CN107922608A - 含氟醚化合物、含氟醚组合物、涂布液和物品 - Google Patents

含氟醚化合物、含氟醚组合物、涂布液和物品 Download PDF

Info

Publication number
CN107922608A
CN107922608A CN201680050396.8A CN201680050396A CN107922608A CN 107922608 A CN107922608 A CN 107922608A CN 201680050396 A CN201680050396 A CN 201680050396A CN 107922608 A CN107922608 A CN 107922608A
Authority
CN
China
Prior art keywords
fluorine
compound
containing ether
ether compound
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201680050396.8A
Other languages
English (en)
Other versions
CN107922608B (zh
Inventor
星野泰辉
户田和江
石关健二
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Publication of CN107922608A publication Critical patent/CN107922608A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN107922608B publication Critical patent/CN107922608B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
    • C07F7/02—Silicon compounds
    • C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/04—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring from cyclic ethers only
    • C08G65/22—Cyclic ethers having at least one atom other than carbon and hydrogen outside the ring
    • C08G65/223—Cyclic ethers having at least one atom other than carbon and hydrogen outside the ring containing halogens
    • C08G65/226—Cyclic ethers having at least one atom other than carbon and hydrogen outside the ring containing halogens containing fluorine
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
    • C07F7/02—Silicon compounds
    • C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/18—Compounds having one or more C—Si linkages as well as one or more C—O—Si linkages
    • C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages
    • C07F7/1872—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20
    • C07F7/1876—Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G65/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G65/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule from cyclic ethers by opening of the heterocyclic ring
    • C08G65/32—Polymers modified by chemical after-treatment
    • C08G65/329—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds
    • C08G65/336—Polymers modified by chemical after-treatment with organic compounds containing silicon
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D171/00—Coating compositions based on polyethers obtained by reactions forming an ether link in the main chain; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/18—Materials not provided for elsewhere for application to surfaces to minimize adherence of ice, mist or water thereto; Thawing or antifreeze materials for application to surfaces
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G2650/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule
    • C08G2650/02—Macromolecular compounds obtained by reactions forming an ether link in the main chain of the macromolecule characterized by the type of post-polymerisation functionalisation
    • C08G2650/04—End-capping

Abstract

本发明提供能够形成斥水斥油性、耐摩擦性、指纹污迹除去性、润滑性、耐试剂性以及耐光性优良的表面层的含氟醚化合物、含氟醚组合物、涂布液以及具有表面层的物品。以A1‑O‑Q1‑(Rf11O)m1‑Rf12‑R11‑N[‑R12‑SiR13 n1X1 3‑n1]2表示的含氟醚化合物。其中，A1：碳数1～20的全氟烷基，Q1：单键、含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基等，Rf11、Rf12：全氟亚烷基，m1：2～200的整数，R11：单键、亚烷基等，R12：亚烷基等，R13：1价烃基等，X1：水解性基团，n1：0～2的整数。

Description

含氟醚化合物、含氟醚组合物、涂布液和物品
技术领域
本发明涉及含氟醚化合物、含氟醚组合物、涂布液和物品。
背景技术
含氟化合物呈现高润滑性和斥水斥油性等，因此适合用于表面处理剂。如果通过该表面处理剂赋予基材表面斥水斥油性，则容易拭去基材表面的污迹，污迹除去性得到提高。该含氟化合物中，具有在全氟烷基链的中途存在醚键(-O-)的聚(氧基全氟亚烷基)链的含氟醚化合物对油脂等污迹的除去性特别优良。
含有该含氟醚化合物的表面处理剂在要求长期维持即使用手指反复摩擦斥水斥油性也不易降低的性能(耐摩擦性)和通过擦拭能够容易地除去附着于表面的指纹的性能(指纹污迹除去性)的用途中，例如用作构成触摸面板的手指接触面的部件的表面处理剂。
为了赋予形成于基材表面的表面层耐摩擦性，例如在含氟醚化合物的末端引入水解性甲硅烷基、使含氟醚化合物与基材化学结合即可。作为以形成耐摩擦性优良的表面层为目的的含氟醚化合物，提出了在含氟醚化合物的一末端通过由氮原子带来的分支结构引入2个水解性甲硅烷基而得的含氟醚化合物(专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：美国专利申请公开第2010/0129672号说明书
发明内容
发明所要解决的技术问题
根据本发明人的见解，专利文献1中记载的含氟醚化合物中，在聚(氧基全氟亚烷基)链和水解性甲硅烷基之间具有极性高且耐试剂性和耐光性不充分的酯键，因此表面层的初期的斥水性、耐试剂性和耐光性不充分。
对于在室外使用的触摸面板(自动售货机、指示板等的电子标识)、车载触摸面板等，要求表面层具有耐光性。
本发明的目的在于提供能够形成斥水斥油性、耐摩擦性、指纹污迹除去性、润滑性、耐试剂性以及耐光性优良的表面层的含氟醚化合物、含氟醚组合物、涂布液以及具有斥水斥油性、耐摩擦性、指纹污迹除去性、润滑性、耐试剂性和耐光性优良的表面层的物品。
解决技术问题所采用的技术方案
本发明提供具有下述[1]～[13]的构成的含氟醚化合物、含氟醚组合物、涂布液以及物品。
[1]以下述式(1)表示的含氟醚化合物，
A1-O-Q1-(Rf11O)m1-Rf12-R11-N[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]2···(1)
其中，
A1是碳数1～20的全氟烷基，
Q1是单键、含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基、在含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基的末端(但是，与A1-O结合侧的末端除外)具有醚性氧原子的基团、在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团、或在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的末端(但是，与A1-O结合侧的末端除外)及碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团，
Rf11和Rf12分别独立地是全氟亚烷基，
m1是2～200的整数，
(Rf11O)m1可以由2种以上的Rf11O形成，
R11是单键、亚烷基、在亚烷基的末端(但是，与N结合侧的末端除外)具有醚性氧原子或-NH-的基团、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团、或在碳数2以上的亚烷基的末端(但是，与N结合侧的末端除外)及碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团，
R12是亚烷基、或者在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团，
R13是氢原子或1价的烃基，
X1是水解性基团，
n1是0～2的整数，
2个[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]可不为相同的基团。
[2]如[1]所述的含氟醚化合物，其中，所述Rf11和所述Rf12分别独立地是碳数1～6的全氟亚烷基。
[3]如[1]或[2]所述的含氟醚化合物，其中，所述Rf11和所述Rf12分别独立地是不具有分支结构的全氟亚烷基。
[4]如[1]～[3]中任一项所述的含氟醚化合物，其中，所述(Rf11O)m1具有{(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}，其中，x1、x2均为1以上的整数，x1+x2是2以上m1以下的整数，该式表示x1个(CF2O)和x2个(CF2CF2O)无规配置的结构。
[5]如[1]～[4]中任一项所述的含氟醚化合物，其中，所述(Rf11O)m1具有(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3，其中，x3是1以上m1/2以下的整数。
[6]如[1]～[5]中任一项所述的含氟醚化合物，其中，所述Q1是单键、-Rf5O-或-Rf5O-Rf6O-，其中，Rf5、Rf6分别独立地是具有氢原子的碳数2～6的氟代亚烷基。
[7]如[1]～[6]中任一项所述的含氟醚化合物，其中，所述R11为选自-CH2-、-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-、-CH2OCH2CH2-和-CH2NHCH2CH2-的基团。
[8]如[1]～[7]中任一项所述的含氟醚化合物，其中，所述R12为-CH2CH2CH2-或-CH2CH2OCH2CH2CH2-。
[9]如[1]～[8]中任一项所述的含氟醚化合物，其中，数均分子量为500～20000。
[10]含氟醚组合物，它是含有所述[1]～[9]中任一项所述的含氟醚化合物、和除所述以式(1)表示的含氟醚化合物以外的含氟醚化合物的含氟醚组合物，
所述含氟醚组合物中的所述以式(1)表示的含氟醚化合物和其他含氟醚化合物的总计的比例相对于含氟醚组合物为80～100质量％，
相对于所述以式(1)表示的含氟醚化合物和其他含氟醚化合物的总计，所述其他含氟醚化合物的比例超过0质量％且低于40质量％。
[11]如[10]所述的含氟醚组合物，其中，所述其他含氟醚化合物是选自下述含氟醚化合物(2)、下述含氟醚化合物(3)和下述含氟醚化合物(4)中的至少1种，
含氟醚化合物(2)：所述以式(1)表示的含氟醚化合物中具有所述-N[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]2的基团与所述(Rf11O)m1的两侧结合的含氟醚化合物，
含氟醚化合物(3)：所述以式(1)表示的含氟醚化合物中具有所述A1的基团与所述(Rf11O)m1的两侧结合的含氟醚化合物，
含氟醚化合物(4)：所述以式(1)表示的含氟醚化合物中所述-N[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]2被-N[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]2-t[-R15]t取代了的含氟醚化合物，其中，R15是如果加成HSiR13 n1X1 3-n1则形成-R12-SiR13 n1X1 3-n1的含有不饱和键的基团、或该含有不饱和键的基团的异构体基团，t为1或2。
[12]涂布液，其包含所述[1]～[9]中任一项所述的含氟醚化合物或者[10]或[11]的含氟醚组合物、以及液态介质。
[13]物品，其具有由所述[1]～[9]中任一项所述的含氟醚化合物或者[10]或[11]的含氟醚组合物所形成的表面层。
发明效果
通过本发明的含氟醚化合物、含氟醚组合物以及涂布液，能够形成斥水斥油性、耐摩擦性、指纹污迹除去性、润滑性、耐试剂性以及耐光性优良的表面层。
本发明的物品具有斥水斥油性、耐摩擦性、指纹污迹除去性、润滑性、耐试剂性以及耐光性优良的表面层。
具体实施方式
本说明书中，以式(1)表示的化合物记为化合物(1)。以其他式表示的化合物也同样如此记载。
本说明书中的以下用语的含义如下所述。
“全氟烷基”是指烷基的全部氢原子被氟原子取代而得的基团。
“氟代亚烷基”是指亚烷基的1个以上的氢原子被氟原子取代而得的基团。
“全氟亚烷基”是指亚烷基的全部氢原子被氟原子取代而得的基团。
此处，氧基全氟亚烷基的化学式以其氧原子位于全氟亚烷基的右侧的化学式表示。
“醚性氧原子”是指在碳原子-碳原子间形成醚键(-O-)的氧原子。
“水解性甲硅烷基”是指，能够通过水解反应来形成硅烷醇基(Si-OH)的基团。例如，式(1)中的SiR13 n1X1 3-n1。
“表面层”是指在基材的表面形成的层。
使用NMR分析法，通过下述方法算出含氟醚化合物的“数均分子量”。
利用1H-NMR和19F-NMR，以末端基团为基准求出氧基全氟亚烷基的数量(平均值)，从而算出数均分子量。末端基团例如是式(1)中的A1或SiR13 n1X1 3-n1。
[含氟醚化合物]
本发明的含氟醚化合物(以下也记为本化合物)是以下述式(1)表示的化合物(1)。
A1-O-Q1-(Rf11O)m1-Rf12-R11-N[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]2···(1)
其中A1是碳数1～20的全氟烷基，Q1是单键、含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基、在含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基的末端(其中，与A1-O结合侧的末端除外)具有醚性氧原子的基团、在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团、或在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的末端(其中，与A1-O结合侧的末端除外)及碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团，Rf11和Rf12分别独立地是全氟亚烷基，m1是2～200的整数，(Rf11O)m1可以由2种以上的Rf11O形成，R11是单键、亚烷基、在亚烷基的末端(但是，与N结合侧的末端除外)具有醚性氧原子或-NH-的基团、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团、或在碳数2以上的亚烷基的末端(但是，与N结合侧的末端除外)及碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团，R12是亚烷基、或者在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团，R13是氢原子或1价的烃基，X1是水解性基团，n1是0～2的整数，2个[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]可不为相同的基团。
(A1基团)
作为A1，从表面层的润滑性和耐摩擦性更为优良的角度考虑，优选碳数1～10的全氟烷基，更优选碳数1～6的全氟烷基，特别优选碳数1～3的全氟烷基。
A1在末端具有CF3-，因此化合物(1)的一侧的末端为CF3-，另一侧的末端为水解性甲硅烷基。利用该结构的化合物(1)，能够形成低表面能的表面层，因此该表面层的润滑性和耐摩擦性优良。另一方面，两末端具有水解性甲硅烷基的以往的含氟醚化合物的情况下，表面层的润滑性和耐摩擦性不充分。
(Q1基团)
作为Q1，优选为单键、含有1个以上的氢原子的碳数1～10的氟代亚烷基、在含有1个以上的氢原子的碳数1～10的氟代亚烷基的末端(其中，与A1-O结合侧的末端除外)具有醚性氧原子的基团、在含有1个以上的氢原子的碳数2～10的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团、或在含有1个以上的氢原子的碳数2～10的氟代亚烷基的末端(其中，与A1-O结合侧的末端除外)及碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团。
Q1不为单键时，从表面层的外观优良的角度考虑，Q1中的氢原子数在1以上，优选在2以上，特别优选在3以上。从表面层的斥水斥油性更为优良的角度考虑，Q1中的氢原子数优选在(Q1的碳数)×2以下，特别优选在(Q1的碳数)以下。
Q1具有氢原子，从而化合物(1)在液态介质中的溶解性变高。因此，涂布液中化合物(1)不易凝聚，并且涂布至基材表面后，在干燥过程中化合物(1)不易凝聚，因此表面层的外观更为优良。
作为Q1，特别优选为单键、-Rf5O-或-Rf5O-Rf6O-。其中，Rf5、Rf6分别独立地表示具有氢原子的碳数2～6的氟代亚烷基。Rf5、Rf6中的氢原子数优选为1或2。
作为Rf5O，优选A1-O-所结合的碳原子上具有氢原子的氧基氟代亚烷基，特别优选CHFCF2O。作为Rf6O，优选Rf5O所结合的碳原子上具有氢原子的氧基氟代亚烷基，可例举CH2CF2O、CH2CF2CF2O、CH2CF2CF2CF2O等。作为-Rf5O-Rf6O-，可例举-CHFCF2O-CH2CF2O-等。
((Rf11O)m1)
作为Rf11，从表面层的耐摩擦性和指纹污迹除去性更为优良的角度考虑，优选碳数1～6的全氟亚烷基，更优选碳数1～4的全氟亚烷基，从表面层的润滑性更为优良的角度考虑，特别优选碳数1～2的全氟亚烷基。
化合物(1)具有(Rf11O)m1，因此氟原子的含量多。从而能够形成斥水斥油性、耐摩擦性、指纹污迹除去性优良的表面层。
另外，Rf11如果是不具有分支结构的全氟亚烷基，则(Rf11O)m1为直链结构。利用该结构的化合物(1)，则表面层的耐摩擦性和润滑性优良。另一方面，在聚(氧基全氟亚烷基)链具有分支结构的情况下，表面层的耐摩擦性和润滑性略差。
m1是2～200的整数，优选为5～150的整数，特别优选为10～100的整数。m1如果在所述范围的下限值以上，则表面层的斥水斥油性优良。m1如果在所述范围的上限值以下，则表面层的耐摩擦性优良。即，化合物(1)的数均分子量如果过大，则每单位分子量中存在的水解性甲硅烷基的数量减少，耐摩擦性降低。
(Rf11O)m1中，存在2种以上的Rf11O的情况下，各Rf11O的结合顺序没有限定。例如，存在CF2O和CF2CF2O的情况下，CF2O和CF2CF2O可无规配置、交互配置和嵌段配置。
存在2种以上的Rf11O是指，存在碳数不同的2种以上的Rf11O，以及存在碳数相同但侧链的有无或侧链的种类(侧链的数量和侧链的碳数等)不同的2种以上的Rf11O。
关于2种以上的Rf11O的配置，例如在实施例的含氟醚化合物的情况下，以{(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}表示的结构表示x1个(CF2O)与x2个(CF2CF2O)无规配置。另外，以(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3表示的结构表示x3个的(CF2CF2O)与x3个的(CF2CF2CF2CF2O)交互配置。
作为(Rf11O)m1，从表面层的耐摩擦性、指纹污迹除去性、润滑性更为优良的角度考虑，优选{(CF2O)m11(CF2CF2O)m12}、(CF2CF2O)m13、(CF2CF2CF2O)m14、(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)m15、以及这些基团的一端或两端具有1～4个其他的(Rf11O)的基团。作为在这些基团的一端或两端具有1～4个其他(Rf11O)的基团，可例举例如(CF2CF2O)2{(CF2O)m11(CF2CF2O)m12}、(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3(CF2CF2O)等。作为(Rf11O)m1，特别优选具有{(CF2O)m11(CF2CF2O)m12}的基团。
其中，m11是1以上的整数，m12是1以上的整数，m11+m12为2～200的整数，m11个CF2O和m12个CF2CF2O的结合顺序无限定。m13和m14分别是2～200的整数，m15是1～100的整数。
(Rf12基团)
作为Rf12，从表面层的耐摩擦性和指纹污迹除去性更为优良的角度考虑，优选碳数1～6的全氟亚烷基，更优选碳数1～4的全氟亚烷基，从表面层的润滑性更为优良的角度考虑，特别优选碳数1～2的全氟亚烷基。
Rf12例如在(Rf11O)m1为{(CF2O)m11(CF2CF2O)m12}和(CF2CF2O)m13的情况下，是碳数为1的全氟亚烷基，在(Rf11O)m1为(CF2CF2CF2O)m14的情况下，是碳数2的全氟亚烷基，在(Rf11O)m1为(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)m15的情况下，是碳数3的直链的全氟亚烷基。另外，Rf11是具有分支的全氟亚烷基的情况下，Rf12有时为具有分支的全氟亚烷基，例如，Rf11为(CF(CF3)CF2O)的情况下，Rf12是CF(CF3)。
Rf12如果是不具有分支结构的全氟亚烷基，则表面层的耐摩擦性和润滑性优良。
(R11基团)
作为R11，优选为单键、碳数1～10的亚烷基、在碳数1～10的亚烷基的末端(但是，与N结合侧的末端除外)具有醚性氧原子或-NH-的基团、在碳数2～10的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团、或在碳数2～10的亚烷基的末端(但是，与N结合侧的末端除外)及碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团，特别优选碳数1～7的亚烷基、在碳数2～7的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团。从容易制造化合物(1)的角度考虑，优选为选自-CH2-、-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-、-CH2OCH2CH2-和-CH2NHCH2CH2-中的基团(其中，左侧与Rf12结合)。
R11不具有极性高且耐试剂性和耐光性不充分的酯键，因此表面层的初期的斥水性、耐试剂性和耐光性优良。
(R12基团)
作为R12，优选碳数1～10的亚烷基或在碳数2～10的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团，特别优选碳数1～7的亚烷基或在碳数2～7的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团。从容易制造化合物(1)的角度考虑，优选为-CH2CH2CH2-或-CH2CH2OCH2CH2CH2-(其中，右侧与Si结合)。
R12不具有极性高且耐试剂性和耐光性不充分的酯键，因此表面层的初期的斥水性、耐试剂性和耐光性优良。
作为R12，从表面层的耐光性优良的角度考虑，特别优选不具有醚性氧原子。
化合物(1)中的2个R12可为相同的基团，也可不为相同的基团。
(SiR13 n1X1 3-n1基团)
SiR13 n1X1 3-n1是水解性甲硅烷基。
化合物(1)在末端具有2个水解性甲硅烷基。该结构的化合物(1)与基材牢固地化学结合，因此表面层的耐摩擦性优良。
另外，化合物(1)仅在一侧的末端具有水解性甲硅烷基。该结构的化合物(1)不易凝聚，因此表面层的外观优良。
X1是水解性基团。水解性基团是通过水解反应形成羟基的基团。即，化合物(1)的末端的Si-X1通过水解反应形成硅烷醇基(Si-OH)。硅烷醇基分子之间进一步反应形成Si-O-Si键。另外，硅烷醇基与基材表面的羟基(基材-OH)发生脱水缩合反应，形成化学键(基材-O-Si)。
作为X1，可例举烷氧基、卤原子、乙酰基、异氰酸酯基(-NCO)等。作为烷氧基，优选碳数1～4的烷氧基。
作为X1，从容易制造化合物(1)的角度考虑，优选碳数1～4的烷氧基或卤原子。作为卤原子，特别优选氯原子。作为X1，从涂布时逸气(日文：アウトガス)少、化合物(1)的保存稳定性优良的角度考虑，优选碳数1～4的烷氧基，在化合物(1)必需具有长期保存稳定性时特别优选乙氧基，在涂布后的反应时间短时特别优选甲氧基。
R13是氢原子或1价的烃基。作为1价烃基，可例举烷基、环烷基、烯基、烯丙基等。
作为R13，优选1价的烃基，特别优选1价的饱和烃基。1价的饱和烃基的碳数优选为1～6，更优选1～3，特别优选1～2。R13的碳数如果是该范围，则容易制造化合物(1)。
n1优选为0或1，特别优选为0。通过使1个水解性甲硅烷基中存在多个X1，与基材的密合性更为牢固。
作为SiR13 n1X1 3-n1，优选Si(OCH3)3、SiCH3(OCH3)2、Si(OCH2CH3)3、SiCl3、Si(OCOCH3)3、Si(NCO)3。从工业制造中的操作容易度的角度考虑，特别优选Si(OCH3)3。
化合物(1)中的2个SiR13 n1X1 3-n1可为相同的基团，也可不为相同的基团。从容易制造化合物(1)的角度考虑，优选为相同的基团。
(化合物(1)的优选形态)
作为化合物(1)，例如可例举下式的化合物。从工业上容易制造、容易操作、表面层的斥水斥油性、耐摩擦性、指纹污迹除去性、润滑性、耐试剂性和耐光性更为优良的角度考虑，优选该化合物。
[化1]
其中，PFPE为聚氟聚醚链，即为A1-O-Q1-(Rf11O)m1-Rf12-。PFPE的优选形态为上述优选的A1、Q1、(Rf11O)m1和Rf12的组合。
(化合物(1)的制造方法)
作为化合物(1)的制造方法，可例举例如下述方法(1)～(3)。
<方法(1)>
作为起始物质，使用市售的以下述式(10)表示的化合物(10)。
HO-CH2-(CF2O)(Rf11O)x-CF2-CH2-OH···(10)
在碱性化合物的存在下，使A1-O-CF＝CF2与化合物(10)反应，得到以下述式(11)表示的化合物(11)、以下述式(3A)表示的化合物(3A)和未反应的化合物(10)的混合物。
A1-O-CHFCF2OCH2-(CF2O)(Rf11O)x-CF2-CH2-OH···(11)
A1-O-CHFCF2OCH2-(CF2O)(Rf11O)x-CF2-CH2OCF2CHF-O-A1···(3A)
从混合物中分离化合物(11)，通过化合物(11)与CF3CF2CF2OCF(CF3)COF的酯化反应，得到以下述式(12)表示的化合物(12)。该酯化反应可以是化合物(11)与其他酰基氟、酰基氯、酰基溴、酸酐等的反应。
A1-O-CHFCF2OCH2-(CF2O)(Rf11O)x-CF2-CH2-OCOCF(CF3)OCF2CF2CF3···(12)
通过使用氟气体将化合物(12)的氢原子取代为氟原子，得到以下述式(13)表示的化合物(13)。该氟化工序可按照例如国际公开第2000/56694号记载的方法等来实施。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(Rf11O)x(CF2CF2O)-COCF(CF3)OCF2CF2CF3···(13)
通过使醇(甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇等，以下记为ROH，R是烷基)作用于化合物(13)，得到以下述式(14)表示的化合物(14)。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(Rf11O)x-CF2-COOR···(14)
通过使用还原剂(硼氢化钠、氢化铝锂等)将化合物(14)氢化还原，得到以下述式(15)表示的化合物(15)。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(Rf11O)x-CF2-CH2OH···(15)
在碱性化合物的存在下，通过使CF3SO2Cl与化合物(15)反应，得到以下述式(16)表示的化合物(16)。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(Rf11O)x-CF2-CH2OSO2CF3···(16)
在碱性化合物的存在下，通过使HN(CH2CH＝CH2)2与化合物(16)反应，得到以下述式(17)表示的化合物(17)。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(Rf11O)x-CF2-CH2-N(CH2CH＝CH2)2···(17)
通过使化合物(17)与HSiR13 n1X1 3-n1进行氢化硅烷化(日文：ヒドロシリル化)反应，得到以下述式(1A)表示的化合物(1A)。氢化硅烷化反应优选使用铂等过渡金属催化剂或有机过氧化物等自由基引发剂来进行。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(Rf11O)x-CF2-CH2-N[CH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]2···(1A)
另外，如果对每个氧基全氟亚烷基单元合并来表示上述式，则化合物(1A)如下表示。
A1-O-(Rf11O)x+2-CF2-CH2-N[CH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]2···(1A)
<方法(2)>
作为起始物质，使用方法(α)中所得的化合物(11)。
A1-O-CHFCF2OCH2-(CF2O)(Rf11O)x-CF2-CH2-OH···(11)
在碱性化合物的存在下，通过使CF3SO2Cl与化合物(11)反应，得到以下述式(16B)表示的化合物(16B)。
A1-O-CHFCF2OCH2-(CF2O)(Rf11O)x-CF2-CH2OSO2CF3···(16B)
在碱性化合物的存在下，通过使HN(CH2CH＝CH2)2与化合物(16B)反应，得到以下述式(17B)表示的化合物(17B)。
A1-O-CHFCF2OCH2-(CF2O)(Rf11O)x-CF2-CH2-N(CH2CH＝CH2)2···(17B)
通过使化合物(17B)与HSiR13 n1X1 3-n1进行氢化硅烷化反应，得到以下述式(1B)表示的化合物(1B)。
A1-O-CHFCF2OCH2-(CF2O)(Rf11O)x-CF2-CH2-N[CH2CH2CH2-SiR13n1X1 3-n1]2···(1B)
另外，如果对每个氧基氟代亚烷基单元/氧基全氟亚烷基单元合并来表示上述式，则化合物(1B)如下表示。
A1-O-(CHFCF2O)(CH2CF2O)-(Rf11O)x-CF2-CH2-N[CH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]2···(1B)
<方法(3)>
作为起始物质，使用由国际公开第2013/121984号中记载的方法等公知的方法所得的以下述式(15C)表示的化合物(15C)。
A1-O-(Rf11O)x-Rf12-CH2OH···(15C)
在碱性化合物的存在下，通过使CF3SO2Cl与化合物(15C)反应，得到以下述式(16C)表示的化合物(16C)。
A1-O-(Rf11O)x-Rf12-CH2OSO2CF3···(16C)
在碱性化合物的存在下，通过使HN(CH2CH＝CH2)2与化合物(16C)反应，得到以下述式(17C)表示的化合物(17C)。
A1-O-(Rf11O)x-Rf12-CH2-N(CH2CH＝CH2)2···(17C)
通过使化合物(17C)与HSiR13 n1X1 3-n1进行氢化硅烷化反应，得到以下述式(1C)表示的化合物(1C)。
A1-O-(Rf11O)x-Rf12-CH2-N[CH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]2···(1C)
(本化合物)
本化合物可以是由1种化合物(1)构成的单一化合物，也可以是由A1、Q1、(Rf11O)m1、Rf12、R11、R12、SiR13 n1X1 3-n1等不同的2种以上的化合物(1)构成的混合物。
本发明中作为单一化合物的化合物(1)是指，除了m1的数量具有分布以外，是同一化合物群。
本化合物的数均分子量优选为500～20000，更优选800～10000，特别优选1000～8000。如果数均分子量在该范围内，则耐摩擦性优良。
[含氟醚组合物]
本发明的含氟醚组合物(以下也记为本组合物)是含有化合物(1)和除化合物(1)以外的含氟醚化合物的组合物。作为其他含氟醚化合物，可例举化合物(1)的制造过程中作为副产物生成的化合物以及用于与化合物(1)同样用途的公知的(特别是市售的)含氟醚化合物等。优选其他含氟醚化合物是不太可能降低化合物(1)的特性的化合物，且相对于本组合物中化合物(1)的相对含量是不太可能降低化合物(1)的特性的量。
其他含氟醚化合物是在化合物(1)的制造过程中作为副产物产生的含氟醚化合物的情况下，化合物(1)的制造中化合物(1)的纯化变得容易，并且能够简化纯化工序。其他含氟醚化合物是用于和化合物(1)同样用途的公知的含氟醚化合物的情况下，有时会发挥对化合物(1)的特性进行补充等新的作用效果。
作为所述其他含氟醚化合物，优选是选自下述含氟醚化合物(2)、下述含氟醚化合物(3)和下述含氟醚化合物(4)中的至少1种。
含氟醚化合物(2)：所述以式(1)表示的含氟醚化合物中具有所述-N[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]2的基团与所述(Rf11O)m1的两侧结合的含氟醚化合物。
含氟醚化合物(3)：所述以式(1)表示的含氟醚化合物中具有所述A1的基团与所述(Rf11O)m1的两侧结合的含氟醚化合物。
含氟醚化合物(4)：所述以式(1)表示的含氟醚化合物中所述-N[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]2被-N[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]2-t[-R15]t取代了的含氟醚化合物，其中，R15是如果加成HSiR13 n1X1 3-n1则形成-R12-SiR13 n1X1 3-n1的含有不饱和键的基团、或该含有不饱和键的基团的异构体基团，t为1或2。
从不太可能降低化合物(1)的特性的角度考虑，作为含氟醚化合物(2)优选后述的化合物(2)，作为含氟醚化合物(3)优选后述的化合物(3)，作为含氟醚化合物(4)优选后述的化合物(4)。
(化合物(2))
化合物(2)是以下式(2)表示的含氟醚化合物。
[X2 3-n2R23 n2Si-R22-]2N-Q2-(Rf21O)m2-Rf22-R21-N[-R22-SiR23 n2X2 3-n2]2···(2)
其中，Q2是单键、亚烷基、在亚烷基的末端(但是，与N结合侧的末端除外)具有醚性氧原子或-NH-的基团、在碳数2以上的亚烷基碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团、在碳数2以上的亚烷基的末端(但是，与N结合侧的末端除外)及碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团、含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基、在含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基的末端(但是，与N结合侧的末端除外)具有醚性氧原子或-NH-的基团、在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团、或者在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的末端(但是，与N结合侧的末端除外)及碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团，Rf21和Rf22分别独立地是全氟亚烷基，m2是2～200的整数，(Rf21O)m2可以由2种以上的Rf21O形成，R21是单键、亚烷基或者在亚烷基的末端(但是，与N结合侧的末端除外)具有醚性氧原子或-NH-的基团、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团、或者在碳数2以上的亚烷基的末端(但是，与N结合侧的末端除外)及碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团，R22是亚烷基、或者在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团，R23是氢原子或1价的烃基，X2是水解性基团，n2是0～2的整数，4个[-R22-SiR23 n2X2 3-n2]可不全为相同的基团。
作为Q2，可例举与化合物(1)的R11或Q1相同的基团，优选形态也相同。
Q2为含有1个以上氢原子的氟代亚烷基、或在含有1个以上氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团的情况下、并且在Q2的与(Rf21O)m2结合侧的末端不存在醚性氧原子或-NH-的情况下，Q2的与(Rf21O)m2结合侧的末端的碳原子至少与1个氢原子结合。
作为(Rf21O)m2、Rf22、R21、R22、SiR23 n2X2 3-n2，可分别例举与化合物(1)中的(Rf11O)m1、Rf12、R11、R12、SiR13 n1X1 3-n1相同的基团，优选方式也相同。
(化合物(2)的制造方法)
作为化合物(2)的制造方法，可例举例如下述方法(4)。
<方法(4)>
作为起始物质，使用市售的以下述式(10)表示的化合物(10)。
HO-CH2-CF2O(Rf11O)x-CF2-CH2-OH···(10)
在碱性化合物的存在下，通过使CF3SO2Cl与化合物(10)反应，得到以下述式(18)表示的化合物(18)。
CF3SO2OCH2-(CF2O)(Rf11O)x-CF2-CH2OSO2CF3···(18)
在碱性化合物的存在下，通过使HN(CH2CH＝CH2)2与化合物(18)反应，得到以下述式(19)表示的化合物(19)。
(CH2＝CHCH2)2N-CH2-(CF2O)(Rf11O)x-CF2-CH2-N(CH2CH＝CH2)2···(19)
通过使化合物(19)与HSiR23 n2X2 3-n2进行氢化硅烷化反应，得到以下述式(2A)表示的化合物(2A)。
[X2 3-n2R23 n2Si-CH2CH2CH2]2N-CH2-(CF2O)(Rf11O)x-CF2-CH2-N[CH2CH2CH2-SiR23 n2X2 3-n2]2···(2A)
(化合物(3))
化合物(3)是以下式(3)表示的含氟醚化合物。
A31-O-Q31-(Rf31O)m3-[Q32-O]p-A32···(3)
其中，A31和A32分别独立地是碳数1～20的全氟烷基；Q31是单键、含有1个以上氢原子的氟代亚烷基、在含有1个以上氢原子的氟代亚烷基的末端(其中，与A31-O结合侧的末端除外)具有醚性氧原子的基团、在含有1个以上氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团、或在含有1个以上氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的末端(其中，与A31-O结合侧的末端除外)及碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团；Q32是含有1个以上氢原子的氟代亚烷基、或在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团；Rf31是全氟亚烷基；m3为2～200的整数；(Rf31O)m3可由2种以上的Rf31O形成；p在Q31为单键时为0、在Q31不为单键时为1。
作为A31、Q31、(Rf31O)m3、Q32、A32，可分别例举与化合物(1)中的A1、Q1、(Rf31O)m3、Q1(其中，单键除外)、A1相同的基团，优选方式也相同。从能够有效利用化合物(1)的制造过程中作为副产物生成的化合物的角度考虑，优选分别与化合物(1)的A1、Q1、(Rf11O)m1、Q1(其中，单键除外)、A1相同。
Q31为含有1个以上氢原子的氟代亚烷基、或在含有1个以上氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的情况下、并且在Q31的与(Rf31O)m3结合侧的末端不存在醚性氧原子的情况下，Q31的与(Rf31O)m3结合侧的末端的碳原子至少与1个氢原子结合。
(化合物(3)的制造方法)
作为化合物(3)的制造方法，可例举例如下述方法(5)和(6)。
<方法(5)>
从方法(1)所得的化合物(11)、化合物(3A)以及未反应的化合物(10)的混合物中将化合物(3A)分离。
A1-O-CHFCF2OCH2-(CF2O)(Rf11O)x-CF2-CH2OCF2CHF-O-A1···(3A)
另外，如果对每个氧基氟代亚烷基单元/氧基全氟亚烷基单元合并来表示上述式，则化合物(3A)如下表示。
A1-O-(CHFCF2O)(CH2CF2O)-(Rf11O)x-(CF2CH2O)(CF2CHFO)-A1···(3A)
<方法(6)>
用氟气体将化合物(3A)氟化，得到化合物(3B)。
A1-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O)(Rf11O)x(CF2CF2O)(CF2CF2O)-A1···(3B)
作为Q31为单键且p为0的化合物(3)，可使用市售品。作为市售品，可例举FOMBLIN(注册商标)M、FOMBLIN(注册商标)Y、FOMBLIN(注册商标)Z(以上为苏维苏立克士公司(ソルベイ·ソレクシス社)制)、Krytox(注册商标)(杜邦公司(デュポン社)制)、デムナム(注册商标)(大金工业株式会社(ダイキン工業社)制)等。
化合物(4)是化合物(1)的-N[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]2被-N[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]2-t[-R15]t取代了的化合物，-N[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]2-t[-R15]t以外的部分与化合物(1)相同。R15是通过氢化硅烷化反应而形成[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]的基团或其异构体基团，t为1或2。
如前所述，通过对在末端具有不饱和基团的烯基部分加成HSiR13 n1X1 3-n1的氢化硅烷化反应生成[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]。例如，通过对-N(CH2CH＝CH2)2加成HSiR13 n1X1 3-n1，形成-N[-CH2CH2CH2-SiR13 n1X1 3-n1]2。此时的(CH2CH＝CH2)为R15。氢化硅烷化反应中，有时会发生生成R15的末端不饱和基团处于非末端位置的异构化的、称作内烯烃的烯基的副反应。例如，-CH2CH＝CH2异构化为-CH＝CHCH3。在非末端位置具有不饱和基团的烯基部分不与HSiR13 n1X1 3-n1反应而残留。
化合物(1)的制造过程的氢化硅烷化反应中，R15未反应而残留的情况下或R15发生了异构化的情况下，末端为-N[-R12-SiR13n1X1 3-n1]2-t[-R15]t的化合物作为副产物生成，该化合物为化合物(4)。
(本组合物的组成)
本组合物中的本化合物和其他含氟醚化合物的总计比例相对于本组合物优选为80～100质量％，特别优选为85～100质量％。即，杂质的比例优选在20质量％以下，特别优选在15质量％以下。本化合物及其他含氟醚化合物的比例如果在所述范围内，则表面层的斥水斥油性、耐摩擦性、指纹污迹除去性、润滑性、耐试剂性和耐光性优良。
相对于本化合物及其他含氟醚化合物的总计，其他含氟醚化合物的比例优选超过0质量％且低于40质量％，更优选超过0质量％且在30质量％以下，特别优选超过0质量％且在20质量％以下。即，本化合物的比例优选超过60质量％且低于100质量％，更优选在70质量％以上且低于100质量％，特别优选在80质量％以上且低于100质量％。本化合物及其他含氟醚化合物的比例如果在所述范围内，则表面层的斥水斥油性、耐摩擦性、指纹污迹除去性、润滑性、耐试剂性和耐光性优良。
另外，含有化合物(2)、化合物(3)和化合物(4)中的至少1种作为其他含氟醚化合物的情况下，本组合物的组成如下所述。
本醚组合物中的本化合物、化合物(2)、化合物(3)和化合物(4)的总计比例相对于本醚组合物优选超过60质量％且在100质量％以下，更优选为70～100质量％，特别优选为80～100质量％。即，除本化合物、化合物(2)、化合物(3)和化合物(4)以外的含氟醚化合物与杂质的总计比例优选低于40质量％，更优选在30质量％以下，特别优选在20质量％以下。
相对于本化合物、化合物(2)、化合物(3)和化合物(4)的总计，化合物(2)的比例优选在0质量％以上且低于40质量％，更优选为0～30质量％，特别优选为0～20质量％。化合物(3)和化合物(4)的比例也与化合物(2)的比例相同。
相对于本化合物、化合物(2)、化合物(3)和化合物(4)的总计，化合物(2)、化合物(3)和化合物(4)的总计比例优选超过0质量％且低于40质量％，特别优选超过0质量％且在30质量％以下。
含有化合物(2)、化合物(3)和化合物(4)中的至少1种作为其他含氟醚化合物的情况下，本组合物的组成如果在所述范围内，则表面层的斥水斥油性、耐摩擦性、指纹污迹除去性、润滑性和外观优良。
[涂布液]
本发明的涂布液(以下也记为本涂布液)含有本化合物或本组合物、以及液态介质。本涂布液为液态即可，可以是溶液，也可以是分散液。
本涂布液含有本化合物或本组合物即可，也可含有本化合物的制造工序中生成的副产物等杂质。
本化合物或本组合物在本涂布液中的浓度优选为0.001～10质量％，特别优选0.1～1质量％。
作为液态介质，优选有机溶剂。有机溶剂可以是氟类有机溶剂，也可以是非氟类有机溶剂，也可以包含这两种溶剂。
作为氟类有机溶剂，可例举氟代烷烃、氟代芳香族化合物、氟代烷基醚、氟代烷基胺、氟代醇等。
作为氟代烷烃，优选碳数4～8的化合物。作为市售品，可例举例如C6F13H(旭硝子株式会社(旭硝子社)制，アサヒクリン(注册商标)AC-2000)、C6F13C2H5(旭硝子株式会社制，アサヒクリン(注册商标)AC-6000)、C2F5CHFCHFCF3(科幕公司(ケマーズ社)制、Vertrel(バートレル)(注册商标)XF)等。
作为氟代芳香族化合物，可例举例如六氟苯、三氟甲基苯、全氟甲苯、双(三氟甲基)苯等。
作为氟代烷基醚，优选碳数4～12的化合物。作为市售品，可例举例如CF3CH2OCF2CF2H(旭硝子株式会社制、アサヒクリン(注册商标)AE-3000)、C4F9OCH3(3M公司(3M社)制、Novec(ノベック)(注册商标)7100)、C4F9OC2H5(3M公司制、Novec(注册商标)7200)、C2F5CF(OCH3)C3F7(3M公司制、Novec(注册商标)7300)等。
作为氟代烷基胺，可例举例如全氟三丙胺、全氟三丁胺等。
作为氟代醇，可例举例如2,2,3,3-四氟代丙醇、2,2,2-三氟代乙醇、六氟代异丙醇等。
作为非氟类有机溶剂，优选仅由氢原子和碳原子构成的化合物、仅由氢原子、碳原子和氧原子构成的化合物，可例举烃类有机溶剂、醇类有机溶剂、酮类有机溶剂、醚类有机溶剂、酯类有机溶剂等。
本涂布液中优选含有90～99.999质量％的液态介质，特别优选含有99～99.9质量％的液态介质。
本涂布液除了本化合物和液态介质以外，在不损害本发明的效果的范围内也可含有其他成分。
作为其他成分，可例举例如促进水解性甲硅烷基的水解和缩合反应的酸催化剂和碱性催化剂等公知的添加剂。
本涂布液中的其他成分的比例优选在10质量％以下，特别优选在1质量％以下。
本涂布液的固体成分浓度优选为0.001～10质量％，特别优选0.01～1质量％。涂布液的固体成分浓度是根据加热前的涂布液的质量和用120℃的对流式干燥机加热4小时后的质量计算的值。另外，本组合物的浓度能够通过固体成分浓度、本组合物和溶剂等的加入量算出。
[物品]
本发明的物品在基材表面具有由本化合物或本组合物形成的表面层。
(表面层)
本化合物或本组合物中，本化合物中的水解性甲硅烷基(SiR13 n1X1 3-n1)通过水解反应形成硅烷醇基(Si-OH)，该硅烷醇基发生分子间反应而形成Si-O-Si键，或者该硅烷醇基与基材表面的羟基(基材-OH)发生脱水缩合反应而形成化学键(基材-O-Si)。即，本发明的表面层以本化合物的水解性甲硅烷基的一部分或全部发生了水解反应的状态含有本化合物。
表面层的厚度优选为1～100nm，特别优选1～50nm。表面层的厚度如果在所述范围的下限值以上，容易充分获得表面处理的效果。表面层的厚度如果在所述范围的上限值以下，则利用效率高。另外，表面层的厚度例如可通过使用薄膜解析用X射线衍射仪(理学株式会社(RIGAKU社)制，ATX-G)，由X射线反射率法得到反射X射线的干涉图案，从该干涉图案的振动周期算出。
(基材)
本发明的基材只要是需要赋予斥水斥油性的基材即可，无特别限定。作为基材的材料，可例举金属、树脂、玻璃、蓝宝石、陶瓷、石、它们的复合材料等。玻璃也可经化学强化。基材也可用SiO2等进行表面处理。
作为基材，较好是触摸面板用基材、显示器用基材，特别优选为触摸面板用基材。触摸面板用基材具有透光性。“具有透光性”是指，按照JIS R 3106:1998(ISO 9050:1990)的垂直入射型可见光透射率在25％以上。作为触摸面板用基材的材料，优选玻璃或透明树脂。
(物品的制造方法)
本发明的物品例如可通过以下方法制造。
·通过使用了本化合物或本组合物的干法涂布法处理基材的表面以得到本发明的物品的方法。
·通过湿法涂布法将本涂布液涂布于基材的表面并干燥以得到本发明的物品的方法。
<干法涂布法>
本化合物和本组合物可直接用于干法涂布法。本化合物和本组合物适于通过干法涂布法形成密合性优良的表面层。作为干法涂布法，可例举真空蒸镀、CVD、溅射等方法。从抑制本化合物的分解以及装置的简易度的角度考虑，适合采用真空蒸镀法。
<湿法涂布法>
作为湿法涂布法，可例举旋涂法、擦涂(日文：ワイプコート)法、喷涂法、刮板涂布(日文：スキージーコート)法、浸涂法、模涂法、喷墨法、流涂法、辊涂法、铸涂法、朗缪尔-布洛尔杰特法、凹版涂布法等。
<后处理>
为了提高表面层的耐摩擦性，根据需要也可进行用于促进本化合物与基材的反应的操作。作为该操作，可例举加热、加湿、光照等。例如，在含有水分的大气中加热形成有表面层的基材，能够促进水解性甲硅烷基向硅烷醇基的水解反应、基材表面的羟基与硅烷醇基的反应、硅烷醇基的缩合反应带来的硅氧烷键的生成等反应。
表面处理后，未与作为表面层中的化合物的其他化合物及基材化学结合的化合物可根据需要除去。作为具体方法，可例举例如用溶剂冲洗表面层的方法、用浸有溶剂的布擦拭表面层的方法等。
实施例
以下，通过实施例对本发明进行更详细的说明，但本发明并不限定于这些实施例。
以下，只要没有特别限定，“％”表示“质量％”。另外，由2种以上的化合物(1)形成的混合物记为“化合物”、由化合物(1)与其他含氟醚化合物形成的混合物记为“组合物”。
例1～4、11～14、21～24、26～29、31～33为实施例，例5～10、15～20、25、30、34、35为比较例。
[例1：化合物(1A-1)、化合物(3A-1)的制造]
(例1-1)
在300mL的3口烧瓶中加入24.4g的24％KOH水溶液、33g叔丁醇、220g化合物(10-1)(苏维苏立克士公司制、FLUOROLINK(注册商标)D4000)，添加了19.4g的CF3CF2CF2-O-CF＝CF2(东京化成工业株式会社(東京化成工業社)制)。在氮气气氛下于60℃下搅拌了8小时。用稀盐酸水溶液清洗1次后，回收有机相，用蒸发器进行浓缩，得到233g的粗生成物(a)。用硅胶柱色谱展开粗生成物(a)，进行了分离。作为展开溶剂，依次使用了C6F13CH2CH3(旭硝子株式会社制、AC-6000)、AC-6000/CF3CH2OCF2CF2H(旭硝子株式会社制、AE-3000)＝1/2(质量比)、AE-3000/乙酸乙酯＝9/1(质量比)。对于各级分(日文：フラクション)，由1H-NMR和19F-NMR的积分值算出末端基团的结构和结构单元的单元数(x1、x2)的平均值。可知，粗生成物(a)中化合物(11-1)、化合物(3A-1)和化合物(10-1)各自的含量为42摩尔％、49摩尔％和9摩尔％。得到了化合物(11-1)98.6g(产率：44.8％)和化合物(3A-1)51.9g(产率：23.6％)。
HO-CH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2-OH···(10-1)
CF3CF2CF2-O-CHFCF2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2-OH···(11-1)
CF3CF2CF2-O-CHFCF2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OCF2CHF-O-CF2CF2CF3···(3A-1)
化合物(11-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：3.9(2H)、4.2(2H)、5.8～6.0(1H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.8(42F)、-78.8(1F)、-80.8(1F)、-81.4(1F)、-82.2(3F)、-83.5(1F)、-85.3～-88.2(2F)、-89.4～-91.1(82F)、-130.5(2F)、-145.1(1F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(11-1)的数均分子量：4150。
化合物(3A-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：4.2(4H)、5.8～6.0(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.8(42F)、-78.8(2F)、-80.7(2F)、-82.2(6F)、-85.3～-88.2(4F)、-89.4～-91.1(84F)、-130.5(4F)、-145.1(2F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(3A-1)的数均分子量：4420。
(例1-2)
在100mL的茄型烧瓶中加入30.0g化合物(11-1)、0.9g氟化钠粉末、30g二氯五氟丙烷(旭硝子株式会社制、AK-225)，添加了3.5g的CF3CF2CF2OCF(CF3)COF。在氮气气氛下于50℃下搅拌了24小时。使用加压过滤器将氟化钠粉末除去后，减压馏去了过量的CF3CF2CF2OCF(CF3)COF和AK-225。用C6F13H(旭硝子株式会社制、AC-2000)将所得的粗生成物稀释并通过硅胶柱，用蒸发器将回收的溶液浓缩，得到了化合物(12-1)31.8g(产率98.8％)。
CF3CF2CF2-O-CHFCF2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2-OCOCF(CF3)OCF2CF2CF3···(12-1)
化合物(12-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：4.2(2H)、4.7(2H)、5.8～6.0(1H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.8(42F)、-78.8～-88.2(17F)、-89.4～-91.1(82F)、-130.3(2F)、-130.5(2F)、-132.5(1F)、-145.1(1F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(12-1)的数均分子量：4460。
(例1-3)
在1L的镍制高压釜的气体出口以串联的方式设置保持为20℃的冷却器、NaF颗粒填充层、以及保持为0℃的冷却器。设置了使从保持为0℃的冷却器凝集的液体返回高压釜的液体返送管线。
向高压釜中加入750g的ClCF2CFClCF2OCF2CF2Cl(以下也记为CFE-419)，保持为25℃的同时进行搅拌。向高压釜中于25℃吹入氮气1小时后，以25℃、流速2.0L/小时吹入1小时的20％的氟气体。一边以相同的流速吹入20％氟气，一边用4.3小时向高压釜中注入将31.0g的化合物(12-1)溶解于124g的CFE-419中而得的溶液。一边以相同的流速吹入20％氟气，一边将高压釜的内压加压至0.15MPa(表压)。在高压釜内，将4ml的在CFE-419中含有0.05g/mL的苯的苯溶液自25℃加热至40℃的同时进行注入，关闭了高压釜的苯溶液注入口。搅拌15分钟后，再次将4mL的苯溶液保持为40℃的同时进行注入，关闭注入口。进一步重复3次同样的操作。苯的注入总量为0.17g。以相同的流速吹入20％氟气的同时继续搅拌1小时。将高压釜内的压力设为大气压，吹入1小时的氮气。用蒸发器将高压釜的内容物浓缩，得到了31.1g的化合物(13-1)(产率98.5％)。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}(CF2CF2O)-COCF(CF3)OCF2CF2CF3···(13-1)
化合物(13-1)的NMR谱；
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.7(42F)、-78.8～-88.1(11F)、-89.4～-91.1(92F)、-91.5(2F)、-130.3(2F)、-130.5(2F)、-132.5(1F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(13-1)的数均分子量：4550。
(例1-4)
在四氟乙烯-全氟(烷氧基乙烯基醚)共聚物(以下也记为PFA)制圆底烧瓶中加入了30.0g化合物(13-1)和60g的AK-225。用冰浴冷却的同时进行搅拌，在氮气气氛下，自滴液漏斗慢慢滴加2.0g的甲醇。用氮气鼓泡的同时搅拌了12小时。用蒸发器将反应混合物浓缩，得到了27.6g的化合物(14-1)(产率98.8％)。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-COOCH3···(14-1)
化合物(14-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：3.9(3H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.8(42F)、-82.2(3F)、-89.4～-91.1(92F)、-130.5(2F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(14-1)的数均分子量：4230。
(例1-5)
在100mL的3口茄型烧瓶中，将0.18g的氯化锂溶解于18.3g的乙醇。在其中加入25.0g的化合物(14-1)并用冰浴冷却，同时慢慢滴加了0.75g的硼氢化钠溶解于22.5g的乙醇而得的溶液。移除冰浴，一边慢慢升温至室温一边继续搅拌。在室温下搅拌12小时后，滴加盐酸水溶液直至酸碱度变为酸性。添加20mL的AC-2000，用水清洗1次，用饱和食盐水清洗1次，回收了有机相。用蒸发器浓缩回收的有机相，得到了24.6g的化合物(15-1)(产率99.0％)。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OH···(15-1)。
化合物(15-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：3.9(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.7(42F)、-81.4(1F)、-82.2(3F)、-83.4(1F)、-89.4～-91.1(90F)、-130.5(2F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(15-1)的数均分子量：4200。
(例1-6)
在100mL的2口茄型烧瓶中加入20.0g的化合物(15-1)、20.0g的1,3-二(三氟甲基)苯(东京化成工业株式会社制)、1.01g的CF3SO2Cl(和光纯药工业株式会社(和光純薬工業社)制)以及1.00g的三乙胺，在氮气气氛下于室温下搅拌了4小时。反应结束后，添加15g的AK-225，用水和饱和食盐水各清洗1次，回收了有机相。用蒸发器浓缩回收的有机相，得到了20.3g的化合物(16-1)(产率99％)。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OSO2CF3···(16-1)
化合物(16-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：4.6(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.7(42F)、-74.1(3F)、-76.1(1F)、-79.5(1F)、-82.2(3F)、-89.4～-91.1(90F)、-130.5(2F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(16-1)的数均分子量：4340。
(例1-7)
在50mL的茄型烧瓶中加入15.0g的化合物(16-1)、15.0g的1,3-二(三氟甲基)苯(东京化成工业株式会社制)、2.27g的HN(CH2CH＝CH2)2(东京化成工业株式会社制)以及0.68g的三乙胺，在氮气气氛下于90℃下搅拌了24小时。反应结束后，添加15g的AK-225，用水和饱和食盐水各清洗1次，回收了有机相，之后与1.5g的硅胶混合，通过过滤器过滤回收了有机相。用蒸发器浓缩回收的有机相，得到了14.4g的化合物(17-1)(产率98％)。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2-N(CH2CH＝CH2)2···(17-1)
化合物(17-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：3.0(2H)、3.2(4H)、5.1(4H)、5.8(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.7(42F)、-74.4(1F)、-76.6(1F)、-82.2(3F)、-89.4～-91.1(90F)、-130.5(2F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(17-1)的数均分子量：4280。
(例1-8)
在100mL的PFA制茄型烧瓶中加入12.0g化合物(17-1)、0.03g铂/1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四甲基二硅氧烷络合物的二甲苯溶液(铂含量：2％)、1.3g的HSi(OCH3)3、0.01g的二甲亚砜和0.5g的1,3-双(三氟甲基)苯(东京化成工业株式会社制)，在40℃下搅拌了10小时。反应结束后，减压馏去溶剂等，用孔径0.2μm的膜滤器过滤，得到了11.9g的由化合物(17-1)的2个烯丙基被氢化硅烷化而得的化合物(1A-1)以及化合物(17-1)的2个烯丙基在分子内环化生成的副产物构成的组合物(1)(产率92％)。氢化硅烷化的转化率为100％，无化合物(17-1)残留。氢化硅烷化的选择率为81％。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2-N[CH2CH2CH2-Si(OCH3)3]2···(1A-1)
化合物(1A-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.7(4H)、1.6(4H)、2.6(4H)、3.1(2H)、3.6(18H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.4～-55.7(42F)、-74.4(1F)、-76.6(1F)、-82.2(3F)、-89.4～-91.1(90F)、-130.5(2F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(1A-1)的数均分子量：4530。
[例2：化合物(1B-1)的制造]
(例2-1)
除了将化合物(15-1)变更为例1-1所得的化合物(11-1)30.0g、将1,3-二(三氟甲基)苯(东京化成工业株式会社制)的量变更为30.0g、将CF3SO2Cl(和光纯药工业株式会社制)的量变更为1.44g、将三乙胺的量变更为1.45g以外，与例1-6同样地得到了30.6g化合物(16B-1)(产率99％)。
CF3CF2CF2-O-CHFCF2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OSO2CF3···(16B-1)
化合物(16B-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：4.2(2H)、4.6(2H)、5.8～6.0(1H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-51.2～-54.6(42F)、-74.1(3F)、-77.6(1F)、-77.6(2F)、-79.0(1F)、-79.5(1F)、-81.2(3F)、-84.3～-87.2(2F)、-87.9～-91.0(82F)、-129.4(2F)、-144.1(1F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(16B-1)的数均分子量：4280。
(例2-2)
除了将化合物(16-1)变更为化合物(16B-1)、将HN(CH2CH＝CH2)2的量变更为2.31g、将三乙胺的量变更为0.69g、将反应时间变更为16小时以外，与例1-7同样地得到了14.1g的化合物(17B-1)(产率95％)。
CF3CF2CF2-O-CHFCF2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2-N(CH2CH＝CH2)2···(17B-1)
化合物(17B-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：3.0(2H)、3.2(4H)、4.2(2H)、5.1(4H)、5.7～6.0(3H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-51.2～-54.6(42F)、-73.4(1F)、-75.6(1F)、-77.7(1F)、-79.7(1F)、-81.2(3F)、-84.3～-87.2(2F)、-87.9～-91.0(82F)、-129.4(2F)、-144.1(1F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(17B-1)的数均分子量：4230。
(例2-3)
除了将化合物(17-1)变更为例2-2所得的化合物(17B-1)、将铂络合物溶液的量变更为0.032g、将反应温度变更为70℃以外，与例1-8同样地得到了11.7g的由化合物(17B-1)的2个烯丙基被氢化硅烷化而得的化合物(1B-1)以及化合物(17B-1)的2个烯丙基在分子内环化生成的副产物所构成的组合物(2)(产率92％)。氢化硅烷化的转化率为100％，无化合物(17B-1)残留。氢化硅烷化的选择率为82％。
CF3CF2CF2-O-CHFCF2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2-N[CH2CH2CH2-Si(OCH3)3]2···(1B-1)
化合物(1B-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.7(4H)、1.6(4H)、2.6(4H)、3.1(2H)、3.6(18H)、4.2(2H)、5.8～6.0(1H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-51.2～-54.6(42F)、-73.4(1F)、-75.6(1F)、-77.7(1F)、-79.7(1F)、-81.2(3F)、-84.3～-87.2(2F)、-87.9～-91.0(82F)、-129.4(2F)、-144.1(1F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(1B-1)的数均分子量：4470。
[例3：化合物(1C-1)的制造]
(例3-1)
根据国际公开第2013/121984号的实施例7记载的方法，得到了化合物(15C-1)。
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3(CF2CF2O)-CF2CF2CF2-CH2OH···(15C-1)。
化合物(15C-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：2.0(1H)、4.0(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-56.2(3F)、-84.1(54F)、-89.3(54F)、-91.4(2F)、-123.7(2F)、-126.6(52F)、-128.7(2F)。
单元数x3的平均值：13，化合物(15C-1)的数均分子量：4700。
(例3-2)
除了将化合物(15-1)变更为例3-1所得的化合物(15C-1)、将CF3SO2Cl(和光纯药工业株式会社制)的量变更为0.86g、将三乙胺的量变更为1.02g以外，与例1-6同样地得到了30.6g化合物(16C-1)(产率99％)。
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3(CF2CF2O)-CF2CF2CF2-CH2OSO2CF3···(16C-1)
化合物(16C-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：4.7(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-56.3(3F)、-74.0(3F)、-84.0(54F)、-89.2(54F)、-91.4(2F)-122.7(2F)、-123.6(2F)、-126.6(52F)。
单元数x3的平均值：13，化合物(16C-1)的数均分子量：4830。
(例3-3)
除了将化合物(16-1)变更为例3-2所得的化合物(16C-1)、将HN(CH2CH＝CH2)2的量变更为2.08g、将三乙胺的量变更为0.63g以外，与例1-7同样地得到了14.6g化合物(17C-1)(产率98％)。
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3(CF2CF2O)-CF2CF2CF2-CH2-N(CH2CH＝CH2)2···(17C-1)
化合物(17C-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：3.1(2H)、3.2(4H)、5.1(4H)、5.8(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-56.3(3F)、-84.0(54F)、-89.2(54F)、-91.4(2F)-120.9(2F)、-126.6(54F)。
单元数x3的平均值：13，化合物(17C-1)的数均分子量：4780。
(例3-4)
除了将化合物(17-1)变更为例3-3所得的化合物(17C-1)、将铂络合物溶液的量变更为0.029g、将HSi(OCH3)3的量变更为1.2g以外，与例1-8同样地得到了11.8g的由化合物(17C-1)的2个烯丙基被氢化硅烷化而得的化合物(1C-1)以及化合物(17C-1)的2个烯丙基在分子内环化生成的副产物所构成的组合物(3)(产率94％)。氢化硅烷化的转化率为100％，无化合物(17C-1)残留。氢化硅烷化的选择率为80％。
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3(CF2CF2O)-CF2CF2CF2-CH2-N[CH2CH2CH2-Si(OCH3)3]2···(1C-1)
化合物(1C-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.7(4H)、1.6(4H)、2.6(4H)、3.2(2H)、3.6(18H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-56.3(3F)、-84.0(54F)、-89.2(54F)、-91.4(2F)-120.9(2F)、-126.6(54F)。
单元数x3的平均值：13，化合物(1C-1)的数均分子量：5020。
[例4：化合物(1C-2)的制造]
(例4-1)
除了将化合物(15-1)变更为化合物(15C-2)(SynQuest Laboratories公司(シンクエストラボラトリーズ)制)、将CF3SO2Cl(和光纯药工业株式会社制)的量变更为4.0g、将三乙胺的量变更为4.5g以外，与例1-6同样地得到了21.5g化合物(16C-2)(产率98％)。
CF3CF2CF2-O-(CF(CF3)CF2O)x4-CF(CF3)-CH2OH···(15C-2)
CF3CF2CF2-O-(CF(CF3)CF2O)x4-CF(CF3)-CH2OSO2CF3···(16C-2)
化合物(16C-2)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：4.9(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-74.2(3F)、-78.4～-82.2(38F)、-129.4(2F)、-135.0(1F)、-144.2(6F)。
单元数x4的平均值：6，化合物(16C-2)的数均分子量：1440。
(例4-2)
除了将化合物(16-1)变更为例4-1所得的化合物(16C-2)10.0g、将1,3-二(三氟甲基)苯(东京化成工业株式会社制)的量变更为10.0g、将HN(CH2CH＝CH2)2的量变更为2.67g、将三乙胺的量变更为4.07g、将AK-225的量变更为10g、将硅胶的量变更为1.0g以外，与例1-7同样地得到了9.5g化合物(17C-2)(产率98％)。
CF3CF2CF2-O-(CF(CF3)CF2O)x4-CF(CF3)-CH2-N(CH2CH＝CH2)2···(17C-2)
化合物(17C-2)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：3.2(6H)、5.1(4H)、5.8(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：78.4～-82.2(38F)、-129.4(2F)、-131.1(1F)、-144.2(6F)。
单元数x4的平均值：6，化合物(17C-2)的数均分子量：1390。
(例4-3)
除了将化合物(17-1)变更为例4-2所得的化合物(17C-2)8.0g、将铂络合物溶液的量变更为0.09g、将HSi(OCH3)3的量变更为3.2g、将二甲亚砜的量变更为0.03g、将1,3-二(三氟甲基)苯(东京化成工业株式会社制)的量变更为1.6g以外，与例1-8同样地得到了9.0g的由化合物(17C-2)的2个烯丙基被氢化硅烷化而得的化合物(1C-2)以及化合物(17C-2)的2个烯丙基在分子内环化生成的副产物所构成的组合物(4)(产率96％)。氢化硅烷化的转化率为100％，无化合物(17C-2)残留。氢化硅烷化的选择率为82％。
CF3CF2CF2-O-(CF(CF3)CF2O)x4-CF(CF3)-CH2-N[CH2CH2CH2Si(OCH3)3]2···(1C-2)
化合物(1C-2)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.7(4H)、1.6(4H)、2.6(4H)、3.3(2H)、3.6(18H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-78.4～-82.2(38F)、-129.4(2F)、-131.1(1F)、-144.2(6F)。
单元数x4的平均值：6，化合物(1C-2)的数均分子量：1640。
[例5：化合物(4-1)的制造]
(例5-1)
根据国际公开第2013/121984号的实施例6记载的方法，得到了化合物(14-2)。
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3(CF2CF2O)-CF2CF2CF2-COOCH3···(14-2)。
化合物(14-2)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：3.9(3H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-56.2(3F)、-84.0(54F)、-89.3(54F)、-91.4(2F)、-119.8(2F)、-126.6(52F)、-127.0(2F)。
单元数x3的平均值：13，化合物(14-2)的数均分子量：4730。
(例5-2)
使用化合物(14-2)，按照美国专利申请公开第2005/0249942号说明书的段落[0100]～[0104]中记载的方法获得化合物(21-1)后，得到了化合物(22-1)。
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3(CF2CF2O)-CF2CF2CF2-CONHCH2CH2OH···(21-1)。
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3(CF2CF2O)-CF2CF2CF2-CONHCH2CH2OCOCH＝CH2···(22-1)。
(例5-3)
使用化合物(22-1)，根据专利文献1的段落[0121]中记载的方法，得到了化合物(4-1)。
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3(CF2CF2O)-CF2CF2CF2-CONHCH2CH2OCOCH2CH2-N[CH2CH2CH2-Si(OCH3)3]2···(4-1)。
化合物(4-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.7(4H)、1.6(4H)、2.4～2.9(10H)、3.6(18H)、4.4(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-56.2(3F)、-84.0(54F)、-89.3(54F)、-91.4(2F)、-120.8(2F)、-126.6(52F)、-127.2(2F)。
单元数x3的平均值：13，化合物(4-1)的数均分子量：5150。
[例6：化合物(4-2)的制造]
(例6-1)
除了将化合物(14-2)变更为化合物(14-3)(SynQuest Laboratories公司制)以外，与例5同样地得到了化合物(4-2)。
CF3CF2CF2-O-(CF(CF3)CF2O)x4-CF(CF3)-COOCH3···(14-3)
CF3CF2CF2-O-(CF(CF3)CF2O)x4-CF(CF3)-CONHCH2CH2OCOCH2CH2-N[CH2CH2CH2-Si(OCH3)3]2
···(4-2)
化合物(4-2)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.7(4H)、1.6(4H)、2.4～2.9(10H)、3.6(18H)、4.5(2H)。19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-78.4～-82.2(38F)、-129.4(2F)、-131.1(1F)、-144.2(6F)。
单元数x4的平均值：6，化合物(4-2)的数均分子量：1760。
[例7：化合物(2A-1)的制造]
(例7-1)
除了将化合物(15-1)变更为化合物(10-1)30.0g、将1,3-二(三氟甲基)苯(东京化成工业株式会社制)的量变更为30.0g、将CF3SO2Cl(和光纯药工业株式会社制)的量变更为2.9g、将三乙胺的量变更为3.0g以外，与例1-6同样地得到了31.0g化合物(18-1)(产率97％)。
CF3SO2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OSO2CF3···(18-1)
化合物(18-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：4.6(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-51.2～-54.6(42F)、-74.1(6F)、-77.0(2F)、-79.0(2F)、-87.5～-91.0(80F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(18-1)的数均分子量：4150。
(例7-2)
除了将化合物(16-1)变更为例7-1所得的化合物(18-1)25.0g、将1,3-二(三氟甲基)苯(东京化成工业株式会社制)的量变更为25.0g、将HN(CH2CH＝CH2)2的量变更为4.68g、将三乙胺的量变更为4.88g、将AK-225的量变更为25g、将硅胶的量变更为2.5g以外，与例1-7同样地得到了23.1g化合物(19-1)(产率95％)。
(CH2＝CHCH2)2N-CH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2-N(CH2CH＝CH2)2···(19-1)
化合物(19-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：3.0(4H)、3.2(8H)、5.1(8H)、5.8(4H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-51.2～-54.6(42F)、-77.0(2F)、-79.0(2F)、-87.5～-91.0(80F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(19-1)的数均分子量：4050。
(例7-3)
除了将化合物(17-1)变更为例7-2所得的化合物(19-1)20.0g、将铂络合物溶液的量变更为0.1g、将HSi(OCH3)3的量变更为4.8g、将二甲亚砜的量变更为0.02g、将1,3-二(三氟甲基)苯(东京化成工业株式会社制)的量变更为0.8g以外，与例1-8同样地得到了21.3g的由化合物(19-1)的4个烯丙基被氢化硅烷化而得的化合物(2A-1)以及化合物(19-1)的2个烯丙基在分子内环化生成的副产物所构成的组合物(7)(产率95％)。氢化硅烷化的转化率为100％，无化合物(19-1)残留。氢化硅烷化的选择率为81％。
[(CH3O)3Si-CH2CH2CH2]2N-CH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2-N[CH2CH2CH2-Si(OCH3)3]2···(2A-1)
化合物(2A-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.7(8H)、1.6(8H)、2.6(8H)、3.0(4H)、3.6(36H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-51.2～-54.6(42F)、-77.0(2F)、-79.0(2F)、-87.5～-91.0(80F)。
[例8：化合物(5-1)的制造]
(例8-1)
在100mL的2口茄型烧瓶中加入20.0g的例1-5所得的化合物(15-1)、0.21g的硫酸氢四丁铵、1.76g的BrCH2CH＝CH2以及2.6g的30％氢氧化钠水溶液，60℃下搅拌了8小时。反应结束后，添加20g的AC-2000，用稀盐酸水溶液清洗1次，回收了有机相。使回收的有机相通过硅胶柱，用蒸发器将回收的溶液浓缩，得到了19.8g的化合物(24-1)(产率98.2％)。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OCH2CH＝CH2···(24-1)。
化合物(24-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：3.7(2H)、4.1(2H)、5.2～5.3(2H)、5.9(1H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.3～-55.7(42F)、-78.1(1F)、-80.1(1F)、-82.1(3F)、-89.4～-91.1(90F)、-130.5(2F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(24-1)的数均分子量：4250。
(例8-2)
除了将化合物(17-1)变更为例8-1所得的化合物(24-1)5.0g、将铂络合物溶液的量变更为0.005g、将HSi(OCH3)-1的量变更为0.25g、将二甲亚砜的量变更为0.005g、将1,3-二(三氟甲基)苯(东京化成工业株式会社制)的量变更为0.20g、将反应时间变更为4小时以外，与例1-8同样地得到了4.9g的由化合物(24-1)的1个烯丙基被氢化甲硅烷基化而得的化合物(5-1)以及化合物(24-1)的1个烯丙基异构化为内烯烃(-CH＝CHCH3)而得的副产物所构成的组合物(8)(产率95％)。氢化硅烷化的转化率为100％，无化合物(24-1)残留。氢化硅烷化的选择率为95％。
CF3CF2CF2-O-(CF2CF2O)(CF2CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OCH2CH2CH2-Si(OCH3)3···(5-1)
化合物(5-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.7(6H)、1.7(6H)、3.6(11H)、3.8(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-52.4～-55.8(42F)、-78.2(1F)、-80.2(1F)、-82.2(3F)、-89.4～-91.1(90F)、-130.5(2F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(5-1)的数均分子量：4370。
[例9：化合物(5-2)的制造]
(例9-1)
除了将化合物(15-1)变更为例1-1所得的化合物(11-1)52.0g、将硫酸氢四丁铵的量变更为0.52g、将BrCH2CH＝CH2的量变更为4.4g、将30％氢氧化钠水溶液的量变更为6.5g、将AC-2000的量变更为50g以外，与例8-1同样地得到了52.4g化合物(24-2)(产率99％)。
CF3CF2CF2-O-CHFCF2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OCH2-CH＝CH2···(24-2)
化合物(24-2)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz、溶剂：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：3.7(2H)、4.1(2H)、4.2(2H)、5.2～5.3(2H)、5.8～6.0(2H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-52.3～-55.7(42F)、-78.1(1F)、-78.7(1F)、-80.2(1F)、-80.7(1F)、-82.2(3F)、-85.4～-88.2(2F)、-89.4～-91.1(86F)、-130.5(2F)、-145.1(1F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(24-2)的数均分子量：4190。
(例9-2)
除了将化合物(24-1)变更为例9-1所得的化合物(24-2)以外，与例8-2同样地得到了4.8g的由化合物(24-2)的1个烯丙基被氢化甲硅烷基化而得的化合物(5-2)以及化合物(24-2)的1个烯丙基异构化为内烯烃(-CH＝CHCH3)而得的副产物所构成的组合物(9)(产率93％)。氢化硅烷化的转化率为100％，无化合物(24-2)残留。氢化硅烷化的选择率为94％。
CF3CF2CF2-O-CHFCF2OCH2-(CF2O){(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}-CF2-CH2OCH2CH2CH2-Si(OCH3)3···(5-2)
化合物(5-2)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.7(6H)、1.7(6H)、3.6(11H)、3.8(2H)、4.2(2H)、5.8～6.0(1H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：C6F6)δ(ppm)：-52.3～-55.7(42F)、-78.2(1F)、-78.7(1F)、-80.3(1F)、-80.7(1F)、-82.2(3F)、-85.4～-88.2(2F)、-89.4～-91.1(82F)、-130.5(2F)、-145.1(1F)。
单元数x1的平均值：21，单元数x2的平均值：20，化合物(5-2)的数均分子量：4310。
[例10：化合物(6-1)的制造]
根据国际公开第2013/121984号的实施例6记载的方法，得到了化合物(6-1)。
CF3-O-(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3(CF2CF2O)-CF2CF2CF2-CONHCH2CH2CH2-Si(OCH3)3···(6-1)。
化合物(6-1)的NMR谱；
1H-NMR(300.4MHz，溶媒：CDCl3、基准：TMS)δ(ppm)：0.6(2H)、1.6(2H)、2.8(1H)、3.3(2H)、3.5(9H)。
19F-NMR(282.7MHz、溶剂：CDCl3、基准：CFCl3)δ(ppm)：-56.2(3F)、-84.1(54F)、-89.3(54F)、-91.3(2F)、-120.8(2F)、-126.6(52F)、-127.2(2F)。
单元数x3的平均值：13，化合物(6-1)的数均分子量：4870。
[例11～20：物品的制造和评价]
使用例1～10所得的各化合物或组合物对基材进行表面处理，得到了例11～20的物品。作为表面处理方法，在各例中分别使用了下述的干法涂布法和湿法涂布法。使用了化学强化玻璃作为基材。对于所得的物品，用下述的方法评价。结果示于表1和表2。
(干法涂布法)
干法涂布法通过真空蒸镀装置(ULVAC公司(ULVAC社)制，VTR-350M)进行(真空蒸镀法)。将0.5g的例1～10所得的各化合物或组合物填充至真空蒸镀装置内的钼制蒸发舟(日文：ボート)，将真空蒸镀装置内排气至1×10-3Pa以下。以10℃/分钟以下的升温速度对配置有组合物的蒸发舟进行加热，晶体振荡式膜厚仪所测的蒸镀速度超过1nm/秒时打开闸片(日文：シャッター)，开始在基材表面成膜。膜厚为约50nm时关闭闸片，结束在基材表面的成膜。在200℃下将堆积有组合物的基材热处理30分钟，用AK-225清洗，得到了在基材表面具有表面处理层的物品。
(湿法涂布法)
将例1～10所得的各化合物或组合物与作为液态介质的C4F9OC2H5(3M公司制，ノベック(注册商标)7200)混合，配制了固体成分浓度为0.05％的涂布液。将基材浸渍于该涂布液中，放置30分钟后，将基材提起(浸涂法)。在200℃下将涂膜干燥30分钟，用AK-225清洗，得到了在基材表面具有表面处理层的物品。
(评价方法)
<接触角的测定方法>
使用接触角测定装置(协和界面科学株式会社(協和界面科学社)制，DM-500)测定位于表面层的表面的约2μL的蒸馏水或正十六烷的接触角。对表面层的表面的5处不同的位置进行测定，算出其平均值。使用2θ法计算接触角。
<初期接触角>
用所述测定方法测定了表面层的初期水接触角和初期正十六烷接触角。评价基准如下所述。
初期接触角：
◎(优)：115度以上。
○(良)：110度以上且低于115度。
△(可)：100度以上且低于110度。
×(不可)：低于100度。
初期正十六烷接触角：
◎(优)：66度以上。
○(良)：65度以上且低于66度。
△(可)：63度以上且低于65度。
×(不可)：低于63度。
<耐摩擦性>
对于表面层，按照JIS L 0849:2013(ISO 105-X12:2001)使用往返式横向试验机(KNT株式会社(ケイエヌテー社)制)，以压力98.07kPa、速度320cm/分钟的条件用钢丝绒(日文：スチールウールボンスター)(#0000)往返1万次后，测定了水接触角。摩擦后的斥水性(水接触角)的下降越小，则由摩擦引起的性能的下降越小，耐摩擦性优良。评价基准如下所述。
◎(优)：1万次往返后的水接触角的变化在5度以下。
○(良)：1万次往返后的水接触角的变化超过5度且在10度以下。
△(可)：1万往返后的水接触角的变化超过10度且在20度以下。
×(不可)：1万次往返后的水接触角的变化超过20度。
<耐试剂性>
耐碱性试验
将物品在1当量的NaOH水溶液(pH：14)中浸渍5小时后，水洗和风干，通过所述方法测定了水接触角。试验后的水接触角的下降越小，则碱导致的性能降低越小，耐碱性优良。评价基准如下所述。
◎(优)：耐碱性试验后的水接触角的变化在5度以下。
○(良)：耐碱性试验后的水接触角的变化超过5度且在10度以下。
△(可)：耐碱性试验后的水接触角的变化超过10度且在20度以下。
×(不可)：耐碱性试验后的水接触角的变化超过20度。
盐水喷雾试验(SST)
按照JIS H 8502进行了盐水喷雾试验。即，将物品在盐水喷雾试验仪(须贺试验仪株式会社(スガ試験機社)制)内暴露至盐水气氛300小时后，按所述方法测定了水接触角。试验后的水接触角的下降越小，则由盐水导致的性能的降低越小，耐盐水性优良。评价基准如下所述。
◎(优)：盐水喷雾试验后的水接触角的变化在5度以下。
○(良)：盐水喷雾试验后的水接触角的变化超过5度且在10度以下。
△(可)：盐水喷雾试验后的水接触角的变化超过10度且在20度以下。
×(不可)：盐水喷雾试验后的水接触角的变化超过20度。
<指纹污物除去性>
使人工指纹液(由油酸和鲨烯构成的液体)附着在硅橡胶塞的平坦面后，用无纺布(旭化成株式会社制，ベンコット(注册商标)M-3)拭去多余的油分，准备了指纹的印模(日文：スタンプ)。将该指纹印模置于表面层上，以荷重9.8N按压了10秒。用浊度计测定附着有指纹的部位的雾度，作为初期值。对于附着有指纹的部位，使用带有面巾纸的往返式横向试验机(KNT株式会社制)，以4.9N的荷重擦拭。每往返擦拭一次则测定一次雾度值，测定了雾度从初期值降至10％以下时的擦拭次数。擦拭次数越少则越容易除去指纹污迹，指纹污迹除去性优良。评价基准如下所述。
◎(优)：擦拭次数在3次以下。
○(良)：擦拭次数为4～5次。
△(可)：擦拭次数为6～8次。
×(不可)：擦拭次数在9次以上。
<耐光性>
针对表面层，使用台式氙弧灯式加速耐光性试验机(东洋精机株式会社制，SUNTEST XLS+)，在黑色面板温度63℃的条件下照射500小时的光线(650W/m2、300～700nm)后，测定了水接触角。加速耐光性试验后的水接触角的下降越小，则由光导致的性能的降低越小，耐光性优良。评价基准如下所述。
◎(优)：加速耐光性试验后的水接触角的变化在5度以下。
○(良)：加速耐光试验后的水接触角的变化超过5度且在10度以下。
△(可)：加速耐光试验后的水接触角的变化超过10度且在20度以下。
×(不可)：加速耐光试验后的水接触角的变化超过20度。
<润滑性>
使用荷重变动型摩擦摩耗试验系统(新东科学株式会社(新東科学社)制，HHS2000)，以接触面积3cm×3cm、荷重0.98N的条件测定了表面层相对于人工皮肤(出光泰克诺法因株式会社(出光テクノファイン社)制，PBZ13001)的动态摩擦系数。动态摩擦系数越小，则润滑性越优良。评价基准如下所述。
◎(优)：动态摩擦系数在0.3以下。
○(良)：动态摩擦系数超过0.3且在0.4以下。
△(可)：动态摩擦系数超过0.4且在0.5以下。
×(不可)：动态摩擦系数超过0.5。
[表1]
[表2]
使用了不具有酯键且在一侧的末端具有2个水解性甲硅烷基的本化合物的例11～14的斥水斥油性、耐摩擦性、耐试剂性、指纹污迹除去性、润滑性和耐光性优良。
使用了具有酯键且在一侧的末端具有2个水解性甲硅烷基的化合物(4-1)、(4-2)的例15、16的耐试剂性和耐光性差。认为耐试剂性差的原因在于具有水解性高的酯键。认为耐光性差的原因在于具有键合能低的酯键。
使用了在两末端具有2个水解性甲硅烷基的化合物(2A-1)的例17的耐摩擦性、指纹污迹除去性和耐光性差。认为指纹擦拭性差的原因在于，未反应的末端基团降低了表面物性。认为耐摩擦性差的原因在于两末端被固定化至基材。
使用了含有在1侧的末端仅具有1个水解性甲硅烷基的化合物(5-1)或化合物(5-2)的组合物、或者化合物(6-1)的例18～20的耐摩擦性差。认为耐摩擦性差的原因在于，仅具有1个与基材呈反应性的基团，因此与基材的密合性不充分。
[例21～35：物品的制造和评价]
准备了在例1-1中分离的化合物(3A-1)。
准备了在例2-3中得到的化合物(1B-1)。
准备了在例7-3中得到的化合物(2A-1)。
按表3所示的比例混合化合物(1B-1)、化合物(2A-1)、化合物(3A-1)，配制了组合物。使用各组合物，通过上述的湿法涂布法制造了物品。对物品实施了接触角的测定以及耐摩擦性和润滑性的评价。结果示于表3。
[表3]
由例21～25可知，向在一侧的末端具有2个水解性甲硅烷基的本化合物中加入了在两末端具有2个水解性甲硅烷基的化合物(2A-1)的情况下，如果化合物(2A-1)的比例低于40质量％，则表面层具有实用的性能。随着化合物(2A-1)的比例的增加，耐摩擦性和润滑性呈现降低的倾向。
由例26～30可知，向在一侧的末端具有2个水解性甲硅烷基的本化合物中加入了在两末端不具有水解性甲硅烷基的化合物(3A-1)的情况下，如果化合物(3A-1)的比例低于40质量％，则表面层具有实用的性能。随着化合物(3A-1)的比例的增加，耐摩擦性呈现降低的倾向。
由例31～35可知，向在一侧的末端具有2个水解性甲硅烷基的本化合物中同时加入了在两末端具有2个水解性甲硅烷基的化合物(2A-1)以及在两末端不具有水解性甲硅烷基的化合物(3A-1)的情况下，如果化合物(2A-1)和化合物(3A-1)的总计比例低于40质量％，则表面层具有实用的性能。随着化合物(2A-1)和化合物(3A-1)的总计比例的增加，耐摩擦性呈现降低的倾向。
产业上利用的可能性
本发明的含氟醚化合物适用于赋予触摸面板的构成手指接触面的部件等的基材的表面以斥水斥油性的表面处理。
另外，这里引用2015年9月1日提出申请的日本专利申请2015-171987号的说明书、权利要求书和摘要的全部内容作为本发明的说明书的揭示。

Claims (13)

1.以下述式(1)表示的含氟醚化合物，
A1-O-Q1-(Rf11O)m1-Rf12-R11-N[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]2···(1)
其中，
A1是碳数1～20的全氟烷基，
Q1是单键、含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基、在含有1个以上的氢原子的氟代亚烷基的末端(但是，与A1-O结合侧的末端除外)具有醚性氧原子的基团、在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团、或在含有1个以上的氢原子的碳数2以上的氟代亚烷基的末端(但是，与A1-O结合侧的末端除外)及碳-碳原子间具有醚性氧原子的基团，
Rf11和Rf12分别独立地是全氟亚烷基，
m1是2～200的整数，
(Rf11O)m1可以由2种以上的Rf11O形成，
R11是单键、亚烷基、在亚烷基的末端(但是，与N结合侧的末端除外)具有醚性氧原子或-NH-的基团、在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团、或在碳数2以上的亚烷基的末端(但是，与N结合侧的末端除外)及碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团，
R12是亚烷基、或者在碳数2以上的亚烷基的碳-碳原子间具有醚性氧原子或-NH-的基团，
R13是氢原子或1价的烃基，
X1是水解性基团，
n1是0～2的整数，
2个[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]可不为相同的基团。
2.如权利要求1所述的含氟醚化合物，其特征在于，所述Rf11和所述Rf12分别独立地是碳数1～6的全氟亚烷基。
3.如权利要求1或2所述的含氟醚化合物，其特征在于，所述Rf11和所述Rf12分别独立地是不具有分支结构的全氟亚烷基。
4.如权利要求1～3中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，所述(Rf11O)m1具有{(CF2O)x1(CF2CF2O)x2}，其中，x1、x2均为1以上的整数，x1+x2是2以上m1以下的整数，该式表示x1个(CF2O)和x2个(CF2CF2O)无规配置的结构。
5.如权利要求1～4中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，所述(Rf11O)m1具有(CF2CF2O-CF2CF2CF2CF2O)x3，其中，x3是1以上m1/2以下的整数。
6.如权利要求1～5中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，所述Q1是单键、-Rf5O-或-Rf5O-Rf6O-，其中，Rf5、Rf6分别独立地是具有氢原子的碳数2～6的氟代亚烷基。
7.如权利要求1～6中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，所述R11为选自-CH2-、-CH2CH2-、-CH2CH2CH2-、-CH2OCH2CH2-和-CH2NHCH2CH2-的基团。
8.如权利要求1～7中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，所述R12为-CH2CH2CH2-或-CH2CH2OCH2CH2CH2-。
9.如权利要求1～8中任一项所述的含氟醚化合物，其特征在于，数均分子量为500～20000。
10.含氟醚组合物，它是含有权利要求1～9中任一项所述的含氟醚化合物、和除所述以式(1)表示的含氟醚化合物以外的含氟醚化合物的含氟醚组合物，其特征在于，
所述含氟醚组合物中的所述以式(1)表示的含氟醚化合物和其他含氟醚化合物的总计的比例相对于含氟醚组合物为80～100质量％，
相对于所述以式(1)表示的含氟醚化合物和其他含氟醚化合物的总计，所述其他含氟醚化合物的比例超过0质量％且低于40质量％。
11.如权利要求10所述的含氟醚组合物，其特征在于，所述其他含氟醚化合物是选自下述含氟醚化合物(2)、下述含氟醚化合物(3)和下述含氟醚化合物(4)中的至少1种，
含氟醚化合物(2)：所述以式(1)表示的含氟醚化合物中具有所述-N[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]2的基团与所述(Rf11O)m1的两侧结合的含氟醚化合物，
含氟醚化合物(3)：所述以式(1)表示的含氟醚化合物中具有所述A1的基团与所述(Rf11O)m1的两侧结合的含氟醚化合物，
含氟醚化合物(4)：所述以式(1)表示的含氟醚化合物中所述-N[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]2被-N[-R12-SiR13 n1X1 3-n1]2-t[-R15]t取代了的含氟醚化合物，其中，R15是如果加成HSiR13 n1X1 3-n1则形成-R12-SiR13 n1X1 3-n1的含有不饱和键的基团、或该含有不饱和键的基团的异构体基团，t为1或2。
12.涂布液，其特征在于，包含权利要求1～9中任一项所述的含氟醚化合物或者权利要求10或11所述的含氟醚组合物、以及液态介质。
13.物品，其特征在于，具有由权利要求1～9中任一项所述的含氟醚化合物或者权利要求10或11所述的含氟醚组合物所形成的表面层。
CN201680050396.8A 2015-09-01 2016-08-30 含氟醚化合物、含氟醚组合物、涂布液和物品 Active CN107922608B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015-171987 2015-09-01
JP2015171987 2015-09-01
PCT/JP2016/075356 WO2017038832A1 (ja) 2015-09-01 2016-08-30 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液および物品

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107922608A true CN107922608A (zh) 2018-04-17
CN107922608B CN107922608B (zh) 2020-08-07

Family

ID=58187846

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201680050396.8A Active CN107922608B (zh) 2015-09-01 2016-08-30 含氟醚化合物、含氟醚组合物、涂布液和物品

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10538621B2 (zh)
JP (1) JP6791147B2 (zh)
KR (1) KR20180044282A (zh)
CN (1) CN107922608B (zh)
TW (1) TW201718702A (zh)
WO (1) WO2017038832A1 (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111868204A (zh) * 2018-03-16 2020-10-30 Ａｇｃ株式会社 带膜的基材
CN112789325A (zh) * 2018-10-05 2021-05-11 Ａｇｃ株式会社 含氟醚组合物、涂布液、物品及其制造方法
CN113454163A (zh) * 2019-02-13 2021-09-28 Ａｇｃ株式会社 含氟醚组合物、涂布液、物品及其制造方法

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102269698B1 (ko) 2016-10-31 2021-06-25 에이지씨 가부시키가이샤 함불소 에테르 조성물, 코팅액 및 물품
JP2017137511A (ja) * 2017-05-02 2017-08-10 旭硝子株式会社 含フッ素エーテル化合物の製造方法および含フッ素エーテル化合物
JP6711489B2 (ja) * 2017-05-26 2020-06-17 株式会社フロロテクノロジー コーティング剤
KR102577376B1 (ko) 2017-06-21 2023-09-11 에이지씨 가부시키가이샤 발수발유층 부착 물품 및 그 제조 방법
WO2019035288A1 (ja) * 2017-08-18 2019-02-21 Ａｇｃ株式会社 含フッ素エーテル化合物の製造方法、および物品の製造方法
JP6724952B2 (ja) * 2017-08-18 2020-07-15 Ａｇｃ株式会社 含フッ素エーテル化合物の製造方法、物品の製造方法
JP7001097B2 (ja) * 2017-08-22 2022-01-19 Ａｇｃ株式会社 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法
JP7151711B2 (ja) 2017-08-22 2022-10-12 Ａｇｃ株式会社 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法
JP7063335B2 (ja) * 2017-08-31 2022-05-09 Ａｇｃ株式会社 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品およびその製造方法
WO2019049753A1 (ja) * 2017-09-05 2019-03-14 Ａｇｃ株式会社 含フッ素エーテル化合物、組成物および物品
JP7180665B2 (ja) 2017-12-27 2022-11-30 Ａｇｃ株式会社 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品及びその製造方法
JP2021181158A (ja) * 2018-08-20 2021-11-25 Ａｇｃ株式会社 膜付き基材の製造方法
JP7468355B2 (ja) 2018-11-13 2024-04-16 Ａｇｃ株式会社 撥水撥油層付き基材、蒸着材料および撥水撥油層付き基材の製造方法
WO2020137998A1 (ja) 2018-12-26 2020-07-02 Ａｇｃ株式会社 撥水撥油層付き基材、およびその製造方法
JPWO2020162371A1 (ja) 2019-02-08 2021-12-09 Ａｇｃ株式会社 含フッ素エーテル化合物、含フッ素エーテル組成物、コーティング液、物品、物品の製造方法、及び含フッ素化合物の製造方法
JPWO2020241751A1 (zh) 2019-05-31 2020-12-03
KR20220038281A (ko) 2019-07-18 2022-03-28 에이지씨 가부시키가이샤 표면층 부착 물품
WO2021024921A1 (ja) * 2019-08-02 2021-02-11 ダイキン工業株式会社 表面処理剤
CN114450325A (zh) 2019-09-20 2022-05-06 Ａｇｃ株式会社 含氟醚化合物、表面处理剂、含氟醚组合物、涂覆液、物品和化合物
CN114867730A (zh) 2019-12-26 2022-08-05 Ａｇｃ株式会社 含氟醚化合物、表面处理剂、含氟醚组合物、涂布液、物品和物品的制造方法
CN114945620A (zh) 2020-02-14 2022-08-26 Ａｇｃ株式会社 含氟醚化合物、含氟醚组合物、涂布液、物品和物品的制造方法
JPWO2022039172A1 (zh) * 2020-08-17 2022-02-24

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009008380A1 (ja) * 2007-07-06 2009-01-15 Asahi Glass Company, Limited 表面処理剤、物品、および新規含フッ素エーテル化合物
CN101736346A (zh) * 2008-11-24 2010-06-16 3M创新有限公司 在不锈钢表面形成易清洁层的制品及其制备方法
CN104114564A (zh) * 2012-02-17 2014-10-22 旭硝子株式会社 含氟醚化合物、含氟醚组合物及涂覆液以及具有表面处理层的基材及其制造方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0219385A (ja) * 1988-07-08 1990-01-23 Toshiba Silicone Co Ltd アミノアルキル基含有ケイ素化合物の製造方法
US7101618B2 (en) 2004-05-07 2006-09-05 3M Innovative Properties Company Article comprising fluorochemical surface layer

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009008380A1 (ja) * 2007-07-06 2009-01-15 Asahi Glass Company, Limited 表面処理剤、物品、および新規含フッ素エーテル化合物
CN101736346A (zh) * 2008-11-24 2010-06-16 3M创新有限公司 在不锈钢表面形成易清洁层的制品及其制备方法
CN104114564A (zh) * 2012-02-17 2014-10-22 旭硝子株式会社 含氟醚化合物、含氟醚组合物及涂覆液以及具有表面处理层的基材及其制造方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111868204A (zh) * 2018-03-16 2020-10-30 Ａｇｃ株式会社 带膜的基材
CN112789325A (zh) * 2018-10-05 2021-05-11 Ａｇｃ株式会社 含氟醚组合物、涂布液、物品及其制造方法
CN112789325B (zh) * 2018-10-05 2023-03-28 Ａｇｃ株式会社 含氟醚组合物、涂布液、物品及其制造方法
CN113454163A (zh) * 2019-02-13 2021-09-28 Ａｇｃ株式会社 含氟醚组合物、涂布液、物品及其制造方法
CN113454163B (zh) * 2019-02-13 2023-09-19 Ａｇｃ株式会社 含氟醚组合物、涂布液、物品及其制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20180044282A (ko) 2018-05-02
US20180142062A1 (en) 2018-05-24
JPWO2017038832A1 (ja) 2018-06-14
CN107922608B (zh) 2020-08-07
JP6791147B2 (ja) 2020-11-25
WO2017038832A1 (ja) 2017-03-09
US10538621B2 (en) 2020-01-21
TW201718702A (zh) 2017-06-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107922608A (zh) 含氟醚化合物、含氟醚组合物、涂布液和物品
CN107922445A (zh) 含氟醚化合物、含氟醚组合物、涂布液和物品
JP6597849B2 (ja) 含フッ素エーテル組成物の製造方法、コーティング液の製造方法および表面処理層を有する基材の製造方法
CN109071797A (zh) 含氟醚化合物、涂布液、物品和新型化合物
EP2982702B1 (en) Fluorine-containing ether compound, fluorine-containing ether composition, and coating solution, as well as substrate having surface layer, and method for manufacturing same
CN109642023A (zh) 含氟醚化合物的制造方法
JP2013091047A (ja) 防汚性基板の製造方法
EP4032933A1 (en) Fluorine-containing ether compound, surface treatment agent, fluorine-containing ether composition, coating liquid, article, and compound

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
CB02 Change of applicant information
CB02 Change of applicant information

Address after: Tokyo, Japan

Applicant after: AGC Corporation

Address before: Tokyo, Japan

Applicant before: Asahi Glass Co., Ltd.

GR01 Patent grant
GR01 Patent grant