CN107394041B - 柔性基底及其制作方法、柔性显示面板和柔性显示装置 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了柔性基底及其制作方法、柔性显示面板和柔性显示装置。柔性基底的一具体实施方式包括：第一柔性衬底、形成于第一柔性衬底上的无机阻挡层以及覆盖无机阻挡层的第二柔性衬底；柔性基底包括多个子区域，多个子区域包括至少一个第一子区域和至少一个第二子区域；第一柔性衬底与第二柔性衬底在第一柔性衬底的边缘接触；沿着与第一柔性衬底的表面平行且由第一柔性衬底的几何中心向第一柔性衬底的边缘的方向上，第一子区域位于第二子区域靠近第一柔性衬底的边缘的一侧，位于第一子区域内的无机阻挡层的厚度大于位于第二子区域内的无机阻挡层的厚度。该实施方式可以避免制作过程中水氧进入柔性显示面板内部，并防止柔性基底两边发生翘曲。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域，具体涉及柔性显示技术领域，尤其涉及柔性基底及其制作方法、柔性显示面板和柔性显示装置。
背景技术
柔性显示屏，是由柔软的材料制成的可变形的显示装置，具有体积小、便携、低功耗等优势，被越来越广泛地应用在各个领域中。
柔性显示屏中采用柔性材料作为基底，在制作时通常将柔性材料涂布在刚性基板上，在器件层制作完毕并封装后从刚性基板上取下柔性显示面板。在将刚性基板和柔性基底分离的过程中，柔性基底容易破损，出现裂痕，环境中的水汽和氧气等可通过裂痕进入柔性显示面板，进而影响柔性显示屏的使用寿命。此外，在剥离刚性基板和柔性基底时，由于柔性基底上应力分布不均匀，尤其柔性基底的边缘区域应力相对集中，柔性基底的边缘容易发生翘曲，从而对后续的工艺制程造成影响，也对柔性显示屏的外观和使用产生了影响。
发明内容
为了解决上述背景技术部分的一个或多个技术问题，本申请实施例提供了柔性基底及其制作方法、柔性显示面板和柔性显示装置
一方面，本申请提供了一种柔性基底，包括：第一柔性衬底、形成于第一柔性衬底上的无机阻挡层以及覆盖无机阻挡层的第二柔性衬底；柔性基底包括多个子区域，多个子区域包括至少一个第一子区域和至少一个第二子区域；第一柔性衬底与第二柔性衬底在第一柔性衬底的边缘接触；沿着与第一柔性衬底的表面平行且由第一柔性衬底的几何中心向第一柔性衬底的边缘的方向上，第一子区域位于第二子区域靠近第一柔性衬底的边缘的一侧，位于第一子区域内的无机阻挡层的厚度大于位于第二子区域内的无机阻挡层的厚度。
第二方面，本申请提供了一种柔性基底的制作方法，柔性基底包括多个子区域，多个子区域包括至少一个第一子区域和至少一个第二子区域，柔性基底的制作方法包括：提供一刚性基板；在刚性基板上形成第一柔性衬底；在第一柔性衬底上形成厚度不均一的无机阻挡层，其中，沿着与第一柔性衬底的表面平行且由第一柔性衬底的几何中心向第一柔性衬底的边缘的方向上，第一子区域位于第二子区域靠近第一柔性衬底的边缘的一侧，位于第一子区域内的无机阻挡层的厚度大于位于第二子区域内的无机阻挡层的厚度；在无机阻挡层上形成覆盖无机阻挡层和第一柔性衬底的第二柔性衬底。
第三方面，本申请实施例提供了一种柔性显示面板，包括上述柔性基底、形成于上述柔性基底上的薄膜晶体管阵列层、有机发光器件层以及封装层。
第四方面，本申请实施例提供了一种柔性显示装置，包括上述柔性显示面板。
本申请实施例提供的柔性基底及其制作方法、柔性显示面板和柔性显示装置，将柔性基底设计为双层柔性衬底且双层柔性衬底之间具有厚度不均一的无机阻挡层，无机阻挡层在柔性基底的靠近边缘的第一子区域的厚度大于在柔性基底的靠近几何中心的第二子区域的厚度，能够实现环境中的水汽和氧气的隔绝，同时由于无机阻挡层比柔性衬底的硬度大，且无机阻挡层的硬度随着其厚度增加而增大，可以防止制作过程中将柔性基底从刚性基板上剥离时柔性基底的两边发生翘曲。
附图说明
通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
图1A是根据本申请的柔性基底的一个实施例的俯视结构示意图；
图1B是图1A所示的柔性基底沿AA’的剖面结构示意图；
图2A是根据本申请的柔性基底的另一个实施例的俯视结构示意图；
图2B是图2A所示的柔性基底沿BB’的剖面结构示意图；
图3A是根据本申请的柔性基底的再一个实施例的剖视结构示意图；
图3B是图3A所示的柔性基底沿CC’的剖面结构示意图；
图4A是根据本申请的柔性基底的又一个实施例的俯视结构示意图；
图4B是根据本申请的柔性基底的又一个实施例的俯视结构示意图；
图5A是根据本申请的柔性基底的又一个实施例的俯视结构示意图；
图5B是图5A所示的柔性基底沿DD’的一个剖面结构示意图；
图5C是图5A所示的柔性基底沿DD’的另一个剖面结构示意图；
图6是根据本申请的柔性基底的又一个实施例的剖视结构示意图；
图7A-图7E是根据本申请一种实施例提供的柔性基底的制作方法的工艺流程方法示意图；
图8A-图8C是根据本申请另一种实施例提供的柔性基底的制作方法的工艺流程方法示意图；
图9是根据本申请的柔性显示面板的一个实施例的剖视结构示意图；
图10是根据本申请的柔性显示面板的一个示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关发明，而非对该发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与有关发明相关的部分。
需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。
请参考图1A，其示出了根据本申请的柔性基底的一个实施例的俯视结构示意图，
在本实施例中，柔性基底100包括第一柔性衬底、无机阻挡层和第二柔性衬底(图1A仅示出了第一柔性衬底101)。如图1A所示，该柔性基底100包括多个子区域，多个子区域包括至少一个第一子区域11和至少一个第二子区域12。沿着与第一柔性衬底101的表面平行且由第一柔性衬底101的几何中心O向第一柔性衬底101的边缘的方向上(例如图1A所示F1方向)，第一子区域11位于第二子区域12靠近第一柔性衬底101边缘的一侧，也即第二子区域12位于第一子区域11靠近几何中心O的一侧。
图1B示出了图1A所示的柔性基底100沿AA’的剖面结构示意图。如图1B所示，本实施例的柔性基底100包括第一柔性衬底101、形成于第一柔性衬底101上的无机阻挡层21以及覆盖无机阻挡层21的第二柔性衬底102。在这里，无机阻挡层21包括位于第一子区域11的无机阻挡层110和位于第二子区域12的无机阻挡层120，位于第一子区域11的无机阻挡层110的厚度d1大于位于第二子区域12的无机阻挡层120的厚度d2。
在本实施例中，无机阻挡层21可以由无机材料制成，无机阻挡层21可以有效阻止水汽和氧气传输。通过双层柔性衬底结合无机阻挡层的设计，可以有效防止水汽和氧气等通过柔性基底进入柔性显示面板的内部而对柔性显示面板的使用寿命造成影响。
无机阻挡层21具有较强的硬度，与有机材料相比，其抗弯折能力较强，并且无机阻挡层厚度越大，抗弯折能力越强。通过将柔性基底设计为靠近第一柔性衬底101边缘的第一子区域11的无机阻挡层的厚度大于靠近第一柔性衬底102的几何中心的第二子区域12的无机阻挡层的厚度，在制作过程中从刚性基板上剥离柔性基底100时，由于柔性基底100的边缘位置的抗弯折能力强于中心位置的抗弯折能力，能够有效避免柔性基底100的边缘发生翘曲。
在本实施例中，第一柔性衬底101和第二柔性衬底102在第一柔性衬底101的边缘接触。通常第一柔性衬底101和第二柔性衬底102均采用有机材料制作，有机材料之间的结合力强于有机材料与无机材料间的结合力。通过将第一柔性衬底101和第二柔性衬底102在边缘处相接触能使二者良好地结合，可以增加第一柔性衬底101和第二柔性衬底102的粘合度，在剥离工艺或弯折时无机阻挡层21和第一柔性衬底101、第二柔性衬底102不易发生膜层分离。这样，即使位于靠近柔性基底边缘区域的无机阻挡层厚度较大，将该处第一柔性衬底和第二柔性衬底间隔开，第一柔性衬底和第二柔性衬底也可以在第一柔性衬底的边缘接触，使第一柔性衬底和第二柔性衬底更好的与无极阻挡层结合，使柔性衬底更好的跟随无机阻挡层的支撑而呈现平展状态，提高柔性基底的可靠性。
可选地，上述无机阻挡层的材料可以是：金属氧化物、氮化硅或氧化硅等。
可选地，上述第一柔性衬底和第二柔性衬底的材料可以是：聚酰亚胺、聚萘二甲酸乙二醇酷、聚对苯二甲酸乙二酷(PET)、聚芳酯、聚碳酸脂等。
继续参考图2A，其示出了根据本申请的柔性基底的另一个实施例的俯视结构示意图。
如图2A所示，在本实施例中，柔性基底200包括第一柔性衬底、无机阻挡层和第二柔性衬底(图2A仅示出了第一柔性衬底101)。如图2A所示，柔性基底200可以包括多个子区域，多个子区域可以包括至少一个第一子区域11、至少一个第二子区域12以及至少一个第三子区域13。沿着与第一柔性衬底101的表面平行且由第一柔性衬底101的几何中心O向第一柔性衬底101的边缘的方向上(例如图2A所示F2方向)，第一子区域11位于第二子区域12靠近第一柔性衬底101边缘的一侧，第三子区域13位于第一子区域11和第二子区域12之间。
图2B示出了图2A所示的柔性基底沿BB’的剖面结构示意图。如图2B所示，本实施例的柔性基底200包括第一柔性衬底101、形成于第一柔性衬底101上的无机阻挡层21以及覆盖无机阻挡层21的第二柔性衬底102。在这里，无机阻挡层21包括位于第一子区域11的无机阻挡层110、位于第二子区域12的无机阻挡层120以及位于第三子区域的无机阻挡层130。位于第一子区域11的无机阻挡层110的厚度d1大于位于第二子区域12的无机阻挡层120的厚度d2，位于第三子区域13内的无机阻挡层130的厚度d3大于位于第二子区域12内的无机阻挡层120的厚度d2，且位于第三子区域13内的无机阻挡层130的厚度d3小于位于第一子区域11内的无机阻挡层110的厚度d1，也即d1＞d3＞d2。
从图2B可以看出，在图1A和图1B所示柔性基底的基础上，本实施例的柔性基底200增加了第三子区域13的设计，第三子区域13位于第一子区域11和第二子区域12之间，第三子区域13的无机阻挡层的厚度也位于第一子区域11的无机阻挡层的厚度和第二子区域12的无机阻挡层的厚度之间，这样，本实施例的柔性基底200的无机阻挡层21的厚度可以由柔性基底的中心向边缘平缓过渡，使得柔性基底的应力能够均匀过渡，能够避免由无机阻挡层的厚度差形成的台阶位置处在弯折时应力突变而产生裂纹或不可逆的折痕。
此外，本实施例的柔性基底200，无机阻挡层具有至少三种不同的厚度，能够增大无机阻挡层与第二柔性衬底接触的面积，使无机阻挡层与第二柔性衬底可以更好地啮合，能够防止在从刚性基板上剥离柔性基底过程中无机阻挡层与第二柔性衬底膜层分离。
在进一步的实施例中，上述柔性基底200中，沿着与第一柔性衬底101的表面平行且由第一柔性衬底101的几何中心O向第一柔性衬底101的边缘方向上，位于各子区域内的无机阻挡层的厚度可以逐渐增大。
图3A示出了根据本申请的柔性基底的再一个实施例的剖视结构示意图，图3B示出了图3A所示的柔性基底沿CC’的剖面结构示意图。如图3A和图3B所示，柔性基底300包括第一柔性衬底301、形成于第一柔性衬底301上的无机阻挡层303以及覆盖无机阻挡层303的第二柔性衬底302。柔性基底300包括多个子区域31、32、33、34、35。如图3B所示，沿着由第一柔性衬底301的几何中心向边缘的方向，位于各子区域35、34、33、32、31内的无机阻挡层303的厚度逐渐增大。这样，可以使柔性基底的易弯折性由中心向边缘逐渐变差，避免边缘处在剥离工艺中发生翘曲，还可以增加中心区域的弯折可靠性，能够应用于中心区域弯折频率和弯折程度大于边缘区域的柔性显示面板。
需要说明的是，图3A示意性地示出了柔性基底中子区域的数量，在本申请的实施例中，柔性基底包含的子区域的数量可以为任意的，本申请对此没有限定。
进一步地，柔性基底300的各子区域可以为矩形区域，且各子区域沿第一方向D1排列，该第一方向与第一柔性衬底301的一条侧边平行。
在本实施例中，沿着与第一方向平行且由第一柔性衬底301的几何中心向第一柔性衬底的边缘的方向依次排列的各子区域35、34、33、32、31的无机阻挡层的厚度逐渐增大。即位于最靠近几何中心位置的子区域35的无机阻挡层的厚度最小，位于最靠近边缘位置的子区域31的无机阻挡层的厚度最大。
图3A和图3B所示的实施例中，每个子区域可以被无机阻挡层覆盖，相邻的子区域之间没有间隙，并且每个子区域内的无机阻挡层的厚度均一。可以看出，本实施例中柔性基底的无机阻挡层为整面结构，且厚度由中心向两边递减，有利于实现水氧的完全阻隔，同时台阶式的无机阻挡层设计可以使第二柔性衬底和无机阻挡层较好地啮合，保证膜层之间相对位置的稳定性。
进一步地，如图3A所示，柔性基底300可以应用于具有垂直于第一方向的折叠轴S的显示面板，该折叠轴可以穿过覆盖第一柔性衬底301的几何中心的子区域35。这样，在折叠轴附近无机阻挡层厚度最小，可以保证折叠轴附近具有良好的耐弯折性。
请参考图4A，其示出了根据本申请的柔性基底的又一个实施例的俯视结构示意图。如图4A所示，柔性基底400包括第一柔性衬底、无机阻挡层和第二柔性衬底(图4A仅示出了第一柔性衬底401)。如图4A所示，该柔性基底400包括多个子区域，多个子区域包括至少一个第一子区域41和至少一个第二子区域42。第一子区域41环绕第二子区域42。沿着与第一柔性衬底401的表面平行且由第一柔性衬底401的几何中心O向第一柔性衬底401的边缘的任意一个方向上(例如图4A所示F3方向)，第一子区域41位于第二子区域42靠近第一柔性衬底401边缘的一侧。
与图1所示柔性基底类似地，本实施例的柔性基底400也包括第一柔性衬底、形成于第一柔性衬底上的无机阻挡层以及覆盖无机阻挡层的第二柔性衬底。在这里，无机阻挡层包括位于第一子区域41的无机阻挡层和位于第二子区域42的无机阻挡层。位于第一子区域41的无机阻挡层410的厚度d1大于位于第二子区域42的无机阻挡层420的厚度d2。
进一步地，如图4A所示，柔性基底400的多个子区域还可以包括第三子区域43，第三子区域43环绕第二子区域42，且第一子区域41环绕第三子区域43。沿着与第一柔性衬底401的表面平行且由第一柔性衬底401的几何中心O向第一柔性衬底401的边缘的任意一个方向上(例如图4A所示F3方向)，第三子区域43位于第一子区域41和第二子区域42之间。并且，位于第三子区域43的无机阻挡层的厚度为d3，d1＞d3＞d2。
从图4A可以看出，本实施例的柔性基底400中心区域的无机阻挡层的厚度较环绕中心区域的周边区域的无机阻挡层的厚度薄，并且，无机阻挡层的厚度可以由中心区域向四周逐渐增大。通常柔性显示面板弯折时中心区域形变较大，弯折程度较大，将中心区域设置为无机阻挡层厚度最小的区域，可以防止弯折时中心区域在较大应力作用下膜层发生分离，增强中心区域的弯折可靠性；柔性显示面板弯折时弯折应力由中心向四周逐渐减小，通过将无机阻挡层的厚度设计为由中心向四周逐渐增大，可以有效地缓解不同区域不同程度的应力对柔性显示面板的损伤；同时可以防止在从刚性基板上剥离柔性基底的过程中周边区域发生翘曲。在从刚性基板上剥离柔性基底时，柔性基底的边缘位置相较于柔性基底的中心区域更容易产生翘曲，且不易恢复成平展状态，因此将周边的子区域设置成围绕中心区域的形状，并使柔性基底中心区域的无机阻挡层的厚度较环绕中心区域的周边区域的无机阻挡层的厚度薄，使柔性基底边缘区域抗弯折的能力均得到提高，使无机阻挡层的厚度分布更适合产品需求。
进一步地，图4A所示柔性基底400中，各子区域之间具有间隙，间隙处未填充无机阻挡层。这样，第一柔性衬底和第二柔性衬底可以在间隙处相互接触，进一步增强了第一柔性衬底和第二柔性衬底的粘合性，在弯折时第一柔性衬底和第二柔性衬底不易被分离。
继续参考图4B，其示出了根据本申请的柔性基底的又一个实施例的俯视结构示意图。与图4A不同的是，图4B的柔性基底的各子区域之间不具有间隙，无机阻挡层覆盖各子区域，位于同一个子区域内的无机阻挡层的厚度均一。并且，沿着由几何中心O到边缘的任意一个方向(例如图4B所示F4方向)上，位于不同子区域的无机阻挡层的厚度逐渐增大。本实施例中无机阻挡层为整面式结构，从而可以保证水氧的完全隔阻，并且通过不同子区域无机阻挡层不同厚度的设计，第二柔性衬底可以与无机阻挡层啮合，增大了无机阻挡层与第二柔性衬底的接触面积，能够防止膜层分离。
上述实施例中，每个子区域内的无机阻挡层可以具有均一的厚度，每个子区域内的无机阻挡层的图案可以为连续的。在本申请的另一些实施例中，每个子区域内的无机阻挡层的图案可以为不连续的，例如每个子区域可以包括多个相互之间具有间隙的无机阻挡块。
请参考图5A，其示出了根据本申请的柔性基底的又一个实施例的俯视结构示意图。
如图5A所示，本实施例的柔性基底500包括第一柔性衬底501、形成于第一柔性衬底501上的无机阻挡层以及覆盖无机阻挡层的第二柔性衬底。柔性衬底500包括多个子区域，多个子区域包括至少一个第一子区域51和至少一个第二子区域52。沿着与第一柔性衬底501的表面平行且由第一柔性衬底501的几何中心O向第一柔性衬底501的边缘的方向上(例如沿图5A所示F5方向)，第一子区域51位于第二子区域52靠近第一柔性衬底501的边缘的一侧，第二子区域52环绕第一子区域51。
第一子区域51可以包括多个无机阻挡块510，第二子区域可以包括多个无机阻挡块520，相邻的无机阻挡块之间可以具有间隙。可选地，第一子区域51内的无机阻挡块510和第二子区域52内的无机阻挡块520的尺寸可以相同。
进一步地，如图5A所示，柔性基底500的多个子区域还可以包括第三子区域53。沿着与第一柔性衬底501的表面平行且由第一柔性衬底501的几何中心O向第一柔性衬底501的边缘的方向上，第三子区域53位于第一子区域51和第二子区域52之间。在本实施例中，第三子区域53环绕第二子区域52，且第一子区域51环绕第三子区域53。
第三子区域53也可以包括多个无机阻挡块530，第三子区域53内的无机阻挡块530的尺寸可以与第一子区域51内的无机阻挡块510的尺寸以及第二子区域52内的无机阻挡块520的尺寸可以相同。
请参考图5B，其示出了图5A所示的柔性基底沿DD’的一个剖面结构示意图。
如图5A和5B所示，柔性基底500可以包括第一柔性衬底501、形成于第一柔性衬底501上的无机阻挡层503以及覆盖无机阻挡层51的第二柔性衬底502。第一柔性衬底501和第二柔性衬底502在第一柔性衬底501的边缘接触。无机阻挡层503包括多个无机阻挡块510、520、530，其中无机阻挡块510、520和530分别位于第一子区域51、第二子区域51和第三子区域53。相邻的两个无机阻挡块之间具有间隙。在本实施例中，位于第一子区域51的无机阻挡块510的厚度大于位于第二子区域52的无机阻挡块520的厚度，位于第三子区域53的无机阻挡块530的厚度大于位于第二子区域52的无机阻挡块520的厚度，且位于第三子区域53的无机阻挡块530的厚度小于位于第一子区域51的无机阻挡块510的厚度。
从图5A和图5B可以看出，本实施例通过采用非整面式、外围区域比中心区域厚度大且相互之间具有间隙的无机阻挡块的设计，能够保证柔性基底的边缘具有较强的硬度，避免制作过程中从刚性基板上剥离时边缘发生翘曲，同时，在制作第二柔性衬底时，第二柔性衬底材料可以填充在无机阻挡块的间隙处，使得第一柔性衬底与第二柔性衬底相互接触，增加粘合度。此外，由于厚度较大的第一子区域内的无机阻挡块环绕厚度较小的第二子区域内的无机阻挡块排布，能够保证中心区域的无机阻挡块厚度较小，从而保证中心区域具有良好的柔韧性。
在进一步的实施例中，上述柔性基底500可以具有至少一个弯折区，这些弯折区可以位于两个无机阻挡块之间的间隙。弯折区为弯折时形变量较大的区域，弯折区内可以具有弯折轴，柔性基底500可以沿着弯折轴进行弯折。可选地，弯折轴可以平行于第一柔性衬底表面，也可以与第一柔性衬底表面相交。
继续参考图5C，其示出了图5A所示的柔性基底沿DD’的另一个剖面结构示意图。
与图5B不同的是，图5C所示实施例中，柔性基底500的相邻两个无机阻挡块之间的间隙中填充有胶材504，胶材504可以将无机阻挡块510、520、530与第二柔性衬底502粘合，并与第一柔性衬底501粘合，能够增强第一柔性衬底501、无机阻挡层503以及第二柔性衬底502之间的粘合性，避免柔性基底500在从刚性基板上剥离或弯折时发生膜层分离。
可选地，上述胶材504的弹性模量大于第一柔性衬底501和第二柔性衬底502的弹性模量。这样，胶材504不仅可以增强柔性基底500各膜层之间的粘合性，还可以使柔性基底500具有更好的柔韧性，增强柔性基底的弯折可靠性。
请参考图6，其示出了根据本申请的柔性基底的又一个实施例的剖视结构示意图。
如图6所示，柔性基底600可以包括第一柔性衬底601、形成于第一柔性衬底601上的无机阻挡层以及覆盖无机阻挡层的第二柔性衬底，第一柔性衬底601和第二柔性衬底在第一柔性衬底601的边缘接触。柔性基底600可以包括多个子区域，多个子区域可以包括至少一个子区域61和至少一个子区域62。其中，沿着与第一柔性衬底601的表面平行且由第一柔性衬底601的几何中心O向第一柔性衬底的边缘方向上(例如沿图6所示F6方向)，第一子区域61位于第二子区域62靠近边缘的一侧。
无机阻挡层包括多个无机阻挡块，包括位于第一子区域61的无机阻挡块610和位于第二子区域62的无机阻挡块620，位于第一子区域61内的无机阻挡块610的厚度大于位于第二子区域62内的无机阻挡块620的厚度。相邻无机阻挡块之间具有间隙
与前述实施例不同的是，本实施例中各无机阻挡块的俯视图形可以为三角形，相邻无机阻挡块之间可以具有间隙。进一步地，上述柔性基底600可以具有至少一个弯折区，这些弯折区可以位于两个无机阻挡块之间的间隙。弯折区内可以具有弯折轴，柔性基底600可以沿着弯折轴进行弯折。
图6所示柔性基底600中，不同无机阻挡块之间的间隙可以沿不同的方向延伸，则形成于间隙内的弯折区和弯折轴可以沿不同的方向延伸。无机阻挡块之间的间隙处柔性基底具有良好的柔韧性，能够缓解较大的弯折应力，在实际设计和应用中可以根据需要来确定弯折区和弯折轴的位置，然后根据弯折区和弯折轴的位置来设定各子区域和各无机阻挡块的大小和位置，从而可以在保证柔性基底耐弯折性能的前提下实现更灵活的弯折方式设计。
需要说明的是，图5A和图6虽然以矩形和三角形为例示出了无机阻挡块的俯视形状，但并不构成对无机阻挡块的外形结构的限定，在本申请的其他实施例中，无机阻挡块的俯视结构还可以为其他多边形、圆形、椭圆形、不规则形状等。
本申请实施例还提供了柔性基底的制作方法，用于制作上述包括多个子区域的柔性基底，其中多个子区域包括至少一个第一子区域和至少一个第二子区域。
上述制作方法包括：首先提供一刚性基板；然后在刚性基板上形成第一柔性衬底；而后在第一柔性衬底上形成厚度不均一的无机阻挡层，其中，沿着与第一柔性衬底的表面平行且由第一柔性衬底的几何中心向第一柔性衬底的边缘的方向上，第一子区域位于第二子区域靠近第一柔性衬底的边缘的一侧，位于第一子区域内的无机阻挡层的厚度大于位于第二子区域内的无机阻挡层的厚度；之后在无机阻挡层上形成覆盖无机阻挡层和第一柔性衬底的第二柔性衬底。
在一些可选的实现方式中，可以通过如下方式形成上述厚度不均一的无机阻挡层：利用物理气相沉积或蒸镀的方式，在第一柔性衬底上逐层堆叠出厚度不均一的无机阻挡层。
在另一些可选的实现方式中，可以通过如下方式形成上述厚度不均一的无机阻挡层：在第一柔性衬底上形成待刻蚀的无机膜层；利用半色调掩膜版对无机膜层进行曝光；对无机膜层进行刻蚀，形成厚度不均一的无机阻挡层。可选地，半色调掩膜版的透过率均匀渐变。
以下以制作图3A和图3B所示柔性基底300为例，结合图7A-图7E进一步描述本申请实施例的柔性基底的一种制作方法的工艺流程。
首先，如图7A所示，提供刚性基板30，并在刚性基板上形成第一柔性衬底301，具体可以在刚性基板上涂布第一柔性衬底材料。然后，可以利用物理气相沉积或蒸镀的方式，在第一柔性衬底301上形成第一层无机膜层311，第一无机膜层311位于无机阻挡层中具有第一厚度的区域，该第一厚度为无机阻挡层的最小厚度。该第一层无机膜层311的厚度与柔性基底300中心位置的子区域35无机阻挡层的厚度，且该第一层无机膜层311覆盖所有子区域。
之后，如图7B所示，可以利用物理气相沉积或蒸镀的方式在第一层无机膜层311上堆叠第二层无机膜层312。第二层无机膜层312位于无机阻挡层中具有第二厚度的区域，该第二厚度大于上述第一厚度。该第二层无机膜层312的厚度与第一层无机膜层311的厚度之和为子区域34的无机阻挡层的厚度，且该第二层无机膜层312覆盖无机阻挡层的厚度不小于第一层无机膜层311和第二层无机膜层312的厚度之和的子区域(包括除子区域35之外的其他子区域)。
然后，如图7C所示，可以利用物理气相沉积或蒸镀的方式在第二层无机膜层312上堆叠第三层无机膜层313。第三层无机膜层313位于无机阻挡层中具有第三厚度的区域，该第三厚度大于上述第二厚度。该第三层无机膜层313的厚度与第一层无机膜层311、第二层无机膜层312的厚度之和为子区域33的无机阻挡层的厚度，且该第三层无机膜层313覆盖无机阻挡层的厚度不小于第一层无机膜层311、第二层无机膜层312以及第三层无机膜层313的厚度之和的子区域(包括子区域31、32、33)。
之后，如图7D所示，可以利用物理气相沉积或蒸镀的方式在第三层无机膜层313上堆叠形成第四层无机膜层314。第四层无机膜层314位于无机阻挡层中具有第四厚度的区域，该第四厚度大于上述第三厚度。该第四层无机膜层314的厚度与第一层无机膜层311、第二层无机膜层312、第三层无机膜层313的厚度之和为子区域32的无机阻挡层的厚度，且该第四层无机膜层314覆盖无机阻挡层的厚度不小于第一层无机膜层311、第二层无机膜层312、第三层无机膜层313以及第四层无机膜层314的厚度之和的子区域(包括子区域31和32)。
最后，如图7E所示，可以利用物理气相沉积或蒸镀的方式在第四层无机膜层314上堆叠形成第五层无机膜层315。第五层无机膜层315位于无机阻挡层中具有第五厚度的区域，该第五厚度大于上述第四厚度。该第五层无机膜层315的厚度与第一层无机膜层311、第二层无机膜层312、第三层无机膜层313、第四层无机膜层314的厚度之和为子区域31的无机阻挡层的厚度，且该第五层无机膜层315覆盖无机阻挡层的厚度不小于第一层无机膜层311、第二层无机膜层312、第三层无机膜层313、第四层无机膜层314以及第五层无机膜层315的厚度之和的子区域(包括子区域31)。然后在堆叠的第一层至第五层无机膜层上形成覆盖无机阻挡层和第一柔性衬底301的第二柔性衬底302。
从图7A-图7E可以看出，本实施例通过逐层堆叠的方式形成多层无机膜层，从而形成柔性基底中厚度不均一的无机阻挡层的图案，实现了可防止边缘翘曲且能够隔阻水汽和氧气进入内部的柔性基底的制作。
以下以制作图3A和图3B所示柔性基底300为例，结合图8A-图8C进一步描述本申请实施例的柔性基底的另一种制作方法的工艺流程。
首先，如图8A所示，提供刚性基板30，并在刚性基板上形成第一柔性衬底301，具体可以在刚性基板上涂布第一柔性衬底材料。之后在第一柔性衬底301上形成待刻蚀的无机膜层331，具体可以通过气相沉积或蒸镀的方式形成无机膜层331，该无机膜层331覆盖第一柔性衬底301除了边缘外的区域。
如图8B所示，可以在无机膜层331上覆盖光刻胶层332，然后利用半色调掩膜版M对无机膜层331进行曝光、显影。半色调掩膜版M可以包括多个透光率不同的区域，例如包括第一非透光区M1、第二半透光区M2、第三半透光区M3、第四半透光区M4以及第五半透光区M5，第一非透光区M1、第二半透光区M2、第三半透光区M3、第四半透光区M4以及第五半透光区M5的光透过率逐渐增大。第一非透光区M1、第二半透光区M2、第三半透光区M3、第四半透光区M4以及第五半透光区M5依次分别覆盖柔性基底的子区域31、32、33、34、35。
光线经过半色调掩膜版M后光刻胶332形成厚度不均一的图案，透光率高的区域经过曝光显影后光刻胶层的对应区域保留的光刻胶厚度比透光率低的区域曝光显影后光刻胶层的对应区域保留的光刻胶厚度小，由此，光刻胶层形成了厚度不一的图案。
之后，如图8C所示，可以对无机膜层进行刻蚀，可以采用湿刻、干刻、等离子体轰击、激光雕刻等方式刻掉光刻胶层和部分无机膜层，柔性基底上不同位置处被刻蚀掉的光刻胶层和无机膜层的总厚度相同，由于曝光显影后光刻胶厚度不均一，在刻蚀后就形成了厚度不均一的无机阻挡层303。然后可以在无机阻挡层303上形成覆盖无机阻挡层303和第一柔性衬底301的第二柔性衬底302。第一柔性衬底301和第二柔性衬底302可以在第一柔性衬底301的边缘相接触。
在一些实施例中，上述半色调掩膜版的透光率均匀渐变。例如半色调掩膜版的透光率由中心向两端逐渐减小，这样，在刻蚀无机膜层后形成的无机阻挡层形成中心薄、边缘厚、由中心向边缘厚度均匀渐变的形状，这时无机阻挡层在中心位置形成凹槽，第二柔性衬底可以嵌入该凹槽，能够有效地防止膜层分离。
本申请实施例还提供了一种柔性显示面板，包括上述实施例的柔性基底。
图9示出了根据本申请的柔性显示面板的一个实施例的剖视结构示意图。如图9所示，柔性显示面板900可以包括上述柔性基底，该柔性基底包括第一柔性衬底101、形成于第一柔性衬底101上的无机阻挡层21以及覆盖无机阻挡层21的第二柔性衬底102；柔性基底包括多个子区域，多个子区域包括至少一个第一子区域11和至少一个第二子区域12；第一柔性衬底与第二柔性衬底在第一柔性衬底的边缘接触；沿着与第一柔性衬底的表面平行且由第一柔性衬底的几何中心向第一柔性衬底的边缘的方向上，第一子区域位于第二子区域靠近第一柔性衬底的边缘的一侧，位于第一子区域内的无机阻挡层的厚度d1大于位于第二子区域内的无机阻挡层的厚度d2。
柔性显示面板900还包括形成于柔性基底上的薄膜晶体管阵列层103、有机发光器件层104以及封装层105。其中薄膜晶体管阵列层103用于形成驱动有机发光器件层104的发光元件进行发光的薄膜晶体管。有机发光器件层104可以包括发光元件的阳极层、发光材料层和阴极层。封装层105可以采用硅氧化物、硅氮化物、金属氧化物等材料形成。
本申请实施例还提供了一种柔性显示装置，如图10所示，该柔性显示装置1000包括上述各实施例的显示面板，可以为手机、平板电脑、可穿戴设备等。可以理解，柔性显示装置1000还可以包括驱动芯片、玻璃盖板等公知的结构，此处不再赘述。
以上描述仅为本申请的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解，本申请中所涉及的发明范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离所述发明构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。
Claims (14)
1.一种柔性基底，其特征在于，包括第一柔性衬底、形成于所述第一柔性衬底上的无机阻挡层以及覆盖所述无机阻挡层的第二柔性衬底；
所述柔性基底包括多个子区域，所述多个子区域包括至少一个第一子区域和至少一个第二子区域；
所述第一柔性衬底与所述第二柔性衬底在所述第一柔性衬底的边缘接触；
沿着与所述第一柔性衬底的表面平行且由所述第一柔性衬底的几何中心向所述第一柔性衬底的边缘的方向上，所述第一子区域位于所述第二子区域靠近所述第一柔性衬底的边缘的一侧，所述第一子区域环绕所述第二子区域，位于所述第一子区域内的无机阻挡层的厚度大于位于所述第二子区域内的无机阻挡层的厚度。
2.根据权利要求1所述的柔性基底，其特征在于，所述多个子区域还包括至少一个第三子区域；
沿着与所述第一柔性衬底的表面平行且由所述第一柔性衬底的几何中心向所述第一柔性衬底的边缘的方向上，所述第三子区域位于所述第一子区域和所述第二子区域之间，位于所述第三子区域内的无机阻挡层的厚度大于位于所述第二子区域内的无机阻挡层的厚度，且位于所述第三子区域内的无机阻挡层的厚度小于位于所述第一子区域内的无机阻挡层的厚度。
3.根据权利要求2所述的柔性基底，其特征在于，沿着与所述第一柔性衬底的表面平行且由所述第一柔性衬底的几何中心向所述第一柔性衬底的边缘的方向上，位于各所述子区域内的无机阻挡层的厚度逐渐增大。
4.根据权利要求1所述的柔性基底，其特征在于，每个所述子区域包括多个无机阻挡块，且相邻两个无机阻挡块之间具有间隙。
5.根据权利要求4所述的柔性基底，其特征在于，相邻两个无机阻挡块之间的间隙中填充有胶材。
6.根据权利要求5所述的柔性基底，其特征在于，所述胶材的弹性模量大于所述第一柔性衬底和所述第二柔性衬底的弹性模量。
7.根据权利要求4所述的柔性基底，其特征在于，其特征在于，所述柔性基底具有至少一个弯折区；
所述弯折区位于两个所述无机阻挡块之间的间隙。
8.根据权利要求1所述的柔性基底，其特征在于，所述无机阻挡层覆盖各所述子区域，各所述子区域之间不具有间隙，且位于同一个子区域内的无机阻挡层的厚度均一。
9.一种柔性基底的制作方法，其特征在于，所述柔性基底包括多个子区域，所述多个子区域包括至少一个第一子区域和至少一个第二子区域，所述方法包括：
提供一刚性基板；
在所述刚性基板上形成第一柔性衬底；
在所述第一柔性衬底上形成厚度不均一的无机阻挡层，其中，沿着与所述第一柔性衬底的表面平行且由所述第一柔性衬底的几何中心向所述第一柔性衬底的边缘的方向上，所述第一子区域位于所述第二子区域靠近所述第一柔性衬底的边缘的一侧，所述第一子区域环绕所述第二子区域，位于所述第一子区域内的无机阻挡层的厚度大于位于所述第二子区域内的无机阻挡层的厚度；
在所述无机阻挡层上形成覆盖所述无机阻挡层和所述第一柔性衬底的第二柔性衬底。
10.根据权利要求9所述的制作方法，其特征在于，所述方法包括通过如下方式形成所述厚度不均一的无机阻挡层：
利用物理气相沉积或蒸镀的方式，在所述第一柔性衬底上逐层堆叠出厚度不均一的无机阻挡层。
11.根据权利要求10所述的制作方法，其特征在于，所述方法包括通过如下方式形成所述厚度不均一的无机阻挡层：
在所述第一柔性衬底上形成待刻蚀的无机膜层；
利用半色调掩膜版对所述无机膜层进行曝光；
对所述无机膜层进行刻蚀，形成厚度不均一的无机阻挡层。
12.根据权利要求11所述的制作方法，其特征在于，所述半色调掩膜版的透光率均匀渐变。
13.一种柔性显示面板，其特征在于，包括如权利要求1-8任一项所述的柔性基底、形成于所述柔性基底上的薄膜晶体管阵列层、有机发光器件层以及封装层。
14.一种柔性显示装置，其特征在于，包括如权利要求13所述的柔性显示面板。
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