CN107595152A - 烤箱分区温控装置及其方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种烤箱分区温控装置，包括设置在烹饪室顶部的发热装置，所述发热装置连接控制装置，而所述烹饪室设置红外传感器；本发明还提供了一种烤箱分区温控方法，包括如下步骤：发热装置由控制装置控制，对烹饪室进行加热；红外传感器采集烹饪室内辐射的红外线；控制装置根据红外传感器采集的红外线进行温度分析，并控制对应的发热装置进行工作或停止工作；本发明采用了红外传感器和发热装置共同配合的方案，红外传感器能够对腔体内同一平面多个区域的温度实时感应，后台分析该平面区域的温度差值，同步数据给芯片，芯片控制每根发热管单独工作，来实现温场的均匀。

Description

烤箱分区温控装置及其方法
技术领域
本发明属于烹饪装置领域，具体涉及一种烤箱分区温控装置及其方法。
背景技术
一般的烤箱，都是采用NTC作为传感器来感应腔体内的温度，NTC传感器探测的温度，传入到烤箱的控制板的芯片，芯片来做出判断，给发热管进行通断工作，来控制腔体内的温度范围。但这种NTC传感器，安装在腔体内胆的侧壁上，无法直接探测到腔体内中心的温度，而且这种传感器的设计，对温度的感应有延迟，导致腔体内中心温度无法实现精准控制。由于温差的上下波动影响，经常会使消费者在烹饪过程中，食物无法达到要求，影响烹饪效果，给消费者带来挫败感，导致消费者失去烹饪的乐趣。
发明内容
本发明为解决现有技术存在的问题而提出，其目的是提供一种烤箱分区温控装。
本发明的技术方案是：
一种烤箱分区温控装置，包括设置在烹饪室顶部的发热装置，所述发热装置连接控制装置，而所述烹饪室设置红外传感器。
本发明还提供了一种烤箱分区温控方法，包括如下步骤：
发热装置由控制装置控制，对烹饪室进行加热；红外传感器采集烹饪室内辐射的红外线；控制装置根据红外传感器采集的红外线进行温度分析，并控制对应的发热装置进行工作或停止工作。
本发明采用了红外传感器与NTC传感器、发热管共同配合的方案，红外传感器能够对腔体内同一平面多个区域的温度实时感应，后台分析该平面区域的温度差值，同步数据给芯片，芯片控制每根发热管单独工作，来实现温场的均匀。
附图说明
图1 是本发明的结构示意图；
图2 是本发明的剖视图；
图3 是本发明红外传感器温度检测区域示意图；
图4 是本发明红外传感器温度检测平面示意图；
其中：
1 烹饪室 2 发热装置
3 红外传感器 5 通孔
6 挡片 7 NTC传感器
8 平面 9 区域。
具体实施方式
以下，参照附图和实施例对本发明进行详细说明：
如图1~4所示，一种烤箱分区温控装置，包括设置在烹饪室1顶部的发热装置2，所述发热装置2连接控制装置，而所述烹饪室1设置红外传感器3。
所述的红外传感器3设置在烹饪室1侧壁顶部或烹饪室1顶部。
所述的烹饪室1侧壁顶部设置通孔5，所述红外传感器3设置在通孔5中。
所述的红外传感器3与烹饪室1内部之间设置可供红外线穿过的挡片6。
所述的挡片6为硅片或锗片。
所述的红外传感器3为点阵式红外电堆传感器。
所述的烹饪室1设置NTC传感器7。
所述的发热装置2为多个，且分别由控制装置独立控制。
所述的发热装置2为加热管。
一种烤箱分区温控方法，包括如下步骤：
发热装置2由控制装置控制，对烹饪室1进行加热；红外传感器3采集烹饪室1内辐射的红外线；控制装置根据红外传感器3采集的红外线进行温度分析，并控制对应的发热装置2进行工作或停止工作。
所述的红外传感器3采集烹饪室1内不同高度的任意平面8的红外线。
所述的红外传感器3采集烹饪室1内同一平面8中多个区域9的红外线。
所述的红外传感器3采集同一区域9中多个监测点的红外线。
所述控制装置通过对一个区域9内多个点的红外线能量进行分析，得出该区域9的温度能量值。
所述的区域9分别对应由控制装置独立控制的发热装置2。
所述控制装置通过对多个区域9内辐射的红外线能量的强弱进行分析，来控制对应的发热装置2进行工作或停止工作，使同一平面8辐射的红外线的能量差异接近或等于零。
所述控制装置通过对一个区域9内多个点的红外线能量进行分析，得出该区域9的温度能量值，所述控制装置比对多个区域9的温度能量值强弱差；当差值满足设计的工作区间时，控制装置独立控制高温区域9对应的发热装置2停止工作或减小工作功率，控制装置独立控制低温区域9对应的发热装置2增大加热功率。
本实施例中，采用设置在烹饪室1侧壁顶部红外传感器3为点阵式红外电堆传感器，如图4所示，点阵式红外电堆传感器可在不同高度采集任意平面8的红外线辐射，采集的红外线辐射由控制装置分析，如图3所示点阵式红外电堆传感器3在烹饪室1内的烤盘所在平面8内分别分为4个温度检测区域A、B、C、D进行分析，四个温度检测区域9分别对应4个加热管的加热区域，当烤盘放入烹饪室进行加热时，在烤盘平面8的每个温度检测区域9中分别检测多个点的红外线辐射量，并经过计算得到该区域的温度值，之后对四个温度检测区域的能量值进行比较，最后由控制装置独立控制高温区域对应的加热管2停止工作或减小工作功率，如果芯片独立控制低温区域对应的加热管2增大加热功率，从而使食物表面的温度趋于一致，保证烹饪效果。
本发明采用了红外传感器与NTC传感器、发热管共同配合的方案，红外传感器能够对腔体内同一平面8区域9的温度实时感应，后台分析该平面8区域9的温度差值，同步数据给芯片，芯片控制每根发热管单独工作，来实现温场的均匀。

Claims (17)

1.一种烤箱分区温控装置，包括设置在烹饪室（1）顶部的发热装置（2），所述发热装置（2）连接控制装置，其特征在于：所述烹饪室（1）设置红外传感器（3）。
2.根据权利要求1所述的烤箱分区温控装置，其特征在于：所述的红外传感器（3）设置在烹饪室（1）侧壁顶部或烹饪室（1）顶部。
3.根据权利要求2所述的烤箱分区温控装置，其特征在于：所述的烹饪室（1）侧壁顶部设置通孔（5），所述红外传感器（3）设置在通孔（5）中。
4.根据权利要求3所述的烤箱分区温控装置，其特征在于：所述的红外传感器（3）与烹饪室（1）内部之间设置可供红外线穿过的挡片（6）。
5.根据权利要求4所述的烤箱分区温控装置，其特征在于：所述的挡片（6）为硅片或锗片。
6.根据权利要求1所述的烤箱分区温控装置，其特征在于：所述的红外传感器（3）为点阵式红外电堆传感器。
7.根据权利要求1所述的烤箱分区温控装置，其特征在于：所述的烹饪室（1）设置NTC传感器（7）。
8.根据权利要求1所述的烤箱分区温控装置，其特征在于：所述的发热装置（2）为多个，且分别由控制装置独立控制。
9.根据权利要求1所述的烤箱分区温控装置，其特征在于：所述的发热装置（2）为加热管。
10.一种烤箱分区温控方法，包括如下步骤：
发热装置（2）由控制装置控制，对烹饪室（1）进行加热；红外传感器（3）采集烹饪室（1）内辐射的红外线；控制装置根据红外传感器（3）采集的红外线进行温度分析，并控制对应的发热装置（2）进行工作或停止工作。
11.根据权利要求10所述的烤箱分区温控装置，其特征在于：所述的红外传感器（3）采集烹饪室（1）内不同高度的任意平面（8）的红外线。
12.根据权利要求11所述的烤箱分区温控装置，其特征在于：所述的红外传感器（3）采集烹饪室（1）内同一平面（8）中多个区域（9）的红外线。
13.根据权利要求12所述的烤箱分区温控装置，其特征在于：所述的红外传感器（3）采集同一区域（9）中多个监测点的红外线。
14.根据权利要求13所述的烤箱分区温控装置，其特征在于：所述控制装置通过对一个区域（9）内多个点的红外线能量进行分析，得出该区域（9）的温度能量值。
15.根据权利要求12所述的烤箱分区温控装置，其特征在于：所述的区域（9）分别对应由控制装置独立控制的发热装置（2）。
16.根据权利要求15所述的烤箱分区温控装置，其特征在于：所述控制装置通过对多个区域（9）内辐射的红外线能量的强弱进行分析，来控制对应的发热装置（2）进行工作或停止工作，使同一平面（8）辐射的红外线的能量差异接近或等于零。
17.根据权利要求16所述的烤箱分区温控装置，其特征在于：所述控制装置通过对一个区域（9）内多个点的红外线能量进行分析，得出该区域（9）的温度能量值，所述控制装置比对多个区域（9）的温度能量值强弱差；当差值满足设计的工作区间时，控制装置独立控制高温区域（9）对应的发热装置（2）停止工作或减小工作功率，控制装置独立控制低温区域（9）对应的发热装置（2）增大加热功率。
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