CN107721187A - Tft玻璃表面处理液及tft玻璃表面处理方法 - Google Patents

Tft玻璃表面处理液及tft玻璃表面处理方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种TFT玻璃表面处理液及TFT玻璃表面处理方法。一种TFT玻璃表面处理液溶剂包括水，溶质包括强碱、阴离子表面活性剂及助剂；强碱选自氢氧化钠和氢氧化钾中的至少一种，强碱的质量百分含量为5％～15％；阴离子表面活性剂选自十二烷基磺酸钠、十二烷基苯磺酸钠、脂肪醇醚硫酸钠和脂肪酸甲酯乙氧基化物磺酸盐中的至少一种，阴离子表面活性剂的质量百分含量为0.5％～5％；助剂选自硅酸钠、三聚磷酸钠和乙二胺四乙酸二钠中的至少一种，助剂的质量百分含量为0.1％～1％。上述TFT玻璃表面处理液及TFT玻璃表面处理方法，能够提高其表面清水性能，利用强碱对TFT玻璃表面的腐蚀作用生成表面微孔结构，可不经过机械抛光处理而进行镀膜，避免了玻璃破裂片率及碎亮点发生率高的问题。

Description

TFT玻璃表面处理液及TFT玻璃表面处理方法
技术领域
本发明涉及TFT玻璃镀膜技术领域，特别是涉及TFT玻璃表面处理液及TFT玻璃表面处理方法。
背景技术
由于氧化铟锡抗酸腐蚀性能差，膜层附着力低，传统TFT玻璃进行ITO镀膜前必须对玻璃表面进行机械抛光处理，以去除玻璃表面的疏水层及其它酸性物质，提高膜层的附着力。随着行业的发展，TFT显示屏越来越朝着超薄和高清方向发展，目前已开发到双面0.2mm厚度，机械抛光带来的破裂片和碎亮点风险也越来越高。随着液晶TFT行业超薄和超清的发展趋势，较低的破裂片率和碎亮点发生率成为各家薄化厂的核心竞争力，机械抛光处理已不能满足TFT显示屏的要求，开发出一种减薄TFT玻璃的表面处理方法已成为当务之急。
发明内容
基于此，有必要针对机械抛光易造成TFT玻璃破裂片率及碎亮点发生率高的问题，提供一种TFT玻璃表面处理液及TFT玻璃表面处理方法。
一种TFT玻璃表面处理液，包括溶剂及溶质，所述溶剂包括水，所述溶质包括强碱、阴离子表面活性剂及助剂；
其中，所述强碱选自氢氧化钠和氢氧化钾中的至少一种，所述TFT玻璃表面处理液中所述强碱的质量百分含量为5％～15％；
所述阴离子表面活性剂选自十二烷基磺酸钠、十二烷基苯磺酸钠、脂肪醇醚硫酸钠和脂肪酸甲酯乙氧基化物磺酸盐中的至少一种，所述TFT玻璃表面处理液中所述阴离子表面活性剂的质量百分含量为0.5％～5％；
所述助剂选自硅酸钠、三聚磷酸钠和乙二胺四乙酸二钠中的至少一种，所述TFT玻璃表面处理液中所述助剂的质量百分含量为0.1％～1％。
在其中一个实施方式中，所述TFT玻璃表面处理液中所述强碱的质量百分含量为8％～12％。
在其中一个实施方式中，所述TFT玻璃表面处理液中所述阴离子表面活性剂的质量百分含量为3％～5％。
在其中一个实施方式中，所述TFT玻璃表面处理液中所述助剂的质量百分含量为0.5％～0.8％。
一种TFT玻璃的表面处理方法，包括以下步骤：
采用TFT玻璃表面处理液对TFT玻璃进行表面处理；及
对所述TFT玻璃进行水洗并干燥；
其中，所述TFT玻璃表面处理液包括溶剂及溶质，所述溶剂包括水，所述溶质包括强碱、阴离子表面活性剂及助剂；
所述强碱选自氢氧化钠和氢氧化钾中的至少一种，所述TFT玻璃表面处理液中所述强碱的质量百分含量为5％～15％；
所述阴离子表面活性剂选自十二烷基磺酸钠、十二烷基苯磺酸钠、脂肪醇醚硫酸钠和脂肪酸甲酯乙氧基化物磺酸盐中的至少一种，所述TFT玻璃表面处理液中所述阴离子表面活性剂的质量百分含量为0.5％～5％；
所述助剂选自硅酸钠、三聚磷酸钠和乙二胺四乙酸二钠中的至少一种，所述TFT玻璃表面处理液中所述助剂的质量百分含量为0.1％～1％。
在其中一个实施方式中，所述采用TFT玻璃表面处理液对TFT玻璃进行表面处理的步骤前还包括步骤：对所述TFT玻璃进行点胶固化及刻蚀减薄；及，对所述TFT玻璃进行清洗处理。
在其中一个实施方式中，所述采用TFT玻璃表面处理液对TFT玻璃进行表面处理的步骤前还包括制备所述TFT玻璃表面处理液的步骤：
按质量分数计，将5％～15％的强碱、0.5％～5％的阴离子表面活性剂、0.1％～1％的助剂混合，并加水至质量分数为100％，加热至温度为35℃～55℃后鼓泡搅拌10min～30min至混合均匀。
在其中一个实施方式中，所述鼓泡搅拌时采用压缩空气进行鼓泡，所述鼓泡流量为50L/min～800L/min，压力为0.2MPa～1.6MPa，温度为25℃～55℃。
在其中一个实施方式中，将所述TFT玻璃浸渍于所述TFT玻璃表面处理液中进行表面处理；所述TFT玻璃表面处理液的温度为35℃～55℃，进行所述表面处理的时间为5min～30min。
上述TFT玻璃表面处理液及TFT玻璃表面处理方法，使用强碱、阴离子表面活性剂和助剂进行配合，并且按照一定的配比进行配合，在对TFT玻璃表面进行处理时，能够改变TFT玻璃表面的特性，提高其表面清水性能，同时利用强碱对TFT玻璃表面的腐蚀作用生成表面微孔结构，使得TFT玻璃可以不经过机械抛光处理而直接进行镀膜工序，避免了在处理减薄TFT玻璃时造成的玻璃破裂片率及碎亮点发生率高的问题。
附图说明
图1为一实施方式的TFT玻璃表面处理方法的工艺流程图。
具体实施方式
下面将结合具体实施方式及附图对TFT玻璃表面处理液及TFT玻璃表面处理方法做进一步的详细说明。
一实施方式的TFT玻璃表面处理液，包括溶剂及溶质，溶剂包括水，溶质包括强碱、阴离子表面活性剂及助剂。
在其中一个实施方式中，强碱选自氢氧化钠和氢氧化钾中的至少一种。TFT玻璃表面处理液中所述强碱的质量百分含量为5％～15％。在其中一个实施方式中，强碱以固体颗粒的形式与阴离子表面活性剂和助剂混合后再加入水中分散。在其他实施方式中，也可以先将强碱在水中分散得到强碱水溶液，再将强碱水溶液与其他组分混合。
在其中一个实施方式中，阴离子表面活性剂选自十二烷基磺酸钠、十二烷基苯磺酸钠、脂肪醇醚硫酸钠和脂肪酸甲酯乙氧基化物磺酸盐中的至少一种。TFT玻璃表面处理液中所述阴离子表面活性剂的质量百分含量为0.5％～5％。
在其中一个实施方式中，助剂选自硅酸钠、三聚磷酸钠和乙二胺四乙酸二钠中的至少一种。TFT玻璃表面处理液中所述助剂的质量百分含量为0.1％～1％。
在其中一个实施方式中，TFT玻璃表面处理液中强碱的质量百分含量为8％～12％。TFT玻璃表面处理液中阴离子表面活性剂的质量百分含量为3％～5％。TFT玻璃表面处理液中助剂的质量百分含量为0.5％～0.8％。
上述TFT玻璃表面处理液，使用强碱、阴离子表面活性剂和助剂进行配合，并且按照一定的配比进行配合，在对TFT玻璃表面进行处理时，能够改变TFT玻璃表面的特性，提高其表面清水性能，同时利用强碱对TFT玻璃表面的腐蚀作用生成表面微孔结构，使得TFT玻璃可以不经过机械抛光处理而直接进行镀膜工序，避免了在处理减薄TFT玻璃时造成的玻璃破裂片率及碎亮点发生率高的问题。
请参阅图1，一实施方式的TFT玻璃表面处理方法，包括以下步骤：
S110、对TFT玻璃进行点胶固化及刻蚀减薄。
在其中一个实施方式中，对TFT玻璃进行点胶固化主要采用UV胶对TFT玻璃进行封边固化。
在其中一个实施方式中，点胶固化的温度为20℃～50℃；点胶固化的时间为5min～30min。
在其中一个实施方式中，采用刻蚀液对TFT玻璃进行刻蚀减薄。具体的，将TFT玻璃浸渍在刻蚀液中。
在其中一个实施方式中，刻蚀液按质量分数计包括8％～16％的氢氟酸，0～5％的硫酸及0～3％的盐酸，并加水至质量分数为100％。
S120、对TFT玻璃进行清洗处理。
在其中一个实施方式中，采用对TFT玻璃进行水洗，以除去TFT玻璃表面的粉尘。对TFT玻璃进行水洗可以采用浸渍在水中或采用水对TFT玻璃进行喷淋的方式进行。
S130、制备得到TFT玻璃表面处理液。
在其中一个实施方式中，按质量分数计，称取5％～15％的强碱、0.5％～5％的阴离子表面活性剂、0.1％～1％的助剂，并加水至质量分数为100％混合均匀。
在其中一个实施方式中，强碱选自氢氧化钠和氢氧化钾中的至少一种。
在其中一个实施方式中，阴离子表面活性剂选自十二烷基磺酸钠、十二烷基苯磺酸钠、脂肪醇醚硫酸钠和脂肪酸甲酯乙氧基化物磺酸盐中的至少一种。
在其中一个实施方式中，助剂选自硅酸钠、三聚磷酸钠和乙二胺四乙酸二钠中的至少一种。
在其中一个实施方式中，将上述组分混合后加热至35℃～55℃后鼓泡搅拌10min～30min至混合均匀。
在其中一个实施方式中，鼓泡搅拌时采用保护性气体进行鼓泡，保护性气体选自二氧化碳、氮气、氩气和氦气中的至少一种。
在其中一个实施方式中，鼓泡搅拌时鼓泡流量为50L/min～800L/min，压力为0.2MPa～1.6MPa，温度为25℃～55℃。
S140、采用TFT玻璃表面处理液对TFT玻璃进行表面处理。
在其中一个实施方式中，将TFT玻璃浸渍与步骤S130中制备得到的TFT玻璃表面处理液中进行表面处理。
在其中一个实施方式中，TFT玻璃表面处理液的温度为35℃～55℃，进行表面处理的时间为5min～30min。
S150、对经过表面处理的TFT玻璃进行清洗处理。
在其中一个实施方式中，对经过表面处理的TFT玻璃进行水洗。对经过表面处理的TFT玻璃进行水洗可以采用浸渍在水中或采用喷淋的方式进行。
在其中一个实施方式中，对经过表面处理的TFT玻璃进行清洗处理是在清洗机中进行。
上述TFT玻璃表面处理方法，使用强碱、阴离子表面活性剂和助剂进行配合，并且按照一定的配比进行配合，在对TFT玻璃表面进行处理时，能够改变TFT玻璃表面的特性，提高其表面清水性能，同时利用强碱对TFT玻璃表面的腐蚀作用生成表面微孔结构，使得TFT玻璃可以不经过机械抛光处理而直接进行镀膜工序，避免了在处理减薄TFT玻璃时造成的玻璃破裂片率及碎亮点发生率高的问题。
需要说明的是，在其他实施方式中，步骤S110、步骤S120及步骤S130也可以省略。
下面为具体实施例的说明，以下实施例如无特殊说明，则不含有除不可避免的杂质以外的其他未明确指出的组分。
实施例1
对TFT玻璃进行点胶固化剂刻蚀减薄处理，经过刻蚀减薄处理后TFT玻璃的厚度为0.4mm，再采用喷淋的方式对TFT玻璃进行水洗至TFT玻璃表面光洁无粉尘。将TFT玻璃浸渍在55℃的TFT玻璃表面处理液中，进行表面处理5min。其中，TFT玻璃表面处理液按质量分数计包括15％的氢氧化钠、0.5％的阴离子表面活性剂十二烷基磺酸钠、0.1％的助剂硅酸钠及余量的水。再采用喷淋的方式对经过TFT玻璃表面处理液处理后的TFT玻璃进行水洗。
实施例2
对TFT玻璃进行点胶固化剂刻蚀减薄处理，经过刻蚀减薄处理后TFT玻璃的厚度为0.36mm，再采用喷淋的方式对TFT玻璃进行水洗至TFT玻璃表面光洁无粉尘。将TFT玻璃浸渍在45℃的TFT玻璃表面处理液中，进行表面处理15min。其中，TFT玻璃表面处理液按质量分数计包括12％的氢氧化钾、3％的阴离子表面活性剂脂肪醇醚硫酸钠、0.5％的助剂乙二胺四乙酸二钠及余量的水。再采用喷淋的方式对经过TFT玻璃表面处理液处理后的TFT玻璃进行水洗。
实施例3
对TFT玻璃进行点胶固化剂刻蚀减薄处理，经过刻蚀减薄处理后TFT玻璃的厚度为0.3mm，再采用喷淋的方式对TFT玻璃进行水洗至TFT玻璃表面光洁无粉尘。将TFT玻璃浸渍在35℃的TFT玻璃表面处理液中，进行表面处理30min。其中，TFT玻璃表面处理液按质量分数计包括5％的氢氧化钠、5％的阴离子表面活性剂十二烷基苯磺酸钠、1％的助剂三聚磷酸钠及余量的水。再采用喷淋的方式对经过TFT玻璃表面处理液处理后的TFT玻璃进行水洗。
实施例4
对TFT玻璃进行点胶固化剂刻蚀减薄处理，经过刻蚀减薄处理后TFT玻璃的厚度为0.2mm，再采用喷淋的方式对TFT玻璃进行水洗至TFT玻璃表面光洁无粉尘。将TFT玻璃浸渍在50℃的TFT玻璃表面处理液中，进行表面处理8min。其中，TFT玻璃表面处理液按质量分数计包括8％的氢氧化钠、3％的阴离子表面活性剂脂肪酸甲酯乙氧基化物磺酸盐、0.8％的助剂硅酸钠及余量的水。再采用喷淋的方式对经过TFT玻璃表面处理液处理后的TFT玻璃进行水洗。
实施例5
对TFT玻璃进行点胶固化剂刻蚀减薄处理，经过刻蚀减薄处理后TFT玻璃的厚度为0.3mm，再采用喷淋的方式对TFT玻璃进行水洗至TFT玻璃表面光洁无粉尘。采用机械抛光的方式对TFT玻璃进行抛光处理。再采用喷淋的方式对经过抛光处理后的TFT玻璃进行水洗。
实施例6
对TFT玻璃进行点胶固化剂刻蚀减薄处理，经过刻蚀减薄处理后TFT玻璃的厚度为0.3mm，再采用喷淋的方式对TFT玻璃进行水洗至TFT玻璃表面光洁无粉尘。将TFT玻璃浸渍在55℃的TFT玻璃表面处理液中，进行表面处理5min。其中，TFT玻璃表面处理液按质量分数计包括15％的氢氧化钠及余量的水。再采用喷淋的方式对经过TFT玻璃表面处理液处理后的TFT玻璃进行水洗。
对实施例1～6的方法制备得到的TFT玻璃的玻璃破裂片率、碎亮点发生率及ITO膜在实施例1～6制备得到的玻璃表面的附着力进行测试结果如表1所示。
其中，ITO膜的附着力测试方法：在3M胶带贴附在膜层表面并迅速撕下，膜层无损伤；或连撕三次后，ITO层方块电阻变化值不超过10％。
表1
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (9)

1.一种TFT玻璃表面处理液，其特征在于，包括溶剂及溶质，所述溶剂包括水，所述溶质包括强碱、阴离子表面活性剂及助剂；
其中，所述强碱选自氢氧化钠和氢氧化钾中的至少一种，所述TFT玻璃表面处理液中所述强碱的质量百分含量为5％～15％；
所述阴离子表面活性剂选自十二烷基磺酸钠、十二烷基苯磺酸钠、脂肪醇醚硫酸钠和脂肪酸甲酯乙氧基化物磺酸盐中的至少一种，所述TFT玻璃表面处理液中所述阴离子表面活性剂的质量百分含量为0.5％～5％；
所述助剂选自硅酸钠、三聚磷酸钠和乙二胺四乙酸二钠中的至少一种，所述TFT玻璃表面处理液中所述助剂的质量百分含量为0.1％～1％。
2.根据权利要求1所述的TFT玻璃表面处理液，其特征在于，所述TFT玻璃表面处理液中所述强碱的质量百分含量为8％～12％。
3.根据权利要求1所述的TFT玻璃表面处理液，其特征在于，所述TFT玻璃表面处理液中所述阴离子表面活性剂的质量百分含量为3％～5％。
4.根据权利要求1所述的TFT玻璃表面处理液，其特征在于，所述TFT玻璃表面处理液中所述助剂的质量百分含量为0.5％～0.8％。
5.一种TFT玻璃的表面处理方法，其特征在于，包括以下步骤：
采用TFT玻璃表面处理液对TFT玻璃进行表面处理；及
对所述TFT玻璃进行水洗并干燥；
其中，所述TFT玻璃表面处理液包括溶剂及溶质，所述溶剂包括水，所述溶质包括强碱、阴离子表面活性剂及助剂；
所述强碱选自氢氧化钠和氢氧化钾中的至少一种，所述TFT玻璃表面处理液中所述强碱的质量百分含量为5％～15％；
所述阴离子表面活性剂选自十二烷基磺酸钠、十二烷基苯磺酸钠、脂肪醇醚硫酸钠和脂肪酸甲酯乙氧基化物磺酸盐中的至少一种，所述TFT玻璃表面处理液中所述阴离子表面活性剂的质量百分含量为0.5％～5％；
所述助剂选自硅酸钠、三聚磷酸钠和乙二胺四乙酸二钠中的至少一种，所述TFT玻璃表面处理液中所述助剂的质量百分含量为0.1％～1％。
6.根据权利要求5所述的TFT玻璃表面处理方法，其特征在于，所述采用TFT玻璃表面处理液对TFT玻璃进行表面处理的步骤前还包括步骤：对所述TFT玻璃进行点胶固化及刻蚀减薄；及，对所述TFT玻璃进行清洗处理。
7.根据权利要求5所述的TFT玻璃表面处理方法，其特征在于，所述采用TFT玻璃表面处理液对TFT玻璃进行表面处理的步骤前还包括制备所述TFT玻璃表面处理液的步骤：
按质量分数计，将5％～15％的强碱、0.5％～5％的阴离子表面活性剂、0.1％～1％的助剂混合，并加水至质量分数为100％，加热至温度为35℃～55℃后鼓泡搅拌10min～30min至混合均匀。
8.根据权利要求7所述的TFT玻璃表面处理方法，其特征在于，所述鼓泡搅拌时采用压缩空气进行鼓泡，所述鼓泡流量为50L/min～800L/min，压力为0.2MPa～1.6MPa，温度为25℃～55℃。
9.根据权利要求5所述的TFT玻璃表面处理方法，其特征在于，将所述TFT玻璃浸渍于所述TFT玻璃表面处理液中进行表面处理；所述TFT玻璃表面处理液的温度为35℃～55℃，进行所述表面处理的时间为5min～30min。
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