点出发，优选Rx、Ry、Rz全部为氢原子的全氢聚硅氮烷。
另外，作为聚硅氮烷系化合物，也可直接使用作为玻璃涂层材料等而市售的市售品。
聚硅氮烷系化合物可单独使用1种、或组合使用2种以上。
对形成聚硅氮烷层的方法没有特别限定。例如可以通过调制含有聚硅氮烷系化合物中的至少一种、根据需要的其他成分、和溶剂等的聚硅氮烷层形成用溶液，接着将该聚硅氮烷层形成用溶液利用公知的方法进行涂布，将所获得的涂膜进行干燥，而形成聚硅氮烷层。
作为聚硅氮烷层形成用溶液所使用的溶剂，可举出：苯、甲苯等的芳香族烃系溶剂；乙酸乙酯、乙酸丁酯等的酯系溶剂；丙酮、甲乙酮、甲基异丁酮等的酮系溶剂；正戊烷、正己烷、正庚烷等的脂肪族烃系溶剂；环戊烷、环己烷等的脂环式烃系溶剂等。
这些溶剂可单独使用1种、或组合使用2种以上。
作为聚硅氮烷层形成用溶液的涂布方法，可举出：棒涂法、旋涂法、浸渍法、辊涂法、凹版涂布法、刮刀涂布法、气刀涂布法、辊式刮刀涂布法、模头涂布法、丝网印刷法、喷涂法、凹版胶印法等。
通过将所获得的涂膜进行干燥，可以形成聚硅氮烷层。对涂膜的干燥方法没有特别限定。例如可采用热风干燥、热辊干燥、红外线照射等的以往公知的干燥方法。加热温度通常为80~150℃，加热时间通常为数十秒至数十分钟。
作为注入至聚硅氮烷层中的离子，可举出：氩、氦、氖、氪、氙等的稀有气体的离子；氟碳、氢、氮、氧、二氧化碳、氯、氟、硫等的离子；甲烷、乙烷等的烷烃系气体类的离子；乙烯、丙烯等的烯烃系气体类的离子；戊二烯、丁二烯等的二烯烃系气体类的离子；乙炔等的炔烃系气体类的离子；苯、甲苯等的芳族烃系气体类的离子；环丙烷等的环烷烃系气体类的离子；环戊烯等的环烯烃系气体类的离子；金属的离子；有机硅化合物的离子等。
这些离子可单独使用1种、或组合使用2种以上。
这些之中，从可更简便地注入离子、可获得具有更优异阻气性的阻气膜的观点出发，优选氩、氦、氖、氪、氙等的稀有气体的离子。
离子的注入量是可配合阻气性层合膜的使用目的(必要的阻气性、透明性等)等而适宜确定。
作为注入离子的方法，可举出：照射利用电场加速的离子(离子束)的方法、注入等离子体中的离子的方法等。其中，从可简便地形成目标阻气层的观点出发，优选后者的注入等离子体离子的方法(等离子体离子注入法)。
关于等离子体离子注入法，例如可如下进行：在含有稀有气体等的等离子体生成气体的环境下发生等离子体，对聚硅氮烷层施加负的高电压脉冲，由此，将该等离子体中的离子(阳离子)注入至聚硅氮烷层的表面部。更具体而言，等离子体离子注入法可以利用WO2010/107018号小册子等中所记载的方法进行实施。
利用离子注入而被注入离子的区域的厚度，可依照离子的种类或施加电压、处理时间等的注入条件进行控制，可根据聚硅氮烷层的厚度或阻气性层合膜的使用目的等而确定，通常为10~400nm。
关于被注入了离子，这可以通过使用X射线光电子分光分析(XPS)，进行距聚硅氮烷层的表面10nm附近的元素分析测定来确认。
通过进行截至目前所说明的方法，可以利用离子注入处理，改性聚硅氮烷层的表面。
另外，通过同样的方法，利用离子注入处理，可以改性聚硅氮烷层以外的前体层的表面。
(底漆层)
构成本发明的阻气性层合膜的底漆层是与由上述阻气膜构成的阻气层直接接触的层，由本发明的底漆层形成用固化性组合物的固化物构成的层。
关于底漆层，是在本发明的阻气性层合膜上进一步层合含有有机化合物的层时，有助于层间粘附性的提升。
对底漆层的厚度没有特别限定，可配合阻气性层合膜的使用目的等而适宜确定。底漆层的厚度通常为0.05~2.5μm、优选为0.10~1.0μm。
底漆层可以通过将本发明的底漆层形成用固化性组合物(底漆层形成用涂布液)，涂布于阻气膜的单面或双面上，再将所获得的涂膜根据需要进行干燥之后，使涂膜固化而形成。
作为涂布底漆层形成用涂布液的方法，可使用通常的湿式涂布方法。例如可举出：浸渍法、辊涂布、凹版涂布、刮刀涂布、气刀涂布、辊式刮刀涂布、模头涂布、丝网印刷法、喷涂、凹版胶印法等。
作为将涂膜进行干燥的方法，可举出：热风干燥、热辊干燥、红外线照射等以往公知的干燥方法。
作为将涂膜进行固化的方法，没有特别限定，可采用公知的方法。例如在底漆层形成用固化性组合物含有光聚合引发剂的情况下，通过对涂膜照射活性能量线可以使涂膜固化。活性能量线可使用高压水银灯、无电极灯、氙灯等照射。
活性能量线的波长优选为200~400nm、更优选为350~400nm。照射量通常是照度为50~1000mW/cm2、光量为50~5000mJ/cm2、优选为1000~5000mJ/cm2的范围。照射时间通常为0.1~1000秒、优选为1~500秒、更优选为10~100秒。考虑光照射工序的热负荷，为了满足前述的光量也可进行多次照射。
另外，通过对涂膜层照射电子束，也可使涂膜固化。在照射电子束的情况下，通常即使未利用光聚合引发剂，也可使涂膜固化。在照射电子束的情况下，可以使用电子束加速器等。照射量通常为10~1000krad的范围。照射时间通常为0.1~1000秒、优选为1~500秒、更优选为10~100秒。
(阻气性层合膜)
本发明的阻气性层合膜的特征在于，具有上述阻气层、及与该阻气层直接接触的底漆层，且至少一侧的最外层是上述底漆层。
通过使阻气性层合膜的至少一侧的最外层是上述底漆层，可以在其表面上粘附性良好地形成含有有机化合物的层。
作为含有有机化合物的层，可举出：保护层、粘结剂层、量子点层等。
这些含有有机化合物的层，与后述的阻气性层合体中的含有有机化合物的层同样。
关于阻气性层合膜，除底漆层之外，也可具有与阻气层直接接触的层。作为该层，可举出：保护层、粘结剂层等。
作为本发明的阻气性层合膜的层构成的实例，可举出下面的层结构，但并不限定于这些。
(i) 阻气层/底漆层
(ii) 底漆层(A)/阻气层/底漆层(B)
(iii) 粘结剂层/阻气层/底漆层
(iv) 硬涂层/阻气层/底漆层
对本发明的阻气性层合膜的厚度没有特别限定，优选为1~600μm、更优选为5~200μm、特别优选为20~100μm。
本发明的阻气性层合膜的水蒸气透过率，在40℃、相对湿度90%的环境下，优选为5.0g/m2/天以下、更优选为0.5g/m2/天以下。对下限值没有特别限制，越小越好，通常为1×10-6g/m2/天以上。
水蒸气透过率可以利用实施例中所记载的方法进行测定。
本发明的阻气性层合膜优选为透明性优异的膜。根据JIS K7361-1所测定的本发明的阻气性层合膜的总透光率优选80%以上、更优选85%以上。
本发明的阻气性层合膜可粘附性良好地形成阻气性优异、且表面含有有机化合物的层。所以，本发明的阻气性层合膜可以适合用作制造更高性能的阻气性层合体时的材料膜。
2) 阻气性层合体
本发明的阻气性层合体是在构成本发明的阻气性层合膜的最外层的底漆层上，层合有含有有机化合物的层而成的层合体。
作为在底漆层上所形成的含有有机化合物的层，可举出：保护层、粘结剂层、量子点层等。
保护层是从外部施加冲击时，具有保护阻气性层合体的作用的层。
作为保护层，优选透明性佳、耐擦伤性良好的层。另外，在阻气性层合体组装于电子设备或光学设备时，将保护层配置于最表面的情况下，优选具备防污性、抗指纹防附着性、抗静电性、防水性、亲水性等的功能。
对保护层的材料没有特别限制，可使用公知的材料。例如：含硅化合物；包含由光聚合性单体和/或光聚合性预聚物构成的光聚合性化合物、和至少利用可见光区的光而发生自由基的聚合引发剂的聚合性组合物；聚酯系树脂、聚氨酯系树脂(特别是聚丙烯酸多元醇、聚酯多元醇、聚醚多元醇等与异氰酸酯化合物的双液固化型树脂)、丙烯酸系树脂、聚碳酸酯系树脂、氯乙烯/乙酸乙烯酯共聚物、聚乙烯醇缩丁醛系树脂、硝化纤维素(硝酸纤维素)系树脂等的树脂类；烷基钛酸酯；乙烯亚胺等。
这些可单独使用一种、或组合使用二种以上。
可以使用活性能量线固化型化合物和光聚合引发剂等。
保护层可以通过将由上述材料溶解或分散于适当的溶剂而成的保护层形成用涂布液，利用公知的方法涂布于底漆层上，再将所获得的涂膜根据需要进行干燥之后，使涂膜固化而形成。
作为保护层形成用涂布液的涂布方法或涂膜的干燥、固化方法，可举出：与作为底漆层的形成方法所说明的方法同样的方法。
对保护层的厚度没有特别限制，可适当选定。保护层的厚度通常为0.05~10μm、优选为0.1~8.0μm、更优选为0.2~5μm。
粘结剂层是对阻气性层合体赋予粘结性的层。
对构成粘结剂层的粘结剂的种类没有特别限定。作为粘结剂层，可举出：丙烯酸系粘结剂、氨基甲酸乙酯系粘结剂、有机硅系粘结剂、橡胶系粘结剂等。
对粘结剂层的厚度没有特别限制，可适当选定。粘结剂层的厚度通常为0.5~100μm、优选为1~60μm、更优选为3~40μm。
量子点层是量子点分散于高分子化合物中而成的层。
量子点是直径为数nm的金属化合物，具有特有的光吸收性等。
通过具有量子点层，使阻气性层合体适合用作光学部件等的材料膜。
对量子点层的厚度没有特别限制，可适当选定。量子点层的厚度通常为1~500μm、优选为10~400μm、更优选为5~200μm。
作为本发明的阻气性层合体的层构成的实例，可举出下面的层结构，但并不限定于这些。
(i) 阻气层/底漆层/保护层
(ii) 阻气层/底漆层/粘结剂层
(iii) 阻气层/底漆层/量子点层
(iv) 底漆层(A)/阻气层/底漆层(B)/保护层
(v) 底漆层(A)/阻气层/底漆层(B)/粘结剂层
(vi) 底漆层(A)/阻气层/底漆层(B)/量子点层
(vii) 粘结剂层/阻气层/底漆层/保护层
(viii) 粘结剂层/阻气层/底漆层/粘结剂层
(ix) 粘结剂层/阻气层/底漆层/量子点层
(x) 硬涂层/阻气层/底漆层/保护层
(xi) 硬涂层/阻气层/底漆层/粘结剂层
(xii) 硬涂层/阻气层/底漆层/量子点层
本发明的阻气性层合体是阻气性优异、且层间粘附性优异的层。所以，本发明的阻气性层合体适合用作电子设备用部件。
实施例
以下，举出实施例对本发明进行更详细地说明。但是，本发明并不仅局限于以下的实施例。
关于各例中的“份”和“%”，在无特别说明的前提下，是指质量基准。
[制造例1] 阻气膜(1)的制造
在厚度为50μm的聚对苯二甲酸乙二酯膜(以下称为“PET膜(1)”)(东洋纺公司制、PET50A4300)上，使用旋涂机(MIKASA公司制、MS-A200、转数：3000rpm、旋转时间：30秒)，涂布以全氢聚硅氮烷为主要成分的涂布剂(AZ Electronic Materials公司制、AQUAMICANL110-20、溶剂：二甲苯、浓度：10%)，而形成涂膜，通过将所获得的带涂膜的PET膜(1)，于120℃加热2分钟，在PET膜(1)上形成了厚度为150nm的聚硅氮烷层。
其次，对上述聚硅氮烷层使用等离子体离子注入装置，依照下述条件进行等离子体离子注入，通过将聚硅氮烷层的表面进行改性，获得了阻气膜(1)。
[等离子体离子注入的处理条件]
等离子体生成气体：氩
气体流量：100sccm
Duty比：0.5%
重复频率：1000Hz
施加电压：-10kV
RF输出功率：1000W
RF电源：(频率)13.56MHz、(施加电力)1000W
腔内压：0.2Pa
脉冲宽度：5μsec
处理时间(离子注入时间)：5分钟
输送速度：0.2m/分钟
[制造例2] 阻气膜(2)的制造
利用真空蒸镀法，在PET膜(1)上形成膜厚50nm的氧化硅膜，获得了阻气膜(2)。
[制造例3] 阻气膜(3)的制造
利用真空蒸镀法，在PET膜(1)上形成膜厚20nm的氧化铝膜，获得了阻气膜(3)。
[实施例1] 底漆层形成用涂布液(1)的调制
将含极性基团的聚烯烃系聚合物(1)(三井化学公司制、UNISTOLE P-801)100份、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯(新中村化学工业公司制、A-DCP)(多官能丙烯酸酯系化合物(1))5份、二季戊四醇六丙烯酸酯(新中村化学工业公司制、A-DPH)(多官能丙烯酸酯系化合物(2))5份、光聚合引发剂(1)(BASF公司制IRGACURE 184)0.3份、甲苯846份混合，获得了底漆层形成用涂布液(1)。
[实施例2] 底漆层形成用涂布液(2)的调制
将含极性基团的聚烯烃系聚合物(1)100份、多官能丙烯酸酯系化合物(1)5份、多官能丙烯酸酯系化合物(2)5份、光聚合引发剂(1)0.3份、聚异氰酸酯系交联剂(1)(NipponPolyurethane Industry公司制、CORONATE HX)5份、硅烷偶联剂(1)(信越化学工业公司制、KBM-403)0.3份、甲苯846份混合，获得了底漆层形成用涂布液(2)。
[实施例3] 底漆层形成用涂布液(3)的调制
在实施例1中，除代替含极性基团的聚烯烃系聚合物(1)，而使用含极性基团的聚烯烃系聚合物(2)(三井化学公司制、UNISTOLE P-901)之外，与制造例2同样地操作，获得了底漆层形成用涂布液(3)。
[实施例4] 底漆层形成用涂布液(4)的调制
将含极性基团的聚烯烃系聚合物(1)100份、三(2-丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯(新中村化学工业公司制、A-9300)(多官能丙烯酸酯系化合物(3))10份、光聚合引发剂(1)0.3份、甲苯846份混合，获得了底漆层形成用涂布液(4)。
[比较例1] 底漆层形成用涂布液(5)的调制
将含极性基团的聚烯烃系聚合物(3)(日本造纸化学公司制、AUROREN 353S)70份、萜烯酚树脂(1)(YASUHARA CHEMICAL公司制、YS Polystar TH130)30份、甲苯900份混合，获得了底漆层形成用涂布液(5)。
[实施例5]
在制造例1所获得的阻气膜(1)的改性处理面上，使用绕线棒，以成为膜厚150nm的方式，涂布了实施例1所获得的底漆层形成用涂布液(1)。
所获得的涂膜于110℃干燥1分钟之后，对所获得的涂膜使用无电极UV灯系统(贺利氏公司制)，以照度140mW/cm2、光量300mJ/cm2进行UV照射而形成底漆层，获得了阻气性层合膜(α1)。
其次，在该阻气性层合膜(α1)的底漆层上，以膜厚成为10μm的方式，层合UV固化系丙烯酸酯树脂(1)(JSR公司制Opstar Z7530)之后，对所获得的层合物，使用无电极UV灯系统(贺利氏公司制)，以照度140mW/cm2、光量800mJ/cm2进行UV照射而使其固化，获得了阻气性层合体(β1)。
[实施例6]
在实施例5中，除代替底漆层形成用涂布液(1)，而使用实施例2所获得的底漆层形成用涂布液(2)之外，与实施例5同样地操作，获得了阻气性层合膜(α2)和阻气性层合体(β2)。
[实施例7]
在实施例5中，除代替底漆层形成用涂布液(1)，而使用实施例3所获得的底漆层形成用涂布液(3)之外，与实施例5同样地操作，获得了阻气性层合膜(α3)和阻气性层合体(β3)。
[实施例8]
在实施例5中，除代替底漆层形成用涂布液(1)，而使用实施例4所获得的底漆层形成用涂布液(4)之外，与实施例5同样地操作，获得了阻气性层合膜(α4)和阻气性层合体(β4)。
[实施例9]
在实施例5中，除代替阻气膜(1)，而使用制造例2所获得的阻气膜(2)之外，与实施例5同样地操作，获得了阻气性层合膜(α5)和阻气性层合体(β5)。
[实施例10]
在实施例5中，除代替阻气膜(1)，而使用制造例3所获得的阻气膜(3)之外，与实施例5同样地操作，获得了阻气性层合膜(α6)和阻气性层合体(β6)。
[比较例2]
在实施例5中，在未形成底漆层情况下，在阻气膜(1)上直接以膜厚成为10μm的方式层合UV固化系丙烯酸酯树脂(1)之后，对所获得的层合物，使用无电极UV灯系统(贺利氏公司制)，以照度140mW/cm2、光量800mJ/cm2进行UV照射而使其固化，获得了阻气性层合膜(7)。
[比较例3]
在实施例5中，除代替使用底漆层形成用涂布液(1)形成底漆层，将有机无机混合树脂(JSR公司制、Opstar Z7530)涂布于阻气膜(1)上，经干燥获得了涂膜，再通过对该涂膜进行UV照射，形成膜厚150nm的底漆层之外，与实施例5同样地操作，获得了阻气性层合膜(α8)和阻气性层合体(β8)。
[比较例4]
在实施例5中，除代替底漆层形成用涂布液(1)，使用比较例1所获得的底漆层形成用涂布液(5)之外，与实施例5同样地操作，获得了阻气性层合膜(α9)和阻气性层合体(β9)。
针对实施例5~10和比较例2~4所获得的阻气性层合体，进行了以下的评价。结果如表1所示。
[层间粘附性评价]
(层间粘附性评价1)
将阻气性层合膜(7)、阻气性层合体(β1)~(β6)、(β8)和(β9)用作试验片，根据JISK5600-5-6进行交叉切割试验(cross cut test)，依照以下的基准，评价了层间粘附性。
○：100块(mass)中，剥离的块数为0
△：100块中，剥离的块数为1~49
×：100块中，剥离的块数为50~100
(层间粘附性评价2)
除将试验片在60℃、相对湿度90%环境下静置250小时之外，进行了与层间粘附性试验1同样的试验。
[阻气性评价]
将阻气性层合膜(α1)~(α6)、(7)、(α8)、和(α9)作为测定试样，使用水蒸气透过率测定装置(mocon公司制、PERMATRAN)测定了其水蒸气透过率。测定在40℃、相对湿度90%环境下进行。
[透明性评价]
将阻气性层合膜(α1)~(α6)、(7)、(α8)和(α9)用作测定试样，根据JIS K7361-1测定总透光率，依照以下的基准，评价了透明性。
○：总透光率为80%以上
×：总透光率为不足80%
[表1]
Figure 588253DEST_PATH_IMAGE002
由表1得知以下的事项。
实施例5~10的阻气性层合体(β1)~(β6)具有良好的层间粘附性和水蒸气阻隔性。
特别是，实施例6的阻气性层合体(β2)，层间粘附性与水蒸气阻隔性均优异。
比较例2的阻气性层合膜(7)，由于不具有底漆层，因此层间粘附性差。
另外，比较例3、4的阻气性层合体(β8)、(β9)具有一般性组成的底漆层，这些均呈现出层间粘附性差。

Claims (9)

1.阻气性层合体，其是在构成下述的阻气性层合膜的最外层的底漆层上，层合有含有有机化合物的层而成的阻气性层合体，其中上述含有有机化合物的层是选自保护层、粘结剂层、和量子点层中的层，
所述阻气性层合膜是具有阻气层、及与上述阻气层直接接触的底漆层的阻气性层合膜，其特征在于，
上述阻气层是以阻气膜为材料的层，
上述底漆层是由底漆层形成用固化性组合物的固化物构成的层，
上述底漆层形成用固化性组合物至少含有：含极性基团的聚烯烃系聚合物、及多官能丙烯酸酯系化合物，
至少一侧的最外层是上述底漆层。
2.权利要求1所述的阻气性层合体，其中，上述底漆层形成用固化性组合物中含有的多官能丙烯酸酯系化合物的含量，相对于含极性基团的聚烯烃系聚合物100质量份，为5~30质量份。
3.权利要求1所述的阻气性层合体，其中，上述底漆层形成用固化性组合物进一步含有聚异氰酸酯系交联剂，且聚异氰酸酯系交联剂的含量，相对于含极性基团的聚烯烃系聚合物100质量份，为1~10质量份。
4.权利要求1所述的阻气性层合体，其中，上述底漆层形成用固化性组合物进一步含有硅烷偶联剂，且硅烷偶联剂的含量，相对于含极性基团的聚烯烃系聚合物100质量份，为0.01~5质量份。
5.权利要求1所述的阻气性层合体，其中，上述阻气膜的厚度是0.5~500μm。
6.权利要求1所述的阻气性层合体，其中，上述阻气膜是具有树脂制基材、及含有无机化合物和/或金属的层的层合膜。
7.权利要求6所述的阻气性层合体，其中，上述含有无机化合物和/或金属的层是经表面改性的含硅高分子化合物层。
8.权利要求1所述的阻气性层合体，其中，上述底漆层的厚度是0.05~2.5μm。
9.权利要求1所述的阻气性层合体，其中，上述阻气性层合膜进一步具有与上述阻气层直接接触的其他层。
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