JP2008135790A - 洗浄方法および電子部品の洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】脱気処理した純水に酸素を溶解させて洗浄液を調製し、この洗浄液に超音波振動を付与して被洗浄物を洗浄することを特徴とする。
【選択図】なし
Description
前記洗浄液に超音波振動を付与して電子部品を洗浄する工程と
を含むことを特徴とするものである。
まず、純水中に含まれる気体を除去する。つづいて、この純水に酸素を溶解して洗浄液を調製する。
調製された洗浄液に超音波振動を付与して被洗浄物の表面を洗浄する。
まず、純水中に含まれる気体を除去した後、この純水に水の電解により生成した酸素をバブリングにより5ppmおよび8ppm溶解して洗浄液を調製した。また、シリコンウェハ表面に平均粒径1μmのポリスチレン系ラテックス粒子を分散塗布して強制的に汚染させた。
人口肺モジュール(SAFE II;ポリスタイン社製商品名)を構成する中空糸の内部に水の電解により生成した酸素を流通させると共に、前記モジュールの外表面に脱気した純水を流して、前記純水に酸素を溶解させて洗浄液を調製した。
まず、純水中に含まれる気体を除去した後、この純水に水の電解により生成した酸素を中空糸モジュールを用いたガス充填により20ppm溶解し、さらに塩酸および硫酸をそれぞれ2wt%、2wt%添加して洗浄液を調製した。また、シリコンウェハ表面に平均粒径2μmのCuO粒子を分散塗布して強制汚染(パーティクルのイニシャル値;1500個)させた。
脱気した純水に酸素をバブリングにより7ppm溶解させ、さらに水素を2ppm溶解させて洗浄液を調製した。つづいて、表面にCu膜が形成されたシリコンウェハを回転可能な円板上に保持し、かつ振動子を内蔵したノズル形超音波洗浄装置をその先端が前記ウェハ表面から10mm離れて位置するように配置し、前記ウェハを700rpmの速度で回転させながら、前記超音波洗浄装置から前記洗浄液を1.5MHzの超音波振動に乗せて前記ウェハ表面に噴射して5分間の洗浄を行った。
脱気した純水に窒素を3ppm溶解させて洗浄液を調製した。また、シリコンウェハ表面に平均粒径1μmのポリスチレン系ラテックス粒子を分散塗布して強制汚染(パーティクルのイニシャル値;1500個)させた。
純水に塩素、酸素および窒素をそれぞれ溶解した後、これらを電解装置を用いて電解を行って3種の洗浄液を調製した。塩素を溶解して電解することにより得られた洗浄液中には、次亜塩素酸イオンの生成が認められ、酸素を溶解して電解することにより得られた洗浄液中にはオゾンの生成が認められ、窒素を溶解して電解することにより得られた洗浄液中には硝酸と亜硝酸の生成が認められた。また、シリコンウェハ表面にFe微粒子と平均粒径1μmのポリスチレン系ラテックス粒子を分散塗布して強制的に汚染させた。
まず、純水中に含まれる気体を除去した後、この純水に水の電解により生成した水素をバブリングにより2ppm溶解して洗浄液を調製した。また、シリコンウェハ表面に平均粒径0.2μmのポリスチレン系ラテックス粒子を分散塗布して強制的に汚染(パーティクルのイニシャル値;20000個)させた。
まず、純水中に含まれる気体を除去した後、この純水に水の電解により生成した水素をバブリングにより2ppm溶解し、さらにテトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド(TMAH)をそれぞれ0.05mモル/L、0.1mモル/L、10mモル/L、100mモル/Lおよび1000mモル/L、コリンをそれぞれ0.05mモル/L、0.1mモル/L、10mモル、100mモル/Lおよび1000mモル/L、アンモニア(NH4OH)をそれぞれ0.05mモル/L、0.1mモル/L、10mモル/Lおよび100mモル/L添加して合計14種の洗浄液を調製した。また、シリコンウェハ表面に平均粒径1μmのSiO2粒子を分散塗布して強制的に汚染(パーティクルのイニシャル値;4600個)させた。
Claims (9)
- 脱気処理した純水に酸素を溶解させて洗浄液を調製し、この洗浄液に超音波振動を付与して被洗浄物を洗浄することを特徴とする洗浄方法。
- 前記脱気処理した純水への酸素の溶解は、バブリングによりなされることを特徴とする請求項1記載の洗浄方法。
- 前記脱気処理した純水への酸素の溶解は、前記純水と前記酸素との気液接触によりなされることを特徴とする請求項1記載の洗浄方法。
- 前記酸素は、水の電解によって生成されたものであることを特徴とする請求項1記載の洗浄方法。
- 前記酸素は、酸素ボンベから供給されるものであることを特徴とする請求項1記載の洗浄方法。
- 前記洗浄液は、前記酸素の溶解前後にさらに酸が添加されてpH調整されることを特徴とする請求項1記載の洗浄方法。
- 脱気処理した純水に酸素および水素を溶解させて洗浄液を調製し、この洗浄液に超音波振動を付与して被洗浄物を洗浄することを特徴とする洗浄方法。
- 脱気処理した純水に酸素、窒素、水素および塩素から選ばれる少なくとも1種の気体を溶解して洗浄液を調製する工程と、
前記洗浄液に超音波振動を付与して電子部品を洗浄する工程と
を含むことを特徴とする電子部品の洗浄方法。 - 前記電子部品は、半導体装置または液晶表示装置であることを特徴とする請求項8記載の電子部品の洗浄方法。
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