CN108700825B - 曝光装置、平板显示器的制造方法、器件制造方法、遮光装置及曝光方法 - Google Patents

曝光装置、平板显示器的制造方法、器件制造方法、遮光装置及曝光方法 Download PDF

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Abstract

一种曝光方法，其具备将光罩(M)的图案投影至基板(P)的多个投影光学单元，使光罩(M)和基板(P)沿着X方向相对移动而将光罩(M)的图案在基板(P)进行曝光，该曝光方法包含：第1曝光工序，其在以第1倾斜角度对通过投影光学单元投影在基板(P)上的投影区域的‑Y侧端部进行了遮光的状态下，将图案A投影至基板(P)上的A区域；步进移动工序，其使基板(P)移动；和第2曝光工序，其在以第2倾斜角度对投影区域的+Y侧的端部进行了遮光的状态下，将图案B投影至至少一部分与A区域重叠的B区域。

Description

曝光装置、平板显示器的制造方法、器件制造方法、遮光装置 及曝光方法
技术领域
本发明涉及曝光装置、平板显示器的制造方法、器件制造方法、遮光装置及曝光方法，更详细而言，涉及经由投影光学系统在物体上形成规定图案的曝光装置及方法、经由投影光学系统在物体上形成规定图案的曝光装置所使用的遮光装置、以及使用了上述曝光装置或方法的平板显示器或器件的制造方法。
背景技术
以往，在制造液晶显示元件(液晶面板)、半导体元件等电子器件(微型器件)的光刻工序中，使用了步进扫描方式的曝光装置(所谓的扫描步进机(也被称为扫描机))等，这种曝光装置使光罩或标线片(以下统称为“光罩”)、和玻璃板或晶圆等(以下统称为“基板”)沿着规定的扫描方向同步移动，并使用能量束将形成在光罩的图案转印到基板上。
作为使用这种曝光装置在基板上形成图案的方法，已知有如下方法：利用形成在光罩上的图案(光罩图案)的周期性，将光罩图案在基板上接续，即所谓接合曝光(参照专利文献1)。
在用现有的曝光装置进行上述接合曝光的情况下，上述接合的自由度并不充分。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2004-335864号公报
发明内容
在第1实施方式中，提供一种曝光装置，其使物体相对于将规定图案投影至上述物体的投影光学系统沿着第1方向相对移动并进行曝光，该曝光装置具备：遮光部，其以对经由上述投影光学系统投影到上述物体上的投影区域中、根据上述第1方向的位置而上述物体上的照明量沿着与上述第1方向交叉的上述第2方向变化的规定区域进行遮光；和驱动部，其以使上述照明量变化的方式对上述遮光部进行驱动。
在第2实施方式中，提供一种平板显示器的制造方法，其包含：使用第1实施方式的曝光装置使上述基板曝光；和使曝光后的上述基板显影。
在第3实施方式中，提供一种器件制造方法，其包括：使用第1实施方式的曝光装置使上述基板曝光；和使曝光后的上述基板显影。
在第4实施方式中，提供一种遮光装置，其是曝光装置中使用的遮光装置，该曝光装置使物体相对于将规定图案投影至上述物体的投影光学系统沿着第1方向相对移动并进行扫描曝光，该遮光装置具备：遮光部，其对经由上述投影光学系统投影在上述物体上的投影区域中、根据上述第1方向的位置而上述物体上的照明量沿着与上述第1方向交叉的上述第2方向变化的规定区域进行遮光；和驱动部，其以使上述照明量变化的方式对上述遮光部进行驱动。
在第5实施方式中，提供一种曝光方法，其使物体相对于将规定图案投影至上述物体的投影光学系统沿着第1方向相对移动并进行扫描曝光，该曝光方法包含：利用遮光部，对经由上述投影光学系统投影在上述物体上的投影区域中、根据上述第1方向的位置而上述物体上的照明量沿着与上述第1方向交叉的上述第2方向变化的规定区域进行遮光；和以使上述照明量变化的方式对上述遮光部进行驱动。
在第6实施方式中，提供一种曝光方法，其使物体相对于将规定图案投影至上述物体的投影光学系统沿着第1方向相对移动并进行扫描曝光，该曝光方法包含：利用遮光部，对经由上述投影光学系统投影在上述物体上的投影区域中、根据上述第1方向的位置而上述物体上的照明量沿着与上述第1方向交叉的上述第2方向变化的规定区域进行遮光；和以使上述照明量变化的方式对上述遮光部进行驱动。
在第7实施方式中，提供一种平板显示器的制造方法，其包含：使用第6实施方式的曝光方法使上述基板曝光；和使曝光后的上述基板显影。
在第8实施方式中，提供一种器件制造方法，其包括：使用第6实施方式的曝光方法使上述基板曝光；和使曝光后的上述基板显影。
附图说明
图1是示意性表示一个实施方式的曝光装置的构成的图。
图2是用于说明图1的曝光装置所具有的照明光学系统及投影光学系统的构造的图。
图3的(a)是表示投影光学系统所具有的视场光阑和遮光板的配置的俯视图，图3的(b)是表示视场光阑和遮光板在光轴方向上的位置关系的图。
图4的(a)是表示遮光板的第1倾斜配置的图，图4的(b)是表示遮光板的第2倾斜配置的图。
图5的(a)是表示使用遮光板在投影区域的中央形成连接部的情况的图，图5的(b)是表示使用遮光板在投影区域的端部附近形成连接部的情况的图。
图6的(a)是表示使用2个遮光板形成连接部的情况的图，图6的(b)是表示用1个遮光板形成与图6的(a)同样的连接部的情况的图。
图7的(a)是表示以往的遮光板的图，图7的(b)是表示实施方式的遮光板的图，图7的(c)是表示具备多个实施方式的遮光板的情况的图。
图8的(a)～图8的(d)是用于说明由视场光阑和遮光板形成的开口的形态(第1模式～第4模式)的图。
图9是表示在基板上生成的投影区域的俯视图。
图10是接合(stitching)曝光的概念图。
图11的(a)是表示第1曝光方法的基板与光罩的关系的图，图11的(b)是用第1曝光方法对A区域进行扫描曝光时的图，图11的(c)是用第1曝光方法对B区域进行扫描曝光时的图。
图12的(a)是表示第2曝光方法的基板与光罩的关系的图，图12的(b)是用第2曝光方法对A区域进行扫描曝光时的图，图12的(c)是用第2曝光方法对B区域进行扫描曝光时的图。
图13的(a)是表示第3曝光方法的基板与光罩的关系的图，图13的(b)是用第3曝光方法对A区域进行扫描曝光时的图。
图14的(a)是用第3曝光方法对B区域进行扫描曝光时的图，图14的(b)是用第3曝光方法对C区域进行扫描曝光时的图。
图15的(a)是表示第4曝光方法的基板与光罩的关系的图，图15的(b)是用第4曝光方法对A区域进行扫描曝光时的图。
图16是用第4曝光方法对B区域进行扫描曝光时的图。
图17的(a)是表示第5曝光方法的基板与光罩的关系的图，图17的(b)是用第5曝光方法对A1区域进行扫描曝光时的图。
图18的(a)是用第5曝光方法对B1区域进行扫描曝光时的图，图18的(b)是用第5曝光方法对A2区域进行扫描曝光时的图。
图19是用第5曝光方法对B2区域进行扫描曝光时的图。
图20是进行接合曝光时的流程图。
图21是表示遮光板的驱动机构的变形例(其1)的图。
图22是表示遮光板的驱动机构的变形例(其2)的图。
图23的(a)及图23的(b)是表示遮光板的驱动机构的变形例(其3)的图(其1及其2)。
图24的(a)是表示遮光板的变形例的图，图24的(b)～图24的(e)是表示图24的(a)的遮光板的动作的图(其1～其4)。
图25是表示遮光板的驱动机构的详情的图。
图26是用于说明使用了光学滤光片的接合曝光的图。
具体实施方式
以下，使用图1～图20对一个实施方式进行说明。图1是表示一个实施方式的曝光装置EX的构成的立体图。在图1中，曝光装置EX具备：光罩载台MST，其支承光罩M；基板载台PST，其支承感光基板P(以下仅称为“基板P”)；照明光学系统IL，其以曝光用光EL对光罩M进行照明；投影光学系统PL，其将在光罩M形成的图案的投影像(以下称为“图案像”)转印到基板P、并将与该图案像对应的作为潜像的转印图案形成在基板P上；和控制装置CONT(图1中未图示，参照图2)，其统括控制曝光装置EX的动作。基板P是在玻璃基板上涂敷了感光剂(抗蚀剂)的基板，转印图案形成在该感光剂中。投影光学系统PL由并排设置的多个(图1中为7个)投影光学模块PLa～PLg构成，本实施方式中的曝光装置EX使光罩M和基板P相对于该投影光学系统PL同步移动(同步扫描)，并且以曝光用光EL对光罩M进行照明，将光罩M的图案像转印到基板P。
此处，在以下的说明中，将光罩M和基板P的同步移动方向(扫描方向)作为X轴方向，将在水平面内与扫描方向正交的方向设为Y轴方向(非扫描方向)，将与X轴方向及Y轴方向正交的方向设为Z轴方向。此外，将绕X轴、Y轴及Z轴的轴线方向分别设为θX、θY及θZ方向。
本实施方式的光罩载台装置具备：支承光罩M的光罩载台MST；在X轴方向具有较长的行程的线性引导部(未图示)；和由线性马达、音圈马达(VCM)等构成的光罩载台驱动部MSTD。当在控制装置CONT(参照图2)的控制下使光罩M和基板P同步移动时，光罩载台驱动部MSTD能够沿着X轴方向较长行程地驱动载有光罩M的光罩载台MST，并且为了对在包含X轴方向及Y轴方向的水平面内的光罩M的位置进行微调，能够沿着X轴方向、Y轴方向、Z轴方向及θZ方向驱动光罩载台MST。此外，光罩载台MST的水平面内的位置使用激光干涉仪测定，例如以0.5～1nm左右的分辨率随时进行检测。该激光干涉仪的计测值被发送至控制装置CONT，以对光罩载台MST的X轴方向、Y轴方向、Z轴方向及θZ方向的位置进行控制。
透过光罩M后的曝光用光EL分别射入到投影光学模块PLa～PLg。投影光学模块PLa～PLg被支承在平台150上，使基于曝光用光EL的与光罩M上的照射区域对应的图案像在基板P上成像。投影光学模块PLa、PLc、PLe、PLg和投影光学模块PLb、PLd、PLf分别沿着Y轴方向以规定间隔配置。此外，投影光学模块PLa、PLc、PLe、PLg的列与投影光学模块PLb、PLd、PLf的列沿着X轴方向隔开配置，整体上沿着Y轴方向配置为交错状。投影光学模块PLa～PLg分别具有多个光学元件(透镜等)。透过各投影光学模块PLa～PLg的曝光用光EL将与光罩M上的照射区域对应的图案像在基板P上的不同的各个投影区域50a～50g成像。
基板载台PST具有基板保持件PH，借助该基板保持件PH保持基板P。基板载台PST与光罩载台MST同样地，能够沿着X轴方向、Y轴方向及Z轴方向移动，而且还能够沿着θX、θY及θZ方向移动。基板载台PST在控制装置CONT(参照图2)的控制下通过由线性马达等构成的基板载台驱动部PSTD而被驱动。
此外，在-X侧的投影光学模块PLa、PLc、PLe、PLg的列与+X侧的投影光学模块PLb、PLd、PLf的列之间配置有检测光罩M的图案面及基板P的曝光面在Z轴方向上的位置的对焦检测系统110。对焦检测系统110配置多个斜入射方式的焦点检测系统而构成。对焦检测系统110的检测结果输出至控制装置CONT(参照图2)，控制装置CONT基于对焦检测系统110的检测结果进行控制，以使光罩M的图案面与基板P的曝光面形成规定的间隔及平行度。
控制装置CONT与存储部120(分别参照图2)连接，基于存储在存储部120的配方信息等，监测光罩载台MST及基板载台PST的位置并控制基板载台驱动部PSTD及光罩载台驱动部MSTD，从而使光罩M与基板P沿着X轴方向同步移动。
图2是表示照明光学系统IL及投影光学系统PL的构成的图。如图2所示，照明光学系统IL具备：由超高压水银灯等构成的光源1；将从光源1射出的光聚光的椭圆镜1a；对由该椭圆镜1a聚光的光中曝光所需的波长的光进行反射，并使其他波长的光透过的分色镜2；使由分色镜2反射的光中仅含有进一步曝光所需的波长(通常为g、h、i线中的至少1个频带)的光作为曝光用光通过的波长选择滤光片3；和将来自波长选择滤光片3的曝光用光分支为多条(本实施方式中为7条)，而使之经由反射镜5射入各照明系统模块IMa～IMg的导光件4。此处，在本实施方式中，作为构成照明光学系统IL的照明系统模块IM，与7个投影光学模块PLa～PLg对应地设有7个照明系统模块IMa～IMg。但是，在图2中，为方便起见，仅示出与投影光学模块PLf对应的照明系统模块IMf。照明系统模块IMa～IMg分别在X轴方向和Y轴方向上具有规定的间隔，且与投影光学模块PLa～PLg分别对应地配置。并且，从各个照明系统模块IMa～IMg射出的曝光用光EL与投影光学模块PLa～PLg对应地对光罩M上的不同的照射区域进行照明。
照明系统模块IMa～IMg分别具备：照明快门6；中继透镜7；作为光学积分器的复眼透镜8；和聚光透镜9。照明快门6相对于光路插拔自如地配置在导光件4的光路下游侧。照明快门6在配置于光路内时遮蔽曝光用光，在从光路退避时解除该遮蔽。照明快门6与快门驱动部6a连接。快门驱动部6a由控制装置CONT控制。
此外，照明系统模块IMa～IMg分别具有光量调整机构10。光量调整机构10通过对每条光路设定曝光用光的照度来调整曝光量，其具备半反射镜11、检测器(detector)12、滤光片13和滤光片驱动部14。半反射镜11配置在滤光片13与中继透镜7间的光路中，使透过滤光片13的曝光用光的一部分入射到检测器12。检测器12独立地检测入射的曝光用光的照度，并将检测到的照度信号向控制装置CONT输出。滤光片13形成为透过率沿着X轴方向在规定范围内线性地逐渐变化，并配置在各光路中的照明快门6与半反射镜11之间。滤光片驱动部14基于控制装置CONT的指示使滤光片13沿着X轴方向移动，由此按每条光路调整曝光量。
透过光量调整机构10的光束经由中继透镜7到达复眼透镜8。复眼透镜8在射出面侧形成二次光源，来自该二次光源的曝光用光EL在通过聚光透镜9，并通过具备直角棱镜16、透镜系统17、凹面镜18的反射折射型光学系统15后，对光罩M上的照射区域均匀地进行照明。另外，也可以省略反射折射型光学系统15。即也可以使通过聚光透镜9的光束直接照射在光罩M上。由此，能够使照明光学系统IL乃至曝光装置EX小型化。
投影光学模块PLa～PLg分别具备：像位移机构19、对焦位置调整机构31、两组反射折射型光学系统21、22、视场光阑20和倍率调整机构23。像位移机构19通过使2片平行平面板玻璃分别沿着θY方向或θX方向旋转，而使光罩M的图案像沿着X轴方向或Y轴方向位移。此外，对焦位置调整机构31具备1对楔形棱镜，通过使光路中的楔形棱镜的厚度总和变化而使图案像的像面位置变化，通过使至少一方的楔形棱镜绕光轴旋转而使图案像的像面的倾斜角度变化。透过光罩M的曝光用光EL在从像位移机构19、对焦位置调整机构31透过后，入射到第1组反射折射型光学系统21。反射折射型光学系统21是形成光罩M的图案的中间像的系统，具备直角棱镜24、透镜系统25和凹面镜26。直角棱镜24在θZ方向上自由旋转，从而能够使光罩M的图案像旋转。
视场光阑20配置于反射折射型光学系统21形成的中间像的像面或其附近。视场光阑20设定基板P上的投影区域。透过视场光阑20的曝光用光EL入射到第2组反射折射型光学系统22。反射折射型光学系统22与反射折射型光学系统21同样地具备直角棱镜27、透镜系统28和凹面镜29。直角棱镜27也在θZ方向上自由旋转，从而能够使光罩M的图案像旋转。
从反射折射型光学系统22射出的曝光用光EL从倍率调整机构23通过，在基板P上正立等倍率地成像出光罩M的图案像。倍率调整机构23沿着Z轴依次具有第1平凸透镜、双凸透镜及第2平凸透镜，通过使双凸透镜沿着Z轴方向移动，从而使光罩M的图案像的倍率发生变化。
图3的(a)是表示各投影光学模块PLa～PLg所具备的视场光阑20的图。视场光阑20配置在与光罩M及基板P大致共轭的位置。各投影光学模块PLa～PLg分别具有视场光阑20，各投影光学模块PLa～PLg的基板P上的投影区域50a～50g分别由形成在对应的视场光阑20中的开口K设定。在本实施方式中，各开口K形成为具有平行于Y轴方向的2边的等腰梯形、或具有平行于Y轴方向的2边和平行于X轴方向的1边的梯形，投影区域50a～50g被设定为与各自对应的开口K成为共轭关系的梯形形状。
另外，在图3的(a)中，视场光阑20图示为形成有梯形开口的俯视下呈矩形的板状部件，但实际上，如图3的(b)所示，包含设定开口K的Y轴方向的宽度的边缘(端部)的光阑部件20y与包含设定开口K的X轴方向的宽度的边缘(端部)的光阑部件20x被设为分体部件。并且，上述光阑部件20y、20x中，光阑部件20y配置在与光罩M及基板P的共轭面CP上，光阑部件20x配置在比共轭面CP稍许靠近曝光用光EL的入射侧(+Z侧)的位置。
返回图3的(a)，投影光学模块PLa～PLg中，投影光学模块PLf具有遮光板30。遮光板30是俯视下(从Z轴方向观察)呈大致长方形的板部件，如图3的(b)所示，遮光板30相对于投影光学模块PLf所具备的视场光阑20配置在曝光用光EL的出射侧(-Z侧)。
返回图3的(a)，利用后述的驱动机构80(参照图8的(a)等)，遮光板30能够在第1倾斜配置(参照图4的(a))与第2倾斜配置(参照图4的(b))之间驱动，在第1倾斜配置中，遮光板30的+Y侧的长边与形成视场光阑20的开口K的+Y侧的端部(斜边)大致平行，在第2倾斜配置中，遮光板30的-Y侧的长边与形成视场光阑20的开口K的-Y侧的端部(斜边)大致平行。由此，遮光部件30在第1倾斜配置(第1倾斜角度)与第2倾斜配置(第2倾斜角度)之间移动，从而能够变更利用投影光学模块PLf生成的投影区域50f的形状。另外，第1倾斜角度及第2倾斜角度由梯形投影区域的倾斜角度而定。例如，关于图4的(a)所示的第1倾斜角度，遮光板30相对于Y轴方向的倾斜角度与梯形的投影区域50f的+Y轴方向的端边的倾斜角度平行。此外，关于图4的(b)所示的第2倾斜角度，遮光板30相对于Y轴方向的倾斜角度与梯形投影区域50f的-Y轴方向的端边的倾斜角度平行。即，能够根据投影区域的形状来任意决定遮光板30的倾斜角度(第1倾斜角度及第2倾斜角度)。
此外，遮光板30能够利用驱动机构80(参照图8的(a)等)沿着Y轴方向直进移动，且能够设定变更利用投影光学模块PLf生成的投影区域50f在Y轴方向上的宽度。此外，遮光板30通过沿着Y轴方向直进移动，也能够移动至不与开口K重叠的位置，即开口K仅由视场光阑20设定的位置。
此处，对使用以往的遮光板的实施例与使用了遮光板30的本实施方式的不同进行说明。
图5的(a)～图6的(b)记载了示出进行接合曝光时的投影区域与遮光部的位置关系的图。在图5的(a)～图6的(b)中的纸面右侧，示出了由上述实施方式中所使用的多个投影光学模块在基板上投影的投影区域的一部分(投影区域50e～50g)和通过遮蔽曝光用光而规定投影区域的遮光板30。此外，在图5的(a)～图6的(b)中的纸面左侧，示出了将投影区域配置为一列的形态。
如图5的(a)所示，当在投影区域50e的X轴方向的投影宽度在Y轴方向上大致一定的区域、即梯形的投影区域50e的中心部进行图案接合的情况下，将遮光板30配置在投影区域50e的中心部，由此能够形成投影宽度沿着Y轴方向变化的曝光量的倾斜部G(连接部)。
但是，如图5的(b)所示，当在投影区域50e的X轴方向的投影宽度沿着Y轴方向变化的区域、即梯形的投影区域中的端部区域进行图案接合的情况下，若想仅由规定投影区域50e的遮光部30形成曝光量的倾斜部G，则在倾斜部G曝光量变得过多，以致无法进行图案接合。
于是，如图6的(a)所示，如果在投影区域50e的遮光板30的基础上，还在投影区域50f配置同样的遮光板30A，则能够形成曝光量的倾斜部G，能够进行图案接合。遮光板30A以与遮光板30倾斜角度相等的方式进行配置。另外，遮光板30和遮光板30A既可以是分体部件，也可以由共用的部件形成。
进一步，即使不如图6的(a)所示那样配置遮光板30A，也能够如图6的(b)所示通过变更遮光板30的倾斜角度，而仅以规定投影区域50e的1个遮光板30形成倾斜部G。将遮光板30的倾斜角度变更为与投影区域50e的端部区域的角度平行。换言之，将遮光板30的倾斜角度变更为与投影区域50f的端部区域的角度平行。由此，能够进行投影区域50e的端部区域与投影区域50f的端部区域的图案接合。以使投影区域50f的端部区域犹如沿着+Y方向进行了移动那样进行图案接合。由此，不仅不需要增加遮光板，并且与图6的(a)的情况相比，不需要使投影区域50e的遮光板与投影区域50f的遮光板同步，因此能够使曝光装置简化。
此外，对于使用以往的遮光板的实施例与使用遮光板30的本实施方式的不同，也能够以如下方式进行说明。
如图7的(a)所示，在以往的实施例中，因为使用了相对于投影区域50f的倾斜配置仅向一个方向倾斜的遮光板，所以可设定能够仅在Y轴方向的T区域及α区域、β区域通过1次扫描移动进行曝光的Y轴方向上的扫描宽度。例如，当在T区域及β区域内进行接合曝光时，能够通过使遮光板沿着Y轴方向移动而设定扫描宽度，当在α区域或γ区域进行接合曝光时，能够由照明系统模块IMf或照明系统模块IMg的照明快门6(参照图2)遮蔽曝光用光，由此设定扫描宽度。但是，在将遮光板配置在区域U内的情况下，曝光量不均匀，可进行接合曝光的区域存在限制。
与此相对，在使用了遮光板30的本实施方式中，如图7的(b)所示，因为能够使遮光板30在第1倾斜配置及第2倾斜配置间移动，所以即使在U区域内配置了遮光板30的情况下，也能够使曝光量均匀地进行接合曝光。例如，当在T区域内进行接合曝光时，能够以第1倾斜配置使用遮光板30，当在U区域内进行接合曝光时，能够使遮光板30向第2倾斜配置移动来使用。
此外，如图7的(c)所示，如果将遮光板30配置成不仅能够遮蔽投影区域50f还能够遮蔽投影区域50e及投影区域50g，则在S区域也能够进行接合曝光。即，如果使用本实施方式的遮光板30，则能够在Y轴方向的所有区域进行接合曝光。
接着，对使用驱动机构80使本实施方式的遮光板30向第1倾斜配置或第2倾斜配置移动来设定变更开口K的方法进行说明。
如图8的(a)所示，驱动机构80夹着开口K(在开口K的-X侧、+X侧)具备一对致动器82、84。致动器82是所谓的进给螺杆装置，具备马达(伺服马达)82a、由该马达82a驱动的螺杆82b和与该螺杆82b螺合的圆筒状的螺母82c，其能够将螺母82c沿着Y轴方向以长于开口K的行程往复驱动。在遮光板30的-X侧的端部附近形成有俯视下呈U字状的切口30a，在该切口30a内插入有螺母82c。致动器84也是与致动器82同样的构成(马达84a、螺杆84b、螺母84c)的进给螺杆装置，但就螺母84c在遮光板30的+X侧的端部附近安装为相对于遮光板30可在θZ方向自如旋转这一点，致动器84与致动器82不同。驱动机构80所具有的一对致动器82、84分别独立地由控制装置CONT(参照图2)进行控制。
如图8的(a)所示，驱动机构80将遮光板30定位在遮光板30的+Y侧的边缘(端部)与形成视场光阑20(图8的(a)中未图示。参照图3的(a))的开口K的边缘(端部)中+Y侧的边缘平行的位置，在遮光板30的-Y侧形成曝光用光的光路，由此，能够将在基板P(参照图1)上生成的投影区域50f设为在俯视下呈梯形(等腰梯形)。遮光板30的位置及角度基于未图示的计测装置(位置计测装置、光量计测装置等)的输出或者对致动器82、84的输入信号测出。此时，利用可动式的遮帘装置60对开口K中的比遮光板30靠近+Y侧的区域进行遮蔽，以使曝光用光不通过该区域。以下，将如下状态称为遮光板30的第1模式来进行说明：如图8的(a)所示，在遮光板30的-Y侧形成曝光用光的光路，且由从该光路通过的曝光用光在基板P上生成俯视下呈梯形的投影区域50f。
此外，驱动机构80通过从图8的(a)所示的状态将一对致动器82、84各自的螺母82c、84c以相同的行程(移动量)在Y轴方向上进行驱动，能够设定变更开口K的面积，即在基板P(参照图1)上生成的投影区域50f(俯视下呈梯形)的宽度(面积)。此时，根据遮光板30的位置也在Y轴方向上驱动遮帘装置60。
另外，与不具备遮光板30的投影光学模块PLa～PLe、PLg(参照图1)分别对应地具备上述遮帘装置60，能够任意地选择开放及遮蔽在该投影光学模块PLa～PLe、PLg分别具备的视场光阑20形成的开口K(参照图3的(a))。另外，在本实施方式中，遮帘装置60具有照明光学系统IL(参照图1)，但不限定于此，只要是在曝光用光EL的光路上，则也可以配置在其他位置。
此外，如图8的(b)所示，驱动机构80能够从上述第1模式(作为一例参照图8的(a))通过以致动器82的螺母82c位于比致动器84的螺母84c靠近+Y侧的方式对螺母82c、84c各自的Y位置进行控制，而将遮光板30定位在遮光板30的-Y侧的边缘(端部)与形成视场光阑20(图8的(b)中未图示。参照图3的(a))的开口K的边缘(端部)中-Y侧的边缘平行的位置。由此，能够使在基板P(参照图1)上生成的投影区域50f在俯视下呈平行四边形。以下，将如下状态称为遮光板30的第2模式来进行说明：如图8的(b)所示，在遮光板30的-Y侧形成曝光用光的光路，且由从该光路通过的曝光用光在基板P上生成俯视下呈平行四边形的投影区域50f。在本第2模式中，也能够通过将一对螺母82c、84c沿着Y轴方向同步驱动而设定变更开口K的面积，即在基板P(参照图1)上生成的投影区域50f(俯视下呈平行四边形)的宽度(面积)。此外，开口K中的比遮光板30靠近+Y侧的区域根据遮光板30的位置被遮帘装置60适当地遮光。
此外，驱动机构80能够通过从上述第2模式(作为一例参照图8的(b))如图8的(c)所示那样使遮帘装置60的位置向遮光板30的-Y侧移动，而在遮光板30的+Y侧形成曝光用光的光路。遮光板30的+Y侧的边缘(端部)与形成视场光阑20(图8的(c)中未图示。参照图3的(a))的开口K的边缘(端部)中-Y侧的边缘平行，因此，由从上述光路通过的曝光用光在基板P上生成的投影区域50f在俯视下成为梯形(等腰梯形)。以下，将如下状态称为遮光板30的第3模式来进行说明：如图8的(c)所示，在遮光板30的+Y侧形成曝光用光的光路，且由从该光路通过的曝光用光在基板P上生成俯视下呈梯形的投影区域50f。在本第3模式中，也能够通过将一对螺母82c、84c沿着Y轴方向同步驱动而设定变更开口K的面积，即在基板P(参照图1)上生成的投影区域50f(俯视下呈梯形)的宽度(面积)。此外，开口K中的比遮光板30靠近-Y侧的区域根据遮光板30的位置被遮帘装置60适当地遮光。
此外，驱动机构80从上述第3模式(作为一例参照图8的(c))通过如图8的(d)所示那样以使螺母84c位于比螺母82c靠近+Y侧的方式对螺母82c、84c的Y位置进行控制，由此能够将遮光板30定位在遮光板30的+Y侧的边缘(端部)与形成视场光阑20(图8的(b)中未图示。参照图3的(a))的开口K的边缘(端部)中+Y侧的边缘平行的位置。由此，能够使在基板P(参照图1)上生成的投影区域50f在俯视下成为平行四边形。以下，将如下状态称为遮光板30的第4模式来进行说明：如图8的(d)所示，在遮光板30的+Y侧形成曝光用光的光路，且由从该光路通过的曝光用光在基板P上生成俯视下呈平行四边形的投影区域50f。在本第4模式中，也能够通过将一对螺母82c、84c沿着Y轴方向同步驱动而设定变更开口K的面积，即在基板P(参照图1)上生成的投影区域50f(俯视下呈平行四边形)的宽度(面积)。此外，开口K中的比遮光板30靠近-Y侧的区域根据遮光板30的位置被遮帘装置60适当地遮光。
像这样，在本实施方式中，能够相对于遮光板30在开口K的-Y方向(第1及第2模式)及+Y方向(第3及第4模式)这两个方向形成曝光用光的光路，且在第1～第4模式各自中，能够任意地调节开口K的宽度。即，视场光阑20、遮光板30、驱动机构80及遮帘装置60构成使投影光学模块PLf在基板P上生成的投影区域50f的形状及位置任意地变化的可变视场光阑装置。
图9是表示在基板P上生成的投影区域50a～50g的俯视图。投影区域50a～50g被设定为在Y轴方向上相邻的投影区域的端部彼此，即端部51a和51b、端部51c和51d、端部51e和51f、端部51g和51h、端部51i和51j、端部51k和51l在Y轴方向重合(Y轴方向的位置重复)。因此，通过一边使基板P向X轴方向扫描一边对投影区域50a～50g进行曝光(扫描曝光)，形成重复曝光(双重曝光)的重复区域52a～52f(图9中由双点划线夹着的区域)。
此外，如图9中的虚线所示，遮光板30通过向上述第1和第2位置以及Y轴方向移动，而适当地设定投影区域50f的有效的大小。由此，在基板P向X轴方向扫描并进行扫描曝光的情况下，遮光板30能够适当地设定经由投影区域50f转印的光罩M的图案像的Y轴方向上的宽度及形状，并能够适当地设定作为与该图案像对应的潜像而在基板P上形成的转印图案的Y轴方向上的图案宽度及图案形状。
接着，对使用曝光装置EX(参照图1)进行多次扫描曝光，将与光罩M的图案像对应的多个转印图案在基板P上接合的接合曝光方法进行说明。在以下的说明中，如图10所示，将形成在光罩M上的图案PPA中的、在Y轴方向上具有长度LA的部分图案PA和在Y轴方向上具有长度LB的部分图案PB这2个区域的图案像分2次扫描曝光(第1扫描曝光及第2扫描曝光)并依次转印在基板P上，将与这些图案像对应的转印图案MA、MB在基板P上接合而进行图案合成。这时，通过对与部分图案PA、PB各自的边界部45、46对应的转印图案MA、MB的边界部重复地曝光而形成连接部MC。由此，基板P上的整体的转印图案MPA成为由部分图案PA的转印图案MA和部分图案PB的转印图案MB接合而成的图案。
此处，在本实施方式中，利用投影光学模块PLf在基板P上生成的投影区域50f的Y轴方向的位置及宽度能够使用上述第1～第4这4个模式适当地设定变更。由此，当在第1扫描曝光中使用投影光学模块PLf形成转印图案MA中的连接部的情况下，能够在部分图案PA的Y轴方向任意地设定长度LA及其端部形状，或当在第2扫描曝光中使用投影光学模块PLf形成转印图案MB中的连接部的情况下，能够任意地设定部分图案PB的Y轴方向上的长度LB及其端部形状。
此处，实际上，在使用曝光装置EX从1片母玻璃基板制造多个作为产品的液晶面板的情况下，对液晶面板的尺寸、个数等有各种要求。例如要求在一个玻璃基板上制成尺寸互不相同的产品(液晶面板等电路图案)。因而，实际上，根据设计的不同而对接合曝光的次数(连接部MC的个数)、转印图案MA、MB的长度等而要求各种形态。以下，对使用本实施方式的遮光板30进行接合曝光时的曝光方法具体地进行说明。另外，在以下的第1曝光方法及第2曝光方法中，对投影光学系统模块为7个的情况进行说明，在第3～第5曝光方法中，对于投影光学系统模块为11个的情况进行说明，但投影光学系统模块的个数能够适当地变更，无论投影光学系统模块的个数如何，关于接合曝光的概念、方法等，与图6说明的例子相同。
图11的(a)图示出第1曝光方法的基板P和光罩M。在第1曝光方法中，从1个基板P制造2个面板PN1、PN2。面板PN1、PN2的尺寸相同，所使用的光罩图案也相同。在第1曝光方法中，与图10所说明的情况相同，能够通过2次曝光动作(1次接合曝光动作)完成向各面板PN1、PN2的曝光动作。
在第1曝光方法中，如图11的(b)所示，使遮光板30向第2倾斜配置移动，并且以在+Y轴侧形成曝光用光的光路的方式使遮光板30移动。在该状态下，通过使光罩M和基板P沿着X轴方向(第1方向)相对移动，进行在基板P上形成光罩图案中的A区域的图案的第1扫描曝光。接着，进行利用基板载台驱动部PSTD使基板P沿着Y轴方向(第2方向)移动的步进移动。并且，如图11的(c)所示，使遮光板30向第1倾斜配置移动，并且以在-Y轴方向侧形成曝光用光的光路的方式使遮光板30沿着Y轴方向移动。此时，在基板P上的各面板区域中，在和A区域对应的转印图案与和B区域对应的转印图案间，形成有连接部。以在该连接部曝光量变得均匀的方式进行遮光板30及遮帘装置60的定位。之后，通过使光罩M和基板P沿着X轴方向相对移动，进行在基板P上形成光罩图案中的B区域的图案的第2扫描曝光。由此，能够在基板P上形成尺寸大于光罩M的图案区域PPA(参照图10)的面板。
图12的(a)图示出第2曝光方法的基板P和光罩M。在第2曝光方法中，从1个基板P制造2个面板PN1、PN2。面板PN1、PN2的尺寸相同，所使用的光罩图案也相同。在第2曝光方法中，能够制造大于第1曝光方法的面板。此外，与第1曝光方法相同，能够通过2次曝光动作(1次接合曝光动作)完成向各面板PN1、PN2的曝光动作。
在第2曝光方法中，如图12的(b)所示，使对由投影光学模块PLf(参照图1)生成的投影区域50f进行规定的遮光板30向第2倾斜配置移动，并且以在+Y轴侧形成曝光用光的光路的方式使遮光板30移动。在该状态下，通过使光罩M和基板P沿着X轴方向相对移动，进行在基板P上形成光罩图案中的A区域的图案的第1扫描曝光。接着，进行利用基板载台驱动部PSTD使基板P沿着Y轴方向移动的步进移动。并且，如图12的(c)所示，使对由投影光学模块PLb(图1参照)生成的投影区域50b进行规定的遮光板30向第1倾斜配置移动，并且以在-Y轴侧形成曝光用光的光路的方式使遮光板30移动。此时，在基板P上的各面板区域，在和A区域对应的转印图案与和B区域对应的转印图案间形成有连接部。以在该连接部使曝光量变得均匀的方式进行遮光板30及遮帘装置60的定位。之后，通过使光罩M和基板P沿着X轴方向相对移动而进行在基板P上形成光罩图案中的B区域的图案的第2扫描曝光。由此，能够在基板P上形成尺寸大于光罩M的图案区域PPA的面板。
图13的(a)图示出第3曝光方法的基板P和光罩M。在第3曝光方法中，从1个基板P制造2个面板PN1、PN2。面板PN1、PN2的尺寸相同，所使用的光罩图案也相同。在第3曝光方法中，面板PN1、PN2的Y轴方向上的长度是光罩M的Y轴方向上的长度的大致2倍，与图10说明的情况不同，通过2次曝光动作(1次接合曝光动作)无法完成向各面板PN1、PN2的曝光动作。于是，在光罩M上设定A区域、B区域及C区域，对1个面板(产品)进行合计3次曝光动作(2次接合曝光动作)。
在第3曝光方法中，如图13的(b)所示，使对由投影光学模块PL10生成的投影区域5010进行规定的遮光板30向第1倾斜配置移动，并且以在+Y轴侧形成曝光用光的光路的方式使遮光板30移动。在该状态下，通过使光罩M和基板P沿着X轴方向相对移动，进行在基板P上形成光罩图案中的A区域的图案的第1扫描曝光。接着，进行利用基板载台驱动部PSTD使基板P沿着Y轴方向移动的第1步进移动。并且，如图14的(a)所示，使对由投影光学模块PL10生成的投影区域5010进行规定的遮光板30向第2倾斜配置移动，并且以在+Y轴侧形成曝光用光的光路的方式使遮光板30移动。此时，在基板P上的各面板区域，在和A区域对应的转印图案与和B区域对应的转印图案间形成有连接部。以在该连接部使曝光量变得均匀的方式进行遮光板30及遮帘装置60的定位。之后，通过使光罩M和基板P沿着X轴方向相对移动，进行在基板P上形成光罩图案中的B区域的图案的第2扫描曝光。进一步，进行利用基板载台驱动部PSTD使基板P沿着Y轴方向移动的第2步进移动。然后，如图14的(b)所示，使对由投影光学模块PL4生成的投影区域504进行规定的遮光板30向第1倾斜配置移动，并且以在-Y轴侧形成曝光用光的光路的方式使遮光板30移动。此时，在基板P上的各面板区域，在和B区域对应的转印图案与和C区域对应的转印图案间形成有连接部。以在该连接部使曝光量变得均匀的方式进行遮光板30及遮帘装置60的定位。之后，通过使光罩M和基板P沿着X轴方向相对移动，进行在基板P上形成光罩图案中的C区域的图案的第3扫描曝光。由此，能够在基板P上形成尺寸大于光罩M的图案区域PPA的面板。
此外，图15的(a)图示出第4曝光方法的基板P和光罩M。在第4曝光方法中，从1个基板P制造3个面板PN1～PN3。面板PN1～PN3的尺寸相同，所使用的光罩图案也相同。在第4曝光方法中，面板PN1～PN3的Y轴方向上的长度是光罩M的Y轴方向上的长度的1.3倍左右，与上述第3曝光方法不同，通过2次曝光动作(1次接合曝光动作)完成向各面板PN1～3的曝光动作。在第4曝光方法中，在光罩M上设定A区域及B区域这2个区域，对1个面板(产品)进行合计2次曝光动作(1次接合曝光动作)。
在第4曝光方法中，如图15的(b)所示，使对由投影光学模块PL10生成的投影区域5010进行规定的遮光板30向第1倾斜配置移动，并且以在+Y轴侧形成曝光用光的光路的方式使遮光板30移动。在该状态下，通过使光罩M和基板P沿着X轴方向相对移动，进行在基板P上形成光罩图案中的A区域的图案的第1扫描曝光。接着，进行利用基板载台驱动部PSTD使基板P沿着Y轴方向移动的步进移动。然后，如图16所示，使对由投影光学模块PL7生成的投影区域507进行规定的遮光板30向第2倾斜配置移动，并且以在-Y轴侧形成曝光用光的光路的方式使遮光板30移动。此时，在基板P上的各面板区域，在和A区域对应的转印图案与和B区域对应的转印图案间形成有连接部。以在该连接部使曝光量变得均匀的方式进行遮光板30及遮帘装置60的定位。之后，通过使光罩M和基板P沿着X轴方向相对移动，进行在基板P上形成光罩图案中的B区域的图案的第2扫描曝光。由此，能够在基板P上形成尺寸大于光罩M的图案区域PPA(参照图10)的面板。
此外，图17的(a)图示出第5曝光方法的基板P和光罩M。在第5曝光方法中，从1个基板P制造3个面板PN1～PN3。面板PN1的尺寸小于面板PN2、PN3，Y轴方向上的长度也较短。此外，面板PN1的曝光使用在光罩M上形成的光罩图案MP1，面板PN2、PN3的曝光使用与上述光罩图案MP1不同的光罩图案MP2。
在第5曝光方法中，如图17的(b)所示，使对由投影光学模块PL10生成的投影区域5010进行规定的遮光板30向第2倾斜配置移动，并且以在+Y轴侧形成曝光用光的光路的方式使遮光板30移动。在该状态下，通过使光罩M和基板P沿着X轴方向相对移动，进行在基板P上形成光罩图案中的A1区域的图案的第1扫描曝光。接着，进行利用基板载台驱动部PSTD使基板P沿着Y轴方向移动的第1步进移动。然后，如图18的(a)所示，使对由投影光学模块PL7生成的投影区域507进行规定的遮光板30向第2倾斜配置移动，并且以在-Y轴侧形成曝光用光的光路的方式使遮光板30移动。此时，在基板P上的各面板区域，在和A1区域对应的转印图案与和B1区域对应的转印图案间形成有连接部。以在该连接部使曝光量变得均匀的方式进行遮光板30及遮帘装置60的定位。之后，通过使光罩M和基板P沿着X轴方向相对移动，进行在基板P上形成光罩图案中的B1区域的图案的第2扫描曝光。由此，能够将光罩图案MP1转印至基板P，能够在基板P上形成面板PN1。
进一步，为了在基板P上形成面板PN2，进行利用基板载台驱动部PSTD使基板P沿着X轴方向及Y轴方向移动的第2步进移动。此外，在第2步进移动中，为了将光罩图案MP2转印至基板P，利用光罩载台驱动部MSTD使光罩M移动。并且，如图18的(b)所示，使对由投影光学模块PL10生成的投影区域5010进行规定的遮光板30向第1倾斜配置移动，并且以在+Y轴侧形成曝光用光的光路的方式使遮光板30移动。在该状态下，通过使光罩M和基板P沿着X轴方向相对移动，进行在基板P上形成光罩图案中的A2区域的图案的第3扫描曝光。接着，进行利用基板载台驱动部PSTD使基板P沿着Y轴方向移动的第3步进移动。并且，如图19所示，使对由投影光学模块PL7生成的投影区域507进行规定的遮光板30向第2倾斜配置移动，并且以在-Y轴侧形成曝光用光的光路的方式使遮光板30移动。此时，在基板P上的各面板区域，在和A2区域对应的转印图案与和B2区域对应的转印图案间形成有连接部。以在该连接部使曝光量变得均匀的方式进行遮光板30及遮帘装置60的定位。之后，通过使光罩M和基板P沿着X轴方向相对移动，进行在基板P上形成光罩图案中的B2区域的图案的第4扫描曝光。由此，能够将光罩图案MP2转印至基板P，能够在基板P上形成面板PN2。
以下，虽未图示但同样地，为了在基板P上形成面板PN3，进行利用基板载台驱动部PSTD使基板P沿着X轴方向及Y轴方向移动的第4步进移动。然后，使对由投影光学模块PL10生成的投影区域5010进行规定的遮光板30向第1倾斜配置移动，并且以在+Y轴侧形成曝光用光的光路的方式使遮光板30移动。在该状态下，通过使光罩M和基板P沿着X轴方向相对移动，进行在基板P上形成光罩图案中的A2区域的图案的第5扫描曝光。接着，进行利用基板载台驱动部PSTD使基板P沿着Y轴方向移动的第5步进移动。然后，使对由投影光学模块PL7生成的投影区域507进行规定的遮光板30向第2倾斜配置移动，并且以在-Y轴侧形成曝光用光的光路的方式使遮光板30移动。此时，在基板P上的各面板区域，在和A2区域对应的转印图案与和B2区域对应的转印图案间形成有连接部。以在该连接部使曝光量变得均匀的方式进行遮光板30及遮帘装置60的定位。之后，通过使光罩M和基板P沿着X轴方向相对移动，进行在基板P上形成光罩图案中的B2区域的图案的第6扫描曝光。由此，能够将光罩图案MP3转印至基板P，能够在基板P上形成面板PN3。通过以上方式，能够在基板P上形成面板PN1、面板PN2、面板PN3。
另外，上述第1～第5曝光方法为一例，除这些方法以外，在曝光装置EX进行的接合曝光也可考虑各种方式。因而，根据所要求的面板的尺寸，每次，对于如何将光罩图案分割为多个区域来进行接合曝光都必须逐次进行设计。
但是，光罩图案的分割部位的设计受各种限制。即，在曝光装置EX中，因为光罩载台MST(光罩M)与各投影光学系统模块的步进(Y轴)方向的相对位置不变，所以各转印图案的Y轴方向上的长度需以由各投影光学系统模块形成的投影区域的长度的整数倍为基准，其合计长度由遮光板30进行调整。与此相对，具有遮光板30的投影光学模块仅为一部分(在本实施方式中为投影光学系统模块PLf)，这在设计投影区域的Y轴方向的合计长度方面成为制约。此外，在面板的制造工序中，在各面板，除形成有重复图案的液晶显示面之外，另行在周边部形成有用于将各面板与驱动电路连接的引出线(称为连接片(tab)区域)。因为形成于该连接片区域的引出线不是重复的图案，所以成为进行接合曝光时的制约。此外，从生产量的观点来看，接合曝光的次数优选为较少，该点也成为将光罩图案分割为多个区域时的制约。此外，对于光罩尺寸也因为光罩载台MST的大小存在物理性限制，因此，该点也成为将光罩图案分割为多个区域时的制约。
与此相对，在本实施方式的曝光装置EX中，利用由上述视场光阑20、遮光板30、驱动机构80及遮帘装置60构成的可变光阑装置，在进行接合曝光时形成连接部的一对投影区域中的、一方的投影区域(在本实施方式中为投影区域50f)的长度及端部形状能够通过遮光板30使用上述第1～第4模式的任意一者来任意地进行调整。因而，由接合曝光制造产品时的设计(将形成于光罩上的电路图案的哪个部分使用接合曝光形成于玻璃基板上、实施该接合曝光处理的电路图案上的位置、进一步将大小不同的多种电路图案在玻璃基板上进行曝光时所使用的光罩上的该多种电路图案的配置等)的自由度提高，能够缓和上述各种制约。列举一例，假设在遮光板30的倾斜方向固定的情况下，若以能够形成图8的(a)或图8的(c)所示的梯形开口K的方式配置遮光板30，则如图8的(b)或图8的(d)所示，无法形成平行四边形状且狭缝状的开口K(遮光板30的斜边与形成开口K的端部(斜边)交叉)，因此，成为设计上的制约，但在本实施方式中，上述设计的自由度得到提高。
在使用本实施方式的曝光装置EX进行接合曝光时，根据所要求的产品的设计(参照上述第1曝光方法～第5曝光方法)，决定遮光板30的位置及倾斜(上述第1～第4模式任一者)。例如，如图20所示，在步骤S10中，根据面板(产品)尺寸、光罩尺寸、连接片区域的宽度(位置)、遮光板30的位置(本实施方式中为与投影区域50f对应的位置)、最佳扫描曝光的次数等各条件，在光罩M上设定多个区域(上述第1曝光方法的A及B区域、第3曝光方法的A～C区域等)。此外，在步骤S12中，决定与上述步骤S10中决定的光罩M上的区域的Y轴方向上的长度相应的遮光板30的Y轴方向上的位置。
然后，在步骤S14中，判定步骤S12中决定的遮光板30的位置是否满足所期望的接合曝光的条件。例如，判定在以目前的遮光板30的倾斜方向进行接合曝光的情况下，形成于基板P上的连接部MC(参照图10)的总曝光量是否满足所期望的曝光条件。步骤S14的判定为“是”判定的情况下，进至步骤S16，进行接合曝光。此外，步骤S14为“否”判定的情况下，进至步骤S18，在接合曝光的工序追加遮光板30的模式切换(第1模式与第2模式的切换或第3模式与第4模式的切换)后(实际上进行遮光板30的模式切换是在基板P的Y步进动作中)，进至步骤S16，进行接合曝光。
另外，如果预先根据面板(产品)尺寸、光罩尺寸、连接片区域的宽度(位置)、扫描曝光的次数等，知晓进行接合曝光时的曝光条件，则也可以构成为遮光板30的位置能够在第1扫描曝光与第2扫描曝光间切换。由此，能够省略上述步骤(步骤S14、S18)，所以能够使曝光处理简化。
如以上说明，在本实施方式中，利用形成开口K的在Y轴方向上彼此分离的一对边缘中的一方(+Y侧或-Y侧)和遮光板30的在Y轴方向上的一对边缘中的一方(+Y侧或-Y侧)，在遮光板30的一侧或另一侧(+Y侧或-Y侧)形成曝光用光的光路，且利用从该光路通过的曝光用光在基板P上生成俯视下呈梯形或平行四边形的投影区域50f。并且，能够通过遮光板30的Y位置适当地设定变更上述俯视下呈梯形或平行四边形的投影区域50f的在Y轴方向上的宽度。
像这样，因为能够通过切换遮光板30的模式而使投影区域50f的位置及形状变化，所以能够利用包含投影区域50f的多个投影光学模块任意地设定在基板P上形成的投影区域的Y轴方向的长度及其端部形状(倾斜方向)。因而，通过接合曝光在基板P上形成的转印图案MPA或MPB(参照图10)的宽度的设计自由度提高，能够在1个母玻璃基板上形成任意宽度的液晶面板。
另外，以上说明的一个实施方式的构成为一例，能够适当变更。即，在上述实施方式中，遮光板30(可变视场光阑装置)仅设有1个，但不限定于此，也可以设置多个。此外，设置有遮光板30(可变视场光阑装置)的投影光学模块的个数及位置没有特别的限定。在该情况下，通过接合曝光在基板P上形成的转印图案MPA或MPB(参照图10)的宽度的设计自由度进一步提高。
此外，用于驱动遮光板30的机构也能够适当变更。即，如图21所示的变形例那样，也可以对于1个开口K(视场光阑20(参照图3))设置2个遮光板30。用于独立地驱动2个遮光板30的驱动机构80A与上述实施方式同样地具有一对致动器82A、84B，在该一对致动器82A、84A各自的螺母82c、84c固定有遮光板30。在上述实施方式中，通过旋转驱动1个遮光板30来变更其角度，但在本变形例中，以2个遮光板30各自的端部与形成开口K的在Y轴方向彼此分离的一对边缘平行的方式预先设定安装角度，将视场光阑20的一对端部的任一者与2个遮光板30的合计4个端部的任一者组合，由此，能够与上述实施方式同样地实现第1～第4模式。另外，图21是示意图，图25示出有本变形例的详情。在图25所示的驱动机构中，各遮光板30沿着在Y轴方向延伸的一对臂88在规定的可动范围(参照图25的虚线箭头)内独立地往复驱动。此种将臂88往复驱动型的驱动机构也能够用作上述实施方式的遮光板30的驱动机构。
此外，如图22所示的变形例的驱动机构80B那样，致动器84B的螺母84c也可以具有用于旋转驱动遮光板30的旋转马达84d。旋转马达84d旋转驱动遮光板30，并使遮光板30抵接于固定在螺母84c的一对止挡件84e，由此进行遮光板30的定位。上述实施方式的驱动机构80(参照图4的(a)等)具有一对线性致动器，与之相对，在本变形例中，可以仅有1个线性致动器，构成简单。
此外，如图23的(a)示出的变形例的驱动机构80C那样，遮光板30也可以经由轴84f相对于致动器84C的螺母84c旋转自如地被支承。驱动机构80C具有相对于开口K的位置固定的一对销84h，在使遮光板30抵接在该一对销84h中的一个销84h的状态下使螺母84c沿着Y轴方向移动，由此，使遮光板30旋转(参照图23的(b))。此外，螺母84c具有将遮光板30按压在一对止挡件84e中的某一者的板簧84g，遮光板30始终被保持抵接于一对止挡件84e的某一者的状态。在本变形例中，不需要旋转驱动遮光板30的致动器，驱动机构80C的构成简单。
此外，上述实施方式的遮光板30形成为俯视下呈矩形(长方形)，且通过旋转而变更角度，但遮光板的形状不限定于此。即，如图24的(a)示出的变形例的遮光板130那样，也可以形成为在+X侧开口的俯视下呈U字状(倒C字状)的形状。遮光板130由在Y轴方向延伸的板状部件构成，+Y侧的端部与形成视场光阑20(参照图3)的开口K的端部中+Y侧的端部平行地形成。此外，遮光板130的-Y侧的端部与形成视场光阑20的开口K的端部中-Y侧的端部平行地形成。此外，形成遮光板130的在+X侧开口的切口132的、在Y轴方向上彼此分离的一对端部中+Y侧的端部，与形成视场光阑20的开口K的端部中+Y侧的端部平行(即与遮光板130的+Y侧的端部平行)地形成。此外，形成切口132的在Y轴方向上彼此分离的一对端部中-Y侧的端部，与形成视场光阑20的开口K的端部中-Y侧的端部平行(即与遮光板130的-Y侧的端部平行)地形成。
图24的(a)示出的变形例的遮光板130利用致动器86在Y轴方向上被驱动。由此，如图24的(b)～图24的(e)所示，与上述实施方式同样地能够实现第1～第4模式。另外，与上述实施方式同样，开口K中未形成曝光用光的光路的部分被可动的遮帘装置60遮光。根据本变形例，仅利用1个致动器86直进驱动遮光板130就能够实现第1～第4模式，因此，构成简单。
此外，在上述实施方式中，通过视场光阑20和由板状部件构成的遮光板30的协作形成了曝光用光的光路(开口K)，但与视场光阑20协作而形成曝光用光的光路的部件不限定于此。即，如图26所示，也可以使用光学滤光片230a、230b将开口K的一部分遮光。光学滤光片230a设定为光的透射率从+Y侧的端部向-Y侧变低。光学滤光片230b与光学滤光片230a在纸面左右对称地构成。光学滤光片230a、230b能够分别独立地进行Y轴方向的驱动，成为能够任意地设定曝光用光的遮光范围及曝光用光的光路的位置。根据本变形例，也能够进行与上述实施方式同样的接合曝光。另外，为了不将光学滤光片230a、230b中的形成遮光部(滤光片部)的微小点转印到基板P上，光学滤光片230a、230b配置在从与光罩M及基板P的共轭面向光轴方向稍许错开的位置即可。
此外，在上述实施方式(及其变形例)中，对使用进给螺杆装置作为驱动遮光板30的驱动机构的情况进行了说明，但驱动机构的构成不限定于此。即，作为用于驱动遮光板30的致动器，也可以使用公知的轴马达等。轴马达能够对于1个定子独立地驱动多个动子，因此，如图21示出的变形例那样，优选对一对遮光板30独立地进行位置控制的类型。此外，作为致动器，也可以使用像线性马达这样的电磁马达，或者像超声波马达、气缸这样的机械致动器。
此外，在图21示出的变形例中，一对遮光板30分别由独立的致动器驱动，但致动器的一部分也可以共用。即，也可以是如下构成：将一对遮光板30载置在共用的第1载台(粗动载台)上，且在该第1载台上载置能够独立地控制一对遮光板30各自的位置的第2载台(微动载台)。
此外，在上述实施方式中，用于驱动遮光板30的致动器沿着Y轴方向配置，但不限定于此，也可以沿着其他方向(X轴方向、Z轴方向等)进行配置。
此外，遮光板30及其驱动机构80是为了规定在基板P上生成的投影区域(曝光区域)而设，但不限定于此，也可以在照明光学系统IL的遮帘装置设置与上述实施方式同样构成的遮光板及其驱动机构。
此外，遮光板30设于构成投影光学系统PL的投影光学模块，但只要是在曝光用光EL的光路上则遮光板30的配置位置没有特别的限定，也可以设于照明光学系统IL等。
此外，在上述实施方式中，遮光板30及其驱动机构80是构成曝光装置EX的一部分的装置，但不限定于此，也能够将遮光板30及驱动机构80(包含驱动器等的软件)作为遮光装置(可变视场光阑装置)追加设置在已有的曝光装置中。
此外，在上述实施方式中，利用包含遮光板30的可变视场光阑装置，对形成在基板P上的投影区域的位置及形状进行了变更，但不限定于此，也可以构成为使光罩M和投影光学系统PL能够沿着Y轴方向相对移动，通过该光罩M和投影光学系统PL向Y轴方向的相对移动来变更投影区域的位置及形状。
此外，照明光也可以是ArF准分子激光(波长193nm)、KrF准分子激光(波长248nm)等紫外光和/或F2激光(波长157nm)等真空紫外光。此外，作为照明光，例如也可以使用如下方式得到的高次谐波，即：将从DFB半导体激光器或光纤激光器振荡而得的红外波段、或可见光波段的单一波长激光用掺有例如铒(或铒和镱两者)的光纤放大器放大，并使用非线性光学晶体将波长变换为紫外光得到的高次谐波。此外，也可以使用固体激光(波长：355nm、266nm)等。
此外，对投影光学系统PL是具备多个投影光学模块的多透镜方式的投影光学系统的情况进行了说明，但投影光学模块的个数不限定于此，只要是1个以上即可。此外，作为投影光学系统PL，也可以是放大系统或缩小系统。
此外，作为曝光装置的用途不限定于将液晶显示元件图案转印至方形的玻璃板的液晶用曝光装置，例如也能够广泛地适用于有机EL(Electro-Luminescence)面板制造用的曝光装置、半导体制造用的曝光装置、用于制造薄膜磁头、微型机械及DNA芯片等的曝光装置。此外，不仅是半导体元件等微型器件，也能够适用于为了制造光曝光装置、EUV曝光装置、X线曝光装置及电子束曝光装置等所使用的光罩或标线片而向玻璃基板或硅晶圆等转印电路图案的曝光装置。
此外，作为曝光对象的物体不限定于玻璃板，例如也可以是晶圆、陶瓷基板、膜部件或光罩基板(Mask Blanks)等其他物体。此外，曝光对象物为平板显示器用的基板的情况下，该基板的厚度并无特别限定，例如也包含膜状(具有挠性的片状部件)基板。另外，本实施方式的曝光装置在曝光对象物是一边的长度或对角长为500mm以上的基板的情况下尤其有效。
液晶显示元件(或半导体元件)等电子器件经由如下步骤等制造而得：进行器件的功能、性能设计的步骤；基于该设计步骤制作光罩(或标线片)的步骤；制作玻璃基板(或晶圆)的步骤；利用上述各实施方式的曝光装置及其曝光方法将光罩(标线片)的图案转印至玻璃基板的光刻步骤；对曝光后的玻璃基板进行显影的显影步骤；通过蚀刻将残留有抗蚀剂部分以外的部分的露出部件除去的蚀刻步骤；蚀刻后将不需要的抗蚀剂去除的抗蚀剂除去步骤；器件组装步骤；检查步骤等。在该情况下，在光刻步骤使用上述实施方式的曝光装置执行前述的曝光方法，在玻璃基板上形成器件图案，因此，能够以良好的生产性制造高集成度的器件。
另外，援用与上述记载中引用的曝光装置等相关的所有公报(包含国际公开)的公开内容作为本说明书记载的一部分。
工业实用性
如以上说明，本发明的曝光装置及方法适用于将光罩的图案在基板上曝光。此外，本发明的平板显示器的制造方法及器件制造方法分别适用于平板显示器及微型器件的制造。此外，本发明的遮光装置适于将光罩的图案在基板上曝光。
附图标记说明
20…视场光阑，30…遮光板，50…投影区域，80…驱动机构，CONT…控制装置，EX…曝光装置，K…开口，P…基板，PLa～PLg…投影光学模块。

Claims (30)

1.一种曝光装置，其使物体相对于投影光学系统沿着第1方向相对移动并进行曝光，所述投影光学系统将规定图案投影至所述物体，
所述曝光装置的特征在于，具备：
遮光部，其对经由所述投影光学系统投影在所述物体上的投影区域中、根据所述第1方向上的位置而所述物体上的照明量沿着第2方向变化的规定区域进行遮光，其中，所述第2方向与所述第1方向交叉；
驱动部，其以使所述照明量变化的方式对所述遮光部进行驱动；
移动体，其保持所述物体且能够移动；和
控制部，其根据所述遮光部在所述第2方向上的位置，控制所述移动体向所述第2方向的移动。
2.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
所述驱动部以变更所述规定区域在所述第2方向上的位置的方式对所述遮光部进行驱动。
3.如权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，
所述遮光部以使所述物体上的照明量在所述第2方向上连续地变化的方式对所述投影区域的一部分进行遮光。
4.如权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，
所述驱动部以与所述第1方向及第2方向交叉的第3方向为轴，使所述遮光部旋转。
5.如权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，
所述驱动部以所述第3方向为轴并以切换所述遮光部相对于所述投影区域的角度的方式对所述遮光部进行驱动。
6.如权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，
所述驱动部将所述遮光部向所述第2方向驱动。
7.如权利要求1或2所述的曝光装置，其特征在于，
所述遮光部在所述第2方向上对所述投影区域的端部进行遮光。
8.如权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，
在通过所述控制部使所述移动体向第2方向移动时，所述驱动部驱动对所述投影区域的一端部进行遮光的所述遮光部，以使所述遮光部对所述投影区域的另一端部进行遮光。
9.如权利要求1或8所述的曝光装置，其特征在于，
所述控制部以使得在通过所述投影光学系统投影有所述规定图案中的第1图案的所述物体上，投影一部分区域与所述第1图案重叠的第2图案的方式，使所述移动体向所述第2方向移动。
10.如权利要求9所述的曝光装置，其特征在于，
所述遮光部对作为所述一部分区域的所述规定区域进行遮光。
11.如权利要求1、2、8中任一项所述的曝光装置，其特征在于，
所述投影光学系统在所述第1方向上设有多个，
所述遮光部对设于所述第1方向的不同位置处的各所述投影光学系统分别设置。
12.如权利要求11所述的曝光装置，其特征在于，
设于所述第1方向的不同位置处的所述投影光学系统的所述投影区域的一部分在所述第2方向上不同。
13.如权利要求11所述的曝光装置，其特征在于，
在所述第1方向设有多个的所述投影光学系统对所述投影区域重叠的所述规定区域进行照射。
14.如权利要求1、2、8中任一项所述的曝光装置，其特征在于，
所述物体是平板显示器的制造中使用的基板。
15.如权利要求1、2、8中任一项所述的曝光装置，其特征在于，
所述物体至少一边的长度或对角长为500mm以上。
16.一种平板显示器的制造方法，其特征在于，包含：
使用权利要求14所述的曝光装置，对所述基板进行曝光；和
使曝光后的所述基板显影。
17.一种器件制造方法，其特征在于，包含：
使用权利要求1～15中任一项所述的曝光装置，对所述物体进行曝光；和
使曝光后的所述物体显影。
18.一种曝光方法，其使物体相对于投影光学系统沿着第1方向相对移动并进行扫描曝光，所述投影光学系统将规定图案投影至所述物体，
所述曝光方法的特征在于，包含：
利用遮光部，对经由所述投影光学系统投影在所述物体上的投影区域中、根据所述第1方向上的位置而所述物体上的照明量沿着第2方向变化的规定区域进行遮光，其中，所述第2方向与所述第1方向交叉；
以使所述照明量变化的方式对所述遮光部进行驱动；和
根据所述遮光部在所述第2方向上的位置，使保持所述物体的移动体向所述第2方向移动。
19.如权利要求18所述的曝光方法，其特征在于，
在所述驱动中，驱动所述遮光部，以变更所述规定区域在所述第2方向上的位置。
20.如权利要求18或19所述的曝光方法，其特征在于，
在所述遮光中，以使所述物体上的照明量在所述第2方向上连续地变化的方式对所述投影区域的一部分进行遮光。
21.如权利要求18或19所述的曝光方法，其特征在于，
在所述驱动中，以与所述第1方向及第2方向交叉的第3方向为轴，使所述遮光部旋转。
22.如权利要求21所述的曝光方法，其特征在于，
在所述驱动中，以所述第3方向为轴并以切换所述遮光部相对于所述投影区域的角度的方式进行驱动。
23.如权利要求18或19所述的曝光方法，其特征在于，
在所述驱动中，将所述遮光部向所述第2方向驱动。
24.如权利要求18或19所述的曝光方法，其特征在于，
在所述遮光中，在所述第2方向上对所述投影区域的端部进行遮光。
25.如权利要求18所述的曝光方法，其特征在于，
在所述驱动中，在使所述移动体向所述第2方向移动时，驱动对所述投影区域的一端部进行遮光的所述遮光部，以使所述遮光部对所述投影区域的另一端部进行遮光。
26.如权利要求18或25所述的曝光方法，其特征在于，
在所述移动中，以使得在通过所述投影光学系统投影有所述规定图案中的第1图案的所述物体上，投影一部分区域与所述第1图案重叠的第2图案的方式，使所述移动体向所述第2方向移动。
27.如权利要求26所述的曝光方法，其特征在于，
在所述遮光中，对作为所述一部分区域的所述规定区域进行遮光。
28.一种平板显示器的制造方法，其特征在于，包含：
使用权利要求18～27中任一项所述的曝光方法对所述物体进行曝光；和
使曝光后的所述物体显影。
29.如权利要求28所述的平板显示器的制造方法，其特征在于，
所述物体是至少一边的长度或对角长为500mm以上的基板。
30.一种器件制造方法，其特征在于，包含：
使用权利要求18～27中任一项所述的曝光方法对所述物体进行曝光；和
使曝光后的所述物体显影。
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