CN106536197A - 层叠膜及层叠体、以及波长转换片材、背光单元及电致发光单元 - Google Patents

层叠膜及层叠体、以及波长转换片材、背光单元及电致发光单元 Download PDF

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Abstract

本发明提供一种层叠膜(20)，其具备阻隔膜(11)和形成于该阻隔膜(11)上的易粘接层(10)。层叠膜(20)中，易粘接层(10)含有：含具有反应性碳碳双键的基团及2个以上羟基的聚合物；以及聚异氰酸酯，易粘接层(10)的厚度为0.01μm以上且1μm以下。

Description

层叠膜及层叠体、以及波长转换片材、背光单元及电致发光 单元
技术领域
本发明涉及层叠膜及层叠体、以及波长转换片材、背光单元及电致发光单元。
背景技术
液晶显示器的背光单元及电致发光单元等发光单元中，随着发光体或荧光体与氧或水蒸汽接触、经过长时间，作为发光体或荧光体的性能有时会降低。因而，这些发光单元中，经常使用在高分子膜上形成阻气层、进而涂布粘接剂等而得到的层叠膜作为发光体或荧光体等的包装材料或保护材料。
然而，上述层叠膜中，由于未获得所构成的层间的密合性，因此有时无法获得充分的阻气性。因此，例如专利文献1中，为了构成阻隔性层叠体以提高含环氧系粘接剂的粘接层与有机层的密合性，作为有机层的材料使用末端含羟基的(甲基)丙烯酸酯。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2011-56908号公报
发明内容
发明要解决的技术问题
但是，根据本发明人的探讨，即便是使用专利文献1所记载的阻隔性层叠体，目前还不能说获得了充分的密合性。本发明的目的在于提供可提高密合性、可获得优异的不透湿性的层叠膜及层叠体、以及由它们获得的波长转换片材、背光单元及电致发光单元。
用于解决课题的方法
本发明提供一种层叠膜，其具备阻隔膜和形成于该阻隔膜上的易粘接层，上述易粘接层含有：含具有反应性碳碳双键的基团及2个以上羟基的聚合物；以及聚异氰酸酯，上述易粘接层的厚度为0.01μm以上且1μm以下。本发明的层叠膜中，通过易粘接层具备上述构成，可以提高层叠膜的密合性、可以获得优异的不透湿性。
上述层叠膜中，从通用性及反应性的观点出发，优选上述具有反应性碳碳双键的基团为丙烯酰基。
上述层叠膜中，优选：上述阻隔膜含有第一高分子膜和形成在该第一高分子膜上的不透湿层，上述易粘接层形成在上述阻隔膜的上述不透湿层一侧。阻隔膜通过具备上述构成，易于获得充分的不透湿性。
上述层叠膜中，上述不透湿层优选含有具有选自铝、钛、铜、铟及硅中的至少1种原子的氧化物、氮化物或氮化氧化物的层。不透湿层通过具备上述构成，易于兼顾透明性和不透湿性。
上述层叠膜中，优选：上述阻隔膜进一步具备配置于上述不透湿层上的第二高分子膜，上述易粘接层优选形成于上述第二高分子膜上。通过阻隔膜具备上述构成，可以进一步抑制加工及流通等中的破损。
上述层叠膜的总光线透过率优选为80％以上。通过总光线透过率为80％以上，可以优选地使用层叠膜作为发光单元。进而，上述层叠膜优选是用于保护荧光体的层叠膜。
本发明还提供一种层叠体，其具备使上述层叠膜的上述易粘接层固化而获得的固化层叠膜；和形成在该固化层叠膜的经固化的上述易粘接层一侧表面上的树脂膜。
本发明还提供一种波长转换片材，其具备波长转换层和形成于上述波长转换层的两面上的一对保护膜，上述保护膜中的至少一者是将上述层叠膜的上述易粘接层固化而获得的固化层叠膜。根据本发明的波长转换片材，可以提高与波长转换层的密合性，即使在高温下的长期保存后也可维持优异的外观和发光效率。
本发明还提供一种背光单元，其具备发光二极管光源和上述波长转换片材。根据使用了上述层叠膜的背光单元，可以抑制外部的氧或水蒸汽接触于波长转换层，可以在没有荧光体劣化的情况下长时间地使用背光。
本发明还提供一种电致发光单元，其具备电致发光层和使上述层叠膜的上述易粘接层固化获得的固化层叠膜。根据使用了上述层叠膜的电致发光单元，可以抑制外部的氧或水蒸汽接触于电致发光层、可以在没有电致发光层的劣化的情况下长时间地使用电致发光单元。
发明效果
根据本发明，可以提供能够提高密合性、可获得优异的不透湿性的层叠膜及层叠体，以及由它们获得的波长转换片材、背光单元及电致发光单元。
附图说明
图1是本发明一个实施方式的层叠膜的概略截面图。
图2是本发明一个实施方式的层叠体的概略截面图。
图3是本发明第一实施方式的波长转换片材的概略截面图。
图4是本发明第二实施方式的波长转换片材的概略截面图。
图5是本发明一个实施方式的液晶显示器用的背光单元的概略截面图。
图6是本发明一个实施方式的电致发光单元的概略截面图。
具体实施方式
以下，对本发明的实施方式详细地说明。另外，本发明并非限定于以下的实施方式。
[层叠膜20]
图1是本发明一个实施方式的层叠膜的概略截面图。本实施方式的层叠膜20具备第一高分子膜2、形成于第一高分子膜2上的不透湿层4、形成于不透湿层4上的第二高分子膜8、以及形成于第二高分子膜8上的易粘接层10。图1中，将第二高分子膜8介由粘合层或粘接层6配置在不透湿层4上。
图1中，可以将除易粘接层10以外的层一并称作阻隔膜11。阻隔膜11是具有阻气性的膜，阻隔膜11的构成并非限定于图1所示的构成。例如，层叠膜20中，阻隔膜11也可以含有第一高分子膜2和形成于该第一高分子膜2上的不透湿层4。此时，易粘接层10可以形成在阻隔膜11的不透湿层4一侧。阻隔膜11通过具备第一高分子膜2和不透湿层4，易于获得充分的强度和不透湿性。另外，层叠膜20中，阻隔膜11还可以进一步含有配置在不透湿层4上的第二高分子膜8。此时，易粘接层10可以形成在第二高分子膜8上。阻隔膜11通过具备第二高分子膜8，可以进一步抑制加工及流通等中的破损。
本实施方式的层叠膜20中，不透湿层4也可介由锚涂层(未图示)形成在第一高分子膜2上。另外，第二高分子膜8也可不介由粘合层或粘接层6地配置在不透湿层4上。另外，易粘接层10还可介由锚涂层(未图示)形成在第二高分子膜8上。
本实施方式的层叠膜20可优选作为发光体或荧光体用的保护膜使用。从优选作为发光体或荧光体用的保护膜使用的观点出发，层叠膜20的总光线透过率优选为80％以上、更优选为85％以上。
(第一高分子膜2)
第一高分子膜2是用于抑制加工及流通等中的破损的层。作为第一高分子膜2的材质，例如可举出聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯及聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯；尼龙等聚酰胺；聚丙烯及环烯烃等聚烯烃；聚碳酸酯；以及三乙酰基纤维素等，但并非限定于这些。第一高分子膜2优选是聚酯膜、聚酰胺膜或聚烯烃膜，更优选为聚酯膜或聚酰胺膜，进一步优选为聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。另外，第一高分子膜2优选经双轴拉伸。
第一高分子膜2还可根据需要含有防静电剂、紫外线吸收剂、增塑剂及润滑剂等添加剂。另外，第一高分子膜2的表面还可经过电晕处理、火焰处理或等离子体处理。
第一高分子膜2的厚度并无特别限定，优选为3μm以上且100μm以下、更优选为5μm以上且50μm以下。
(不透湿层4)
不透湿层4是用于抑制水蒸汽浸入到发光单元中的层。不透湿层4可以是单层、也可以是多层。不透湿层4优选是透明的。另外，从透明性的观点出发，不透湿层4优选利用真空成膜形成。
不透湿层4根据需要介由锚涂层形成在第一高分子膜2上。作为锚涂层，可举出聚酯树脂等，锚涂层的厚度为0.01～10μm左右。不透湿层4的形成方法并无特别限定，从进一步提高不透湿性的方面出发，优选为真空成膜。作为真空成膜，可举出物理气相沉积法及化学气相沉积法等。作为物理气相沉积法，可举出真空蒸镀法、溅射法及离子镀法等，但并非限于这些。作为化学气相沉积(CVD)法，可举出热CVD法、等离子体CVD法及光CVD法等，但并非限定于这些。
不透湿层4的形成方法优选为真空蒸镀法、溅射法或等离子体CVD法，更优选为电阻加热式真空蒸镀法、电子束(Electron Beam)加热式真空蒸镀法、感应加热式真空蒸镀法、反应性溅射法、双靶磁控溅射法或等离子体化学气相沉积法(PECVD法)。不透湿层4的形成方法从不透湿性的观点出发可以是溅射法，从成本的观点出发可以是真空蒸镀法，可根据用途进行选择。
作为溅射法及等离子体CVD法中的等离子体的生成方法，可举出DC(直流电，Direct Current)方式、RF(射频，Radio Frequency)方式、MF(中频，Middle Frequency)方式、DC脉冲方式、RF脉冲方式及DC+RF重叠方式等。
为溅射法时，在作为阴极的靶上产生负的电位梯度，Ar+离子接收到电位能量，冲撞至靶上。这里，即便是产生了等离子体，如果不产生负的自负偏压时，则无法进行溅射。因此，由于MW(微波，Micro Wave)等离子体不产生自偏压，因而不适于溅射。但是，PECVD法中，由于利用等离子体中的气相反应，化学反应、沉积和工艺进行，因而即便没有自偏压也可形成膜，因此能够利用MW等离子体。
利用真空成膜形成时，一般来说形成金属或氧化物的膜，通常形成铝、钛、铜、铟或锡等金属、这些金属的金属氧化物(氧化铝等)或硅的氧化物的膜。另外，不仅是金属或氧化物，也可形成氮化物等膜。另外，也可形成含有多个金属的膜。不透湿层4从透明性和不透湿性的两者优异的方面出发，优选含有具有选自铝、钛、铜、铟及硅中的至少1种原子的氧化物、氮化物、或氮化氧化物的层。不透湿层4从不透湿性更为优异的方面出发，更优选含有硅氧化物或氮化氧化物的层。
利用真空成膜形成的不透湿层4的厚度优选为5nm以上且100nm以下。利用真空成膜形成的不透湿层4的厚度为5nm以上时，有能够获得水蒸汽阻隔性的倾向。另外，利用真空成膜形成的不透湿层4的厚度为100nm以下时，有抑制因固化收缩导致的裂纹的产生、防止因裂纹导致的水蒸汽阻隔性降低的倾向。进而，当不透湿层4的厚度为1000nm以下时，由于因材料使用量的减少及膜形成时间的缩短等可以降低成本，因而从经济的观点出发优选。
不透湿层4还可以在大气中形成。当在大气中形成不透湿层4时，例如可以使用含有聚偏氯乙烯等含氯的化合物以及含Si原子、Ti原子、Al原子及Zr原子等原子的化合物的涂布液来形成金属等的氧化物膜。另外，还可以将真空中形成的层与大气中形成的层组合来构成不透湿层4。
作为在大气中形成不透湿层4时的涂布液的涂布方法，具体地可举出利用凹版涂布机、浸涂机、反向涂布机、丝棒涂布机及模涂机等进行的涂布方法。
作为含Si原子的化合物，例如可举出硅烷化合物。氧化物膜优选是硅烷化合物所具有的硅烷醇基发生反应所形成的。作为这种硅烷化合物，可举出下述式(1)所示的化合物。
R1 n(OR2)4-nSi (1)
式(1)中，n为0～3的整数，R1及R2分别为烃基、优选是碳数为1～4的烷基。作为上述式(1)所示的化合物，例如可举出四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、四丁氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷及二甲基二乙氧基硅烷等。也可使用含氮的聚硅氮烷。
作为含Ti原子的化合物，例如可举出下述式(2)所示的化合物。
R1 n(OR2)4-nTi (2)
式(2)中，n为0～3的整数，R1及R2分别为烃基、优选是碳数为1～4的烷基。作为上述式(2)所示的化合物，例如可举出四甲氧基钛、四乙氧基钛、四异丙氧基钛及四丁氧基钛等。
作为含Al原子的化合物，例如可举出下述式(3)所示的化合物。
R1 n(OR2)4-nAl (3)
式(3)中，n为0～3的整数，R1及R2分别为烃基、优选是碳数为1～4的烷基。作为上述式(3)所示的化合物，例如可举出四甲氧基铝、四乙氧基铝、四异丙氧基铝及四丁氧基铝等。
作为含Zr原子的化合物，例如可举出下述式(4)所示的化合物。
R1 n(OR2)4-nZr (4)
式(4)中，n为0～3的整数，R1及R2分别为烃基、优选是碳数为1～4的烷基。作为上述式(4)所示的化合物，例如可举出四甲氧基锆、四乙氧基锆、四异丙氧基锆及四丁氧基锆等。上述式(1)～(4)中，R1、R2及n各自独立。
在大气中形成不透湿层4时，将上述涂布液涂布后使其固化。作为固化方法并无特别限定，可举出紫外线固化及热固化等。为紫外线固化时，涂布液可以含有聚合引发剂及具有双键的化合物。另外，还可根据需要进行加热熟化。
在大气中形成不透湿层4时，还可以将镁、钙、锌、铝、硅、钛、锆等无机氧化物的粒子之间介由磷化合物来源的磷原子进行脱水缩合而获得的反应产物作为不透湿层4。具体地说，存在于无机氧化物表面的官能团(例如羟基)与能够与该无机氧化物反应的磷化合物的部位(例如直接键合于磷原子的卤原子或直接键合于磷原子的氧原子)发生缩合反应、进行键合。反应产物例如如下获得：将含有无机氧化物和磷化合物的涂布液涂布在基材的表面上，对所形成的涂膜进行热处理，从而进行无机氧化物的粒子之间介由磷化合物来源的磷原子而发生键合的反应，从而获得。热处理的温度下限为110℃、优选为120℃、更优选为140℃、进一步优选为170℃。热处理温度低时，难以获得充分的反应速度，导致生产率降低。热处理的温度的优选上限随基材的种类等有所不同，为220℃、优选为190℃。热处理可以在空气中、氮气氛下或氩气氛等下实施。
在大气中形成不透湿层4时，只要不发生凝聚等，则上述涂布液还可进一步含有树脂。作为上述树脂，具体地可举出丙烯酸树脂、聚酯树脂、聚乙烯醇及聚乙烯吡咯烷酮等。上述涂布液优选含有这些树脂中与涂布液中的其他材料的相容性高的树脂。
上述涂布液还可根据需要进一步含有填充剂、流平剂、消泡剂、紫外线吸收剂、抗氧化剂以及与上述物质不同的硅烷偶联剂及钛螯合剂等。
在大气中形成的不透湿层4的厚度优选为50nm～1000nm、更优选为100nm～800nm。大气中形成的不透湿层4的厚度为50nm以上时，有膜形成变得容易的倾向。大气中形成的不透湿层4的厚度为1000nm以下时，有可以抑制断裂或弯曲的倾向。
不透湿层4还可以是具备通过真空成膜所形成的层和通过涂布液所形成的层的多层膜。另外，上述多层膜通过成为将通过真空成膜所形成的层和通过涂布液所形成的层交替层叠多次而形成的结构，可以进一步提高阻隔性。
另外，为了提高与粘合层或粘接层6的粘接性或不透湿层4的弯曲耐受性，还可以在不透湿层4上形成有涂布层。在通过真空成膜形成的不透湿层4上形成上述涂布层时，例如从提高粘合层或粘接层6与涂布层的密合性的观点出发，优选使用例如PAA(聚丙烯酸)及PMAA(聚甲基丙烯酸)等丙烯酸或甲基丙烯酸的均聚物、EAA(乙烯丙烯酸共聚物)、EMAA(乙烯甲基丙烯酸共聚物)等使含丙烯酸或甲基丙烯酸的单体共聚而成的共聚物来形成涂布层。
(第二高分子膜8)
第二高分子膜8也可根据需要介由粘合层或粘接层6配置在不透湿层4上。作为第二高分子膜8，例如可举出聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯及聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯；尼龙等聚酰胺；聚丙烯及环烯烃等聚烯烃；聚碳酸酯；以及三乙酰基纤维素等，但并非限定于这些。第二高分子膜8优选是聚酯膜或聚酰胺膜、更优选是聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。另外，第二高分子膜8优选经双轴拉伸。
第二高分子膜8还可根据需要含有防静电剂、紫外线吸收剂、增塑剂及润滑剂等添加剂。另外，第二高分子膜8的表面还可经过电晕处理、火焰处理及等离子体处理。
第二高分子膜8的厚度并无特别限定，优选为3μm以上且100μm以下、更优选为5μm以上且50μm以下。
粘合层或粘接层6通过在不透湿层4上优选地涂布胶粘剂的溶液、在涂布面上粘贴第二高分子膜8来形成。作为粘合剂或粘接剂(胶粘剂)，可以使用作为高分子膜用的胶粘剂通常使用的物质，根据不透湿层4的表面适当地选择。作为胶粘剂，可举出聚酯系、丙烯酸系、橡胶系、酚系及氨基甲酸酯系等胶粘剂。
作为胶粘剂的溶剂的涂布方法，可举出利用凹版涂布机、浸涂机、反向涂布机、丝棒涂布机及模涂机等进行的涂布方法。
另外，粘合层或粘接层6的厚度优选为1μm以上且20μm以下。通过粘合层或粘接层6为1μm以上，有获得粘接性的倾向，通过为20μm以下，有可以抑制表面不良或成本提高的倾向。另外，可以在胶粘剂的溶液的涂布面上粘贴第二高分子膜8之后进行熟化。熟化例如在20～80℃下进行1～10日。
胶粘剂还可根据需要含有固化剂、防静电剂、硅烷偶联剂、紫外线吸收剂、抗氧化剂、流平剂及分散剂等。
本发明的层叠膜20中，阻隔膜11可以具有下述构成例1～10所示的构成。参照图1说明层叠膜20可以具有的构成例1～10。
构成例1：第一高分子膜2/不透湿层4
作为阻隔膜11的基本构成，至少由第一高分子膜2和不透湿层4构成。
构成例1-a：高分子膜/通过真空成膜形成的不透湿层
不透湿层4的形成方法并无特别限定，从进一步提高不透湿性的方面出发，优选能够形成致密的膜的真空成膜。
构成例1-b：高分子膜/在大气中形成的不透湿层
不透湿层4还可以在大气中形成。在大气中形成不透湿层4时，例如可以使用含有聚偏氯乙烯等含氯的化合物及含Si原子、Ti原子、Al原子、Zr原子等的化合物的涂布液来形成氧化物膜，从而制成不透湿层。
构成例2：第一高分子膜2/锚涂层/不透湿层4
不透湿层4还可介由锚涂层形成在第一高分子膜2上。
构成例3：第一高分子膜2/不透湿层4/密封层
进而还可在不透湿层4上形成密封层(未图示)。通过防止不透湿层4的损伤，可以进一步提高不透湿性。在不透湿层4上形成上述密封层时，例如优选使用PAA(聚丙烯酸)或PMAA(聚甲基丙烯酸)等丙烯酸或甲基丙烯酸的均聚物、EAA(乙烯丙烯酸共聚物)、EMAA(乙烯甲基丙烯酸共聚物)等使含有丙烯酸或甲基丙烯酸的单体共聚而成的共聚物来形成密封层。
构成例4：第一高分子膜2/通过真空成膜形成的不透湿层/在大气中形成的不透湿层
不透湿层4还可以是具备通过真空成膜形成的不透湿层和在大气中通过涂布液形成的不透湿层的多层膜。
构成例5：第一高分子膜2/通过真空成膜形成的不透湿层/在大气中形成的不透湿层/…/通过真空成膜形成的不透湿层/在大气中形成的不透湿层
不透湿层4还可以是将通过真空成膜所形成的不透湿层和在大气中通过涂布液形成的不透湿层交替层叠了多次而形成的多层膜。通过不透湿层4具有上述多层膜的结构，可以进一步提高阻隔性。
构成例6：第一高分子膜2/通过真空成膜形成的不透湿层4/(甲基)丙烯酸酯树脂层
构成例7：第一高分子膜2/(甲基)丙烯酸酯树脂层/通过真空成膜形成的不透湿层4/(甲基)丙烯酸酯树脂层
构成例8：第一高分子膜2/(甲基)丙烯酸酯树脂层/提高真空成膜形成的不透湿层/(甲基)丙烯酸酯树脂层/…/通过真空成膜形成的不透湿层/(甲基)丙烯酸酯树脂层
另外，通过采用层叠了通过真空成膜形成的不透湿层和(甲基)丙烯酸酯树脂层的构成(构成例6)、或用丙烯酸酯树脂层夹持了通过真空成膜形成的不透湿层的构成(构成例7)，可以提高不透湿层4的不透湿性。特别是，通过将交联性的官能(甲基)丙烯酸酯闪蒸蒸镀或涂布在不透湿层上、利用电子束或热使其交联而制成层叠了数次(甲基)丙烯酸酯树脂层和不透湿层的构成(构成例8)，可以进一步提高不透湿性。
构成例9：第一高分子膜2/不透湿层4/粘合层或粘接层6/第二高分子膜8
作为其他的构成，还可以将粘合剂的溶液涂布在不透湿层4上后将第二高分子膜8粘贴在涂布膜上。通过介由粘合层或粘接层6将第二高分子膜8粘贴在不透湿层4上，可以抑制不透湿层4的损伤、进一步提高不透湿性。
构成例10：第一高分子膜2/第一不透湿层4/粘合层或粘接层6/第二不透湿层/第二高分子膜8
进而，还可在第二高分子膜8上形成第二不透湿层(未图示)。由此，可以进一步提高不透湿性。另外，当在第二高分子膜8上形成第二不透湿层时，优选是在粘合层一侧配置了第二不透湿层的构成。
(易粘接层10)
易粘接层10形成在第二高分子膜8上(阻隔膜11上)。易粘接层10含有：含具有反应性碳碳双键的基团及2个以上羟基的聚合物；以及聚异氰酸酯。易粘接层10还可以进一步含有后述的含具有反应性碳碳双键的基团及羟基的单体。反应性碳碳双键是指能够发生自由基聚合或阳离子聚合的碳碳双键。具有反应性碳碳双键的基团优选是具有烯键式不饱和双键的基团，例如更优选苯乙烯基或(甲基)丙烯酰基等，进一步优选丙烯酰基。通过具有反应性碳碳双键的基团为丙烯酰基，有反应性提高、获得更优异的密合性的倾向。
含具有反应性碳碳双键的基团及2个以上羟基的聚合物通过对含具有反应性碳碳双键的基团的单体进行聚合来获得。上述单体可以由1种单体构成、也可由多种单体构成。聚合物的制造中使用的单体由1种单体构成时，上述单体是含具有反应性碳碳双键的基团及具有羟基的基团的单体。另外，当聚合物的制造中使用的单体由多种单体构成时，上述单体可以是含具有反应性碳碳双键的基团及羟基的单体与含具有反应性碳碳双键的基团的其他单体的组合。
上述含具有反应性碳碳双键的基团的单体优选是含(甲基)丙烯酰基的单体或含苯乙烯基的单体，更优选是含(甲基)丙烯酰基的单体。作为含(甲基)丙烯酰基的单体，例如可举出(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸烷基酯、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯及环氧(甲基)丙烯酸酯等。上述(甲基)丙烯酸烷基酯的烷基的碳数例如为1～5。另外，含具有反应性碳碳双键的基团及羟基的单体优选是含(甲基)丙烯酰基及羟基的单体、或含苯乙烯基及羟基的单体，更优选是含(甲基)丙烯酰基及羟基的单体。作为含(甲基)丙烯酰基及羟基的单体，可举出(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羟基烷基酯及季戊四醇三丙烯酸酯等。上述(甲基)丙烯酸羟基烷基酯的烷基的碳数例如为1～5。
另外，上述聚合物可以是仅由单体聚合而得，也可以是将预先获得的丙烯酸预聚物与单体聚合而获得。上述丙烯酸预聚物是对丙烯酸、甲基丙烯酸及(甲基)丙烯酸缩水甘油酯等丙烯酸单体进行聚合而获得的聚合物，对至少1种含羟基的丙烯酸单体进行聚合而获得。作为含羟基的丙烯酸单体，例如可举出(甲基)丙烯酸羟基乙酯、(甲基)丙烯酸羟基丙酯及N-羟甲基丙烯酰胺等。上述丙烯酸预聚物的重均分子量优选为5000～10000。
对上述聚合物进行紫外线照射来获得时，聚合是在光聚合引发剂的存在下进行。作为光聚合引发剂，例如可举出苯乙酮类、苯偶姻类、二苯甲酮类、氧化膦类、缩酮类、蒽醌类及噻吨酮类等。
另外，聚合还可根据需要在正丁基胺、三乙基胺、聚正丁基膦等光增感剂、防静电剂、硅烷偶联剂、紫外线吸收剂、抗氧化剂、流平剂及分散剂等的存在下进行。
作为上述聚异氰酸酯，作为原材料可举出甲苯二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯及二甲苯二异氰酸酯等。上述聚异氰酸酯还可以是使异氰酸酯之间反应而获得的预聚物、或使异氰酸酯与醇反应而获得的预聚物。易粘接层10中的聚异氰酸酯的含量相对于含具有反应性碳碳双键的基团及2个以上羟基的聚合物100质量份，优选为1～100质量份、更优选为3～60质量份。
易粘接层10例如如下获得：将含有含具有反应性碳碳双键的基团及2个以上羟基的聚合物以及聚异氰酸酯的粘接剂涂布在第二高分子膜8上(阻隔膜11上)，对涂布膜进行干燥，从而获得。上述粘接剂优选含有：含具有反应性碳碳双键的基团及2个以上羟基的聚合物、聚异氰酸酯、溶解上述聚合物及聚异氰酸酯的溶剂。作为溶剂，例如可以使用甲乙酮、甲基异丁基酮、环己酮、醋酸乙酯、醋酸丁酯、甲醇、乙醇、异丙醇及丁醇等。
上述粘接剂含有溶剂时，上述粘接剂的固体成分量以粘接剂总量为基准优选为0.5～30质量％、更优选为1～10质量％。
作为粘接剂在第二高分子膜8上(阻隔膜11上)的涂布方法，例如可举出凹版涂布机、浸涂机、反向涂布机、丝棒涂布机及模涂机等。另外，涂布膜的干燥例如通过在50～250℃加热1秒～20分钟来进行。
如上获得的易粘接层10的厚度为0.01μm以上且1μm以下。易粘接层10的厚度优选为0.02μm以上、更优选为0.05μm以上、进一步优选为0.1μm以上。通过易粘接层10的厚度为0.01μm以上，有密合性提高的倾向。另外，易粘接层10的厚度优选为0.8μm以下、更优选为0.5μm以下。通过易粘接层10的厚度为1μm以下，有易粘接层10难以受到来自外部的应力的影响、密合性提高的倾向。
上述含有含具有反应性碳碳双键的基团及2个以上羟基的聚合物、以及聚异氰酸酯的易粘接层还可进一步形成在第一高分子膜2的与形成有不透湿层4的层成相反侧的面上。
[层叠体30]
图2为本发明一个实施方式的层叠体的概略截面图。本实施方式的层叠体30在一个侧面具备第一高分子膜2、形成于该第一高分子膜2上的不透湿层4、形成于该不透湿层4上的第二高分子膜8、形成于该第二高分子膜8上的固化粘接层10’、以及形成于该固化粘接层10’上的树脂膜22。上述固化粘接层10’通过对上述层叠膜20的上述易粘接层10例如进行光照射及/或加热、使其固化而获得。另外，将使层叠膜20的易粘接层10固化而具备经固化的上述易粘接层(固化粘接层)10’的层叠膜有时称作固化层叠膜。本实施方式的层叠体30在另一侧面具备上述固化层叠膜20’和形成于该固化层叠膜20’的经固化的上述易粘接层(固化粘接层)10’侧表面上的树脂膜22。图2中，可以将除固化粘接层10’及树脂膜22以外的层一并称作阻隔膜11。本实施方式的层叠体30只要具备阻隔膜11、形成于该阻隔膜11上的固化粘接层10’、以及形成于该固化粘接层10’上的树脂膜22即可，与层叠膜20同样，阻隔膜11的构成并非限于图2所示的构成。
本实施方式的层叠体30例如还可通过在上述层叠膜20的上述易粘接层10表面上粘贴树脂膜22并进行光照射及/或加热来获得。通过上述光照射或加热，易粘接层10中的聚合物的羟基与聚异氰酸酯的异氰酸酯基发生反应而形成氨基甲酸酯键，易粘接层10变为固化粘接层10’。本实施方式的层叠体30例如还可通过在上述层叠膜20的上述易粘接层10表面上形成树脂层并进行光照射及/或加热来获得。此时，通过上述光照射或加热，在易粘接层中引起上述反应、同时树脂层固化变为树脂膜22。另外，上述树脂层是对通过光照射或加热而能够固化的液状树脂组合物(固化性液状树脂组合物)进行例如涂布和干燥而获得的层。
作为上述树脂膜22中使用的树脂并无特别限定，例如可举出热塑性树脂以及热塑性树脂、热固化性树脂、电子束固化性树脂及紫外线固化性树脂等的固化物。因此，树脂膜22为对树脂层进行固化而获得时，上述固化性液状树脂组合物还可含有选自上述热固化性树脂、电子束固化性树脂及紫外线固化性树脂中的至少1种树脂。作为上述热塑性树脂，可举出聚酯树脂、丙烯酸树脂、丙烯酸聚氨酯树脂、聚酯丙烯酸酯树脂、聚氨酯丙烯酸酯树脂及聚氨酯树脂及聚碳酸酯树脂。另外，作为上述热固化性树脂，可举出环氧树脂、三聚氰胺树脂及酚醛树脂等。树脂膜22中使用的树脂从耐光性或光学特性优异的方面出发，优选丙烯酸树脂或固化环氧树脂。
树脂膜22(或固化性液状树脂组合物)例如可含有微粒。树脂膜22的表面还可以具有微粒露出所产生的微细凹凸。当将树脂膜22的表面具有上述凹凸的层叠体30用于发光单元时，有能够抑制牛顿环发生的倾向。
作为上述树脂膜22所含的微粒并无特别限定，例如可以使用二氧化硅、粘土、滑石、碳酸钙、硫酸钙、硫酸钡、氧化钛及氧化铝等无机微粒，以及苯乙烯树脂、聚氨酯树脂、有机硅树脂及丙烯酸树脂等有机微粒。上述微粒可以单独使用或者组合使用2种以上。
树脂膜22优选是光学膜。通过树脂膜22为光学膜，可以对发光单元赋予光学功能。作为上述光学功能并无特别限定，可举出防干涉条纹(莫尔纹)功能、防反射功能及扩散功能等。从对树脂膜22赋予光学功能的观点出发，上述树脂膜22中使用的树脂优选是光学透明性优异的树脂。
光照射例如可以通过金属卤化物灯或高压汞灯等进行。另外，加热例如可以在50～250℃下进行1秒～20分钟。
[波长转换片材100]
使用上述层叠膜20及层叠体30，可以提供波长转换片材。图3是本发明第一实施方式的波长转换片材的概略截面图。图3中，波长转换片材100具备波长转换层13和形成于波长转换层13的两面上的一对固化层叠膜20’a、20’b作为保护膜。第一固化层叠膜20’a具备第一高分子膜2a、形成于第一高分子膜2a上的不透湿层4a、以及形成于不透湿层4a上的固化粘接层10’a，第二固化层叠膜20’b具备第一高分子膜2b、形成于第一高分子膜2b上的不透湿层4b、以及形成于不透湿层4b上的固化粘接层10’b。第一固化层叠膜20’a按照第一固化粘接层10’a面对波长转换层13的方式形成在波长转换层13的一个面上，第二固化层叠膜20’b按照第二固化粘接层10’b面对波长转换层13的方式形成在波长转换层13的另一个面上。另外，波长转换片材100也可以具备波长转换层13和形成于波长转换层13的两面上的一对保护膜，上述保护膜中仅一者为固化层叠膜20’。
图3中，可以将第一固化层叠膜20’a中除固化粘接层10’a以外的层一并称作第一阻隔膜11a，将第二固化层叠膜20’b中除固化粘接层10’b以外的层一并称作第二阻隔膜11b。图3中，第一阻隔膜11a含有第一高分子膜2a和形成于第一高分子膜2a上的不透湿层4a，第二阻隔膜11b含有第一高分子膜2b和形成于第一高分子膜2b上的不透湿层4b。第一固化粘接层10’a形成在第一阻隔膜11a的不透湿层4a上，第二固化粘接层10’b形成在第二阻隔膜11b的不透湿层4b上。固化层叠膜20’的详细构成如上所述。
本实施方式的波长转换片材100例如如下获得：准备2张层叠膜20，在一个层叠膜20的易粘接层10上形成波长转换层13，将另一个层叠膜20按照易粘接层10与波长转换层13相面对的方式进行粘贴，使易粘接层10固化，从而获得。
波长转换层13是将来自外部的能量转换成光而进行发光的发光体层，可以通过激发光的入射来发光。波长转换层13如下获得：在使第一高分子膜2为内侧的状态下利用一对的上述层叠膜20夹持荧光体层，同时进行密封，根据需要利用封固树脂将荧光体层与层叠膜20之间封固，从而获得。波长转换层13的厚度例如为10～500μm。
荧光体层含有树脂及荧光体。作为上述树脂，例如可以使用光固化性树脂或热固化性树脂。作为上述荧光体，例如可举出作为发光部的芯被作为保护膜的壳覆盖的荧光体。作为上述芯，例如可举出硒化镉(CdSe)等，作为上述壳，例如可举出硫化锌(ZnS)等。CdSe粒子的表面缺陷被带隙大的ZnS覆盖，从而量子效率提高。另外，荧光体还可以是芯被第1壳及第2壳双重地覆盖。此时，芯可以使用CsSe、第1壳可以使用硒化锌(ZnSe)、第2壳可以使用ZnS。上述荧光体可以组合使用2种以上。另外，还可将仅含1种荧光体的荧光体层与仅含其他种类荧光体的荧光体层层叠。上述2种荧光体选择激发波长相同者。激发波长基于发光二极管光源照射的光的波长来进行选择。2种荧光体的荧光色互不相同。各荧光色分别为红色及绿色。各荧光的波长及发光二极管光源所照射的光的波长基于滤色器的分光特性来进行选择。荧光的峰值波长例如红色为610nm、绿色为550nm。上述荧光体优选为量子点。上述荧光体的平均粒径例如为1nm～20nm。
图4为本发明第二实施方式的波长转换片材的概略截面图。本实施方式的波长转换片材100中，第一固化层叠膜20’a所具备的阻隔膜11a含有第一高分子膜2a、介由锚涂层3a形成于第一高分子膜2a上的不透湿层4a、以及介由粘合层或粘接层6a形成于不透湿层4a上的第二高分子膜8a，第二固化层叠膜20’b所具备的阻隔膜11b含有第一高分子膜2b、介由锚涂层3b形成于第一高分子膜2b上的不透湿层4b、以及介由粘合层或粘接层6b形成于不透湿层4b上的第二高分子膜8b，在此点上与第一实施方式的波长转换片材不同。第一固化粘接层10’a形成在阻隔膜11a的第二高分子膜8a上、第二固化粘接层10’b形成在阻隔膜11b的第二高分子膜8b上。固化层叠膜20’及波长转换层13的详细构成如上所述。
本实施方式的波长转换片材100中，只要固化层叠膜20’a具备阻隔膜11a和形成于该阻隔膜11a上的固化粘接层10’a、固化层叠膜20’b具备阻隔膜11b和形成于该阻隔膜11b上的固化粘接层10’b即可，与层叠膜20同样，阻隔膜11a、11b的构成并非限定于图3及图4所示的构成。
波长转换片材100使用层叠体30制造时，例如准备2张层叠体30，在一个层叠体30的第一高分子膜2上形成波长转换层13，将另一个层叠体30按照第一高分子膜2与波长转换层13相面对的方式进行粘贴，从而获得。波长转换层13如下获得：在使第一高分子膜2为内侧的状态下利用一对的层叠体30夹持荧光体层，同时进行密封，根据需要利用封固树脂将荧光体层与层叠膜30之间封固，从而获得。
作为封固树脂，例如可以使用热塑性树脂、热固化性树脂及紫外线固化型树脂等。作为热塑性树脂，例如可以使用乙酰基纤维素、硝基纤维素、乙酰基丁基纤维素、乙基纤维素及甲基纤维素等纤维素衍生物；醋酸乙烯酯及其共聚物、氯乙烯及其共聚物、以及偏氯乙烯及其共聚物等乙烯基系树脂；聚乙烯醇缩甲醛及聚乙烯醇缩丁醛等缩醛树脂；丙烯酸树脂及其共聚物、甲基丙烯酸树脂及其共聚物等丙烯酸系树脂；聚苯乙烯树脂；聚酰胺树脂；线状聚酯树脂；氟树脂；以及聚碳酸酯树脂等。作为热固化性树脂，可举出酚醛树脂、脲三聚氰胺树脂、聚酯树脂及有机硅树脂等。作为光固化性树脂，可举出环氧丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯及聚酯丙烯酸酯等光聚合性预聚物。另外，还可以以这些光聚合性预聚物作为主成分、作为稀释剂使用单官能或多官能的单体。
图4为本发明第二实施方式的波长转换片材的概略截面图。本实施方式的波长转换片材100中，第一固化层叠膜20’a所具备的阻隔膜11a含有第一高分子膜2a、介由锚涂层3a形成于第一高分子膜2a上的不透湿层4a、以及介由粘合层或粘接层6a形成于不透湿层4a上的第二高分子膜8a，第二固化层叠膜20’b所具备的阻隔膜11b含有第一高分子膜2b、介由锚涂层3b形成于第一高分子膜2b上的不透湿层4b、以及介由粘合层或粘接层6b形成于不透湿层4b上的第二高分子膜8b，在此点上与第一实施方式的波长转换片材不同。第一固化粘接层10’a形成在阻隔膜11a的第二高分子膜8a上、第二固化粘接层10’b形成在阻隔膜11b的第二高分子膜8b上。固化层叠膜20’及波长转换层13的详细构成如上所述。
本实施方式的波长转换片材100中，只要固化层叠膜20’a具备阻隔膜11a和形成于该阻隔膜11a上的固化粘接层10’a、固化层叠膜20’b具备阻隔膜11b和形成于该阻隔膜11b上的固化粘接层10’b即可，与层叠膜20同样，阻隔膜11a、11b的构成并非限于图3及图4所示的构成。
波长转换片材100使用层叠体30制造时，例如准备2张层叠体30，在一个层叠体30的第一高分子膜2上形成波长转换层13，将另一个层叠体30按照第一高分子膜2与波长转换层13相面对的方式进行粘贴，从而获得。波长转换层13如下获得：在使第一高分子膜2为内侧的状态下利用一对的层叠体30夹持荧光体层，同时进行密封，根据需要利用封固树脂将荧光体层与层叠膜30之间封固，从而获得。
[背光单元50]
使用上述层叠膜20及层叠体30，可以提供发光单元。以下示出使用上述层叠膜20及层叠体30获得的发光单元的例子。
图5是本发明一个实施方式的液晶显示器用的背光单元的概略截面图。本实施方式的背光单元50具备发光二极管光源40和波长转换片材100。在波长转换片材100的一个面上进一步按顺序配置导光板36及反射板38，将发光二极管光源40配置在上述导光板36的侧方(导光板36的面方向)上。根据这种背光单元50，可以抑制外部的氧或水蒸汽接触于荧光体层，可以在没有荧光体层劣化的情况下长时间地使用背光。
导光板36及反射板38有效地将自发光二极管光源40照射的光反射并导出，可使用公知的材料。作为导光板36，例如可使用丙烯酸、聚碳酸酯及环烯烃膜等。
发光二极管光源40上设有多个发光色为蓝色的发光二极管元件。该发光二极管元件可以是紫色发光二极管或更低波长的发光二极管。自发光二极管光源40照射的光入射至导光板36(D1方向)之后，伴随着反射及折射等入射到波长转换层13(D2方向)。透过波长转换层13的光通过在经过波长转换层13之前的光中混有在波长转换层13中产生的波长范围宽的黄色光，从而变为白色光。
[电致发光单元70]
图6为本发明一个实施方式的电致发光单元的概略截面图。本实施方式的电致发光单元70具备电致发光层56和固化层叠膜20’。固化层叠膜与上述含义相同。电致发光层56是将来自外部的能量转换成光并进行发光的发光层，可以通过电场的施加进行发光。电致发光单元70例如如下获得：用在一个面上形成有密封胶层52的一对固化层叠膜20’夹持电极要素，同时进行密封，从而获得，所述电极要素含有透明电极层54、设于该透明电极层54上的电致发光层56、该电致发光层56上设置的电介质层58、以及设于该电介质层58上的背面电极层60。根据使用了上述层叠膜的背光单元，可以抑制外部的氧或水蒸汽接触于荧光体层，可以在没有电致发光层劣化的情况下长时间地使用电致发光单元。另外，还可以在上述各电极与电致发光体层之间根据需要层叠空穴注入层、空穴输送层、电子输送层、电子注入层等。
各电极层、电致发光层及电介质层例如可通过蒸镀及溅射法等形成。另外，作为密封胶层，可使用用酸对聚烯烃系树脂进行接枝改性而得到的酸改性聚烯烃系树脂、或作为封固树脂列举的上述树脂等。
实施例
以下举出实施例具体地说明本发明，但本发明的范围并非限定于这些。
[层叠膜及层叠体的制作]
(实施例1)
在双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(第一高分子膜2、商品名：P60、厚度：12μm、Toray株式会社制)的进行了电晕电放处理的面上，利用棒涂法涂布聚酯树脂溶液，在80℃下使其干燥固化1分钟，从而形成厚度为100nm的锚涂层。
使用电子束加热式的真空蒸镀装置，在1.5×10-2Pa的压力下通过电子束加热使氧化硅材料(SiO、Canon Optron株式会社制)蒸发，在上述锚涂层上形成厚度为80nm的SiOx膜(不透湿层4)。其中，蒸镀的加速电压为40kV、发射电流为0.2A。
在上述不透湿层4上涂布粘接剂(商品名：TAKELAC A525、三井化学株式会社制)，介由上述粘接剂将上述不透湿层4与双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(第二高分子膜8、商品名：FE2001、厚度：25μm、Futamura化学株式会社制)的进行了电晕放电处理的面粘贴，在50℃下实施熟化2日。粘贴后的粘接层6的厚度为5μm。
制作聚合丙烯酸35质量份、丙烯酸羟基乙酯35质量份及丙烯酸正丁酯30质量份而获得的丙烯酸树脂(重均分子量：30000)70质量份与六亚甲基二异氰酸酯的异氰脲酸酯体(商品名：Desmodur N3300、Sumitomo Bayer Urethane公司制)30质量份的混合溶液，涂布在上述第二高分子膜8上。将涂布液干燥，形成厚度为0.2μm的易粘接层10，获得层叠膜20。
在所得的层叠膜20的易粘接层10上粘贴环氧片材(光学膜22、商品名：XNR5516Z、Nagase Chemtex株式会社制)。对粘贴有环氧片材的层叠膜以曝光量6J/cm2照射UV(紫外线)，在80℃下烘焙60分钟，获得层叠体30。
(实施例2)
在双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(第一高分子膜2、商品名：A4100、厚度：50μm、东洋纺株式会社制)上利用棒涂法涂布聚酯树脂溶液，在80℃下干燥固化1分钟，从而形成厚度为100nm的锚涂层。
使用电阻加热式的真空蒸镀装置，在3.0×10-2Pa的压力下通过加热将铝材料(商品名：4N、株式会社高纯度化学研究所制)蒸发，在上述锚涂层上形成厚度为10nm的AlOx膜。其中，蒸镀的加速电压为50kV、发射电流为0.5A。
将以1/1的质量比混合有四乙氧基硅烷的水解物和聚乙烯醇的混合液利用棒涂法涂布在上述AlOx膜上，在120℃下干燥固化1分钟，从而形成厚度为400nm的SiOx膜。将如此形成于锚涂层上的具备AlOx膜和SiOx膜的多层膜作为不透湿层4。
在上述不透湿层4上涂布粘接剂(商品名：TAKELAC A525、三井化学株式会社制)，介由上述粘接剂将上述不透湿层4与双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(第二高分子膜8、商品名：FE2001、厚度：25μm、Futamura化学株式会社制)的进行了电晕放电处理的面粘贴，在50℃下实施熟化2日。粘贴后的粘接层6的厚度为5μm。
制作聚合丙烯酸35质量份、丙烯酸羟基乙酯35质量份及丙烯酸正丁酯30质量份而获得的丙烯酸树脂(重均分子量：30000)70质量份与六亚甲基二异氰酸酯的异氰脲酸酯体(商品名：Desmodur N3300、Sumitomo Bayer Urethane公司制)30质量份的混合溶液，涂布在上述第二高分子膜8上。将涂布液干燥，形成厚度为0.2μm的易粘接层10，获得层叠膜20。
在所得的层叠膜20的易粘接层10上粘贴环氧片材(光学膜22、商品名：XNR5516Z、Nagase Chemtex株式会社制)。对粘贴有环氧片材的层叠膜以曝光量6J/cm2照射UV(紫外线)，在80℃下烘焙60分钟，获得层叠体30。
(比较例1)
在双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(第一高分子膜、商品名：P60、厚度：12μm、Toray株式会社制)的经电晕放电处理的面上利用棒涂法涂布聚酯树脂溶液，在80℃下干燥固化1分钟，从而形成厚度为100nm的锚涂层。
使用电子束加热式的真空蒸镀装置，在1.5×10-2Pa的压力下使用电子束加热将氧化硅材料(SiO、Canon Optron株式会社制)蒸发，在上述锚涂层上形成厚度为80nm的SiOx膜(不透湿层)。其中，蒸镀的加速电压为40kV、发射电流为0.2A。
在上述不透湿层上涂布粘接剂(商品名：TAKELAC A525、三井化学株式会社制)，介由上述粘接剂将上述不透湿层与双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(第二高分子膜、商品名：FE2001、厚度：25μm、Futamura化学株式会社制)的进行了电晕放电处理的面粘贴，在50℃下实施熟化2日。粘贴后的粘接层的厚度为5μm。
制作聚合丙烯酸35质量份、丙烯酸羟基乙酯35质量份及丙烯酸正丁酯30质量份而获得的丙烯酸树脂(重均分子量：30000)的溶液，涂布在上述第二高分子膜上。将涂布液干燥，形成厚度为0.2μm的易粘接层，获得层叠膜。
在所得的层叠膜的易粘接层上粘贴环氧片材(光学膜、商品名：XNR5516Z、NagaseChemtex株式会社制)。对粘贴有环氧片材的层叠膜以曝光量6J/cm2照射UV(紫外线)，在80℃下烘焙60分钟，获得层叠体。
(比较例2)
在双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(第一高分子膜、商品名：A4100、厚度：50μm、东洋纺株式会社制)上利用棒涂法涂布聚酯树脂溶液，在80℃下干燥固化1分钟，从而形成厚度为100nm的锚涂层。
使用电阻加热式的真空蒸镀装置，在氧导入下、3.0×10-2Pa的压力下通过加热将铝材料(商品名：4N、株式会社高纯度化学研究所制)蒸发，在上述锚涂层上形成厚度为10nm的AlOx膜。其中，蒸镀的加速电压为50kV、发射电流为0.5A。
将以1/1的质量比混合有四乙氧基硅烷的水解物和聚乙烯醇的混合液利用棒涂法涂布在上述AlOx膜上，在120℃下干燥固化1分钟，从而形成厚度为400nm的SiOx膜。将如此形成于锚涂层上的具备AlOx膜和SiOx膜的多层膜作为不透湿层。
在上述不透湿层上涂布粘接剂(商品名：TAKELAC A525、三井化学株式会社制)，介由上述粘接剂将上述不透湿层与双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(第二高分子膜、商品名：FE2001、厚度：25μm、Futamura化学株式会社制)的进行了电晕放电处理的面粘贴，在50℃下实施熟化2日。粘贴后的粘接层的厚度为5μm。
制作含有聚酯聚氨酯树脂(商品名：UR1350、东洋纺株式会社制)70质量份和六亚甲基二异氰酸酯的异氰脲酸酯体30质量份的混合溶液，涂布在上述第二高分子膜上。将涂布液干燥，形成厚度为0.2μm的易粘接层，获得层叠膜。
在所得的层叠膜的易粘接层上粘贴环氧片材(光学膜、商品名：XNR5516Z、NagaseChemtex株式会社制)。对粘贴有环氧片材的层叠膜以曝光量6J/cm2照射UV(紫外线)，在80℃下烘焙60分钟，获得层叠体。
(比较例3)
在双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(第一高分子膜、商品名：P60、厚度：12μm、Toray株式会社制)的进行了电晕放电处理的面上涂布粘接剂(商品名：TAKELAC A525、三井化学株式会社制)，介由上述粘接剂将上述双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜与双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(第二高分子膜、商品名：FE2001、厚度：25μm、Futamura化学株式会社制)的进行了电晕放电处理的面粘贴，在50℃下实施熟化2日。粘贴后的粘接层的厚度为5μm。
制作聚合丙烯酸35质量份、丙烯酸羟基乙酯35质量份及丙烯酸正丁酯30质量份而获得的丙烯酸树脂(重均分子量：30000)70质量份与六亚甲基二异氰酸酯的异氰脲酸酯体(商品名：Desmodur N3300、Sumitomo Bayer Urethane公司制)30质量份的混合溶液，涂布在上述第二高分子膜上。将涂布液干燥，形成厚度为0.2μm的易粘接层，获得层叠膜。
在所得的层叠膜的易粘接层上粘贴环氧片材(光学膜、商品名：XNR5516Z、NagaseChemtex株式会社制)。对粘贴有环氧片材的层叠膜以曝光量6J/cm2照射UV(紫外线)，在80℃下烘焙60分钟，获得层叠体。
(比较例4)
在双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(第一高分子膜、商品名：A4100、厚度：50μm、东洋纺株式会社制)上利用棒涂法涂布聚酯树脂溶液，在80℃下干燥固化1分钟，从而形成厚度为100nm的锚涂层。
使用电阻加热式的真空蒸镀装置，在3.0×10-2Pa的压力下通过加热将铝材料(商品名：4N、株式会社高纯度化学研究所制)蒸发，在上述锚涂层上形成厚度为10nm的AlOx膜。其中，蒸镀的加速电压为50kV、发射电流为0.5A。
将以1/1的质量比混合有四乙氧基硅烷的水解物和聚乙烯醇的混合液利用棒涂法涂布在上述AlOx膜上，在120℃下干燥固化1分钟，从而形成厚度为400nm的SiOx膜。将如此形成于锚涂层上的具备AlOx膜和SiOx膜的多层膜作为不透湿层。
在上述不透湿层上涂布粘接剂(商品名：TAKELAC A525、三井化学株式会社制)，介由上述粘接剂将上述不透湿层与双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(商品名：FE2001、厚度：25μm、Futamura化学株式会社制)的经电晕放电处理的面粘贴，在50℃下实施熟化2日。粘贴后的粘接层的厚度为5μm。
制作聚合丙烯酸35质量份、丙烯酸羟基乙酯35质量份及丙烯酸正丁酯30质量份而获得的丙烯酸树脂(重均分子量：30000)70质量份与六亚甲基二异氰酸酯的异氰脲酸酯体(商品名：Desmodur N3300、Sumitomo Bayer Urethane公司制)30质量份的混合溶液，涂布在上述第二高分子膜上。将涂布液干燥，形成厚度为2μm的易粘接层，获得层叠膜。
在所得的层叠膜的易粘接层上粘贴环氧片材(光学膜、商品名：XNR5516Z、NagaseChemtex株式会社制)。对粘贴有环氧片材的层叠膜以曝光量6J/cm2照射UV(紫外线)，在80℃下烘焙60分钟，获得层叠体。
[评价方法]
(不透湿性)
利用基于JIS K 7129的红外线传感法的方法，通过测定水蒸汽透过度来评价实施例1～2及比较例1～4中获得的层叠膜的不透湿性。水蒸汽透过度的测定使用水蒸汽透过率测定装置(商品名：Permatran、MOCON公司制)。透过池的温度为40℃、高湿度腔室的相对湿度为90％RH、低湿度腔室的相对湿度为0％RH。将水蒸汽透过度的测定结果示于表1。
(总光线透过率)
使用浊度计装置(商品名：NDH2000、日本电色工业株式会社制)对实施例1～2及比较例1～4中获得的层叠膜的总光线透过率进行测定。将总光线透过率的测定结果示于表1。
(易粘接层与第二高分子膜的密合性)
按照基于JIS K 5600-5-6(ISO2409)的十字切割法的附着性评价试验方法，以1mm间隔将实施例1～2及比较例1～4中获得的层叠膜的易粘接层部分切成格子状，在易粘接层上粘贴玻璃胶带。将玻璃胶带从易粘接层上剥离之后，根据下述基准评价密合性。将易粘接层与第二高分子膜的密合性的评价结果示于表1。
A：易粘接层不会从第二高分子膜上剥离(JIS K 5600-5-6的分类0～2)。
B：易粘接层从第二高分子膜上剥离(JIS K 5600-5-6的分类3～5)。
(光学膜与易粘接层的密合性)
将实施例1～2及比较例1～4中获得的层叠体切成宽度为1cm的长条状，将层叠体的环氧片材(光学膜)侧固定在玻璃板上。使用Tensilon万能材料试验机(A&D公司制)在垂直于玻璃板的方向上以300mm/分钟的速度将固定的长条状层叠体的层叠膜从环氧片材上剥离，测定剥离所需要的强度。根据下述标准评价光学膜与易粘接层的密合性。将光学膜与易粘接层的密合性的评价结果示于表1。
A：剥离强度为2N/cm以上。
B：剥离强度小于2N/cm。
[表1]
如表1所示，实施例1～2的层叠膜及层叠体获得了优异的不透湿性及优异的密合性。与其相对，比较例1的层叠膜及层叠体中由于未使用聚异氰酸酯来形成易粘接层，因此在易粘接层与第二高分子膜之间未能获得充分的密合性，在光学膜与易粘接层之间未能获得充分的密合性。另外，比较例2的层叠体中，由于使用没有反应性碳碳双键的聚酯聚氨酯树脂来形成易粘接层，因此在光学膜与易粘接层之间未能获得充分的密合性。另外，由于比较例3的层叠膜没有不透湿层，因此未能获得充分的不透湿性。另外，比较例4的层叠体中，由于易粘接层的厚度超过1μm，因此在光学膜与易粘接层之间未能获得充分的密合性。
[波长转换片材的制作]
(实施例3)
为了制作图4所示的波长转换片材，对作为第一高分子膜2a的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(商品名：P60、厚度：12μm、Toray株式会社制)进行电晕放电处理，在其面上利用棒涂法涂布聚酯树脂溶液，在80℃下干燥固化1分钟，从而形成厚度为100nm的锚涂层3a。
使用电子束加热式的真空蒸镀装置，在1.5×10-2Pa的压力下通过电子束加热将氧化硅材料(Canon Optron株式会社制)蒸发，在上述锚涂层3a上形成厚度为40nm的SiOx膜。其中，蒸镀的加速电压为40kV、发射电流为0.2A。
将以1/1的质量比混合有四乙氧基硅烷的水解物和聚乙烯醇的混合液利用棒涂法涂布在上述AlOx膜上，在120℃下干燥固化1分钟，从而形成厚度为400nm的SiOx膜。进而，按照同样的步骤按顺序形成利用真空蒸镀得到的厚度为40nm的SiOx膜和利用涂布得到的厚度为400nm的SiOx膜。将如此形成在锚涂层上的、交替具备2层的利用真空蒸镀得到的SiOx膜和利用涂布得到的SiOx膜的多层膜作为不透湿层4a。
在上述不透湿层4a上涂布粘接剂(商品名：TAKELAC A525、三井化学株式会社制)制成粘合层6a，介由上述粘接剂将上述不透湿层4a与双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(第二高分子膜8a、商品名：FE2001、厚度：25μm、Futamura化学株式会社制)的进行了电晕放电处理的面粘贴，在50℃下实施熟化2日，获得第一阻隔膜11a。粘贴后的粘接层6a的厚度为5μm。
制作聚合丙烯酸35质量份、丙烯酸羟基乙酯35质量份及丙烯酸正丁酯30质量份而获得的丙烯酸树脂(重均分子量：30000)70质量份与六亚甲基二异氰酸酯的异氰脲酸酯体(商品名：Desmodur N3300、Sumitomo Bayer Urethane公司制)30质量份的混合溶液，涂布在第一阻隔膜11a的第二高分子膜8a的表面上。将涂布液干燥，形成厚度为0.2μm的第一易粘接层10a。如上制作了在第一阻隔膜11a上形成了第一易粘接层10a的第一层叠膜20a。
利用与第一阻隔膜11a相同的方法，制作按顺序层叠了第一高分子膜2b、锚涂层3b、不透湿层4b、粘接层6b及第二高分子膜8b的第二阻隔膜11b。另外，在第二阻隔膜11b的第二高分子膜8b的表面上，利用与第一易粘接层10a相同的方法形成厚度为0.2μm的第二易粘接层10b。如上制作了在第二阻隔膜11b上形成了第二易粘接层10b的第二层叠膜20b。
在第一阻隔膜11a上的第一易粘接层10a上滴加在热固化型环氧树脂中分散有芯为硒化镉(CdSe)、壳为硫化锌(ZnS)的量子点发光体的材料，使第二阻隔膜11b上的第二易粘接层10b与所滴加的材料接触，使用层压机，按照所滴加的材料成为均匀的膜的方式、介由所滴加的材料将第一阻隔膜11a与第二阻隔膜11b层压在一起。
通过在室温下熟化24小时，使上述环氧树脂固化，在第一阻隔膜11a与第二阻隔膜11b之间形成波长转换层13，制作波长转换片材100。此时，波长转换层13的厚度为100μm。
(比较例5)
不设置第一易粘接层和第二易粘接层，在第一阻隔膜的第二高分子膜与第二阻隔膜的第二高分子膜之间形成波长转换层，除此之外与实施例3同样操作，制作波长转换片材。
[评价方法]
(与发光体层的密合性)
将实施例3及比较例5中获得的波长转换片材切成宽度为1cm的长条状，将波长转换片材的第一阻隔膜侧固定在玻璃板上。使用Tensilon万能材料试验机(A&D公司制)，在垂直于玻璃板的方向上以300mm/分钟的速度将固定的长条状波长转换片材的第二阻隔膜从作为发光体层的波长转换层上剥离，测定剥离所需要的强度。根据下述标准评价第二阻隔膜与发光体层的密合性。
A：剥离强度为1N/cm以上。
B：剥离强度小于1N/cm。
(长期可靠性外观)
将实施例3及比较例5中获得波长转换片材投入到85℃的烘箱中，经过1000小时。使用经过1000小时后的波长转换片材，作为长期可靠性外观评价用背光单元分别制作了图5所示的背光单元。作为背光单元中的光源使用蓝色发光二极管。目视观察来自背光单元的光，确认有无外观不良。
(长期可靠性发光效率)
使用实施例3及比较例5中获得的波长转换片材，作为长期可靠性发光效率评价用背光单元分别制作了图5所示的背光单元。作为背光单元中的光源使用蓝色发光二极管。对上述制作的背光单元，使用亮度计(Konica Minolta公司制、商品名：LS-100)测定蓝色发光二极管发光时的亮度(初期亮度A)。之后，将各个波长转换片材从背光单元中取出，投入到85℃的烘箱中，保存300小时。之后，使用保存300小时后之后的波长转换片材，再次制作图5所示的背光单元，与初期亮度A同样地测定保存后的亮度B。计算初期亮度A与保存后的亮度B之比(B/A)，当比(B/A)为90％以上时，判断获得了充分的长期可靠性发光效率。
将易粘接层与发光体层的密合性、长期可靠性外观、长期可靠性发光效率的评价结果示于表2。
[表2]
如表2所示，实施例3的波长转换片材获得了优异的密合性，使用上述波长转换片材制作的背光单元获得了优异的长期可靠性。与其相对，比较例5的波长转换片材未能获得充分的密合性，使用上述波长转换片材制作的背光单元在长期可靠性试验中、第一阻隔膜及第二阻隔膜从波长转换层上剥落。因此，量子点发光体失活，由使用保存后的波长转换片材制作的背光单元，确认到来自光源的蓝色光。这意味着来自光源的蓝色光未被波长转换层转换(未变为白色光)，可以判断自波长转换层的发光显著降低。这是有无易粘接层形成所带来的不同。
符号说明
2，2a，2b第一高分子膜、3a，3b锚涂层、4，4a，4b不透湿层、6，6a，6b粘合层或粘接层、8，8a，8b第二高分子膜、10，10a，10b易粘接层、10’，10’a，10’b固化粘接层、11，11a，11b阻隔膜、13波长转换层、20层叠膜、20’，20’a，20’b固化层叠膜、22树脂膜、30层叠体、36导光板、38反射板、40发光二极管光源、50背光单元、52密封胶层、54透明电极层、56电致发光层、58电介质层、60背面电极层、70电致发光单元。

Claims (11)

1.一种层叠膜，其具备阻隔膜和形成于该阻隔膜上的易粘接层，
所述易粘接层含有：含具有反应性碳碳双键的基团及2个以上羟基的聚合物；以及聚异氰酸酯，
所述易粘接层的厚度为0.01μm以上且1μm以下。
2.根据权利要求1所述的层叠膜，其中，所述具有反应性碳碳双键的基团为丙烯酰基。
3.根据权利要求1或2所述的层叠膜，其中，所述阻隔膜具备第一高分子膜和形成于该第一高分子膜上的不透湿层，所述易粘接层形成在所述阻隔膜的所述不透湿层一侧。
4.根据权利要求3所述的层叠膜，其中，所述不透湿层含有具有选自铝、钛、铜、铟及硅中的至少1种原子的氧化物、氮化物或氮化氧化物的层。
5.根据权利要求3或4所述的层叠膜，其中，所述阻隔膜进一步具备配置于所述不透湿层上的第二高分子膜，所述易粘接层形成于所述第二高分子膜上。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的层叠膜，其总光线透过率为80％以上。
7.根据权利要求1～6中任一项所述的层叠膜，其是用于保护荧光体的层叠膜。
8.一种层叠体，其具备：使权利要求1～7中任一项所述的层叠膜的所述易粘接层固化而获得的固化层叠膜；和形成在该固化层叠膜的经固化的所述易粘接层一侧表面上的树脂膜。
9.一种波长转换片材，其具备波长转换层和形成于所述波长转换层的两面上的一对保护膜，所述保护膜中的至少一者是将权利要求1～7中任一项所述的层叠膜的所述易粘接层固化而获得的固化层叠膜。
10.一种背光单元，其具备发光二极管光源和权利要求9所述的波长转换片材。
11.一种电致发光单元，其具备电致发光层和使权利要求1～6中任一项所述的层叠膜的所述易粘接层固化而获得的固化层叠膜。
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