CN108290113A - 含有氟元素的废气的处理方法 - Google Patents
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- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 141
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 title claims abstract description 141
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 141
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 310
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 106
- 230000008569 process Effects 0.000 claims abstract description 72
- UJMWVICAENGCRF-UHFFFAOYSA-N oxygen difluoride Chemical compound FOF UJMWVICAENGCRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 70
- 229910000127 oxygen difluoride Inorganic materials 0.000 claims abstract description 70
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 69
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 53
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims abstract description 33
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000003113 dilution method Methods 0.000 claims abstract description 9
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 30
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 21
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical group [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 claims description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical group [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-N sulfurothioic S-acid Chemical compound OS(O)(=O)=S DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 abstract description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 5
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 abstract description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 11
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 11
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 9
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 238000005273 aeration Methods 0.000 description 4
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 230000000505 pernicious effect Effects 0.000 description 4
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 4
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 3
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 3
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 3
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 3
- -1 oxidizing gas Chemical compound 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 3
- DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-L thiosulfate(2-) Chemical compound [O-]S([S-])(=O)=O DHCDFWKWKRSZHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910004014 SiF4 Inorganic materials 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PRPAGESBURMWTI-UHFFFAOYSA-N [C].[F] Chemical compound [C].[F] PRPAGESBURMWTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 2
- XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N ammonium thiosulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])(=O)=S XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IYRWEQXVUNLMAY-UHFFFAOYSA-N carbonyl fluoride Chemical compound FC(F)=O IYRWEQXVUNLMAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N silicon tetrafluoride Chemical compound F[Si](F)(F)F ABTOQLMXBSRXSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M sodium nitrite Chemical compound [Na+].[O-]N=O LPXPTNMVRIOKMN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 2
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 2
- 239000002912 waste gas Substances 0.000 description 2
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N Diammonium sulfite Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])=O PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005526 G1 to G0 transition Effects 0.000 description 1
- IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M Nitrite anion Chemical compound [O-]N=O IOVCWXUNBOPUCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N Sodium cation Chemical compound [Na+] FKNQFGJONOIPTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004280 Sodium formate Substances 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- AZFNGPAYDKGCRB-XCPIVNJJSA-M [(1s,2s)-2-amino-1,2-diphenylethyl]-(4-methylphenyl)sulfonylazanide;chlororuthenium(1+);1-methyl-4-propan-2-ylbenzene Chemical compound [Ru+]Cl.CC(C)C1=CC=C(C)C=C1.C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)[N-][C@@H](C=1C=CC=CC=1)[C@@H](N)C1=CC=CC=C1 AZFNGPAYDKGCRB-XCPIVNJJSA-M 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 150000003842 bromide salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 150000003841 chloride salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- FGRVOLIFQGXPCT-UHFFFAOYSA-L dipotassium;dioxido-oxo-sulfanylidene-$l^{6}-sulfane Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])(=O)=S FGRVOLIFQGXPCT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000003682 fluorination reaction Methods 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000004675 formic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008676 import Effects 0.000 description 1
- 239000002440 industrial waste Substances 0.000 description 1
- 239000010808 liquid waste Substances 0.000 description 1
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N molybdenum trioxide Chemical compound O=[Mo](=O)=O JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- WFIZEGIEIOHZCP-UHFFFAOYSA-M potassium formate Chemical compound [K+].[O-]C=O WFIZEGIEIOHZCP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000010289 potassium nitrite Nutrition 0.000 description 1
- 239000004304 potassium nitrite Substances 0.000 description 1
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- HLBBKKJFGFRGMU-UHFFFAOYSA-M sodium formate Chemical compound [Na+].[O-]C=O HLBBKKJFGFRGMU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000019254 sodium formate Nutrition 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010288 sodium nitrite Nutrition 0.000 description 1
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N sodium oxide Chemical compound [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001948 sodium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000004764 thiosulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000000844 transformation Methods 0.000 description 1
- 238000005200 wet scrubbing Methods 0.000 description 1
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Abstract
本发明的含有氟元素的废气的处理方法，其特征在于，具有：利用惰性气体将含有氟元素的废气(a)稀释，使氟气(F2)浓度成为25体积％以下，调制稀释气体(b)的稀释工序；和使稀释气体(b)与水接触，得到处理气体(c)的水吸收工序。通过本发明的方法，能够提供一种在采用湿式法处理含有氟元素的废气时，有效抑制由氟气生成二氟化氧的副反应发生，经济且有效地处理含有氟元素的废气的方法。另外，本发明通过在处理工序中有效抑制二氟化氧的生成，在使用药液进行追加处理的情况下，能够使其处理效果大幅提升，并且抑制药液使用量。
Description
技术领域
本发明涉及对含有氟元素的废气进行处理，得到氟气和氟化合物的含量减少了的处理气体的方法。
背景技术
在半导体、液晶等的制造中，或者作为化学品、高分子材料的原料，或者出于表面改质等目的，氟化合物在各种领域中被大量使用。
特别是在半导体、液晶等的制造过程中，一直以来作为蚀刻或清洁气体，利用F2、NF3、SiF4、COF2、SF6、氟碳(CF4、C2F6、C4F6等)等氟系气体。在利用氟系气体的过程中，来自于所使用的氟系气体的气体或通过反应而生成的包含氟元素的气体，作为废气被排出。另外，在氟气或氟化合物的制造中，包含非常高浓度的氟元素的气体有时会作为废气被排出。
这些废气以高浓度包含氟气等氧化性气体、氟化氢等酸性气体等毒性高的氟系气体，因此需要从废气中充分除去这样的有害气体。
作为从废气中除去氟气、氟化氢等有害气体的方法，以往有将碳酸钙、氢氧化钙、活性氧化铝等固体处理剂填充于固定相从而进行除去的干式工艺，但存在运行成本高之类的问题。
作为湿式的工艺，使用水、氢氧化钠等碱性水溶液的湿式洗涤适合作为低成本处理大量气体的方法，但已知会副生成毒性更高的二氟化氧(OF2)。二氟化氧的ACGIH允许浓度(TLV)为0.05ppm，毒性非常高，一旦生成则很难在水、碱性水溶液中除去，存在会从废气中排出之类的问题。
作为解决这样的湿式工艺中的问题的方法，专利文献1公开了一种使用碱金属亚硫酸盐和碱金属氢氧化物的混合液作为吸收液的方法，专利文献2公开了一种使用含有氢氧化钠等碱性化合物与硫代硫酸钠等硫系还原剂的混合物的吸收液的方法，专利文献3公开了一种使用含有碱金属氢氧化物等碱、和硫代硫酸盐或亚硝酸碱金属盐的液体的方法。
另外，专利文献4公开了在填充有难溶于水的亚硫酸盐的填充塔中，通过湿式处理，不使用包含钠离子等的化合物，将氯气、氟气等氧化性气体从废气中除去。
通过这些方法，虽然具有抑制二氟化氧排出的效果，但为了对含有高浓度的含氟元素气体的废气连续进行处理并得到充分的效果，需要维持碱、还原剂的高浓度。因此，存在容易发生堵塞等故障、药液的成本增高、并且需要进行排液中的碱、还原剂以及各种反应生成物的废液处理之类的问题。
因此，需求出现一种能够通过简单且经济的方法抑制二氟化氧的生成和排放的、含有氟元素的废气的处理方法。
另外，专利文献5公开了一种使废气与水蒸气一起在加热下进行反应从而分解为氟化氢和氧气的方法。但是，该方法在300～400℃的高温进行反应，因此由高温的氟化氢气体等导致的腐蚀的影响大，限制了反应器的材质，难以在工业上采用。
在先技术文献
专利文献1：日本特开平2-233122号公报
专利文献2：日本特开2006-231105号公报
专利文献3：日本特表2013-539717号公报
专利文献4：日本特开2000-176243号公报
专利文献5：日本特开2006-289238号公报
发明内容
本发明的课题是提供一种含有氟元素的废气的处理方法，对含有氟元素的废气进行处理，得到氟系气体减少了的处理气体，有效抑制生成二氟化氧的副反应发生，经济且效率。
本发明涉及以下的事项〔1〕～〔8〕。
〔1〕一种含有氟元素的废气的处理方法，其特征在于，具有稀释工序和水吸收工序，
在所述稀释工序中，利用惰性气体将含有氟元素的废气(a)稀释，使氟气(F2)浓度成为25体积％以下，调制稀释气体(b)，
在所述水吸收工序中，使稀释气体(b)与水接触，得到处理气体(c)。
〔2〕根据所述〔1〕记载的含有氟元素的废气的处理方法，其特征在于，惰性气体是空气或氮气。
〔3〕根据所述〔1〕或〔2〕记载的含有氟元素的废气的处理方法，其特征在于，所述废气(a)包含氟气和/或氟化氢。
〔4〕根据所述〔1〕～〔3〕的任一项记载的含有氟元素的废气的处理方法，其特征在于，所述处理气体(c)中的二氟化氧浓度为100体积ppm以下。
〔5〕根据所述〔1〕～〔4〕的任一项记载的含有氟元素的废气的处理方法，其特征在于，还具有药液吸收工序，在所述药液吸收工序中，使所述处理气体(c)与包含还原剂的水溶液接触，得到处理气体(d)。
〔6〕根据所述〔5〕记载的含有氟元素的废气的处理方法，其特征在于，所述包含还原剂的水溶液中所含的还原剂是硫系还原剂。
〔7〕根据所述〔6〕记载的含有氟元素的废气的处理方法，其特征在于，所述硫系还原剂是亚硫酸盐或硫代硫酸盐。
〔8〕根据所述〔5〕～〔7〕的任一项记载的含有氟元素的废气的处理方法，其特征在于，所述处理气体(d)中的二氟化氧浓度为1体积ppm以下。
根据本发明的方法，能够提供一种在采用湿式法对含有氟元素的废气进行处理时，有效抑制生成二氟化氧的副反应发生，经济且效率的对含有氟元素的废气进行处理的方法。
另外，本发明中，在处理工序中有效抑制二氟化氧的生成，由此在采用药液进行追加处理即药液吸收工序的情况下，能够大幅提高其处理效果，并且抑制药液使用量。
附图说明
图1表示实施本发明的含有氟元素的废气的处理方法的一例装置的概略图。
具体实施方式
以下，对本发明进行具体说明。
当含有氟元素的气体与水接触时，例如氟气(F2)与水迅速反应，如反应式(1)所示生成氟化氢和氧气。
F2+H2O→HF+1/2O2…(1)
所生成的氟化氢(HF)高度溶解于水，容易被水吸收。
氟气与水的接触中，已知由于氟气的反应性高，因此除了所述反应式(1)的主反应以外，根据条件会发生生成臭氧(O3)、二氟化氧(OF2)的副反应。但是本发明人发现在将与水接触时的废气中的氟气浓度设为25体积％以下的情况下，副反应得到抑制，几乎不生成臭氧(O3)，二氟化氧(OF2)的生成也被抑制为较低，从而完成本发明。
本发明的含有氟元素的废气的处理方法，具有：将含有氟元素的废气(a)稀释而调制稀释气体(b)的稀释工序；和使稀释气体(b)与水接触而得到处理气体(c)的水吸收工序。另外，本发明的含有氟元素的废气的处理方法，优选还具有使所述处理气体(c)与包含还原剂的水溶液接触而得到处理气体(d)的药液吸收工序。
＜含有氟元素的废气(a)＞
本发明的含有氟元素的废气的处理方法中的处理对象，是含有氟元素的废气(a)(以下有时也简称为废气(a))。作为含有氟元素的废气(a)，可举出含有F2、NF3、SiF4、COF2、SF6、氟碳(CF4、C2F6、C4F6等)等氟系气体的气体，例如含有氟气(F2)的废气。本发明中，作为废气(a)，可以不特别限制地对在利用氟系气体的工艺或伴随氟系气体产生的工艺中生成的工业废气等含有氟元素的废气进行处理。本发明中要处理的废气(a)，除了作为氧化性气体的氟气以外，可以还包含二氟化氧(OF2)等氧化性气体和/或氟化氢(HF)等酸性气体。优选废气(a)包含氟气和/或氟化氢。但在废气(a)含有二氟化氧的情况下，含有氟元素的废气的处理方法优选具有药液吸收工序。
对于本发明涉及的废气(a)并不特别限定，由于本发明的处理方法具有稀释工序，因此期望是废气(a)中的氟气(F2)浓度通常为25体积％以上、优选为30体积％以上、更优选为35体积％以上、进一步优选为40体积％以上的以高浓度含有氟气的废气。对于废气(a)中的氟气浓度的上限值并不特别限定，也能够应用于100％的氟气。另外，在废气(a)中的氟气浓度从最开始为25体积％以下的情况下，可以视为经过了本发明的稀释工序，直接供于水吸收工序。
＜稀释工序＞
在稀释工序中，利用惰性气体将作为处理对象的含有氟元素的废气(a)稀释，稀释为25体积％以下的期望的氟气浓度，调制稀释气体(b)。在废气(a)从最开始就满足25体积％以下的情况下，可以视为进行了稀释工序，将其作为稀释气体(b)供于后述的水吸收工序。
本发明中惰性气体意味着在处理条件下实质不与废气(a)中的成分、水、以及根据需要进行的药液吸收工序中使用的包含还原剂的水溶液反应，并且不阻碍反应的气体，例如可举出空气、氮气、稀有气体等。本发明中，使用空气作为惰性气体既简单又经济，因此优选。
在稀释工序中，利用空气等惰性气体稀释废气(a)，使所得到的稀释气体(b)的氟气(F2)浓度成为25体积％以下。稀释气体(b)的氟气浓度为25体积％以下，优选为0.1～25体积％，更优选为0.1～5体积％。如果稀释气体(b)的氟气浓度为25体积％以下，则能够在水吸收工序中充分除去稀释气体(b)中的氟气(F2)，并且能够很好地抑制臭氧(O3)、二氟化氧(OF2)的生成。如果稀释气体(b)的氟气浓度超过25体积％，则在使稀释气体(b)与水接触的水吸收工序中容易发生生成二氟化氧的副反应，因此不优选。另外，如果稀释气体(b)的氟气浓度小于0.1体积％，则供于水吸收工序的稀释气体(b)的量增多，有时需要处理装置的大型化、处理时间的长期化，并不经济。
＜水吸收工序＞
在水吸收工序中，使稀释气体(b)与水接触，得到处理气体(c)。
作为进行使稀释气体(b)与水接触的水吸收工序的具体方法和装置，可以不特别限制地采用以往公知的使气液接触的方法，可优选采用使用曝气搅拌槽等液中分散型装置、或使用通过使气液接触从而使液体成分吸收气体成分的至少一部分的吸收塔等装置的方法。具体而言，可优选采用使用搅拌槽等液中分散型装置、喷雾塔、板式塔、填充塔、或具备喷射洗涤器等的公知的吸收塔等装置的方法。例如，本发明的水吸收工序既可以如后述的实施例那样使用曝气搅拌槽进行，也可以在工业上使用图1所示的概略图的水吸收工序侧的装置等进行。这样的方法在作为之后的工序根据需要而进行的药液吸收工序中也可以同样地采用。
在水吸收工序中，与稀释气体(b)接触的水可以循环利用，但由于随着废气的处理，所吸收的氟化氢的浓度不断上升，因此在大量或连续处理的情况下，优选进行吸收液即水的更换。吸收液即水的更换方法可以批次进行或连续进行，但由于优选确保吸收液中的HF的浓度恒定，因此优选连续进行水的更换。
稀释气体(b)中以25体积％以下的浓度包含氟气(F2)，如果该氟气与水接触，则如上述式(1)所示，迅速反应而生成氟化氢(HF)，所生成的氟化氢溶解于水。通常在氟气与水的接触中，随着生成氟化氢的反应，还会产生生成二氟化氧(OF2)的副反应，但在本申请中通过将稀释气体(b)中的氟气(F2)控制为25体积％以下，能够显著抑制生成二氟化氧的副反应。因此，来自于稀释气体(b)中的氟气(F2)的氟元素的大部分在水吸收工序中向水侧转移。另外，在稀释气体(b)中包含氟化氢的情况下，也会在水吸收工序中溶解于水，大部分向水侧转移。
因此，在水吸收工序中得到的处理气体(c)中，稀释气体(b)所含的氟气的大部分被水侧吸收而除去。处理气体(c)中可以包含相伴的氟气和/或氟化氢。
从这样的水吸收工序排出的气体即处理气体(c)，氟气浓度充分减少，并且二氟化氧浓度的上升很好地被抑制。在水吸收工序中得到的处理气体(c)中的二氟化氧浓度，在最初导入的废气(a)实质不含二氟化氧的情况下，优选为100体积ppm以下。
在处理气体(c)中的氟系气体(氟气或氟化合物的气体)浓度足够低，符合排放标准的范围内的情况下，可以将处理气体(c)原样直接排放。在期望处理气体(c)中的氟系气体浓度进一步降低的情况下，优选将处理气体(c)供于后述的药液吸收工序。
＜药液吸收工序＞
上述的水吸收工序中得到的处理气体(c)，优选根据需要供于药液吸收工序。
在药液吸收工序中，使所述处理气体(c)与包含还原剂的水溶液接触，能够使氟系气体成分向药液侧转移，得到氟系气体成分进一步减少的处理气体(d)。
处理气体(c)通常包含废气(a)中所含的或在水吸收工序中生成的二氟化氧以及相伴的氟化氢。处理气体(c)中可以包含相伴的氟气和/或氟化氢。
对于处理气体(c)中的二氟化氧的浓度并不特别限定，优选为100体积ppm以下。本发明中，由于稀释气体(b)中的氟气浓度为25体积％以下，因此能够使水吸收工序中得到的处理气体(c)中的二氟化氧浓度足够低，在最初的废气(a)中不含OF2的情况下，通常能够为100体积ppm以下。在处理气体(c)中的二氟化氧浓度高的情况下，可以通过惰性气体适当稀释之后再导入药液吸收工序。
在药液吸收工序中，处理气体(c)中的二氟化氧与还原剂反应而成为氟化氢，处理气体(c)中的氟化氢和通过反应而生成的氟化氢与碱反应而被除去。
在药液吸收工序中使用的药液即包含还原剂的水溶液，是在水中溶解有还原剂的水溶液，作为吸收液使用。该包含还原剂的水溶液除了还原剂以外还可以含有碱。
作为还原剂，可以不特别限制地使用能够将二氟化氧还原的还原剂，例如可以从硫代硫酸钠、硫代硫酸铵、硫代硫酸钾等硫代硫酸盐；亚硫酸钠、亚硫酸钾、亚硫酸铵等亚硫酸盐；氯化钾、氯化钠等氯化物；溴化钾等溴化物；碘化钾等碘化物；亚硝酸钠、亚硝酸钾等亚硝酸盐；甲酸、甲酸钠、甲酸钾等甲酸盐；草酸、肼等之中选择。本发明中，作为还原剂，从有效除去二氟化氧(OF2)的观点出发，优选使用硫系还原剂，更优选使用硫代硫酸盐、亚硫酸盐。
还原剂的浓度取决于处理气体(c)中的二氟化氧的浓度等条件，在包含还原剂的水溶液中优选为1～20质量％，更优选为1～10质量％。
包含还原剂的水溶液含有碱的情况下，作为碱，可以不特别限制地使用能够除去氟化氢等的碱，优选使用金属氢氧化物，更优选使用氢氧化钠或氢氧化钾。
使用碱的情况下，其浓度取决于处理气体(c)中的氟化氢浓度等条件，优选包含还原剂的水溶液的液性维持碱性，优选pH值为8以上，更优选pH值为9以上。
在药液吸收工序中，作为使水吸收工序中得到的处理气体(c)与包含还原剂的水溶液接触的方法，可以与水吸收工序同样地不特别限制地采用以往公知的使气液接触的方法，可优选采用使用曝气搅拌槽等液中分散型装置、或使用通过使气液接触从而使液体成分吸收气体成分的至少一部分的吸收塔等装置的方法。具体而言，可优选采用使用搅拌槽等液中分散型装置、喷雾塔、板式塔、填充塔、具备喷射洗涤器等的公知的吸收塔的方法。例如，本发明的药液吸收工序既可以使用曝气搅拌槽进行，也可以在工业上使用图1所示的概略图的药液吸收工序侧的装置等进行。水吸收工序和药液吸收工序可以采用使用相同装置的方法，也可以采用使用不同装置的方法。
在药液吸收工序中，作为吸收液而使用的包含还原剂的水溶液，通常能够在吸收塔内循环利用。包含还原剂的水溶液随着导入的处理气体(c)的处理进行，水溶液中的还原剂和碱的浓度减少，所吸收的反应生成物浓度上升，因此在处理量多的情况下需要更换。包含还原剂的水溶液的更换既可以分批次进行也可以连续进行，由于导入药液吸收工序的处理气体(c)中所含的氟系的有害气体的浓度原本就是低浓度，包含还原剂的水溶液中的还原剂浓度的变化小，因此通常分批次更换比较经济。
从本发明的药液吸收工序排出的处理气体(d)，氟气(F2)、二氟化氧(OF2)、氟化氢(HF)等氟系的有害气体被充分除去，能够视为实质不含氟系气体。具体而言，处理气体(d)中的二氟化氧浓度优选为1体积ppm以下，更优选为0.5体积ppm以下。处理气体(d)中的氟气(F2)浓度优选为1体积ppm以下，更优选为0.5体积ppm以下。另外，处理气体(d)中的氟化氢(HF)浓度优选为3体积ppm以下，更优选为1.5体积ppm以下。
实施例
以下，基于实施例对本发明进行更具体的说明，但本发明并不限定于这些实施例。
＜氟系气体浓度的测定＞
在以下的实施例和比较例中，如以下这样对各氟系气体成分的浓度进行测定、定量。
气体中的氟气(F2)和二氟化氧(OF2)的合计浓度，采用使碘化钾水溶液吸收规定量气体并用硫代硫酸钠滴定的方法(碘滴定法)分析求出。定量下限值可以通过增加吸收的气体量来调整，作为氟和二氟化氧的合计浓度，测定1体积ppm以上。
将气体中的氟气和二氟化氧分离进行定量分析的情况下，采用FT-IR(傅里叶变换红外吸光光度)法对二氟化氧进行定量，从氟气和二氟化氧的合计浓度减去二氟化氧浓度求出氟气浓度。作为FT-IR的气室使用光路长度为10m的长光路气室的情况下，二氟化氧浓度的定量下限值为0.5体积ppm。
氟化氢浓度采用FT-IR法进行定量。氟化氢浓度的定量下限值在使用15cm的气室的情况下为0.5体积ppm。
[实施例1]
通过空气将包含50体积％的氟气(F2)的废气(余量为氮气)稀释，调制包含20体积％的氟气的稀释气体。
向铁氟龙(注册商标)制的洗气瓶(容量500ml)中放入250ml纯水，利用搅拌子进行搅拌，并且从气体导入管以90ml/min的流量导入包含20体积％的氟气的稀释气体，使其起泡，进行水吸收工序。在洗气瓶的出口捕集产生的气体，将其作为处理气体(c-1)，测定氟气(F2)和二氟化氧(OF2)的浓度。测定结果示于表1。从处理气体(c-1)中没有检测到氟气，检测到80体积ppm的二氟化氧。
[实施例2]
与实施例1同样地进行废气的稀释和水吸收工序，得到处理气体(c-1)。
接着，向放入了250ml作为吸收液的3质量％的硫代硫酸钠的铁氟龙(注册商标)制的洗气瓶(容量500ml)中，从气体导入管以90ml/min的流量导入处理气体(c-1)，利用搅拌子进行搅拌并且使其起泡，进行药液吸收工序。在洗气瓶的出口捕集得到的气体，将其作为处理气体(d-1)，测定氟气(F2)和二氟化氧(OF2)的浓度。测定结果示于表1。从处理气体(d-1)中没有检测到氟气和二氟化氧。
[实施例3]
通过空气将包含50体积％的氟气(F2)的废气(余量为氮气)稀释，调制包含5体积％的氟气的稀释气体。
除了使用该包含5体积％的氟气的稀释气体以外，与实施例1同样地进行水吸收工序，在洗气瓶的出口捕集产生的气体，得到处理气体(c-2)。测定处理气体(c-2)的氟气(F2)和二氟化氧(OF2)的浓度，结果示于表1。从处理气体(c-2)中没有检测到氟气，检测到6体积ppm的二氟化氧。
[实施例4]
与实施例3同样地进行废气的稀释和水吸收工序，得到处理气体(c-2)。
接着，使用了处理气体(c-2)代替处理气体(c-1)，除此以外与实施例2同样地进行药液吸收工序，在洗气瓶的出口捕集产生的气体，得到处理气体(d-2)。测定处理气体(d-2)的氟气(F2)和二氟化氧(OF2)的浓度，结果示于表1。从处理气体(d-2)中没有检测到氟气和二氟化氧。
[实施例5]
通过空气将包含50体积％的氟气(F2)的废气(余量为氮气)稀释，调制包含1体积％的氟气的稀释气体。
除了使用该包含1体积％的氟气的稀释气体以外，与实施例1同样地进行水吸收工序，在洗气瓶的出口捕集产生的气体，得到处理气体(c-3)。测定处理气体(c-3)的氟气(F2)和二氟化氧(OF2)的浓度，结果示于表1。从处理气体(c-3)中没有检测到氟气，检测到2体积ppm的二氟化氧。
[实施例6]
与实施例5同样地进行废气的稀释和水吸收工序，得到处理气体(c-3)。
接着，使用了处理气体(c-3)代替处理气体(c-1)，除此以外与实施例2同样地进行药液吸收工序，在洗气瓶的出口捕集产生的气体，得到处理气体(d-3)。测定处理气体(d-3)的氟气(F2)和二氟化氧(OF2)的浓度，结果示于表1。从处理气体(d-3)中没有检测到氟气和二氟化氧。
[比较例1]
向铁氟龙(注册商标)制的洗气瓶(容量500ml)中放入250ml纯水，利用搅拌子进行搅拌，并且从气体导入管以90ml/min的流量将实施例1中使用的包含50体积％的氟气(F2)的废气不经稀释就直接导入，使其起泡，进行水吸收工序。在洗气瓶的出口捕集产生的气体，将其作为处理气体(c'-4)，测定氟气(F2)和二氟化氧(OF2)的浓度。测定结果示于表1。其结果，检测出的处理气体(c'-4)中的氟气浓度为10体积ppm以下的微量，但二氟化氧浓度为4.2体积％(42,000体积ppm)。
[比较例2]
与比较例1同样地进行水吸收工序，得到处理气体(c'-4)。
接着，使用了处理气体(c'-4)代替处理气体(c-1)，除此以外与实施例2同样地进行药液吸收工序，在洗气瓶的出口捕集产生的气体，得到处理气体(d'-4)。测定处理气体(d'-4)的氟气(F2)和二氟化氧(OF2)的浓度，结果示于表1。处理气体(d'-4)中的氟气浓度为10体积ppm以下的微量，二氟化氧浓度为2,000体积ppm。
表1
产业可利用性
本发明的废气的处理方法，适合用作对在使用氟系气体作为蚀刻或清洁气体的工艺或制造氟系气体的工艺等中产生的含有氟元素的废气进行处理，得到实质不含氟系气体的处理气体的方法。
附图标记说明
1：废气导入管1
2：第1吸收塔
3：填充层1
4：供水管
5：HF水溶液排出管
6：循环液罐1
7：循环泵1
8：喷头1
9：废气导入管2
10：第2吸收塔
11：填充层2
12：循环液罐2
13：循环泵2
14：喷头2
15：处理气体排出管
Claims (8)
1.一种含有氟元素的废气的处理方法，其特征在于，具有稀释工序和水吸收工序，
在所述稀释工序中，利用惰性气体将含有氟元素的废气(a)稀释，使氟气浓度成为25体积％以下，从而调制稀释气体(b)，
在所述水吸收工序中，使稀释气体(b)与水接触，从而得到处理气体(c)。
2.根据权利要求1所述的含有氟元素的废气的处理方法，其特征在于，
惰性气体是空气或氮气。
3.根据权利要求1或2所述的含有氟元素的废气的处理方法，其特征在于，
所述废气(a)包含氟气和/或氟化氢。
4.根据权利要求1～3的任一项所述的含有氟元素的废气的处理方法，其特征在于，
所述处理气体(c)中的二氟化氧浓度为100体积ppm以下。
5.根据权利要求1～4的任一项所述的含有氟元素的废气的处理方法，其特征在于，还具有药液吸收工序，
在所述药液吸收工序中，使所述处理气体(c)与包含还原剂的水溶液接触，从而得到处理气体(d)。
6.根据权利要求5所述的含有氟元素的废气的处理方法，其特征在于，
所述包含还原剂的水溶液中所含的还原剂是硫系还原剂。
7.根据权利要求6所述的含有氟元素的废气的处理方法，其特征在于，
所述硫系还原剂是亚硫酸盐或硫代硫酸盐。
8.根据权利要求5～7的任一项所述的含有氟元素的废气的处理方法，其特征在于，
所述处理气体(d)中的二氟化氧浓度为1体积ppm以下。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015-234588 | 2015-12-01 | ||
| JP2015234588 | 2015-12-01 | ||
| PCT/JP2016/082240 WO2017094418A1 (ja) | 2015-12-01 | 2016-10-31 | フッ素元素を含有する排ガスの処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN108290113A true CN108290113A (zh) | 2018-07-17 |
Family
ID=58796971
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201680068104.3A Withdrawn CN108290113A (zh) | 2015-12-01 | 2016-10-31 | 含有氟元素的废气的处理方法 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20180345213A1 (zh) |
| EP (1) | EP3384976A4 (zh) |
| JP (1) | JPWO2017094418A1 (zh) |
| KR (1) | KR20180075623A (zh) |
| CN (1) | CN108290113A (zh) |
| TW (1) | TWI624299B (zh) |
| WO (1) | WO2017094418A1 (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN114028900A (zh) * | 2021-09-26 | 2022-02-11 | 中船重工（邯郸）派瑞特种气体有限公司 | 一种三氟化氮电解槽阳极尾气的处理设备 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112755760A (zh) * | 2020-11-24 | 2021-05-07 | 陕西航天机电环境工程设计院有限责任公司 | 一种常规火箭推进剂废气处理装置 |
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| US4399113A (en) * | 1980-12-11 | 1983-08-16 | Mitsubishi Light Metal Industries Limited | Process for treating a gas containing a fluorine compound |
| JPH03217217A (ja) * | 1990-01-19 | 1991-09-25 | Central Glass Co Ltd | 三フッ化塩素を含む排ガスの処理方法 |
| JP2002085939A (ja) * | 2000-09-14 | 2002-03-26 | Air Water Inc | フッ素系排ガス分解処理方法 |
| CN1167497C (zh) * | 1998-12-15 | 2004-09-22 | 高级技术材料公司 | 现场处理废气流的装置和方法 |
| CN101007237A (zh) * | 2006-01-26 | 2007-08-01 | 高化环保技术有限公司 | 半导体制造工序中产生的废气的处理装置及处理方法 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61101231A (ja) * | 1984-10-23 | 1986-05-20 | Central Glass Co Ltd | フツ素ガスの除去方法 |
| JPH0280310A (ja) * | 1988-06-01 | 1990-03-20 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 三弗化窒素ガスの精製方法 |
| US6759018B1 (en) * | 1997-05-16 | 2004-07-06 | Advanced Technology Materials, Inc. | Method for point-of-use treatment of effluent gas streams |
| US20040101460A1 (en) * | 1997-05-16 | 2004-05-27 | Arno Jose I. | Apparatus and method for point-of-use treatment of effluent gas streams |
| CN103180029A (zh) * | 2010-09-15 | 2013-06-26 | 索尔维公司 | 从气体中去除f2和/或of2的方法 |
-
2016
- 2016-10-31 WO PCT/JP2016/082240 patent/WO2017094418A1/ja active Application Filing
- 2016-10-31 JP JP2017553719A patent/JPWO2017094418A1/ja active Pending
- 2016-10-31 CN CN201680068104.3A patent/CN108290113A/zh not_active Withdrawn
- 2016-10-31 KR KR1020187014976A patent/KR20180075623A/ko not_active Application Discontinuation
- 2016-10-31 US US15/779,126 patent/US20180345213A1/en not_active Abandoned
- 2016-10-31 EP EP16870358.5A patent/EP3384976A4/en not_active Withdrawn
- 2016-11-10 TW TW105136698A patent/TWI624299B/zh active
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW201729888A (zh) | 2017-09-01 |
| WO2017094418A1 (ja) | 2017-06-08 |
| EP3384976A4 (en) | 2019-08-07 |
| EP3384976A1 (en) | 2018-10-10 |
| US20180345213A1 (en) | 2018-12-06 |
| JPWO2017094418A1 (ja) | 2018-09-20 |
| KR20180075623A (ko) | 2018-07-04 |
| TWI624299B (zh) | 2018-05-21 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| WW01 | Invention patent application withdrawn after publication | ||
| WW01 | Invention patent application withdrawn after publication |
Application publication date: 20180717 |