CN107406813B - 培养装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供能够使搁板的滑动容易的培养装置。培养装置具备在前表面具有开口且在左右两侧面具有搁板承接件的内箱、以及载置于搁板承接件且沿着前后方向滑动的搁板，搁板具有：基面，其载置培养物；凸缘，其在基面的左右两侧的端部借助弯曲部而向上方弯曲；以及润滑构件，其设置于左右两侧的凸缘的在所述侧面侧的外表面的至少一部分，且原料与内箱的原料不同。

Description

培养装置

技术领域

本发明涉及培养装置。

背景技术

在培养装置中，作为一例，已知为了载置培养物而由搁板承接件支承不锈钢制的多个搁板的构造。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2010-17151号公报

发明内容

发明要解决的课题

以往的培养装置在用过氧化氢除去污染后、干热灭菌后、或者在不存在加湿水的状态下运转后等，有时搁板难以滑动，难以进行搁板的抽出放入。

于是，本发明的目的在于，提供能够使搁板的滑动容易的培养装置。

用于解决课题的方案

解决上述课题的主要的本发明涉及一种培养设备，该培养设备具备：内箱，其在前表面具有开口且在左右两侧面具有搁板承接件；和搁板，其载置于所述搁板承接件，且沿着前后方向滑动以从所述开口进行抽出放入，搁板由与内箱相同的原料构成，且具有载置培养物的基面、以及在所述基面的左右两侧的端部借助弯曲部而向上方弯曲的凸缘，在所述左右两侧的弯曲部的至少一部分设置有原料与所述内箱的原料不同的润滑构件。

发明效果

如以上所述，本发明能够提供如下培养装置：在该培养装置中，比起搁板与相同原料彼此的接触，摩擦系数减少，搁板易于滑动，容易进行抽出放入，能够使搁板的滑动变得容易。

附图说明

图1是实施方式1的培养装置的立体图的一例。

图2是表示实施方式1的外门以及内门被打开后的状态的培养装置的立体图的一例。

图3是表示实施方式1的内箱的剖视图的一例。

图4是实施方式1的搁板的从上方观察到的立体图的一例。

图5是实施方式1的搁板的从下方观察到的立体图的一例。

图6是图5中的后面凸缘以及侧面凸缘的端部的放大立体图的一例。

图7是实施方式1的搁板与搁板承接件的接触部分的放大剖视图的一例。

图8是表示实施方式1的搁板没有与搁板承接件平行地被抽出放入的情况的俯视图的一例。

图9是表示实施方式1的搁板与内箱的侧面的关系的侧视图。

图10是另一实施方式的润滑构件的立体图的一例。

图11是装配有另一实施方式的润滑构件的后面凸缘以及侧面凸缘的端部的放大立体图的一例。

图12是装配有另一实施方式的润滑构件的后面凸缘以及侧面凸缘的端部的放大俯视图的一例。

图13是另一实施方式的搁板与搁板承接件的接触部分的放大剖视图的一例。

具体实施方式

以下，适当参照附图来详细说明实施方式。但是，有时省略必要程度以上的详细的说明。例如，有时省略已经熟知的事项的详细说明、对实质上相同的结构的重复说明。这是为了避免以下的说明变得不必要地冗长，使本领域技术人员容易理解。

需要说明的是，发明者们为了使本领域技术人员充分理解本发明而提供附图以及以下的说明，并不意在由它们限定专利的技术方案所记载的主题。

(实施方式1)

＝＝＝培养装置＝＝＝

以下，参照图1至图9，作为本发明的培养装置的一例来说明本实施方式的培养装置100。图1是表示本实施方式的培养装置100的立体图。图2是表示本实施方式的外门以及内门打开后的状态的培养装置100的立体图。图3是表示本实施方式的内箱20的剖视图。图3是表示从与通过培养装置100的大致中央的ZY平面平行的剖面向+X方向观察到的状态的培养装置100。

需要说明的是，X轴是与外箱10的侧板12、13正交的轴，将从侧板12朝向侧板13的方向设为+X，将从侧板13朝向侧板12的方向设为-X。Y轴是与外门11以及背板14正交的轴，将从外门11朝向背板14的方向设为+Y，将从背板14朝向外门11的方向设为-Y。Z轴是与底板15以及顶板16正交的轴，将从底板15朝向顶板16的上方向设为+Z，将从顶板16朝向底板15的下方向设为-Z。

培养装置100是在培养室2A内培养例如细胞、微生物等培养物的装置。培养装置100具有外箱10、外门11、内箱20、内门21、加湿皿402以及搁板3。

外箱10以及内箱20是由不锈钢等金属制的原料构成的大致长方体形状的箱体。由于利用过氧化氢溶液等对培养室2A内进行灭菌，因此内箱20的原料选择具有对过氧化氢的耐性且具有抗菌性的原料。内箱20的外形比外箱10的内径小，以将内箱20收容于外箱10的内部。在外箱10以及内箱20的前表面形成有与培养室2A相通的开口21A。

外门11以及内门21是对开口21A进行开闭的门。外门11由不锈钢等金属制的原料构成，呈外形比内门21的外形大的大致矩形形状，在内部填充有绝热材料。在外门11的与内门21相邻的一侧的周缘设置有用于确保培养装置100内的气密性的衬垫110。在外门11的与内门21相反的一侧设置有用于操作培养装置100的操作装置143。内门21是由树脂、玻璃等透明的原料构成的构件。在外箱10的前表面的开口21A的缘部的与内门21对置并抵接的部分设置有用于确保培养装置100内的气密性的衬垫210。

内箱20具有侧板22、23、背板24、底板25、顶板26。在侧板22、23上通过冲压加工而设置有多个搁板承接件5、6。多个搁板承接件5、6载置搁板3。多个搁板承接件5分别与多个搁板承接件6成对而以使搁板3大致水平的方式支承搁板3。

多个搁板承接件5呈向远离外箱10的侧板13的方向突出且在从内门21侧(-Y)到背板24侧(+Y)的范围连续的长条形状。多个搁板承接件5分别具有载置面51。多个搁板承接件6也同样呈向远离外箱10的侧板12的方向突出且在从内门21侧(-Y)到背板24侧(+Y)的范围连续的长条形状。多个搁板承接件6分别具有载置面61。

加湿皿402是储存在对培养室2A进行加湿时产生的水的容器，搭载于内箱20的底板25。

搁板3由不锈钢等金属制的原料构成且呈大致矩形形状，载置于在内箱20内设置的多个搁板承接件5、6。由于利用过氧化氢溶液等对培养室2A内进行灭菌，因此搁板3的原料也选择具有对过氧化氢的耐性且具有抗菌性的原料。在本实施方式中，搁板3的原料选择与内箱20的原料相同的原料。需要说明的是，搁板3可以在内箱20内设置有一个，也可以设置有多个。之后叙述搁板3的详细的结构。

＝＝＝搁板＝＝＝

以下，参照图4至6来说明本实施方式的搁板。图4是本实施方式的搁板3的从上方观察到的立体图。图5是本实施方式的搁板3的从下方观察到的立体图。图6是图5中的后面凸缘34以及侧面凸缘32的端部的放大立体图。

搁板3具有载置培养物的基面35、以及在基面35的左右两侧(+X以及-X)的端部处借助弯曲部32A、33A(未图示)而向上方弯曲的凸缘32、33。搁板3具有在基面35的后面侧(+Y)的端部处向上方弯曲的凸缘34。搁板3具有在前表面侧(-Y)的端部处向下方弯曲的凸缘31。基面35是在搁板3载置于搁板承接件5、6的状态下与水平方向大致平行的部分。凸缘31至凸缘34是在搁板3载置于搁板承接件5、6的状态下与铅垂方向大致平行的部分。即，凸缘31至34是与基面35大致正交的部分。弯曲部32A、33A是将凸缘32、33与基面35相连的弯曲的部分。需要说明的是，在凸缘32、33的上端部设置有进一步朝向内侧弯折的部分。

搁板3在后面侧(+Y侧)的两端的一部分的从凸缘32、33的外表面到基面35的背面的范围设置有与内箱20的原料不同的原料的润滑构件32B、33B。润滑构件32B、33B使用氟涂料。润滑构件32B、33B在左右两侧的凸缘32、33的外表面、弯曲部32A、33A的外表面、以及基面35的背面上涂布于从后面侧(+Y)的端部起到约10.0mm为止的范围。润滑构件32B、33B在左右两侧的凸缘32、33的外表面上从上端部(+Z)涂布到下端部(-Z)。润滑构件32B、33B在基面35的背面上涂布于从搁板3的左右方向的两端部(+X以及-X)起到约10.0mm为止的范围。

＝＝＝搁板与搁板承接件的关系＝＝＝

以下，参照图7来说明本实施方式的搁板3与搁板承接件5、6的关系。图7是搁板3与搁板承接件6的接触部分的放大剖视图。在此，说明搁板3的凸缘32侧(-X)的搁板3与搁板承接件6的关系，但凸缘33侧(+X)的搁板3与搁板承接件5的关系的说明由于是同样的因此省略一部分说明。

搁板3的左右方向的尺寸设计为在搁板3载置于左右的搁板承接件5、6的中心的状态下凸缘32、33与内箱的侧面22、23的距离成为约2.0mm。因此，如图7所示，搁板3以基面35的背面与搁板承接件6的载置面61抵接的方式载置于搁板承接件6。在搁板3载置于左右的搁板承接件5、6的中心的状态下，凸缘32不与内箱的侧面22抵接。润滑构件32B以覆盖凸缘32、弯曲部32A以及基面35的方式涂布。因此，在搁板3的设置有润滑构件32B的区域，润滑构件32B与搁板承接件6的载置面61抵接。由此，基面35与搁板承接件6的抵接面上的摩擦阻力减少，从而搁板3的滑动变得容易。另外，在搁板3移动而凸缘32与内箱的侧面22抵接的情况下，润滑构件32B与侧面22抵接。由此，凸缘32与侧面22的抵接面上的摩擦阻力减少，从而搁板3的滑动变得容易。

另外，搁板承接件6由于通过冲压加工而成形，因此在将内箱的侧面22与搁板承接件6的载置面61相连的部分设置有弯部，也有时该弯部与搁板3的弯曲部32A抵接。即使在该情况下，由于在弯曲部32A涂布有润滑构件32B，因此也能够减少摩擦阻力。因此，不仅搁板3的滑动变得容易，而且搁板3在左右方向上大致居中，搁板3变得水平。

另外，搁板承接件6由于通过冲压加工而成形，因此载置面61也有时稍微倾斜。具体而言，载置面51有时随着朝远离内箱20的侧板22的方向(+X)而朝向内箱20的底板25倾斜。在该情况下搁板承接件6与弯曲部32A成为线接触，但由于在弯曲部32A涂布有润滑构件32B，因此搁板3的滑动变得容易。另外，即使在该倾斜的载置面61放置了搁板3，也由于搁板3的自重、搁板2的弯曲部32A而被大致居中，载置的搁板3变得水平。

需要说明的是，在本实施方式中，润滑构件32B以覆盖凸缘32、弯曲部32A以及基面35的方式涂布，但只要润滑构件32B设置于凸缘32、弯曲部32A以及基面35中的任一方的至少一部分，就能够减少搁板3与搁板承接件6的抵接部位的摩擦阻力，因此对于搁板3的滑动的容易化是有效的。

＝＝＝搁板的抽出放入＝＝＝

以下，参照图8以及图9来说明本实施方式的搁板的抽出放入。图8是表示未与搁板承接件5、6平行地抽出放入本实施方式的搁板3的情况的俯视图。图9是表示本实施方式的搁板3与内箱的侧面23的关系的侧视图。

培养装置100因外门11以及内门21被打开而成为能够经由开口21A向内箱20内插入搁板3的状态。搁板3以载置于搁板承接件51、61的方式向前后方侧移动。在搁板3与内箱的侧面22、23之间存在约2mm的间隙(左右方向的间隙)。因此，在使搁板3向前后方向移动时，有时未使搁板3的移动方向与搁板承接件5、6平行地抽出放入搁板3。此时，内箱20的侧面22、23与搁板3的左右两端的凸缘32、33接触。认为其原因在于，搁板3的原料与搁板承接件5、6的原料是相同的原料从而接触面上的摩擦系数高。在本实施方式中，搁板3的基面35的背面与搁板承接件5、6的载置面51、61始终抵接。在搁板3的左右处的与搁板承接件5、6的抵接面积不同的情况下，左右的摩擦阻力产生差异。因此，即使作业者欲将搁板3与内箱20的侧面22、23平行地放入，若左右的摩擦阻力产生差异，则也难以平行地放入。因而，导致搁板3的插入方向相对于内箱20的侧面22、23倾斜，内箱20的侧面22、23与搁板3的左右两端的凸缘32、33接触。

然而，在本实施方式的培养装置100中，与内箱20的原料不同的原料的润滑构件32B、33B从左右两侧的凸缘32、33到基面而涂布于从后面侧(+Y)的端部起到约10mm为止的范围。即，润滑构件32B、33B设置于插入搁板3的情况下的行进方向的前侧(+Y)的左右两端。因此，在插入搁板3的情况下，搁板3的基面35与搁板承接件5、6的载置面51、61的摩擦系数减少，搁板3容易滑动。因而，左右的摩擦阻力之差减少，容易平行地放入。另外，即使搁板3的凸缘32、33的后面侧(+Y)的任一方与内箱20的侧面22、23接触，也是润滑构件32B或润滑构件33B与侧面22、23接触，因此与相同原料彼此的接触相比摩擦系数减少，搁板3容易滑动。

另外，在作业者将搁板3载置于搁板承接件5、6的情况下，搁板3有时相对于水平方向倾斜。然而，本实施方式的搁板承接件5具有与载置面51对置的止动件51A、51B。在搁板承接件6上也同样地设置有止动件，但在此省略说明。止动件51A、51B以限制载置于搁板承接件51的搁板3的垂直方向上的移动的方式与搁板承接件5一体地设置。止动件51A、51B设置于沿着搁板承接件51的长边方向(Y轴)分开的位置。

(另一实施方式)

以上，作为在本申请中公开的技术的例示而说明了实施方式1。然而，本公开中的技术不限定于此，也能够适用于适当进行了变更、置换、附加、省略等的实施方式。另外，也可以组合在上述实施方式1中说明的各构成要素而设为新的实施方式。

于是，以下总结说明另一实施方式。

在实施方式1中，作为与内箱20的原料不同的原料的润滑构件32B、33B的一例而使用氟涂料。氟涂料比较廉价且制造时的加工容易。然而，本发明不限定于此。例如，作为润滑构件32B、33B，也可以是将氮化硼、石墨、二硫化钼等作为主要的原料来使用的树脂涂料、另外也可以贴附以这些原料为主要材料的片或膜。片或膜的厚度优选较薄，在0.5mm以下是有效的，优选为0.2mm以下。这是为了将搁板3保持为水平。另外，也可以使用对硅酮、聚缩醛(POM)、聚碳酸酯(PC)等树脂进行成形而成的能够装卸的其他零件。若能够装卸，则例如即使是不具有对灭菌物质的耐性、对干热灭菌时的高热的耐性的构件，也能够在灭菌时将其卸下。

在此，作为润滑构件32B、33B使用其他零件的培养装置的一例，参照图10至图13来说明其他零件使用边缘防护件36的实施方式。图10是另一实施方式的边缘防护件36的立体图。图11是装配有另一实施方式的边缘防护件36的后面凸缘以及侧面凸缘的端部的放大立体图。图12是装配有另一实施方式的边缘防护件36的后面凸缘以及侧面凸缘的端部的放大俯视图。图13是另一实施方式的搁板3与搁板承接件6的接触部分的放大剖视图。

边缘防护件36是对聚缩醛树脂进行成形而得到的构件。考虑到搁板3的清扫性，搁板3与边缘防护件36的接触部以及边缘防护件36主体是极难积存垃圾的形状，例如是安装于搁板3上的左右两侧的凸缘32、33与凸缘34之间的间隙的形状。边缘防护件36在安装于搁板3的状态下覆盖凸缘32、33中的后面侧的端部、凸缘34的左右两端侧的一部分、基面35的一部分。边缘防护件36以从正面观察向凸缘32、33的外侧(-X以及+X)稍微突出的方式安装于搁板3。在图12所示的实施方式中，突出的宽度d1设为0.2mm。宽度d1基于凸缘32、33与内箱20的侧面22、23的间隙来适当决定，但优选为0.5mm以下的宽度，进一步优选为0.2mm以下。边缘防护件36中的覆盖基面35的部分的厚度d2在1.0mm以下是有效的，更优选为0.5mm以下。这是为了将搁板3保持为水平。

另外，作为润滑构件32B、33B的另一实施方式，在使用过氧化氢对培养室21A内进行灭菌的情况下，优选对过氧化氢具有耐性的原料、例如聚碳酸酯(PC)、聚偏氟乙烯(PVDF)等。另外，在通过干热灭菌来对培养室21A内进行灭菌的情况下，优选具有耐热性的原料、尤其是耐热温度为100℃以上的原料，进一步优选耐热温度为200℃以上的原料。作为耐热温度200℃以上的原料，例如可以使用聚醚醚酮(PEEK)、聚醚砜(PES)、聚酰胺酰亚胺(PAI)、硅酮橡胶、氟橡胶等。

另外，与内箱20的原料不同的原料的润滑构件32B、33B优选具有抗菌性的构件、例如抗菌性树脂、抗菌性玻璃等。

在实施方式1中，作为与内箱20的原料不同的原料的润滑构件32B、33B的一例，说明了润滑构件32B、33B涂布于左右两侧的凸缘32、33的外表面、弯曲部32A、33A的外表面、以及基面35的背面的一部分的情况。

然而，另外，润滑构件32B、33B只要在左右两侧的凸缘32、33的外表面、弯曲部32A、33A的外表面以及基面35的背面的任一者中设置于至少一部分即有效，但在任一情况下均从后面侧的端部起设置是有效的。这是因为，搁板3的滑动有时因后面侧的端部咬入搁板承接件5、6而被妨碍。在此，至少一部分包括在整面设置的情况，例如也可以在弯曲部32A、33A或凸缘32、33的整面范围内设置润滑构件32B、33B。

润滑构件32B、33B覆盖搁板3的区域的宽度即使是相对于搁板3的前后方向的宽度而言为从搁板3的后面侧的端部起的2％左右，对于搁板3的滑动的容易化也是有效的。因此，也从抗菌性的观点考虑，优选为5％以下，若为2％以下则能够进一步提高抗菌性而进一步优选。为了进一步提高搁板3的滑动性，在2％以上且10％以下是有效的。

另外，覆盖凸缘32、33的区域的铅垂方向的宽度优选在凸缘32、33的整面范围内设置。这是因为，能够抑制如下情况：在与内箱20的侧面22、23接触的情况下，侧面22、23出现伤痕或产生粉尘。

润滑构件32B、33B覆盖基面35的区域优选设置于基面35的与搁板承接件5、6的接触面的至少一部分。在此，至少一部分包括在整面设置的情况。

润滑构件32B、33B的覆盖搁板3的面积越大则从搁板3的滑动的容易化的观点出发越优选，但从抗菌性的观点出发优选面积较小。根据构件的性质的不同，使用不存在抗菌性或抗菌性低的润滑构件，或者使用虽然具有抗菌性但构件成本高的润滑构件，因此优选设置有润滑构件32B、33B的区域尽量为小的面积。尤其是，由于是培养装置所使用的构件，因此优选具有抗菌性的构件，另外从清扫性的观点出发优选凹凸少的形状。

以上，作为本发明的例示而说明的实施方式的培养装置100具备在前表面具有开口21A且在左右两侧面具有搁板承接件5、6的内箱20、以及载置于搁板承接件5、6且沿着前后方向滑动的搁板3，搁板3具有：基面35，其载置培养物；凸缘32、33，其在基面35的左右两侧的端部借助弯曲部32A、33A而向上方弯曲；以及润滑构件32B、33B，其设置于左右两侧的凸缘32、33的在侧面22、23侧的外表面的至少一部分，且原料与内箱20的原料不同。

由此，通过在凸缘32、33的至少一部分设置润滑构件32B、33B，从而即使在内箱20的侧面与搁板3接触的情况下，也减少内箱20的侧面与搁板3的摩擦阻力，因此搁板3的滑动变得容易，结果作业性提高。

另外，润滑构件32B、33B在左右两侧的凸缘32、33的外表面上设置于从后面侧起到10.0mm为止的区间。

由此，即使在搁板3相对于内箱20的侧面22、23倾斜而凸缘32、33的后面侧的端部的任一方与内箱20的侧面22、23接触的情况下，也减少内箱20的侧面与凸缘32、33的摩擦阻力，因此搁板3的滑动变得容易，结果作业性提高。另外，能够减少润滑构件32B、33B的使用量，因此不仅是出于成本方面的考虑，即使在使用不存在抗菌性的原料的情况下，也能够尽量减少搁板3的抗菌性能的降低。

另外，润滑构件32B、33B设置于左右两侧的弯曲部32A、33A的在侧面22、23侧的外表面的至少一部分。

由此，减少内箱20的侧面22、23与弯曲部32A、33A的摩擦阻力或搁板承接件5、6与弯曲部32A、33A的摩擦阻力，因此搁板3的滑动变得容易，结果作业性提高。

另外，润滑构件32B、33B在左右两侧的弯曲部32A、33A的外表面上设置于从后面侧到10.0mm为止的区间。

由此，即使在搁板3相对于内箱20的侧面22、23倾斜而弯曲部32A、33A的后面侧的端部的任一方与内箱20的侧面22、23或搁板承接件5、6接触的情况下，也减少内箱20的侧面22、23与弯曲部32A、33A的摩擦阻力或搁板承接件5、6与弯曲部32A、33A的摩擦阻力，因此搁板3的滑动变得容易，结果作业性提高。另外，能够减少润滑构件32B、33B的使用量，因此不仅是出于成本方面的考虑，即使在使用不存在抗菌性的原料的情况下，也能够尽量减少搁板3的抗菌性能的降低。

另外，润滑构件32B、33B设置于基面35的背面上的与左右两侧的搁板承接件5、6抵接的区域的至少一部分。

由此，减少搁板承接件5、6与基面35的摩擦阻力，因此搁板3的滑动变得容易，结果作业性提高。

另外，润滑构件32B、33B设置于基面35的背面上的与左右两侧的搁板承接件5、6抵接的区域的从后面侧起到10.0mm为止的区间。

由此，减少基面35的后面侧的端部与搁板承接件5、6的摩擦阻力，因此搁板3的滑动变得容易，结果作业性提高。另外，能够减少润滑构件32B、33B的使用量，因此不仅是出于成本方面的考虑，即使在使用不存在抗菌性的原料的情况下，也能够尽量减少搁板3的抗菌性能的降低。

另外，润滑构件32B、33B可以是相对于搁板3能够装卸，也可以与搁板3一体。

由此，若润滑构件32B、33B相对于搁板3能够装卸，则例如能够在进行过氧化氢的灭菌、干热灭菌时卸下，因此不仅能够应用的培养装置的种类增加，作为润滑构件32B、33B的原料而能够选择的原料增加。另外，若润滑构件32B、33B与搁板3一体，则能够省去作业者进行装卸的劳力。

另外，润滑构件32B、33B也可以使用由具有100℃以上的耐热性的原料构成的润滑构件。

由此，由于润滑构件32B、33B在100℃以上时不发生物性变化，因此也能够应用于通过100℃以上的干热灭菌来对内箱20的内部2A进行灭菌的培养设备。若润滑构件32B、33B采用具有200℃以上的耐热性的原料，则也能够应用于能实施200℃以上的干热灭菌的培养装置，因此进一步优选。例如，润滑构件32B、33B在由包含聚醚醚酮(PEEK)、聚醚砜(PES)、聚酰胺酰亚胺(PAI)、硅酮橡胶、或者氟橡胶的原料构成时具有200℃以上的耐热性，因此优选。

另外，润滑构件32B、33B也可以使用由具有抗菌性的原料构成的润滑构件。

由此，通过润滑构件32B、33B使用具有抗菌性的原料，能够提供搁板3的滑动容易且抗菌性高的培养设备。

另外，润滑构件32B、33B也可以使用树脂材料。

由此，减少内箱20的侧面22、23与搁板3的摩擦阻力或搁板承接件5、6与搁板3的摩擦阻力，使搁板3的滑动变得容易，同时润滑构件32B、33B的加工、装配变得容易。例如，润滑构件32B、33B优选由包含氮化硼、石墨或二硫化钼的树脂涂料、或者包含硅酮、聚缩醛(POM)或聚碳酸酯(PC)的树脂的成形物构成。

另外，润滑构件32B、33B也可以使用氟涂料。

由此，减少内箱20的侧面22、23与搁板3的摩擦阻力或搁板承接件5、6与搁板3的摩擦阻力，使搁板3的滑动变得容易，同时加工变得容易，能够涂布于必要最小限度的范围，因此结果能够抑制抗菌性的降低。

另外，润滑构件32B、33B也可以使用由对过氧化氢具有耐性的原料构成的润滑构件。

由此，能够应用于使用过氧化氢来进行灭菌的培养装置。例如、润滑构件32B、33B优选由包含聚碳酸酯(PC)或者聚偏氟乙烯(PVDF)的原料构成。

以上，作为本发明的例示而说明了实施方式。为此，提供了附图以及详细的说明。前述的实施方式用于使本发明容易理解，并非用于限定地解释本发明。本发明能够在不脱离其主旨的情况下进行变更、改良等，另外，本发明也包括其等价物。

另外，附图以及详细的说明所记载的构成要素中不仅包括课题的解决所必需的构成要素，也可能包括为了例示上述技术但不是课题解决所必需的构成要素。因此，不应该以这些非必需的构成要素记载于附图、详细的说明的情况为由而直接认定这些非必需的构成要素是必需的。

另外，上述的实施方式用于例示本发明，因此能够在技术方案或其等同的范围内进行各种变更、置换、附加、省略等。

附图标记说明

100培养装置、2A培养室、10外箱、20内箱、21A开口、22，23侧板、24背板、25底板、26顶板、3搁板、31、32、33、34凸缘、32A、33A弯曲部、32B、33B润滑构件、35基面、5、6搁板承接件。

Claims (20)

1.一种培养装置，其具备：

内箱，其在前表面具有开口且在左右两侧面具有不锈钢制的搁板承接件，且通过过氧化氢或者干热灭菌而被灭菌；和

不锈钢制的搁板，其载置于所述搁板承接件，通过过氧化氢或者干热灭菌而被灭菌，且沿着前后方向滑动，

所述搁板具备：基面，其载置培养物；凸缘，其在所述基面的左右两侧的端部借助弯曲部而向上方弯曲；以及润滑构件，其设置于所述左右两侧的所述凸缘的在侧面侧的外表面的至少在插入搁板的情况下的行进方向的前侧的左右两端，且原料与所述内箱的原料不同，

所述润滑构件是片或者膜，该片或者膜贴附于所述左右两侧的所述凸缘的在所述侧面侧的外表面的至少在插入搁板的情况下的行进方向的前侧的左右两端的侧面和底面。

2.根据权利要求1所述的培养装置，其中，

所述润滑构件的厚度为0.2mm以下。

3.根据权利要求1所述的培养装置，其中，

所述润滑构件设置于所述左右两侧的所述凸缘的在所述侧面侧的外表面的至少在插入搁板的情况下的行进方向的前侧的左右两侧的侧面和底面，且设置为覆盖所述左右两端的端部。

4.根据权利要求1所述的培养装置，其中，

在所述搁板承接件中，还具备在将载置所述搁板的载置面与所述内箱的侧面相连的部分设置的弯部，所述润滑构件设置于所述左右两侧的弯曲部的在所述侧面侧的外表面的至少一部分。

5.根据权利要求4所述的培养装置，其中，

所述弯部与设置于所述弯曲部的润滑构件抵接。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的培养装置，其中，

所述润滑构件在所述左右两侧的凸缘的外表面上设置于从后面侧起到10mm为止的区间。

7.根据权利要求2至5中任一项所述的培养装置，其中，

所述润滑构件在所述左右两侧的弯曲部的外表面上设置于从后面侧起到10mm为止的区间。

8.根据权利要求1至5中任一项所述的培养装置，其中，

所述润滑构件设置于所述基面的背面上的与所述左右两侧的搁板承接件抵接的区域的至少一部分。

9.根据权利要求8所述的培养装置，其中，

所述润滑构件设置于所述基面的背面上的与所述左右两侧的搁板承接件抵接的区域的从后面侧起到10mm为止的区间。

10.根据权利要求1至5中任一项所述的培养装置，其中，

所述润滑构件相对于所述搁板能够装卸或者与所述搁板为一体。

11.根据权利要求1至5中任一项所述的培养装置，其中，

所述润滑构件由具有100℃以上的耐热性的原料构成。

12.根据权利要求1至5中任一项所述的培养装置，其中，

所述润滑构件由具有200℃以上的耐热性的原料构成。

13.根据权利要求11所述的培养装置，其中，

所述润滑构件由包含聚醚醚酮(PEEK)、聚醚砜(PES)、聚酰胺酰亚胺(PAI)、硅酮橡胶或者氟橡胶的原料构成。

14.根据权利要求12所述的培养装置，其中，

所述润滑构件由包含聚醚醚酮(PEEK)、聚醚砜(PES)、聚酰胺酰亚胺(PAI)、硅酮橡胶或者氟橡胶的原料构成。

15.根据权利要求1至5中任一项所述的培养装置，其中，

所述润滑构件由具有抗菌性的原料构成。

16.根据权利要求1至5中任一项所述的培养装置，其中，

所述润滑构件是树脂材料。

17.根据权利要求16所述的培养装置，其中，

所述润滑构件由包含氮化硼、石墨或二硫化钼的树脂涂料、或者包含硅酮、聚缩醛(POM)或聚碳酸酯(PC)的树脂的成形物构成。

18.根据权利要求1至5中任一项所述的培养装置，其中，

所述润滑构件是氟涂料。

19.根据权利要求1至5中任一项所述的培养装置，其中，

所述润滑构件由对过氧化氢具有耐性的原料构成。

20.根据权利要求19所述的培养装置，其中，

所述润滑构件由包含聚碳酸酯(PC)或者聚偏氟乙烯(PVDF)的原料构成。

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