CN107709261B - 玻璃板的制造方法及其制造装置 - Google Patents

Abstract

在使具有供气口(20)以及排气口(24)的下部结构体(10)的上表面与上部结构体(9)的下表面对置配置而形成于对置的所述上表面与所述下表面这两面彼此之间的处理空间(12)内，利用从供气口(20)喷出并被排气口(24)吸入的处理气体(5)来对沿着水平方向搬运的玻璃板(3)的下表面(3a)实施蚀刻处理，此时，在处理空间(12)内，供气口(20)所位于的区域的高度高于排气口(24)所位于的区域的高度。

Description

玻璃板的制造方法及其制造装置

技术领域

本发明涉及具有使用氟化氢等处理气体来对玻璃板实施蚀刻处理的工序的玻璃板的制造方法及其制造装置。

背景技术

众所周知，在平板显示器(FPD)、智能手机、平板型PC等移动设备、其他的各种电子器件等中组装有各种板厚、尺寸的玻璃板，其中，平板显示器以液晶显示器、等离子显示器、有机EL显示器、场发射显示器等为代表。

在用于对作为这种最终产品的玻璃板进行制作的基础的玻璃板的制造工序中，可能产生因带静电而引起的问题。例如，在作业台上载置玻璃板而实施规定的处理时，可能产生因带静电而引起玻璃板贴附于作业面的状况。因此，在将完成规定的处理的玻璃板从作业台剥离时，可能导致该玻璃板的破损。

作为上述问题的对策，正在推进如下的尝试：将氟化氢等处理气体喷涂于玻璃板而实施蚀刻处理，使该玻璃板的表面粗糙化，由此来解决上述的因带静电而引起的问题。

作为该具体例，专利文献1公开了如下的方案：在沿着一定的搬运路径搬运的玻璃板通过处理空间时，利用从喷嘴喷出并被吸嘴吸入的处理气体来对该玻璃板的下表面实施蚀刻处理。

详细地说，在该文献公开的蚀刻装置中，在上部结构体(上侧的结构部)的下表面与下部结构体(下侧的结构部)的上表面彼此之间形成有用于对搬运中的玻璃板的下表面实施蚀刻处理的处理空间。在该情况下，上部结构体仅由顶板形成。另一方面，下部结构体通过将配置于玻璃板的搬运方向后侧(搬运路径的上游侧)的喷嘴、配置于玻璃板的搬运方向前侧(搬运路径的下游侧)的吸嘴、以及夹设于该两个喷嘴间的底板一体化而形成。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2011/105331号

发明内容

发明要解决的课题

然而，专利文献1所公开的蚀刻装置中，作为下部结构体的喷嘴、底板以及吸嘴的各上表面成为共面状态，该各上表面与顶板的下表面平行地排列。因此，形成于下部结构体的上表面与顶板的下表面之间的处理空间的上下方向尺寸在玻璃板的搬运方向全长范围内是均匀的。而且，由于顶板的下表面是单一的平面，因此，处理空间的高度在玻璃板的搬运方向全长范围内是相同的。

根据该蚀刻装置，在玻璃板未进入到下部结构体的上表面与顶板的下表面之间的空间、详细而言是从喷嘴的配置区域到吸嘴的配置区域的处理空间的情况下，成为在处理空间内充满了处理气体的状态。在该状态下玻璃板进入到处理空间的情况下，处理空间被玻璃板分隔为上侧的空间和下侧的空间，但对于上侧的空间，无法由吸嘴进行对处理气体的吸引。因此，玻璃板的搬运方向前端部的上表面被之前已经充满的处理气体蚀刻，但该处理气体得不到补充。

在该情况下，当处理空间的高度如已述那样形成时，该处理气体成为无法在上侧的空间存留适当的量的状态，因此，在与玻璃板反应的同时在短时间内减少。然后，在玻璃板从处理空间出来的过程中，该处理气体变得完全不存在，因此，玻璃板的搬运方向中央部不会被该处理气体适当地蚀刻。然后，在玻璃板从处理空间出来时，喷涂于玻璃板的下表面的处理气体从玻璃板的搬运方向后端绕到上侧的空间。因此，玻璃板的搬运方向后端部的上表面被处理气体蚀刻，但该处理气体不会流动至玻璃板的搬运方向中央部。

如以上那样，在玻璃板从进入处理空间起到出来为止的过程中，玻璃板的上表面的搬运方向前端部首先被蚀刻，搬运方向中央部几乎不被蚀刻，然后搬运方向后端部被蚀刻。需要说明的是，即便在玻璃板的与搬运方向正交的宽度方向两端部，虽然处理气体绕到玻璃板的上表面侧，但该处理气体也不会流动至玻璃板的宽度方向中央部。

因此，玻璃板的上表面在外周部与中央部处蚀刻产生偏差，难以实现蚀刻处理后的玻璃板的高品质化。

根据以上的观点，本发明的课题在于，在处理空间内搬运玻璃板的同时对其下表面实施蚀刻处理之际，对玻璃板的上表面也能够在外周部与中央部实施均匀的蚀刻处理，实现蚀刻处理后的玻璃板的高品质化。

用于解决课题的方案

为了解决上述课题而创造的本发明是一种玻璃板的制造方法，其在使具有供气口以及排气口的下部结构体的上表面与上部结构体的下表面对置配置而形成于对置的所述上表面与所述下表面这两面彼此之间的处理空间内，利用从供气口喷出并向排气口吸入的处理气体来对沿着水平方向搬运的玻璃板的下表面实施蚀刻处理，并且使供气口与排气口在玻璃板的搬运方向上位于分离开的位置，该玻璃板的制造方法的特征在于，在处理空间内，使供气口所位于的区域的高度高于排气口所位于的区域的高度。在此，“沿着水平方向搬运的玻璃板”不仅包括玻璃板沿着非倾斜方向即水平方向搬运的情况，还包括玻璃板沿着相对于水平面以上下30°以下的角度倾斜的方向搬运的情况(以下相同)。另外，这些情况下的玻璃板的姿态不仅包括玻璃板相对于搬运方向的两侧方成为非倾斜状态的姿态，还包括玻璃板从搬运方向的一侧方相对于另一侧方以30°以下的角度成为倾斜状态的姿态(以下相同)。

根据这样的结构，在玻璃板未进入处理空间(详细而言，从供气口所位于的区域到排气口所位于的区域为止的空间)的情况下，从供气口朝向上方喷出的处理气体充满处理空间的整个区域并到达排气口。在该状态下，在玻璃板进入到处理空间内而处理空间由玻璃板分隔为上侧的空间和下侧的空间的情况下，之前已经充满了上侧的空间的处理气体能够成为依然充分存留在上侧的空间的状态。即，由于在处理空间内，供气口所位于的区域的高度高于排气口所位于的区域的高度，因此，在处理空间的上侧的空间内的高度较高的区域能够预先存留足够量的处理气体。此外，由于存留于高度较高的区域的处理气体被高度较低的区域阻止了向外侧的流动，因此，处理气体的减量得以抑制，由此也能够维持在上侧的空间存留有足够量的处理气体的状态。因此，即便在玻璃板从处理空间出来的过程中，处理气体也与玻璃板的上表面反应且残留有适当的量，玻璃板的上表面中的搬运方向中央部被适当地蚀刻。而且，根据这样的方式，直至玻璃板从处理空间完全脱离为止，都能够利用存留于上侧的空间的处理气体来对玻璃板的上表面适当地进行蚀刻。因此，在从玻璃板进入处理空间之后到脱离为止的期间，不仅在玻璃板的上表面中的包括搬运方向前端部以及后端部在内的外周部，在中央部也能够实施适当的蚀刻处理。其结果是，能够在玻璃板的上表面整个区域实现蚀刻处理的均匀化，与玻璃板的下表面原本受到适当且均匀的蚀刻处理这一情况相辅相成地，实现蚀刻处理后的玻璃板的高品质化。

在上述的方法中优选的是，供气口位于比排气口靠玻璃板的搬运方向后侧的位置。

这样，能够以更加高的概率享有上述效果。

在以上的方法中优选的是，上部结构体的下表面具备在供气口所位于的区域与排气口所位于的区域之间具有高低差的两个平面部，在这两个平面部中，与前者的区域对应的平面部形成在比与后者的区域对应的平面部高的位置。

这样，在处理空间内存在于玻璃板的上侧的空间的处理气体的存留量变得充分，此外，两个平面部的台阶部成为流通阻力而能够阻止处理气体向外侧的流动。因此，成为在处理空间的上侧的空间中处理气体更加容易充分存留的状态。因此，在处理空间的上侧的空间中，能够使基于处理气体对玻璃板的上表面整个区域的蚀刻处理更加均匀化。

在以上的方法中优选的是，下部结构体的上表面具备在供气口所位于的区域与排气口所位于的区域之间不具有高低差的一个平面部。

这样，无需对下部结构体的构造施加大幅度的改良、特殊设计，并且，通过与上述的上部结构体的下表面具备具有高低差的两个平面部这一技术思想的组合，使处理空间的形态适宜且具有意义。

在以上的方法中优选的是，供气口所位于的区域的高度与排气口所位于的区域的高度之差为5～100mm。

这样，在处理空间内存在于玻璃板的上侧的空间的处理气体不会被不当地减量而能够维持为可靠地存留有适当的量的状态。即，当上述的高低差小于5mm时，处理气体的存留量不足且无法充分地阻止处理气体向处理空间外侧的流动，有可能无法适度地对玻璃板的中央部进行蚀刻。另一方面，当上述的高低差超过100mm时，相对于处理气体的量而言，较高的一方的区域过于宽，处理气体的分布状态变得零散，因此，可能给均匀的蚀刻处理带来障碍。因此，该情况下的高低差优选处于上述的数值范围内。

在以上的方法中也可以是，在上部结构体的下表面形成有第二供气口，该第二供气口为了对沿着水平方向搬运的玻璃板的上表面实施蚀刻处理而喷出处理气体。

这样，利用从第二供气口朝向下方喷出的处理气体，玻璃板的上表面能够在整个面受到均匀且充分的蚀刻处理。即，在未形成第二供气口的情况下，即便能够实现蚀刻处理的均匀化，也只不过是残留的少量的处理气体与玻璃板的上表面接触而发生反应。然而，若从第二供气口朝向玻璃板的上表面喷涂处理气体，则玻璃板的上表面与足够量的处理气体发生反应，因此，不容易产生蚀刻不足等不良情况。需要说明的是，若从第二供气口喷出的处理气体被向已述的排气口吸入，则该排气口被共用，从而实现部件个数的削减、结构的简化。该情况下的处理气体向排气口的吸入也能够通过玻璃板的宽度方向(与搬运方向正交的方向)的两端部来进行。

在以上的方法中也可以是，上部结构体具有顶板，在顶板的下表面与下部结构体的上表面彼此之间形成处理空间。

这样，有效地利用了以往使用的已有的装置的构成要素(参照已述的专利文献1)即顶板。

在该情况下优选的是，上述的顶板被分割为玻璃板的搬运方向前侧的前侧顶板和搬运方向后侧的后侧顶板，在前侧顶板的下表面与后侧顶板的下表面之间设置高低差。

这样，仅通过将已有的顶板分割为前侧顶板和后侧顶板，在这两者间设置高低差而安装为一体，就能够形成所希望的形态的处理空间，因此，能够实现结构的简化等。

此外，在该情况下，也可以使第二供气口位于前侧顶板与后侧顶板的分割部，该第二供气口为了对沿着水平方向搬运的玻璃板的上表面实施蚀刻处理而喷出处理气体。

这样，作为第二供气口的配设位置而有效地利用了前侧顶板与后侧顶板的分割部，从而实现了部件个数的削减、安装作业的容易化等。

在以上的方法中优选的是，使第二供气口位于玻璃板的搬运方向上的供气口与排气口之间。

这样，能够使从供气口喷出而朝向排气口的处理气体的流动方向与从第二供气口喷出而朝向排气口的处理气体的流动方向成为相同的方向。由此，不容易产生处理气体的紊流等，在对玻璃板的上表面以及下表面的整个面实施均匀的蚀刻处理的方面是有利的。

为了解决上述课题而创造的本发明的装置是玻璃板的制造装置，其在使具有供气口以及排气口的下部结构体的上表面与上部结构体的下表面对置配置而形成于对置的所述上表面与所述下表面这两面彼此之间的处理空间内，利用从供气口喷出并到达排气口的处理气体来对沿着水平方向搬运的玻璃板的下表面实施蚀刻处理，并且使供气口与排气口在玻璃板的搬运方向上位于分离开的位置，该玻璃板的制造装置的特征在于，在处理空间内，供气口所位于的区域的高度高于排气口所位于的区域的高度。

该玻璃板的制造装置具备与已述的本发明的玻璃板的制造方法实质上相同的构成要件。因此，针对该装置的说明事项也与针对已述的方法的说明事项实质上相同，因此，在此省略其说明。

发明效果

根据本发明，在处理空间内搬运玻璃板的同时对其下表面实施蚀刻处理之际，也对玻璃板的上表面的外周部和中央部实施均匀的蚀刻处理，从而实现蚀刻处理后的玻璃板的高品质化。

附图说明

图1是示出本发明的第一实施方式的玻璃板的制造装置的整体概要结构的纵剖主视图。

图2是示出本发明的第一实施方式的玻璃板的制造装置的主要部分结构的放大纵剖主视图。

图3是示出作为本发明的第一实施方式的玻璃板的制造装置的构成要素的供气结构及其周边的放大纵剖侧视图。

图4是示出作为本发明的第一实施方式的玻璃板的制造装置的构成要素的供气口的周边构造的主要部分放大纵剖主视图。

图5是示出本发明的第一实施方式的玻璃板的制造装置的作用的主要部分放大纵剖主视图。

图6是示出本发明的第一实施方式的玻璃板的制造装置的作用的主要部分放大纵剖主视图。

图7是示出本发明的第二实施方式的玻璃板的制造装置的主要部分结构的放大纵剖主视图。

图8是示出本发明的第二实施方式的玻璃板的制造装置的作用的主要部分放大纵剖主视图。

图9是示出本发明的第二实施方式的玻璃板的制造装置的作用的主要部分放大纵剖主视图。

具体实施方式

以下，参照附图来说明本发明的实施方式的玻璃板的制造方法及其制造装置。

<第一实施方式>

首先，说明本发明的第一实施方式的玻璃板的制造装置的整体概要结构。图1是示出其整体概要结构的纵剖主视图。需要说明的是，在以下的说明中，将图1中的与纸面正交的方向称为宽度方向。如该图所示，玻璃板的制造装置1构成为，在将从搬入口2a搬入到腔室2内的玻璃板3沿着水平方向搬运的同时，在腔室2内的设置于玻璃板3的搬运路径上的处理区域4，利用作为处理气体5的氟化氢来实施蚀刻处理。然后，蚀刻处理后的玻璃板3从搬出口2b向腔室2外搬出。另外，该玻璃板的制造装置1构成为，利用配置于腔室2内外的多个辊6沿着在水平方向上呈一直线状延伸的搬运路径而搬运玻璃板3。需要说明的是，辊6不仅在沿着搬运路径的方向上配置有多个，还在宽度方向上配置有多个(参照图3)。

腔室2的外形形成为在宽度方向上为长条的长方体状，防止来自其内部空间的处理气体5的流出。而且，在该腔室2的侧壁部2c形成有已述的搬入口2a和搬出口2b。需要说明的是，腔室2的材质为对处理气体5(氟化氢)的耐腐蚀性优异的聚氯乙烯。

在处理区域4配置有蚀刻装置7，该蚀刻装置7用于通过对由设置在腔室2内的多个辊6搬运的玻璃板3喷涂处理气体5而实施蚀刻处理。该蚀刻装置7以与腔室2的顶棚壁2d之间形成间隙8的方式设置于腔室2的底部2e。

图2是用于详细说明蚀刻装置7的结构的放大纵剖主视图。需要说明的是，在以下的说明中，将图2中的与纸面正交的方向称为宽度方向。另外，图2所示的箭头A方向是玻璃板3的搬运方向，将该箭头A方向仅称为搬运方向。因此，图2中的左侧是搬运方向前侧(搬运路径的下游侧)，右侧是搬运方向后侧(搬运路径的上游侧)。

如图2所示，蚀刻装置7具有配置于上侧的上部结构体9和配置于下侧的下部结构体10，这两个结构体9、10在宽度方向的两端被连结壁11连结而形成为一体。而且，在上部结构体9的下表面与下部结构体10的上表面彼此之间，形成有用于对所搬运的玻璃板3的下表面实施基于处理气体5的蚀刻处理的处理空间12。需要说明的是，上部结构体9以及下部结构体10的材质为聚氯乙烯。

下部结构体10包括上表面为单一的平面的底板13、垂下固定于底板13的搬运方向后部的供气结构14、以及垂下固定于底板13的搬运方向前部的排气结构15。在底板13的搬运方向后部形成有通向处理空间12的供气孔16，并且，在供气结构14形成有通向供气孔16的供气路17。因此，用于将处理气体5导向上方并将其向处理空间12喷出的供气用通路18包括供气孔16和供气路17。而且，该供气用通路18的上端开口部成为形成于底板13的上表面19的供气口20。需要说明的是，供气孔16具有收缩上部而减小了通路面积的供气小孔部16a，该供气小孔部16a的上端为已述的供气口20。

在底板13的搬运方向前部形成有通向处理空间12的排气孔21，并且，在排气结构15形成有通向排气孔21的排气路22。因此，用于将处理气体5从处理空间12向下方吸入而回收的回收用通路23包括排气孔21和排气路22。而且，该回收用通路23的上端开口部成为形成于底板13的上表面19的排气口24。需要说明的是，排气孔21具有收缩上部而减小了通路面积的排气小孔部21a，该排气小孔部21a的上端为已述的排气口24。而且，供气路17的下端以及排气路22的下端分别经由形成于腔室2的底壁2f的贯通孔25、26而通向腔室2外的管路(省略图示)。

上部结构体9由顶板27构成，该顶板27被分割为搬运方向前侧的前侧顶板28和搬运方向后侧的后侧顶板29，该分割后的两个顶板28、29带有台阶30(高低差)地被固定而形成为一体。因此，上部结构体9的下表面包括存在于相对高的位置的后侧顶板29的下表面31、存在于相对低的位置的前侧顶板28的下表面32、以及与这些下表面31、32垂直的台阶(台阶形成面)30。而且，后侧顶板29的下表面31形成于供气口20所位于的区域的上方，前侧顶板28的下表面32形成于排气口24所位于的区域的上方。需要说明的是，前侧顶板28的下表面32以及后侧顶板29的下表面31均为平面。另外，构成台阶30的垂直面也为平面。

在本实施方式中，两个顶板29、28的下表面31、32的台阶30处的高低差尺寸H被设定为5～100mm。因此，在处理空间12中，供气口20所位于的区域的高度比排气口24所位于的区域的高度高出上述高低差尺寸H。另外，供气口20位于比排气口24靠搬运方向后侧的位置，台阶30位于供气口20与排气口24之间的搬运方向中间部(在本实施方式中为搬运方向中央部)。此外，后侧顶板29以及前侧顶板28的两个下表面31、32相互平行，这两个下表面31、32与底板13的上表面19平行。此外，这两个下表面31、32以及上表面19与向处理空间12搬运来的玻璃板3的上表面3b以及下表面3a平行。在此，严格上说，处理空间12是在上部结构体9的下表面31、32与下部结构体10的上表面19彼此之间的从供气口20到排气口24为止的搬运方向分离范围内形成的空间。

在上部结构体9的搬运方向后端部、即后侧顶板29的搬运方向后端部形成有从后侧顶板29的下表面31向下方突出的凸部9a。在本实施方式中，该凸部9a是在后侧顶板29的搬运方向后端面上固定的端板29a的下端部。而且，该凸部9a是为了阻止处理气体5从处理空间12向搬运方向后方的流出或者可靠地阻止该流出而形成的。该凸部9a的下端面的高度位置与前侧顶板28的下表面32的高度位置相同或大致相同。需要说明的是，在下部结构体10的供气结构14以及排气结构15和上部结构体9的后侧顶板29以及前侧顶板28内置有加热构件33(例如加热器等)，该加热构件33用于防止由处理气体5引起的结露的产生。

图3是以包含供气用通路18的流动中心轴线的方式剖切供气结构14以及底板13而得到的放大纵剖侧视图。如该图所示，供气用通路18形成于如下的五层构造体的内部，该五层构造体由构成供气结构14的第一板材～第四板材14a、14b、14c、14d、以及底板13的搬运方向后部构成。在位于最下层的第一板材14a形成有用于向该第一板材14a供给处理气体5的供给流路14aa。而且，通过使该第一板材14a与层叠于其上方的第二板材14b重合，从而形成从供给流路14aa供给的处理气体5的分支流路14ba。此外，通过使第二板材14b与层叠于其上方的第三板材14c重合，从而形成使上述的分支流路14ba进一步分支的分支流路14ca。在层叠于第三板材14c的上方的第四板材14d，形成用于使分支后的分支流路14ca汇合的空间14da。此外，在第四板材14d安装有多孔板14dc，该多孔板14dc上形成有用于使处理气体5通过的多个贯通孔14db。在位于最上层的底板13形成有供气孔16，该供气孔16包括用于向处理空间12喷出处理气体5的已述的供气小孔部16a。

在底板13的搬运方向后部形成的供气孔16及供气口20、在底板13的搬运方向前部形成的排气孔21及排气口24均形成为在宽度方向上为长条的缝隙状。这些供气孔16、供气口20、排气孔21以及排气口24的宽度方向尺寸大于玻璃板3的宽度方向尺寸。因此，供气口20以及排气口24均经由玻璃板3的宽度方向两端部的外侧间隙而通向玻璃板3的上表面3b。换言之，玻璃板3的下侧的空间(下部空间)12a经由玻璃板3的宽度方向两端部的外侧间隙而与玻璃板3的上侧的空间(上部空间)12b连通。

图4是示出构成形成于底板13的供气孔16的上部的供气小孔部16a的周边构造的主要部分放大纵剖主视图。如该图所示，供气小孔部16a的搬运方向尺寸L由位于该供气小孔部16a的上下方向中间且在宽度方向上设置有多个的间隔件34调节为固定尺寸。即，在本实施方式中，包含供气小孔部16a的供气孔16是在搬运方向后部对底板13进行分割得到的各分割底板的对置端面间的间隙，该间隙的大小由间隔件34调整。

在此，供气小孔部16a中的从供气口20到间隔件34为止的深度尺寸D优选为10～100mm的范围内。当该深度尺寸D过短时，由于间隔件34的存在而使供气小孔部16a内的处理气体5的流动发生紊乱，有可能导致基于蚀刻处理实现的玻璃板3的下表面的粗糙化产生不均匀。与此相对，当深度尺寸D过长时，难以对供气口20的搬运方向尺寸L进行微调节。因此，从供气口20向处理空间12供给的处理气体5的供给量有可能过多或过少而无法使玻璃板3的下表面被粗糙化成所希望的表面粗糙度。因此，从供气口20到间隔件34为止的深度尺寸D优选在上述的数值范围内。

接着，说明具备以上结构的玻璃板的制造装置1的作用、即玻璃板的制造方法。

首先，如图2所示，在玻璃板未进入处理空间12的状态下，处理气体5如下述那样在处理空间12流通。即，流入到供气用通路18的处理气体5从供气口20朝向上方(铅垂上方)喷出，在处理空间12中流动之后，被向排气口24吸入，通过回收用通路23而被回收。在该情况下，处理气体5在处理空间12流通时，处理气体5欲整体地朝向搬运方向前侧流动，但在该流通路径的中途设置有台阶30。该台阶30成为阻碍部，处理气体5在台阶30的周边如标号E所示那样呈弯折状地被强迫转换方向，处理气体5以该状态被向排气口24吸入。在此，该图所示的带箭头的实线表示处理气体5的流动方向。

在该情况下，处理气体5在从供气口20喷出并向排气口24吸入的同时，成为在由该图中标注标号J1的点划线围成的区域、即处理空间12的大致整个区域中充满的状态。在该情况下，在处理空间12内，供气口20所位于的区域的高度高于排气口24所位于的区域的高度，因此，成为在供气口20所位于的区域充满了大量的处理气体5的状态。而且，结果是，成为在处理空间12的整个区域充满了大量的处理气体5的状态。需要说明的是，即便在处理空间12充满的处理气体5欲从处理空间12的搬运方向后端向外部流出，该流出也被凸部9a有效地阻止。

接着，如图5所示，在玻璃板3进入到处理空间12的情况下，处理空间12由玻璃板3分隔为下部空间12a和上部空间12b。在该状态下，不从供气口20向上部空间12b补充处理气体5，但在上部空间12b的由标注了标号J2的点划线围成的区域，依然成为存留有足够量的处理气体5的状态。即，由于在处理空间12中，供气口20所位于的区域的高度高于排气口24所位于的区域的高度，因此，在处理空间12的上部空间12b，成为在高度较高的一方的区域存留有足够量的处理气体5的状态。而且，两个顶板29、28的下表面31、32的台阶30成为流通阻力而阻止残留于上部空间12b的处理气体5向搬运方向前侧的流动，从而抑制残留于上部空间12b的处理气体5从处理空间12向搬运方向前侧流出。因此，在处理空间12的上部空间12b成为处理气体5容易更进一步充分存留的状态。因此，玻璃板3的上表面3b中的从搬运方向前端部至中央部附近的部位被足够量的处理气体5实施蚀刻处理。

接着，如图6所示，在因向处理空间12搬运玻璃板3而由玻璃板3将处理空间12完全分离为下部空间12a和上部空间12b的情况下，处理气体5的流动成为下述那样的方式。即，在下部空间12a，处理气体5从供气口20朝向上方喷出，沿着玻璃板3的下表面流向下游侧之后，被向排气口24吸入。由此，对沿着水平方向搬运的玻璃板3的下表面3a实施适当的蚀刻处理，玻璃板3的下表面3a在整个区域内均匀地被粗糙化。

与此相对，在上部空间12b内，未从供气口20补充处理气体5。然而，在上部空间12b中如上所述那样之前已经存留有足够量的处理气体5，因此，即便伴随着与玻璃板3的上表面3b的反应而处理气体5的量减少，在由标注了标号J3的点划线围成的区域中也依然处于存留有足够量的处理气体5的状态。因此，利用该处理气体5对玻璃板3的上表面3b中的搬运方向中央部适当地进行蚀刻。而且，该处理气体5直至玻璃板3从处理空间12完全脱离为止都对玻璃板3的上表面3b适当地进行蚀刻。因此，在从玻璃板3进入处理空间12到玻璃板3脱离为止的期间，在玻璃板3的上表面3b整个区域实施适当的蚀刻处理，从而不仅在玻璃板3的下表面3a，在上表面3b也实现了蚀刻处理的均匀化。

在发挥以上的作用时，当两个顶板29、28的下表面31、32的台阶30的高低差尺寸H小于5mm时，在后侧顶板29的下表面31的下方区域即处理空间12的高度较高的一方的区域难以存留足够的处理气体5。此外，也有可能无法阻止所存留的处理气体5从处理空间12向搬运方向前侧的外侧流出。因此，可能难以适度地对玻璃板3的搬运方向中央部进行蚀刻。另一方面，当上述的高低差超过100mm时，相对于从供气口20喷出的处理气体5的量而言，处理空间12较高的一方的区域过于宽，处理气体5的分布状态变得零散，因此，可能给均匀的蚀刻处理带来障碍。因此，台阶30的高低差尺寸H设定为5～100mm，但若考虑以上的情况，则该高低差尺寸H优选设定为10～70mm，进一步优选设定为10～50mm。而且，与该台阶30的高低差尺寸H的长短相应地，欲朝向台阶30的搬运方向后方流出的处理气体5的流量发生变化。对此，若使凸部9a从后侧顶板29的下表面31向下方突出的尺寸的长短仿效上述的台阶30的高低差尺寸H，则能够有效地阻止处理气体5的流出。

需要说明的是，上述的台阶30的高低差尺寸H相对于底板13的上表面19与玻璃板3的下表面3a的上下方向分离尺寸S1而设定为0.5～10.0的比率，优选设定为2.0～9.0的比率。另外，在由玻璃板3将处理空间12分隔为下部空间12a和上部空间12b的状态下，底板13的上表面19与玻璃板3的下表面3a的上下方向分离尺寸S1相对于前侧顶板28的下表面32与玻璃板3的下表面3a的上下方向分离尺寸S2而设定为0.5～2.0的比率，优选设定为0.7～1.5的比率。

<第二实施方式>

接着，说明本发明的第二实施方式的玻璃板的制造装置(其制造方法)。需要说明的是，在该第二实施方式的说明中，针对上述的第一实施方式中已经说明的构成要素，在参照附图中标注相同的标号而省略重复的说明，在此，仅针对与第一实施方式的不同点进行说明。

如图7所示，该第二实施方式的玻璃板的制造装置1与上述的第一实施方式的玻璃板的制造装置1的不同之处在于，上部结构体9构成为，在前侧顶板28与后侧顶板29的分割部载置固定有第二供气结构40。而且，第二供气结构40中的供气用通路41的下端开口部即第二供气口42位于前侧顶板28与后侧顶板29的分割部，将由氟化氢构成的处理气体43朝向下方(铅垂下方)喷出。该第二供气口42形成为与后侧顶板29的下表面31成为相同的高度。此外，前侧顶板28与后侧顶板29的分割部以及第二供气口42位于供气口20与排气口24的搬运方向中间部(在本实施方式中为搬运方向中央部)。需要说明的是，第二供气结构40与将图3所示的供气结构14上下颠倒而得到的内部构造实质上相同。

根据这样的结构，如图7所示，在玻璃板3未进入处理空间12的状态下，处理气体5在处理空间12如下述那样流通。即，在处理空间12内，从下部结构体10的供气口20朝向上方喷出的处理气体5和从上部结构体9的第二供气口42朝向下方(铅垂下方)喷出的处理气体43均被向下部结构体10的排气口24吸入。因此，来自下部结构体10的供气口20的处理气体5的流动和来自上部结构体9的第二供气口42的处理气体43的流动均朝向搬运方向前侧。因此，不会发生两者的处理气体5、43正面碰撞而导致紊流等的状况。在该状态下，处理气体5、43在从供气口20以及第二供气口42喷出并被向排气口24吸入的同时，成为充满了处理空间12的大致整个区域的状态。在该情况下，与上述的第一实施方式的情况相比，成为更大量的处理气体5、43充满了处理空间12的状态。

而且，如图8所示，在玻璃板3进入到处理空间12的情况下，处理空间12由玻璃板3分隔为下部空间12a和上部空间12b。在该状态下，从供气口20喷出到下部空间12a的处理气体5在对玻璃板3的下表面3a实施蚀刻处理之后被向排气口24吸入，并且，从第二供气口42喷出到上部空间12b的处理气体43在对玻璃板3的上表面3b实施蚀刻处理之后被向排气口24吸入。因此，不仅在玻璃板3的下表面3a，在上表面3b的从搬运方向前端部至中央部附近为止的部位也由处理气体43均匀且充分地进行蚀刻。

在产生这样的处理气体5、43的流动的期间，如图9所示，在由玻璃板3将处理空间12完全分离为下部空间12a和上部空间12b的情况下，处理气体5、43的流动成为下述那样的方式。即，在下部空间12a内，从供气口20朝向上方喷出的处理气体5对玻璃板3的下表面3a实施适当的蚀刻处理之后被向排气口24吸入。与此相对，在上部空间12b内，从第二供气口42朝向下方喷出的处理气体43对玻璃板3的上表面3b实施适当的蚀刻处理之后，从玻璃板3的宽度方向两端部通过外侧间隙被向排气口24吸入。因此，即使在该状态下，不仅在玻璃板3的下表面3a，在上表面3b也由处理气体43均匀且充分地进行蚀刻，并且，也适当地进行处理气体43的吸入。而且，该处理气体43直至玻璃板3从处理空间12完全脱离为止都对玻璃板3的上表面3b适当地进行蚀刻。因此，在从玻璃板3进入处理空间12到玻璃板3脱离为止的期间，在玻璃板3的上表面3b整个区域实施适当的蚀刻处理，从而不仅在玻璃板3的下表面3a，在上表面3b也实现了蚀刻处理的均匀化。需要说明的是，若考虑产生这样的处理气体5、43的流动，则优选在前侧顶板28的搬运方向前端部也设置从其下表面32向下方突出的凸部(省略图示)。在该情况下，从第二供气口42喷出的处理气体43的流量可以少于或多于从供气口20喷出的处理气体5的流量，或者也可以是相同的流量。

需要说明的是，在以上的第一实施方式、第二实施方式中，玻璃板3的搬运方向为从供气口20朝向排气口24的方向，但即便与之相反而玻璃板3的搬运方向是从排气口24朝向供气口20的方向，也同样地能够应用本发明。

另外，在以上的第一实施方式、第二实施方式中，台阶(台阶形成面)30构成为由平面构成的垂直面，但也可以采用朝向搬运方向前侧下降倾斜的倾斜面或者朝向搬运方向后侧下降倾斜的倾斜面，此外还可以为弯曲面或弯折面。

此外，在以上的第一实施方式、第二实施方式中，供气口20所位于的区域为平面部(形成处理空间12的下部结构体10的搬运方向后部的上表面)，排气口24所位于的区域也为平面部(形成处理空间12的下部结构体10的搬运方向前部的上表面)。但是，这两者的任一方或双方的区域也可以为在不过度损害作为平面部的功能的范围内弯曲的弯曲面部等。另外，供气口20所位于的区域与排气口24所位于的区域的大小可以相同，但也可以不同。

此外，在以上的第一实施方式、第二实施方式中，供气结构14和排气结构15分体设置，且在搬运方向上相互分离开地配置，但这两者14、15也可以形成为一体。

另外，在上述的第二实施方式中，使第二供气口42位于前侧顶板28与后侧顶板29的分割部，但也可以使第二供气口42位于分割部以外的部位(从台阶30向搬运方向后侧或前后侧分离开的部位)。

附图标记说明：

1 玻璃板的制造装置

3 玻璃板

3a 玻璃板的下表面

3b 玻璃板的上表面

3x 玻璃板的搬运方向后端

5 处理气体

9 上部结构体

10 下部结构体

12 处理空间

13 底板

14 供气结构

15 排气结构

20 供气口

24 排气口

27 顶板

28 前侧顶板

29 后侧顶板

30 台阶(高低差)

31 后侧顶板的下表面

32 前侧顶板的下表面

33 加热构件

34 间隔件

40 供气结构

42 第二供气口

43 处理气体

H 高低差尺寸。

Claims (11)

1.一种玻璃板的制造方法，其在使具有供气口以及排气口的下部结构体的上表面与上部结构体的下表面对置配置而形成于对置的所述上表面与所述下表面这两面彼此之间的处理空间内，利用从所述供气口喷出并向所述排气口吸入的处理气体来对沿着水平方向搬运的玻璃板的下表面实施蚀刻处理，并且使所述供气口与所述排气口在所述玻璃板的搬运方向上位于分离开的位置，

所述玻璃板的制造方法的特征在于，

在所述处理空间内，使所述上部结构体的与所述供气口所位于的区域对应的下表面的高度高于所述上部结构体的与所述排气口所位于的区域对应的下表面的高度。

2.根据权利要求1所述的玻璃板的制造方法，其特征在于，

所述供气口位于比所述排气口靠所述玻璃板的搬运方向后侧的位置。

3.根据权利要求1或2所述的玻璃板的制造方法，其特征在于，

所述上部结构体的下表面具备在所述供气口所位于的区域与所述排气口所位于的区域之间具有高低差的两个平面部，在这两个平面部中，与前者的区域对应的平面部形成在比与后者的区域对应的平面部高的位置。

4.根据权利要求1或2所述的玻璃板的制造方法，其特征在于，

所述下部结构体的上表面具备在所述供气口所位于的区域与所述排气口所位于的区域之间不具有高低差的一个平面部。

5.根据权利要求1或2所述的玻璃板的制造方法，其特征在于，

所述供气口所位于的区域的高度与所述排气口所位于的区域的高度之差为5mm～100mm。

6.根据权利要求1或2所述的玻璃板的制造方法，其特征在于，

在所述上部结构体的下表面形成有第二供气口，该第二供气口为了对沿着所述水平方向搬运的玻璃板的上表面实施蚀刻处理而喷出处理气体。

7.根据权利要求1或2所述的玻璃板的制造方法，其特征在于，

所述上部结构体具有顶板，在所述顶板的下表面与所述下部结构体的上表面彼此之间形成所述处理空间。

8.根据权利要求7所述的玻璃板的制造方法，其特征在于，

所述顶板被分割为所述玻璃板的搬运方向前侧的前侧顶板与搬运方向后侧的后侧顶板，在所述前侧顶板的下表面与所述后侧顶板的下表面之间设置高低差。

9.根据权利要求8所述的玻璃板的制造方法，其特征在于，

使第二供气口位于所述前侧顶板与所述后侧顶板的分割部，该第二供气口为了对沿着所述水平方向搬运的玻璃板的上表面实施蚀刻处理而喷出处理气体。

10.根据权利要求6所述的玻璃板的制造方法，其特征在于，

使所述第二供气口位于所述玻璃板的搬运方向上的所述供气口与所述排气口之间。

11.一种玻璃板的制造装置，其在使具有供气口以及排气口的下部结构体的上表面与上部结构体的下表面对置配置而形成于对置的所述上表面与所述下表面这两面彼此之间的处理空间内，利用从所述供气口喷出并到达所述排气口的处理气体来对沿着水平方向搬运的玻璃板的下表面实施蚀刻处理，并且使所述供气口与所述排气口在所述玻璃板的搬运方向上位于分离开的位置，

所述玻璃板的制造装置的特征在于，

在所述处理空间内，所述上部结构体的与所述供气口所位于的区域对应的下表面的高度高于所述上部结构体的与所述排气口所位于的区域对应的下表面的高度。

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