CN107873049A - 从玻璃中去除金属沉积物的方法 - Google Patents

Abstract

从玻璃制品(例如玻璃基材，如玻璃片)中去除金属沉积物的方法包括将玻璃制品暴露于弱酸溶液中一定时间，所述一定时间有效地去除了金属沉积物。

Description

从玻璃中去除金属沉积物的方法

本申请依据35U.S.C.§119要求于2015年6月10日提交的系列号为62/173,480的美国临时申请的优先权的权益，本文以该申请的内容为基础并将其通过引用全文纳入本文。

背景

技术领域

本公开一般涉及处理玻璃制品的方法，所述玻璃制品是例如玻璃基材，如适用于显示应用的玻璃片，特别地，涉及用于处理玻璃制品以从其中去除金属沉积物的方法。

背景技术

适用于显示应用的玻璃基材，例如作为玻璃显示面板中的基材或作为显示面板的盖板玻璃片，必须是非常清洁和无缺陷的，因为这种显示器的普通观看者的视觉灵敏度能够辨别观看屏幕上的极微小的缺陷。另外，在这种应用中使用的玻璃片的污染可妨碍沉积在玻璃片上的材料的沉积和/或功能，而这些沉积和/或功能是显示装置的正确操作所需的。例如，污染可妨碍沉积在用于制造显示装置的一个或多个玻璃基材上的薄膜晶体管的沉积。

玻璃基材的污染可以是例如有机的或者金属的。由于没有单一的清洁材料能够去除所有这些污染物，因此，可能需要对工艺进行定制以使用不同的清洁剂来去除不同的污染物。也就是说，限制与玻璃片制造相关的成本的需要决定了应该采用不会显著增加加工成本的从玻璃片中去除污染物的有效方法。

发明内容

已经发现弱酸可以用于处理在其表面上包含金属沉积物的玻璃制品，例如，玻璃基材，如玻璃片，并且已经显示出即使在极低的浓度下也是有效的。此外，在某些实施方式中，使用来自工业用水系统中的次氯酸提供了氯化水的现成来源，其优点在于：1)充足且廉价；以及2)不用进行需要更多活性酸(如硫酸或盐酸)的特殊处理。次氯酸广泛地用作漂白剂和除臭剂并且用于消毒及防止水中的细菌生长。例如，次氯酸可以用于工业应用以防止用作热交换系统中的冷却流体的水中的细菌生长。通过例如向水中添加亚氯酸钠可以轻易地形成次氯酸。

因此，在一个方面中描述了使用弱酸从玻璃制品中去除金属沉积物的方法，所述方法包括将玻璃制品暴露于浓度为0.5至1.0ppm的弱酸水性溶液中一定时间，所述一定时间有效地从玻璃制品表面中去除了金属沉积物。弱酸的离解常数K_a可在约2.95x 10^-8至约7.5x 10^-3的范围内。例如，弱酸可以选自次氯酸、硼酸和磷酸。金属沉积物可以包括铁、钙、钡、锌、钴、锰、锶和它们的组合或合金中的至少一种。在各个具体的实施方式中，金属沉积物包括铁，并且弱酸包括次氯酸。

在另一个方面中，公开了从玻璃片中去除金属沉积物的方法，所述方法包括将玻璃片的至少一个主要表面整体暴露于浓度为0.5至1.0ppm的次氯酸水性溶液中一定时间，所述一定时间有效地从至少一个主要表面中去除了金属沉积物。金属沉积物可以包括铁、钙、钡、锌、钴、锰、锶和它们的组合或合金中的至少一种。

应该明白，虽然本公开主要涉及在玻璃片制造工艺中生产的玻璃基材(例如玻璃片)，但是本文描述的实施方式也可以应用于其他玻璃制品。因此，本公开不限于玻璃片、玻璃板或其他玻璃基材，而是可以用于从通常的玻璃制品中去除金属沉积物而不管形状如何。

应当理解的是，前面的一般性描述和以下的具体实施方式都描述了本公开的实施方式，且都旨在提供用于理解所描述和所要求保护的实施方式的性质和特性的总体评述或框架。包括的附图提供了对实施方式的进一步的理解，附图结合于本说明书中并构成说明书的一部分。附图例示了本公开的各个实施方式，并与说明书一起用来解释本公开的原理和操作。

附图简要说明

图1为示例性玻璃制造设备的示意图；

图2为可以位于图1设备的下游的玻璃基材精整工艺的框图；

图3为在由图1的设备制造的玻璃基材上的金属沉积物的显微图；

图4为用次氯酸处理玻璃基材的处理设备的实施方式；

图5为用次氯酸处理玻璃基材的处理设备的另一个实施方式；以及

图6为例示了在大约6个月的时间内每天在玻璃基材上的铁沉积物出现次数的图表，并且该图表示出了在次氯酸洗涤开始时铁沉积物显著减少。

具体实施方式

下面将参考附图更完整地描述设备和方法，附图中显示了本公开的示例性实施方式。只要有可能，在所有附图中使用相同的附图标记来表示相同或类似的部分。但是，本公开可以以许多不同的形式实施并且不应被解读成限于本文中提出的实施方式。

应理解，各个公开的实施方式可以涉及与特定实施方式一起描述的特定特征、元素或步骤。还应理解，虽然以涉及一个特定实施方式的形式进行描述，但是特定特征、元素或步骤可以多种未说明的组合或排列方式与替代性的实施方式互换或组合。

本文中，范围可以表示为从“约”一个具体值开始和/或至“约”另一个具体值终止。当表述这样的范围时，另一个实施方式包括自所述一个具体值始和/或至所述另一具体值止。类似地，用先行词“约”将数值表示为近似值时，应理解该具体值构成了另一个实施方式。还应理解的是，每个范围的端点值在与另一个端点值相结合以及独立于另一个端点值的情况下都是有意义的。

本文所用的方向术语——例如上、下、左、右、前、后、顶、底——仅仅是参照绘制的附图而言，并不用来暗示绝对的取向。

除非另有明确说明，否则本文所述的任何方法不应理解为其步骤需要按具体顺序进行，或者对于任何装置，需要具体的取向。因此，如果方法权利要求没有实际叙述其步骤要遵循的顺序，或者任何装置没有实际叙述各组件的顺序或取向，或者权利要求书或说明书中没有另外具体陈述步骤限于具体顺序，或者没有叙述装置组件的具体顺序或取向，那么在任何方面都不应推断顺序或取向。这适用于解释上的任何可能的非表达性基础，包括：涉及步骤安排的逻辑问题；组件的顺序或组件的取向问题；由语法组织或标点派生的明显含义问题；说明书中描述的实施方式的数量或类型问题。

如本文所用，单数形式的“一个”、“一种”和“该/所述”包括复数指代形式，除非文中另有明确说明。因此，例如，提到的“一种”组件包括具有两种或更多种这类组件的方面，除非文本中有另外的明确表示。

图1所示为示例性玻璃制造设备10。在一些实例中，玻璃制造设备10可包括玻璃熔炉12，该玻璃熔炉12可包含熔融容器14。除了熔融容器14外，玻璃熔炉12可任选包含一个或多个其他部件，如加热元件(例如燃烧器或电极)，构造其以加热批料并将批料转化为熔融玻璃。在另外的实例中，玻璃熔炉12可以包含热管理装置(例如绝热组件)，构造其以减少熔融容器附近的热损失。在另外的实例中，玻璃熔炉12可以包含电子装置和/或机电装置，构造其以促进将批料熔化为玻璃熔体。更进一步，玻璃熔炉12可包含支撑结构(例如支撑底座、支撑元件等)或其他部件。

玻璃熔融容器14通常包括耐火材料，例如耐火陶瓷材料。在一些实例中，玻璃熔融容器14可以用耐火陶瓷砖建造，例如包含氧化铝或氧化锆的耐火陶瓷砖。

在一些实例中，玻璃熔炉可以作为玻璃制造设备的一个部件纳入，构造玻璃制造设备以制造玻璃带。在一些实例中，本公开的玻璃熔炉可以作为玻璃制造设备的一个部件纳入，该玻璃制造设备包括狭缝拉制设备、浮浴设备、下拉设备(例如熔合设备)、上拉设备、压辊设备、拉管设备或者任何其他玻璃制造设备。作为实例而非限制，图1示意性地例示了作为熔合下拉玻璃制造设备10的一个部件的玻璃熔炉12，该熔合下拉玻璃制造设备10用于熔合拉制玻璃带以用于随后将玻璃带加工成玻璃片。

玻璃制造设备10(例如熔合下拉设备10)可任选地包含上游玻璃制造设备16，该上游玻璃制造设备16位于玻璃熔融容器14的上游。在一些实例中，上游玻璃制造设备16的一部分或整体可以作为玻璃熔炉12的一部分纳入。

如例示的实例所示，上游玻璃制造设备16可包含储料仓18、批料输送装置20和连接至该批料输送装置的发动机22。可以构造储料仓18以储存一定量的批料24，可将该批料24加料到玻璃熔炉12的熔融容器14中，如箭头26所示。在一些实例中，批料输送装置20可由发动机22提供动力，使得批料输送装置20可将预定量的批料24从储料仓18输送到熔融容器14。在另外的实例中，发动机22可为批料输送装置20提供动力，以根据熔融容器14下游检测到的熔融玻璃水平，以受控速率加入批料24。此后，可加热熔融容器14内的批料24以形成熔融玻璃28。

玻璃制造设备10还可任选包含位于玻璃熔炉12下游的下游玻璃制造设备30。在一些实例中，下游玻璃制造设备30的一部分可以作为玻璃熔炉12的一部分纳入。例如，下文论述的第一连接管道32，或者下游玻璃制造设备30的其他部分，可以作为玻璃熔炉12的一部分纳入。包括第一连接管道32在内的下游玻璃制造设备的元件可由贵金属形成。合适的贵金属包括选自下组金属的铂族金属：铂、铱、铑、锇、钌和钯，或其合金。例如，玻璃制造设备的下游部件可以由铂-铑合金形成，该铂-铑合金包含70重量％至90重量％的铂和10重量％至30重量％的铑。然而，其他合适的金属可包括钼、钯、铼、钽、钛、钨和其合金。

下游玻璃制造设备30可包含第一调节(即处理)容器，如澄清容器34，其位于熔融容器14下游并通过上述第一连接管道32与熔融容器14连接。在一些实例中，熔融玻璃28可从熔融容器14经第一连接管道32借助于重力加料到澄清容器34。例如，重力可以驱动熔融玻璃28通过第一连接管道32的内部通路，从熔融容器14到达澄清容器34。但应理解，其他调节容器可位于熔融容器14下游，例如在熔融容器14与澄清容器34之间。在一些实施方式中，可以在熔融容器与澄清容器之间采用冷却容器(未示出)，其中来自熔融容器的熔融玻璃可被冷却到比熔融容器中的熔融玻璃的温度更低的温度，然后进入澄清容器。

在澄清容器34中，可以通过各种技术去除熔融玻璃28中的气泡。例如，批料24可以包含多价化合物(即澄清剂)，例如氧化锡，它们在加热时发生化学还原反应并释放氧气。其他合适的澄清剂包括但不限于砷、锑、铁和铈。将澄清容器134加热到比熔融容器温度高的温度，由此加热澄清剂。由温度引发的澄清剂化学还原反应所产生的氧气泡上升通过澄清容器内的熔融玻璃，其中，熔炉内产生的熔体中的气体可聚并到澄清剂所产生的氧气泡中。然后，增大的气泡可上升到在澄清容器中的熔融玻璃的自由表面并随后排出。

下游玻璃制造设备30还可包含第二调节容器，如用于混合熔融玻璃的混合容器36，其可位于澄清容器34下游。玻璃熔体混合容器36可用来提供均匀的玻璃熔体组成，从而减少或消除不均匀性，否则，不均匀性会存在于离开澄清容器的经过澄清的熔融玻璃中。如图所示，澄清容器34可以通过第二连接管道38与熔融玻璃混合容器36连接。在一些实例中，熔融玻璃28可以从澄清容器34经第二连接管道38借助于重力加料到混合容器36。例如，重力可以驱动熔融玻璃28通过第二连接管道38的内部通路，从澄清容器34到达混合容器36。应注意的是，虽然图中显示混合容器36处于澄清容器34下游，但是混合容器36可以位于澄清容器34上游。在一些实施方式中，下游玻璃制造设备30可以包含多个混合容器，例如位于澄清容器34上游的混合容器和位于澄清容器34下游的混合容器。这些多个混合容器可以具有相同设计，或者它们可以具有彼此不同的设计。

下游玻璃制造设备30还可包含另一个调节容器，例如输送容器40，其可以位于混合容器36下游。输送容器40可以调节要加料到下游成形装置中的熔融玻璃28。例如，输送容器40可起到蓄积器和/或流量控制器的作用，以调整熔融玻璃28的流量并通过出口管道44向成形主体42提供恒定流量的熔融玻璃28。如图所示，混合容器36可以通过第三连接管道46连接至输送容器40。在一些实例中，熔融玻璃28可通过第三连接管道46从混合容器36借助于重力加料到输送容器40。例如，重力可以驱动熔融玻璃28通过第三连接管道46的内部通路，从混合容器36到达递送容器40。

下游玻璃制造设备30还可包含成形设备48，该成形设备48包括上述成形主体42，该成形主体42包括入口管道50。可设置出口管道44以将熔融玻璃28从输送容器40输送到成形设备48的入口管道50。在熔合成形工艺中，成形主体42可包括位于成形主体上表面中的槽52和沿着成形主体底部边缘(根部)56汇合的汇合成形表面54。经由输送容器40、出口管道44和入口管道50输送至成形主体槽的熔融玻璃从槽壁溢流，并且作为分开的熔融玻璃流沿汇合成形表面54下行。分开的熔融玻璃流沿着根部在根部下方结合以产生单一的玻璃带58，该单一的玻璃带58通过向玻璃带施加张力(例如借助于重力和牵拉辊(未示出))以控制玻璃带的尺寸而从根部56拉制出，所述施加张力是在玻璃冷却和玻璃粘度增加而使玻璃带58经历粘弹性转变并具有使玻璃带58具有稳定尺寸特性的机械性质时进行。随后可以通过玻璃分离设备(未示出)将玻璃带分离成单独的玻璃基材59。

应理解，生产适于销售和分配给仪器制造商的玻璃基材在可将产品从制造商中运出之前，可能要求另外的加工。因此，图2例示了设置在玻璃制造设备10下游的示例性的精整线60。精整线60可以包括构造用于处理一个或多个玻璃基材59的各个不同的工位，包括切割工位62、斜切工位64、洗涤工位66、检查工位68和包装工位70中的一个或多个。

在沿着精整线60的示例性第一步中，可将玻璃基材59切割成预定尺寸。例如，可以将玻璃基材从由上文描述的设备10生产的显著较大的玻璃带58切割成预定尺寸。在各个实施方式中，玻璃带可以为连续的玻璃带，将该连续的玻璃带沿基本上垂直于玻璃带长度尺寸的方向，例如垂直于拉制方向的方向切割。玻璃基材59可以包括在约0.05至约0.7毫米范围内的厚度，例如厚度在约0.1毫米至约3毫米的范围内、在约0.3毫米至约1毫米的范围内、在约0.5毫米至约0.7毫米的范围内，包括它们之间的所有范围和子范围。在许多玻璃带拉制操作中，玻璃带获得了被称为凸缘的增厚的边缘部分，这是由于在玻璃带从粘性状态冷却到弹性状态时，玻璃带在宽度上收缩所致。然而，通常的应用，例如制造用于纳入到各种显示装置的显示面板，要求去除这些凸缘。另外，从带中切割出来的母体玻璃基材还可以进一步被切割成多个更小的玻璃基材。因此，可以在切割工位62处理玻璃基材59，在切割工位62中可进行切割操作以去除玻璃基材上存在的任何边缘部分凸缘，并且任选地，将玻璃基材切割成预定尺寸。

一旦对玻璃基材59进行了裁切以去除凸缘和/或切割成预定尺寸，则可在斜切工位64对玻璃基材的边缘进行斜切。可以对玻璃基材的任何一个或多个边缘进行斜切。在各个实施方式中，逐一(一次一个)或同时对矩形基材的全部四个边缘进行斜切。切割工艺可能在玻璃基材上留下受破坏的边缘面。例如，机械刻划和折断工艺通常涉及使玻璃基材的主要表面与刻划工具接触。接触要求使用足够的力将刻划工具压到玻璃基材中以形成裂口裂纹，该裂口裂纹至少部分地延伸通过了玻璃基材的厚度。因此，至少一部分的玻璃基材厚度可以因迫使与刻划工具接触而被破坏。这一破坏可能提供了随后发生不期望的破裂所要求的起始裂痕。可以使用对玻璃基材产生较小的边缘表面破坏的各种激光刻划和/或切割技术，但是即使是在对边缘表面没有任何破坏的完美切割的情况中，切割工艺仍然留下了尖锐的边缘，在该尖锐的边缘处边缘表面与玻璃基材的主要表面接触。在玻璃基材搬运期间，这种尖锐的边缘易于损坏。因此，对玻璃基材进行处理以沿着玻璃基材的边缘产生斜面可以减少对玻璃基材的搬运损坏的倾向。通过对玻璃基材边缘研磨和/或抛光可进行斜切。可以将水施加到玻璃基材的边缘表面，施加到玻璃基材的主要表面和/或施加到用于对边缘进行斜切的研磨轮，以有助于清洗来自玻璃基材的微粒，从而防止玻璃微粒粘附于玻璃基材；以及在研磨工艺期间冷却玻璃基材与研磨轮的接触表面。

在玻璃基材的研磨和/或抛光期间，通过从玻璃基材的边缘中去除玻璃而产生了玻璃微粒，该玻璃微粒可能附着于玻璃基材的主要表面。如果不去除微粒，则微粒可干扰下游处理，例如在生产显示面板期间的薄膜沉积。因此，可以在洗涤工位66处对玻璃基材进行进一步的处理，在洗涤工位66处，如有必要，从主要表面以及从边缘表面中洗涤掉微粒。在洗涤步骤期间，可以将玻璃基材暴露于一种或多种洗涤剂溶液和/或清洗溶液。在清洗之后，可以在检查室68处对玻璃基材进行干燥、检查，然后在包装工位70进行包装以用于运输。

已经发现，在一些情况中，玻璃基材的一个或两个主要表面可能被金属沉积物污染(例如“污斑”)，其中玻璃表面的小区域包括薄的金属沉积物，所述金属是例如但不限于铁、钙、钡、锌、钴、锰、锶。虽然不是清楚了解这种沉积的机制，但是认为在拉制工艺期间，当玻璃仍然处于明显的温度下(例如在约100℃至约600℃的范围内)可产生这种金属沉积物。例如，这种金属沉积可以因玻璃冷凝物从拉制机器结构滴到玻璃基材上而发生。

图3为示例性的铁沉积物的照片，其以放大20倍示出。图3中的具体的铁沉积物的总长度大约为460微米，其具有约150微米长的环形中心区域，并且在垂直和水平方向上均拖尾。在一些工艺中，金属沉积物可通过将玻璃基材暴露于相对强的矿酸[例如氢氟酸(HF)和/或盐酸]中来去除。然而，就酸自身的成本、特殊的处理要求以及需要处理作为有害废物的废液而言，使用这些强酸是昂贵的。此外，这样的酸可造成玻璃表面发生不必要的蚀刻。

相应地，本申请的发明人发现将玻璃基材暴露于酸浓度在约0.5ppm至约1.0ppm的弱酸溶液足以去除偶然的金属沉积物，其不昂贵，不需要特殊处理并且在本文描述的条件下不产生可辨识的蚀刻。如本文所定义的，弱酸为包含离解常数K_a在1.8×10^-16至55.5范围内，或者对数常数ρK_a在约15.74至约-1.74范围内的酸(其中ρK_a＝-log K_a)。合适的弱酸溶液包括但不限于次氯酸(K_a＝2.95x 10^-8、ρK_a＝7.53)、硼酸(K_a＝5.8x 10^-10、ρK_a＝9.24)和磷酸(K_a＝7.5x 10^-3、ρK_a＝2.125)，或者它们的组合。因此，在各个实施方式中，可以使用K_a值在约2.95x 10^-8至约7.5x 10^-3范围内(包括其间的所有范围和子范围)的弱酸。在具体的实施方式中，可以使用次氯酸。

根据图4所示的实施方式，将玻璃基材72(其中，玻璃基材72指定为从母体玻璃基材59中切割出来的玻璃基材，但是在另外的实施方式中，玻璃基材可以为从玻璃带58中切割出来的母体玻璃基材，其去除了或未去除凸缘)暴露于弱酸溶液74。可以例如通过从一个或多个喷嘴76喷洒弱酸溶液来使玻璃基材暴露于弱酸溶液，设置喷嘴76以润湿玻璃基材的一个或两个主要表面78、80。例如，在本文描述的各个实施方式中，所述一个或两个主要表面78、80需要被弱酸完全润湿。特别地，用次氯酸对玻璃表面进行处理可根据以下化学反应用于去除铁沉积物：

Fe+2HClO→FeCl₂+H₂+O₂ (1)

2HClO→2HCl+O₂ (2)

Fe+2HCl→FeCl₂+H₂, (3)

其中，FeCl₂是水溶性的并且在下游洗涤步骤中容易去除。

可在玻璃基材成形工艺之后的任何时间暴露于弱酸，但是在一些实施方式中，在斜切工位64处的斜切工艺期间进行酸暴露。然而，在各个其他实施方式中，可在斜切工艺之后但是在洗涤工位66处进行洗涤工艺之前暴露于弱酸。在一些实施方式中，如图5所示，一个或两个主要表面78、80可以通过来自一个或多个喷嘴76的酸的细喷物82(即低压蒸气)暴露于弱酸。玻璃基材72可以相对于水平方向以等于或大于0度且等于或小于90度的角α放置(其中0度为水平，并且90度为垂直)。在一些实例中，弱酸可以以约7升每分钟至约9升每分钟的速率施加，例如以8.3+/-升每分钟的速率施加。已经发现，以上述浓度和输送速率，在约20秒至约60秒范围内的暴露时间足以去除金属沉积物，例如在约20秒至约30秒范围内，在约20秒至25秒范围内，并且包括其间的所有范围和子范围。

显而易见的是，得益于本发明，在上文描述的各个实施方式中的任何一个实施方式中使用的弱酸可以为了去除玻璃基材的金属污斑而有目的地专门生产。但是，还应该显而易见的是，某些弱酸，例如次氯酸，早已可从制造设备的其他来源中获得。例如，由于次氯酸抑制细菌生长的能力，因此其可以早已是例如用于空调冷却元件(如热交换机)的冷却水中的添加剂。此外，在制造设备中的可以利用经次氯酸处理的水的其他系统可以用作次氯酸供给源。次氯酸可以是从其他方法中回收并经过适当过滤的再循环水，这种再循环水可以如本文所述用作次氯酸来处理玻璃基材。因此，可以无需显著增加的成本来获得合适的次氯酸溶液的现成供给源。

图6为例示了在大约6个月的时间内，在玻璃制造设备中的玻璃基材上的铁沉积物的大致每日出现情况的图表。从图表的左边到垂直虚线84的时间段表示仅用碱性洗涤剂[例如帕克(Parker)225倍]进行洗涤的时间段。垂直轴表示每天检测到的缺陷(金属污斑)的数目。在斜切工位64开始用次氯酸洗涤，用线84表示。数据显示一旦开始次氯酸洗涤，沉积的铁显著减少。

从本公开中应显而易见的是，在任何合适的玻璃制品上——包括玻璃基材、由玻璃基材制成的玻璃制品(例如显示面板)以及可以得益于金属污斑去除的任何其他玻璃制品，可以使用弱酸溶液(例如次氯酸)进行处理。

本领域的技术人员显而易见的是，可以对本文公开的实施方式进行各种修改和变动而不偏离本公开的精神和范围。因此，本公开旨在涵盖这些实施方式的修改和变动，只要这些修改和变动在所附权利要求及其等同内容的范围之内。

Claims (13)

1.一种从玻璃制品中去除金属沉积物的方法，所述方法包括：

将玻璃制品暴露于浓度为0.5至1.0ppm的弱酸水性溶液中一定时间，所述一定时间有效地从玻璃制品表面中去除了金属沉积物。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，弱酸的离解常数K_a在约2.95x 10^-8至约7.5x 10^-3的范围内。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，弱酸选自次氯酸、硼酸和磷酸，或者它们的组合。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，金属沉积物包括铁、钙、钡、锌、钴、锰、锶和它们的组合或合金中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，金属沉积物包括铁。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中，弱酸包括次氯酸。

7.一种从玻璃片中去除金属沉积物的方法，所述方法包括：

将玻璃片暴露于含有浓度为0.5至1.0ppm的次氯酸的水性溶液中一定时间，所述一定时间有效地从玻璃片的表面中去除了金属沉积物。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，金属沉积物包括铁、钙、钡、锌、钴、锰、锶和它们的组合或合金中的至少一种。

9.根据权利要求7所述的方法，其中，将玻璃片暴露于次氯酸的时间等于或大于20秒。

10.根据权利要求7所述的方法，其中，将玻璃片暴露于次氯酸的时间在20秒至60秒的范围内。

11.根据权利要求7所述的方法，其中，暴露步骤包括将玻璃片的至少一个主要表面的整体暴露于次氯酸。

12.根据权利要求7所述的方法，还包括在将玻璃片暴露于次氯酸的步骤期间，对玻璃片的边缘进行研磨。

13.根据权利要求7至12中任一项所述的方法，其中，从冷却设备中提供次氯酸。