CN106488966A - 空穴传输的环丁烯化合物 - Google Patents
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Abstract
一种取代有式(I)基团的材料：其中：Ar1是芳基或杂芳基，Sp1表示第一间隔基团；n1为0或1；如果n1为0则m1为1，并且如果n1为1则m1为至少1；R1在每次出现时独立地为H或取代基，条件是至少一个R1是选自如下的基团R11：烷基，其包含直接结合到式(I)的环丁烯环的碳原子上的叔碳原子；支化烷基，其中该支化烷基的仲碳或叔碳原子通过至少一个‑CH2‑基团与式(I)的环丁烯环的碳原子间隔开；和包含环烷基的烷基；或者条件是至少两个R1基团连接形成环。
Description
发明背景
对于在器件例如有机发光二极管(OLED)、有机光响应器件(特别是有机光伏器件和有机光传感器)、有机晶体管和存储器阵列器件中的应用，含有活性有机材料的电子器件正引起越来越多的关注。含有活性有机材料的器件提供诸如低重量、低功率消耗和柔性的益处。此外，可溶有机材料的使用允许在器件制造中利用溶液加工，例如喷墨印刷或者旋涂。
OLED可以包含带有阳极的基底、阴极以及介于阳极和阴极之间的一个或多个有机发光层。
在器件工作期间空穴通过阳极被注入器件并且电子通过阴极被注入器件。发光材料的最高已占分子轨道(HOMO)中的空穴和最低未占分子轨道(LUMO)中的电子结合从而形成激子，所述激子以光的形式释放其能量。
发光层可以包含半导电主体材料和发光掺杂剂，其中能量从主体材料转移至发光掺杂剂。例如，J.Appl.Phys.65,3610,1989公开了用荧光发光掺杂剂掺杂的主体材料(即，其中通过单重态激子的衰变而发出光的发光材料)。
磷光掺杂剂也是已知的(即，其中通过三重态激子的衰变而发出光的发光掺杂剂)。
可在阳极和发光层之间提供空穴传输层。
US 2012/0256537公开了一种组合物，该组合物包含具有可交联基团的发光或电荷传输聚合物以及具有可交联基团的发光或电荷传输的低分子量化合物。
WO 2013/005026公开了具有取代的苯并环丁烯基团的空穴传输聚合物。公开了这些聚合物作为OLED的空穴传输层的应用。使取代的苯并环丁烯基团交联以使该层不可溶。苯并环丁烯基团可彼此反应或者可与双键基团反应。
本发明的目的是改善有机电子器件特别是有机发光器件的性能，其中该器件的一个或多个层是通过溶液沉积方法沉积该器件的半导体层形成。
发明内容
在第一方面，本发明提供了取代有式(I)基团的材料：
其中：
Ar1表示芳基或杂芳基，该芳基或杂芳基可以是未取代的或者取代有一个或多个取代基；
Sp1表示第一间隔基团；
n1为0或1；
如果n1为0则m1为1，并且如果n1为1则m1为至少1；
R1在每次出现时独立地为H或取代基，
条件是至少一个R1是选自如下的基团R11：
烷基，其包含直接结合到式(I)的环丁烯环的碳原子上的叔碳原子；
支化烷基，其中该支化烷基的仲碳或叔碳原子通过至少一个-CH2-基团与式(I)的环丁烯环的碳原子间隔开；和
包含环烷基的烷基；
或者
条件是至少两个R1基团连接形成环；
并且*表示至所述材料的连接点。
在第二方面，本发明提供了包含根据第一方面的材料和取代有至少一个式(II)基团的第二材料的组合物：
其中：
Sp2表示第二间隔基团；
n2为0或1；
如果n2为0则m2为1，以及如果n2为1则m2为至少1；
UG是包含反应性不饱和基团的基团；和
*表示与第二材料的连接点。
在第三方面，本发明提供了一种形成有机电子器件的层的方法，该方法包括使根据第一方面的材料或者根据第二方面的组合物反应的步骤。
附图说明
现在将参照附图更详细地描述本发明，其中：
图1示意性地示出了根据本发明实施方案的OLED；
图2A示出通过含有未取代BCB的比较化合物的反应获得的产物混合物的HPLC迹线；
图2B示出通过含有甲基取代的BCB的比较化合物的反应获得的产物混合物的HPLC迹线；
图2C示出通过含有新戊基取代的BCB的根据本发明实施方案的化合物的反应获得的产物混合物的HPLC迹线；
图3是根据本发明实施方案的聚合物和比较聚合物的在加热之后除去的可溶材料相对于加热温度的坐标图；
图4示出了根据本发明实施方案的器件以及比较器件的电致发光光谱；
图5示出了根据本发明实施方案的器件以及比较器件的电流密度相对于电压的坐标图；
图6示出了根据本发明实施方案的器件以及比较器件的亮度相对于电压的坐标图；
图7示出了根据本发明实施方案的器件以及比较器件的外部量子效率相对于电压的坐标图；
图8是根据本发明实施方案的喷墨印刷的OLED的亮度相对于时间的坐标图；和
图9是比较性喷墨印刷OLED的亮度相对于时间的坐标图。
发明详述
未按任何比例绘制的图1说明了根据本发明实施方案的OLED100，其包含阳极103、阴极109、介于阳极和阴极之间的发光层107以及介于阳极和发光层之间的空穴传输层105。该器件100承载在基底101上，例如玻璃或塑料基底。
发光层107可以是未图案化的，或者可以是图案化的以形成离散的像素。每个像素可以进一步分为子像素。发光层可包含单一发光材料，例如对于单色显示器或其它单色器件，或者可包含发出不同颜色的材料，特别地对于全色显示器而言包含红色、绿色和蓝色发光材料。如果使发光层107图案化，则空穴传输层105可以按与发光层相同的方式图案化，或者可以在未图案化的空穴传输层105上形成图案化的发光层107。
空穴传输层105含有空穴传输材料。通过使含有式(I)基团的第一材料反应从而形成该空穴传输层。
第一材料可以与自身反应或者可以与含有式(II)基团的第二材料反应。
优选地，第一材料与第二材料反应。
反应性不饱和基团UG可以是反应性双键或三键。优选地，UG的反应性双键或三键不是共轭的。
为了形成空穴传输层105，在阳极上方沉积第一材料。然后使式(I)基团与自身反应或者与式(II)基团(若存在的话)反应。然后在空穴传输层105上形成发光层107。
优选地，通过如下方式形成发光层：沉积溶解或分散在溶剂或溶剂混合物中的发光层的一种或多种材料的配制物，然后蒸发所述溶剂。优选地，通过如下方式使得空穴传输层105不溶：使式(I)的基团反应，使得空穴传输层几乎不被或者不被用于形成发光层的溶剂溶解，并且使得在空穴传输层的材料和发光层的材料之间几乎不或者不相混。优选地，式(I)的第一基团要么与自身反应要么与第二材料的式(II)基团反应从而形成交联的空穴传输层。
可在阳极103和阴极109之间提供一个或多个另外的层。所述另外的层可以选自一个或多个另外的发光层、空穴注入层、空穴传输层、电子传输层、空穴阻挡层和电子阻挡层。
优选的器件结构包括：
阳极/空穴传输层/发光层/阴极
阳极/空穴注入层/空穴传输层/发光层/阴极
阳极/空穴注入层/空穴传输层/发光层/电子传输层/阴极。
优选地，存在空穴注入层和空穴传输层两者。
OLED 100的发光材料可以是荧光材料、磷光材料或者荧光材料与磷光材料的混合物。发光材料可以选自聚合的发光材料和非聚合的发光材料。示例性的发光聚合物是共轭聚合物，例如聚亚苯基和聚芴，其实例描述于Bernius,M.T.,Inbasekaran,M.,O'Brien,J.and Wu,W.,Progress with Light-Emitting Polymers.Adv.Mater.,12:1737–1750,2000，通过引用将其内容并入本文。发光层107可以包含主体材料以及荧光或磷光发光掺杂剂。示例性的磷光掺杂剂是第2行或第3行过渡金属络合物，例如钌、铑、钯、铼、锇、铱、铂或金的络合物。
发光层107可以是器件的唯一发射层，或者可从器件的一个或多个另外的层发射光。可以在空穴传输层105中提供发光掺杂剂，使得当器件处于使用时空穴传输层105发射光。
OLED可以是白色发光OLED。该发白光的OLED可包含单一的白光发光层或者可包含发射不同颜色的两个或更多个层，这些不同颜色结合产生白光。可以由提供在单一发光层中或者分布在两个或更多个发光层内的红色、绿色和蓝色发光材料的组合产生白光。在优选的配置中，器件具有包含红色发光材料的发光层和包含绿色和蓝色发光材料的发光层。
由白色发光OLED发射的光可以具有与黑体在2500-9000K范围内的温度下发射的光相当的CIE x坐标以及在所述黑体发射光的CIE y坐标的0.05或0.025之内的CIE y坐标，任选地具有与黑体在2700-4500K范围内的温度下发射的光相当的CIE x坐标。
蓝色发光材料可具有峰值在420-490nm范围内、更优选在420-480nm范围内的光致发光光谱。
绿色发光材料可具有峰值在大于490nm直至580nm、任选地大于490nm直至540nm的范围内的光致发光光谱。
红色发光材料可任选地在其光致发光光谱中具有大于580nm直至630nm、任选地在585-625nm内的峰值。
在另一实施方案(未示出)中，可以通过本文所述的式(I)基团的反应(要么与自身要么与式(II)基团)形成发光层107，在这种情况下空穴传输层105可以存在或者可以不存在。该实施方案的发光层107可以是阳极和阴极之间的唯一层，或者可以在阳极和阴极之间提供一个或多个另外的层，例如上述的一个或多个另外的层。
在另一实施方案(未示出)中，可以在发光层107和阴极109之间提供电子传输层或电子注入层，其中通过交联第一材料形成电子传输层或电子注入层。第一材料可以与自身反应，或者可以通过使包含第一材料和第二材料的组合物反应形成电子传输或电子注入层。该实施方案的器件可以包含仅在阳极和阴极之间的发光层107和电子传输或电子注入层，或者可以在阳极和阳极之间提供一个或多个另外的层，例如上文所述的一个或多个另外的层。
式(I)
示例性的烷基R11可以选自C4-20烷基。
在R11含有直接结合到式(I)的环丁烯环的碳原子上的叔碳原子的情形中，R11可以是含有两个或更多个叔碳原子的烷基。
在R11包含环状烷基的情形中，R11可以由环状烷基组成或者可以是取代有一个或多个C1-5烷基的环状烷基。环状烷基可以直接结合到式(I)的环丁烯环，或者可以通过一个或多个-CH2-基团(任选一个、两个或三个-CH2-基团)与其间隔开。
在其中R11包含与式(I)的环丁烯环间隔开的仲碳原子或叔碳原子的情形中，该仲碳原子或叔碳原子可以通过至少一个-CH2-基团(任选一个、两个或三个-CH2-基团)与式(I)的环丁烯环间隔开。包含与式(I)的环丁烯环间隔开的仲碳原子或叔碳原子的R11可以含有一个、两个或更多个选自仲碳原子和叔碳原子的碳原子。
在两个R1基团连接形成环的情形中，该环可以是未取代的或者取代有一个或多个取代基。示例性的取代基是C1-20烷基。该环可以是单环或多环。由两个R1基团连接形成的示例性环是C1-10环烷基。
示例性基团R11包括以下基团，其中*为环状烷基与式(I)基团的环丁烯环的连接点：
下面说明其中R1基团连接形成环的示例性结构。显示所述环稠合到苯并环丁基(Ar1＝苯)。
一个、两个、三个或所有四个基团R1可以是基团R11。任选地，仅一个基团R1是基团R11。
其它基团R1可以选自：
-H
-直链C1-20烷基；
-C1-20烷氧基；
-三(烃基)甲硅烷基；
-芳基或杂芳基，其可以是未取代的或者取代有一个或多个取代基，任选为苯基，该苯基可以是未取代的或取代有一个或多个C1-10烷基或C1-10烷氧基。
优选地，3个R1基团是H。
Sp1可以是式-(R12)t-的基团，其中t为至少1，任选地1、2、3、4或5，并且每个R12独立地选自如下：
-C1-20烷基，其中该烷基的一个或多个非相邻C原子可以被O、
S、SiR14 2替代，其中R14在每次出现时独立地是取代基或芳基
或杂芳基，该芳基或杂芳基可以是未取代的或者取代有一个
或多个取代基；和
-芳基或杂芳基，该芳基或杂芳基可以是未取代的或者取代有
一个或多个取代基。
Sp1可以取代有一个或多个芳基环丁烯基团。Sp1可以是具有至少两个支链的支化基团，其中所述支链中的至少两个取代有芳基环丁烯基团。
R14在每次出现时可独立地为烃基，任选为选自C1-20烷基和苯基的烃基，所述苯基可以是未取代的或取代有一个或多个C1-10烷基。
芳基或杂芳基Sp1或Sp1的构成部分优选地选自C6-20芳基，其可以是未取代的或取代有一个或多个取代基，优选可以为未取代的或取代有一个或多个取代基(任选地为一个或多个C1-10烷基)的苯基。
示例性的间隔基团Sp1包括：C1-20烷基，C3-20环烷基，C1-20烷氧基，苯基；苯基-C1-20烷基；苯基-C1-20烷氧基；含聚醚单元的基团，例如式-(C2H5O)p-或-苯基-(OC2H5)p-的间隔体，其中p为至少2任选为2-10并且苯基是未取代的或者取代有一个或多个取代基，任选为一个或多个C1-20烷基；-(R10)q-Si(R14)2-(R10)q-，其中R14如上所述，R10在每次出现时为C1-20烃基，并且q在每次出现时为0或1。R10在每次出现时可独立地选自选自C1-20烷基和苯基，所述苯基可以是未取代的或取代有一个或多个C1-10烷基。
任选地，Ar1为芳基，任选为C6-20芳基，其可以是未取代的或取代有一个或多个取代基。
优选地，Ar1为苯基，该苯基可以是未取代的或取代有一个或多个取代基，任选一个或多个C1-10烷基。
式(II)
Sp2在每次出现时可独立地选自上述的基团Sp1。
Sp2可以取代有一个或多个反应性不饱和基团UG。Sp2可以是具有至少两个支链的支化基团，其中所述支链中的至少两个取代有UG基团。
UG可以是非环状、环状的或多环的基团。
具有非环状基团UG的式(II)的示例性基团具有式(XIa)：
其中R2和R3各自独立地为H或取代基。取代基R2和R3任选地选自C1-20烃基，更优选C1-10烷基。优选地，每个R3是H。优选地，n2是1并且m2是1。
示例性的多环基团UG是降冰片烯，其可以是未取代的或取代的。具有降冰片烯基团UG的式(II)示例性基团具有式(XIb)，其中所述降冰片烯或每个降冰片烯可以是未取代的或取代有一个或多个取代基：
环状或多环基团UG(例如降冰片烯)的示例性取代基是C1-20烷基，其中一个或多个不相邻的C原子可以被O、S、S-O、C＝O或COO代替；芳族基团，任选苯基，其可以是未取代的或取代有一个或多个取代基；杂芳族基团，其可以是未取代的或取代有一个或多个取代基；腈；和硝基。C1-20烷基可以是直链、支化或环状的烷基。当存在时，芳族或杂芳族基团的取代基可以选自C1-20烷基。
第一材料和第二材料
取代有式(I)基团的材料可以是非聚合材料或者是包含取代有式(I)基团的重复单元的聚合物。
非聚合材料可具有式(IIIa)：
其中Core1是非聚合的第一核心基团；Ar1是芳基或杂芳基，该芳基或杂芳基可以是未取代的或取代有一个或多个取代基；Sp1是第一间隔基团；n1为0或1；如果n1为0则m1为1；如果n1为1则m1为至少1，任选1、2或3；并且p1为至少1，任选地1,2,3或4。
本文所用的“非聚合”是指多分散性为1的材料，并且包括多分散性为1的树枝状化合物或低聚化合物。低聚物包括但不限于二聚物、三聚物、四聚物或五聚物。优选地，非聚合材料具有小于约5000道尔顿的分子量。
取代有式(I)基团的聚合物可以是包含式(IIIb)重复单元的聚合物：
其中RU1是第一重复单元且p1为至少1。
式(IIIb)的重复单元可以形成聚合物重复单元的0.5-50mol％，任选为聚合物重复单元的1-20mol％。
式(IIIa)或(IIIb)的Ar1可以通过Ar1的任何位置，要么直接地要么或通过Sp1结合Core1或RU1。优选地，Ar1不通过与环丁烯环的原子相邻的Ar1的环原子结合。
非聚合的第二材料可以具有式(IVa)：
其中Core2是非聚合的第二核心基团；Sp2是第二间隔基团；n2是0或1；UG是反应性不饱和基团；如果n2为0则m2为1；如果n2为1则m2为至少1，任选1、2或3；并且p2为至少1，任选地1,2,3或4。
取代有式(II)基团的聚合物可以是包含式(IVb)的重复单元的聚合物：
其中RU2是第二重复单元。式(IVb)的重复单元可以形成聚合物重复单元的0.5-50mol％，任选为聚合物重复单元的1-20mol％。
式(IIIb)的重复单元和式(IVb)的重复单元可以是同一聚合物的重复单元。
非聚合化合物可以含有至少一个式(I)的基团(p1为至少1)和至少一个式(II)的基团(p2为至少1)，例如式(XII)的化合物，其中Core3是非聚合的第三核心基团，其可以选自本文关于Core1或Core2所述的任何核心基团：
在这种情况下，第一材料和第二材料是式(I)的基团和式(II)的基团取代至的同一核心材料。
本发明人已经发现，式(I)的基团比其中环丁烯环为未取代的(每个R1＝H)的化合物更容易反应。这可以允许式(I)的基团在较低温度下反应和/或可需要较短的反应时间，相比于其中每个R1＝H的情形而言。此外，当与第二材料反应时，本发明人发现R11基团的存在或两个R1基团的连接导致对由式(I)基团彼此的反应引起的三聚物或更高的低聚物形成产生抑制。
第一材料可以通过热处理和/或通过照射例如紫外线照射与自身反应或者与第二材料的反应性非饱和基团(存在时)反应。优选地，该组合物通过热处理反应。优选地，热处理在小于180℃、更优选小于160℃的温度下进行。热处理可以在至少130℃、任选至少140℃的温度下进行。优选地，第一材料和第二材料反应。
如果第一材料是仅具有一个式(I)基团(m1和p1各自为1)的非聚合材料并且第二材料是仅具有一个式(II)基团(m2和p2各自为1)的非聚合材料，那么在UG为降冰片烯的情形中这些材料可如方案1所示那样反应产生狄尔斯-阿尔德(Diels-Alder)加合物。
方案1
如果第一非聚合材料取代有两个式(I)基团，例如如果m1＝1且p1＝2，并且如果第二非聚合材料取代有两个式(II)的基团，例如如果m2＝1且p2＝2，那么第一材料和第二材料可以反应从而形成具有以下重复结构的线型聚合物：
如果第一非聚合材料含有多于两个(杂)芳基环丁烯基团和/或如果第二非聚合材料取代有多于两个反应性不饱和基团，那么第一材料和第二材料可反应形成交联聚合物。
如果第一材料和第二材料中的至少一种是聚合物的重复单元，则反应可以是交联反应。
方案2说明了包含式(IVb)重复单元(其中UG为降冰片烯)的聚合物的两个链与式(IIIa)的非聚合化合物之间的交联反应，其中m1为1且p1为2，但是应当理解，m1可以大于1和/或p1可以大于2，例如3或4：
方案2
在另一实施方案中，其中p1为2或更大和/或m1为2或更大的式(IVa)的非聚合化合物与包含式(IIIb)的重复单元的聚合物反应。
方案3说明了包含式(IVb)的重复单元的聚合物与包含式(IIIb)的重复单元的聚合物之间的交联反应：
方案3
使用包含降冰片烯作为反应性不饱和基团的第二材料说明了方案1、2和3的反应，但应理解可使用本文所述的任何反应性不饱和基团。
单一聚合物可以含有式(IIIb)重复单元和式(IVb)重复单元，在这种情况下第一材料和第二材料是同一聚合物的重复单元，并且交联反应可以在该聚合物的链之间。因此应当理解，本文所述的组合物可以是包含式(IIIb)重复单元和式(IVb)重复单元的单一聚合物。除该聚合物之外，还可以存在一种或多种另外的交联材料，例如带有选自式(I)和(II)的一个或多个基团的一种或多种非聚合或聚合的交联材料。
核心基团
非聚合的第一材料的Core1可以仅取代有一个或多个式(I)的基团，或者可以取代有一个或多个另外的取代基。
非聚合的第二材料的Core2可以仅取代有一个或多个选自式(II)的基团，或者可以取代有一个或多个另外的取代基。
示例性的另外取代基包括C1-40烃基，例如C1-20烷基，未取代的苯基和取代有一个或多个C1-20烷基的苯基。
可以根据它们将要存在其中的层的功能来选择Core1和Core2。任选地，Core1和Core2各自独立地选自空穴传输基团、电子传输基团和发光基团。
示例性的Core1和Core2基团包括亚芳基(例如苯和芴)和胺基。
第一非聚合化合物或第二非聚合化合物可以具有式(V)：
其中Ar2、Ar3和Ar4在每次出现时独立地选自取代或未取代的芳基或杂芳基或式(I)的基团，其中n1＝0；g为0、1或2，优选0或1；并且c、d和e各自独立地为1、2或3，其中Ar2、Ar3和Ar4中的至少一个取代有至少一个式(I)或(II)的基团和/或Ar2和Ar4中的至少一个是式(I)的基团，其中n1＝0。
与同一N原子直接结合的选自Ar2、Ar3、Ar5以及Ar4(如果存在的话)的任何两个芳族或杂芳族基团可通过直接键或二价连接原子或基团连接。优选的二价连接原子和基团包括O、S、取代的N、和取代的C。
优选地，Ar2、Ar3和Ar4各自独立地是除式(I)和/或(II)基团以外的芳基，该芳基可以是未取代的或取代有一个或多个取代基，任选为一个或多个C1-20烷基或C1-20烷氧基。
优选地，Ar2和Ar4各自独立地为苯基或式(I)的基团，其中n1＝0。
在g＝1的情形中，Ar3优选为C6-20芳基，更优选苯基或多环芳族基团，例如萘、苝、蒽或芴。如果Ar3是多环芳基，则d优选为1。
示例性的非聚合的第一化合物和第二化合物包括如下所示的化合物，其中R3在每次出现时独立地是取代基，任选C1-20烷基，且q是0、1、2、3或4。
其中r＝1至10。
重复单元
包含重复单元RU1和/或RU2的聚合物优选为包含RU1和/或RU2以及一个或多个共聚重复单元的共聚物。共聚重复单元优选不包含可交联基团。
优选地，RU1和RU2包含至少一个芳族或杂芳族基团，更优选至少一个芳族基团。优选地，包含重复单元RU1和/或RU2的聚合物是共轭聚合物。
任选地，RU1和RU2选自空穴传输重复单元、电子传输重复单元和发光重复单元。
可以根据它们将要存在于其中的层的功能来选择RU1和RU2，或者RU1和RU2可以与提供所需功能性的共聚重复单元组合使用。例如，用于空穴传输层的空穴传输聚合物可以含有空穴传输重复单元RU1或RU2，或者可以含有空穴传输共聚重复单元。
共轭聚合物的示例性重复单元是亚芳基重复单元、亚芳基亚乙烯基重复单元和芳基胺重复单元，它们各自可以是式(IIIb)或(IVb)的共聚重复单元或重复单元，其中RU1或RU2是亚芳基、亚芳基亚乙烯基或芳基胺。
一类优选的亚芳基重复单元是亚苯基重复单元，例如式(VI)的亚苯基重复单元：
其中w在每次出现时独立地为0、1、2、3或4，任选地为1或2；n为1、2或3；并且R7在每次出现时独立地为取代基。
当存在时，各R7可独立地选自于由以下构成的组:
-烷基，任选地C1-20烷基，其中一个或多个非相邻C原子可被任选取代的芳基或杂芳基、O、S、取代的N、C＝O或-COO-替换，并且一个或多个H原子可被F替换；
-芳基和杂芳基基团，所述芳基和杂芳基基团可以是未取代的或取代有一个或多个取代基，优选为取代有一个或多个C1-20烷基的苯基；
-芳基或杂芳基基团的直链或支化链，每个所述基团可独立地被取代，例如式-(Ar7)r的基团，其中各Ar7独立地为芳基或杂芳基并且r为至少2，优选为苯基的支化链或直链，每个苯基可以是未取代的或取代有一个或多个C1-20烷基；和
-式(I)或(II)的基团。
在R7包含芳基或杂芳基、或者芳基或杂芳基的直链或支化链的情形中，所述芳基或杂芳基或者每个芳基或杂芳基可取代有一个或多个选自以下的取代基R8:
烷基，例如C1-20烷基，其中一个或多个非相邻C原子可被O、S、取代的N、C＝O和-COO-替换，并且该烷基的一个或多个H原子可被F替换；
NR9 2、OR9、SR9、SiR9 3，和
氟、硝基和氰基；
其中各R9独立地选自如下：烷基，优选C1-20烷基；和芳基或杂芳基，优选苯基，任选地取代有一个或多个C1-20烷基。
取代的N，当存在时，可以为-NR6-，其中R6为取代基并且任选为C1-40烃基，任选为C1-20烷基。
优选地，各个R7(当存在时)独立地选自式(I)或(II)的基团，以及C1-40烃基。优选的C1-40烃基是：C1-20烷基；未取代的苯基；取代有一个或多个C1-20烷基的苯基；苯基的直链或支化链，其中各个苯基可以是未取代的或取代有一个或多个取代基。
如果n为1，那么示例性的式(VI)重复单元包括如下:
特别优选的式(VI)重复单元具有式(VIa):
式(VIa)的取代基R7与该重复单元的连接位置邻近，这可引起式(VIa)重复单元与邻近重复单元之间的空间位阻，从而导致式(VI a)重复单元相对于一个或两个邻近重复单元扭曲到平面外。
当n为2或3时的示例性重复单元包括以下：
优选的重复单元具有式(VIb)：
式(VIb)的两个R7基团可以在它们所结合至的苯基环之间引起空间位阻，从而导致两个苯基环相对于彼此扭曲。
另一类亚芳基重复单元是任选取代的芴重复单元，例如式(VII)的重复单元：
其中R8在每次出现时是相同的或不同的并且是取代基，其中两个基团R8可以连接形成环；R7为如上所述的取代基；以及d是0、1、2或3。
各R8可独立地选自于由以下构成的组:
-烷基，任选地C1-20烷基，其中一个或多个非相邻C原子可被任选取代的芳基或杂芳基、O、S、取代的N、C＝O或-COO-替换，并且一个或多个H原子可被F替换；
-芳基和杂芳基基团，所述芳基和杂芳基基团可以是未取代的或取代有一个或多个取代基，优选为取代有一个或多个C1-20烷基的苯基；
-芳基或杂芳基基团的直链或支化链，每个所述基团可独立地被取代，例如式-(Ar7)r的基团，其中各Ar7独立地为芳基或杂芳基并且r为至少2，任选为2或3，优选为苯基的支化链或直链，每个苯基可以是未取代的或取代有一个或多个C1-20烷基；和
-式(I)或(II)的基团。
优选地，各个R8独立地为式(I)或(II)的基团或者C1-40烃基。优选的C1-40烃基是：C1-20烷基；未取代的苯基；取代有一个或多个C1-20烷基的苯基；和苯基的直链或支化链，其中各个苯基可以是未取代的或取代有一个或多个取代基。
取代的N(当存在时)可以为：-NR6-，其中R6如上所述。
芴重复单元的芳族碳原子可以是未取代的，或者可以取代有一个或多个取代基R7，该取代基R7如关于式(VI)所述。
示例性取代基R7是烷基，例如C1-20烷基，其中一个或多个非相邻C原子可以被如下替换：O、S、C＝O和-COO-，任选取代的芳基，任选取代的杂芳基，烷氧基，烷硫基(alkylthio)，氟，氰基和芳基烷基。特别优选的取代基包括C1-20烷基以及取代或未取代的芳基，例如苯基。芳基的任选取代基包括一个或多个C1-20烷基。
可通过以下方式控制式(VII)重复单元与聚合物骨架中的邻近重复单元的芳基或杂芳基的共轭程度：(a)通过3-和/或6-位置连接重复单元以限制跨该重复单元的共轭程度，和/或(b)在邻近于连接位置的一个或多个位置上用一个或多个取代基R7取代所述重复单元以产生与邻近的一个或多个重复单元的扭曲，例如在3-和6-位置之一或两者上带有C1-20烷基取代基的2,7-连接的芴。
式(VII)重复单元可以为式(VIIa)的2,7-连接的重复单元:
在如下情形中可以提供跨式(VIIa)重复单元的相对高的共轭程度：当每个d＝0，或者当与式(VIIa)的2-或7-连接位置相邻的位置上不存在任何取代基R7。
在如下情形中可以提供跨式(VIIa)重复单元的相对低的共轭程度：当至少一个d为至少1，以及当与式(VIIa)的2-或7-连接位置相邻的位置上存在至少一个取代基R7。任选地，每个d为1，并且用取代基R7取代式(VIIa)重复单元的3-和/或6-位置，以便提供相对低的跨重复单元的共轭程度。
式(VII)重复单元可以是式(VIIb)的3,6-连接的重复单元：
与相应的式(VIIa)重复单元相比，跨式(VIIb)重复单元的共轭程度可以是相对低的。
另一种示例性亚芳基重复单元具有式(VIII)：
其中R7、R8和d如关于上面的式(VI)和(VII)所述。任何R7基团可以连接到任一另外R7基团以形成环。如此形成的环可以是未取代的或者可以取代有一个取代基，任选一个或多个C1-20烷基。
式(VIII)的重复单元可以具有式(VIIIa)或(VIIIb)：
所述一个或多个共聚重复单元可以包括共轭中断重复单元，该共轭中断重复单元是在邻近于该共轭中断重复单元的重复单元之间不提供任何共轭路径的重复单元。
示例性的共轭中断共聚重复单元包括式(IX)的共聚重复单元：
其中：
Ar4在每次出现时独立地表示芳基或杂芳基，该芳基或杂芳基可以是未取代的或取代有一个或多个取代基；和
Sp表示包含至少一个碳或硅原子的间隔基团。
优选地，间隔基团Sp包括分隔Ar4基团的至少一个sp3杂化碳原子。
优选地，Ar4是芳基，并且Ar4基团可以相同或不同。更优选每个Ar4是苯基。
每个Ar4可以独立地是未取代的或者可以取代有1、2、3或4个取代基。所述一个或多个取代基可以选自：
-C1-20烷基，其中该烷基的一个或多个不相邻C原子可以被O、S或COO、C＝O、NR6或SiR6 2替代，并且该C1-20烷基的一个或多个H原子可以被F替代，其中R6是取代基并且在每次出现时任选为C1-40烃基，任选为C1-20烷基；和
-芳基或杂芳基，任选为苯基，其可以是未取代的或者取代有一个或多个C1-20烷基。
Ar4的优选取代基是C1-20烷基，该C1-20烷基在每次出现时可以相同或不同。
示例性的基团Sp包括C1-20烷基链，其中该链的一个或多个非相邻C原子可以被O、S、-NR6-、-SiR6 2-、-C(＝O)-或-COO-替代，并且其中R6在每次出现时为取代基并且任选在每次出现时为C1-40烃基，任选为C1-20烷基。优选地，Sp含有将两个基团Ar4间隔开的至少一个sp3杂化碳原子。
包含重复单元RU1和/或RU2的聚合物可以包含式(X)的芳基胺重复单元，作为式(IIIb)或(IVb)的共聚重复单元或重复单元：
其中Ar8、Ar9和Ar10在每次出现时独立地选自取代或未取代的芳基或杂芳基，g为0、1或2，优选为0或1，R13在每次出现时独立地为H或取代基，优选取代基，并且c、d和e各自独立地为1、2或3。
式(X)的重复单元可以为聚合物提供适用于空穴传输层或发光层的空穴传输性能和/或适用于发光层的发光性能。
当g为1或2时在每次出现时可以相同或不同的R13优选地选自：烷基(例如C1-20烷基)，Ar11，Ar11基团的支化链或直链，或者式(I)或(II)的基团，其中Ar11在每次出现时独立地为任选取代的芳基或杂芳基。
直接结合至同一N原子的选自Ar8、Ar9以及(若存在时的)Ar10和Ar11中的任意两个芳族或杂芳族基团可通过直接键或者二价连接原子或基团连接到Ar8、Ar9、Ar10和Ar11中的其它。优选的二价连接原子和基团包括O、S、取代的N、和取代的C。
Ar8和Ar10优选是C6-20芳基，更优选苯基，其可以是未取代的或取代有一个或多个取代基。
在g＝0的情形中，Ar9优选为C6-20芳基，更优选为苯基，其可以是未取代的或取代有一个或多个取代基。
在g＝1的情形中，Ar9优选为C6-20芳基，更优选为苯基或多环芳族基团，例如萘、苝、蒽或芴，其可以是未取代的或者取代有一个或多个取代基。
R13优选为Ar11或Ar11基团的支化链或直链。Ar11在每次出现时优选是苯基，该苯基可以是未取代的或者取代有一个或多个取代基。
示例性基团R13包括以下基团，其每一个可以是未取代的或者取代有一个或多个取代基，并且其中*表示与N的连接点：
c、d和e优选各自为1。
Ar8、Ar9以及(若存在时的)Ar10和Ar11各自独立地是未取代的或取代有一个或多个取代基，任选地1、2、3或4个取代基。示例性的取代基可以选自：
-取代或未取代的烷基，任选地C1-20烷基，其中一个或多个不相邻的C原子可以被任选取代的芳基或杂芳基(优选苯基)、O、S、C＝O或-COO-代替，并且一个或多个H原子可以被F代替；和
-式(I)或(II)的基团。
Ar8、Ar9以及(若存在时的)Ar10和Ar11的优选取代基是C1-40烃基，优选C1-20烷基或式(I)或(II)的基团。
优选的式(X)重复单元包括未取代或取代的式1-3单元：
优选地，式1重复单元的Ar8、Ar10和Ar11是苯基，并且Ar9是苯基或多环芳族基团。
优选地，式2和式3重复单元的Ar8、Ar9和Ar11是苯基。
优选地，式3重复单元的Ar8和Ar9是苯基，并且R13是苯基或苯基的支化链或直链。
包含式(X)重复单元的空穴传输聚合物可以是含有式(X)重复单元和一个或多个共聚重复单元的均聚物或共聚物。
可以按约10摩尔％至约95摩尔％、任选约10-75摩尔％或约10-50摩尔％范围内的摩尔量提供式(X)的重复单元。
该聚合物可以含有一种或两种或更多种不同的式(X)重复单元。
下面说明式(IIIb)和(IVb)的示例性聚合重复单元。
本文中所述的聚合物适宜地具有在约1×103至1×108的范围内，并且优选在1×103至5×106范围内的通过凝胶渗透色谱法测量的聚苯乙烯当量数均分子量(Mn)。本文所述聚合物的聚苯乙烯当量重均分子量(Mw)可以为1×103至1×108，且优选为1×104至1×107。
本文任何地方所述的聚合物适宜地为非晶态聚合物。
聚合物合成
制备共轭聚合物的优选方法包括“金属嵌插”，其中将金属络合物催化剂的金属原子嵌插在芳基或杂芳基基团与单体的离去基团之间。示例性的金属嵌插方法是如例如WO00/53656中所述的Suzuki聚合，以及如例如以下文献中所述的Yamamoto聚合：T.Yamamoto，“Electrically Conducting And Thermally Stableπ-Conjugated Poly(arylene)sPrepared by Organometallic Processes"，Progress in Polymer Science 1993，17，1153-1205。在Yamamoto聚合的情形中，使用镍络合物催化剂；在Suzuki聚合的情形中，使用钯络合物催化剂。
例如，在通过Yamamoto聚合来合成线型聚合物中，使用具有两个反应性卤素基团的单体。类似地，根据Suzuki聚合方法，至少一个反应性基团是硼衍生基团例如硼酸或硼酸酯，并且另一个反应性基团是卤素。优选的卤素为氯、溴和碘，最优选溴。
因此将意识到本申请通篇所说明的重复单元可衍生自带有合适离去基团的单体。同样地，可通过合适离去基团的反应将端基或侧基结合到聚合物。
Suzuki聚合可以用来制备区域规则(regioregular)、嵌段和无规的共聚物。具体地，当一个反应性基团为卤素并且另一个反应性基团为硼衍生基团时，可以制备均聚物或无规共聚物。作为替代，当第一单体的两个反应性基团均为硼并且第二单体的两个反应性基团均为卤素时，可以制备嵌段或区域规则的(特别是AB型)共聚物。
作为卤素的替代，能够参与金属嵌插的其它离去基团包括甲苯磺酸酯(tosylate)、甲磺酸酯(mesylate)和三氟甲磺酸酯(triflate)。
空穴注入层
可由导电性有机材料或无机材料形成导电性空穴注入层，该导电性空穴注入层可提供于如图1所示的OLED的阳极103和空穴传输层105之间以辅助从阳极到一层或多层半导体聚合物中的空穴注入。掺杂的有机空穴注入材料的实例包括任选取代的、掺杂的聚(乙烯二氧噻吩)(PEDT)，尤其是用下列掺杂的PEDT：电荷平衡聚酸(polyacid)，如EP 0901176和EP 0947123中所公开的聚苯乙烯磺酸(PSS)，聚丙烯酸或氟化磺酸，例如如US5723873和US 5798170中公开的聚苯胺；和任选取代的聚噻吩或聚(噻吩并噻吩)。导电性无机材料的实例包括过渡金属氧化物，如Journal of Physics D：Applied Physics(1996)，29(11)，2750-2753中所公开的VOx、MoOx和RuOx。
阴极
阴极109选自于具有容许电子注入到OLED的发光层内的功函数的材料。其它因素影响阴极的选择，例如在阴极与发光材料之间的有害相互作用的可能性。阴极可以由单一材料例如铝层构成。作为替代，其可以包含多种导电材料如金属，例如低功函数材料和高功函数材料的双层，例如WO 98/10621中公开的钙和铝。阴极可以包含单质钡，如在WO 98/57381、Appl.Phys.Lett.2002,81(4),634和WO 02/84759中所公开的。阴极可在器件的有机层与一个或多个导电阴极层之间包含金属化合物(特别是碱金属或碱土金属的氧化物或氟化物)的薄层(例如1-5nm)，以协助电子注入，例如在WO 00/48258中公开的氟化锂；如在Appl.Phys.Lett.2001,79(5),2001中公开的氟化钡；以及氧化钡。为了提供电子向器件内的高效注入，阴极优选地具有小于3.5eV、更优选地小于3.2eV、最优选地小于3eV的功函数。金属的功函数可以参见例如Michaelson，J.Appl.Phys.48(11)，4729，1977。
阴极可以是不透明的或透明的。透明阴极对于有源矩阵器件是特别有利的，因为穿过此类器件中的透明阳极的发射光至少部分地被位于发光像素下方的驱动电路阻挡。透明阴极包含电子注入材料的层，该层足够薄以致是透明的。通常，该层的横向导电性由于其薄度(thinness)而将是低的。在这种情况下，电子注入材料层与透明导电材料例如铟锡氧化物的较厚层组合使用。
将理解的是，透明阴极器件不需要具有透明阳极(当然，除非需要完全透明的器件)，并且因此可以用反射材料层例如铝层替换或补充用于底部发光器件的透明阳极。在例如GB 2348316中公开了透明阴极器件的实例。
包封
有机光电子器件往往对水分和氧气敏感。因此，基底优选地具有用于防止水分和氧气侵入器件内的良好阻隔性。基底通常为玻璃，但是可以使用替代性的基底，特别是在器件的柔性为期望的情形中。例如，基底可以包含一个或多个塑料层，例如交替的塑料和电介质阻挡层的基底，或者薄玻璃和塑料的叠层体。
可以用包封材料(未示出)包封器件以防止水分和氧气侵入。合适的包封材料包括玻璃片，具有合适的阻挡性质的膜，如二氧化硅、一氧化硅、氮化硅、或聚合物与介电材料的交替叠层，或气密性容器。在透明阴极器件的情形中，可沉积透明包封层如一氧化硅或二氧化硅达到微米级的厚度，但在一个优选的实施方案中，该层的厚度在20-300nm范围内。用于吸收可能渗透穿过基底或包封材料的任何大气水分和/或氧气的吸气剂材料可被设置在基底和包封材料之间。
配制物加工
适合于形成有机电子器件的层的配制物可以包含具有式(I)的取代基的材料和一种或多种合适的溶剂，所述层优选为OLED的层，更优选为OLED的空穴传输层。该配制物可以基本上由第一材料以及一种或多种溶剂组成，或者可以含有一种或多种其它组分，例如一种或多种具有式(II)取代基的材料。
在OLED空穴传输层的情形中，可以通过本文所述的溶液沉积技术在空穴传输层上形成发光层。
配制物可以是具有式(I)取代基的材料在一种或多种溶剂中的溶液，或者可以是在一种或多种组分不溶解的一种或多种溶剂中的分散体。优选地，配制物是溶液。
适合于溶解具有式(I)取代基的材料(特别是含有包含烷基取代基的聚合物的组合物)的溶剂，包括取代有一个或多个选自如下的取代基的苯：C1-10烷基、C1-10烷氧基和氯，例如甲苯、二甲苯和甲基苯甲醚。
特别优选的溶液沉积技术包括印刷和涂覆技术，例如旋涂和喷墨印刷。优选喷墨印刷。
旋涂特别适合于其中发光层的图案化为不必要的器件—例如用于照明应用或简单的单色分段显示器。
喷墨印刷特别适合于高信息内容的显示器，尤其是全色显示器。可通过如下方式来喷墨印刷器件：在第一电极上方提供图案化的层，和限定用于印刷一种颜色(单色器件的情况)或多种颜色(多色的情况，尤其是全色器件)的凹坑(well)。图案化的层优选是被图案化以限定凹坑的光刻胶层，例如EP 0880303中所述。可以通过将具有式(I)取代基的材料喷墨印刷到图案化层的凹坑中并使该材料反应(优选交联)来形成空穴传输层。然后可以将发光材料喷墨印刷到空穴传输层上的凹坑中。
作为凹坑的替代，可将墨印刷到图案化层内限定的沟道中。具体而言，可将光刻胶图案化以形成沟道，与凹坑不同的是，所述沟道在多个像素上方延伸并且可在沟道末端封闭或开放。
其它溶液沉积技术包括浸涂、柔性版印刷和丝网印刷。
应用
本文所述的第一材料及其组合物可用于形成有机电子器件的一个或多个层。优选地，所述第一材料用于形成交联层，在其上通过溶液沉积法形成另外的层。
本文所述的第一材料和层形成方法可用于形成OLED的电荷传输层或发光层；有机光响应器件(例如光电传感器或光伏器件)的半导体层；和有机薄膜晶体管的半导体层或电介质层。
有机光响应器件可以包括阳极、阴极以及介于阳极和阴极之间的由本文所述组合物形成的半导体层。有机半导体层可以是电子接受层、电子供给层、或介于阳极和阴极之间的另外层。可以提供包含电子接受材料和电子供给材料的共混物的单层来代替独立的接受层和供给层，并且可以通过用至少一个式(I)取代基和任选地至少一个式(II)取代基取代该层的一种或多种组分使该层交联。
有机薄膜晶体管可以包括：源电极和漏电极；有机半导体层，所述有机半导体层在源电极和漏电极之间延伸并与它们电接触；栅电极；以及介于所述有机半导体层和所述栅电极之间的电介质层。
实施例
化合物实施例1
根据以下反应方案制备非聚合的化合物实施例1：
BP酰胺
在氮气下于-20℃下向BP甲酯(250g，0.68mol)和N,O-二甲基羟胺·HCl(102.1g，1.05mol)在THF(1250ml)中的溶液逐滴添加异丙基氯化镁的溶液(2M，在THF中)(1047ml，2.09mol)，以保持内部温度小于-5℃，使反应混合物温热至室温并搅拌另外16小时。使反应混合物冷却至0℃，用稀盐酸(1.5M)淬灭，用乙酸乙酯(3L)稀释，分离乙酸乙酯层，干燥(Na2SO4)并在减压下除去溶剂。将所得白色固体用甲醇研制，过滤并用热甲醇和热ACN洗涤，从而得到BP酰胺(196g，73％产率，HPLC纯度为98.4％)。
1H-NMR(400MHz,CDCl3):δ[ppm]3.12(s,3H),3.33(s,3H),7.25-7.35(m,3H),7.52-7.54(m,2H),7.60-7.62(m,2H)。
13C-NMR(100MHz,CDCl3):δ[ppm]32.45,61.29,121.30,122.19,129.81,129.93,130.82,131.63,132.54,136.43,137.31,138.34,169.79。
化合物1实施例1阶段1
在氮气下于室温，向镁屑(25g，1.04mol)、碘和1,2-二溴乙烷在无水乙醚(650ml)中的悬浮液添加溴苯(14.5ml，0.14mol)，一旦开始后，逐滴添加剩余的溴苯(29ml，0.28mol)，将反应混合物在40℃下搅拌16小时，然后使其冷却至室温。在-20℃下将所得格氏试剂逐滴添加到BP酰胺(75g，0.19mol)在无水THF(750ml)中的溶液中，并在该温度下继续搅拌另外30分钟。然后将其冷却至0℃，用稀盐酸(1L，1.5M)淬灭，温热至室温，用乙酸乙酯稀释，分离有机层，干燥(Na2SO4)并在减压下除去溶剂。将所得白色固体用甲醇研制两次，过滤并用热甲醇洗涤从而得到化合物实施例1阶段1(68g，87％产率，HPLC纯度97.7％)。
1H-NMR(400MHz,CDCl3):δH[ppm]7.07-7.10(m,2H),7.25-7.35(m,5H),7.45-7.49(m,1H),7.61-7.68(m,3H),7.69-7.70(m,1H)。
化合物实施例1阶段2
在氮气下于-78℃，向单体实施例1阶段2(18.2g，0.072mol)在无水四氢呋喃(150ml)中的溶液逐滴添加正丁基锂的溶液(2.5M，在己烷中，28.8ml，0.072mol)以保持内部温度小于-74℃。将反应混合物搅拌2小时，然后逐滴添加BP酰胺(20g，0.048mol)的溶液以保持内部温度小于-74℃，并在该温度下将混合物搅拌1小时。使混合物缓慢升温至室温过夜；然后将其冷却至5℃，通过逐滴添加HCl的稀溶液(50ml，1.5M)淬灭并用乙酸乙酯(500ml)萃取，干燥(Na2SO4)并在减压下除去溶剂。通过硅胶柱(silica column)色谱法(2％EtOAc的己烷溶液)纯化，得到标题化合物(18.2g，68％产率)。
化合物实施例1阶段3
在氮气下将化合物实施例1阶段2(16.3g，0.028mol)的溶液、冰AcOH(245ml)和浓HCl(4.9ml)在120℃下加热1小时。将混合物冷却，小心地倒在冰:水的溶液(500ml)上，并通过过滤分离所得固体并干燥。用二氯甲烷萃取水相，将合并的有机萃取液干燥(Na2SO4)，并在减压下除去溶剂。通过硅胶柱色谱法(5％EtOAc的己烷溶液)纯化，得到标题化合物(14.3g，48％产率，HPLC纯度54％)。
化合物实施例1
将化合物实施例1阶段3(14.3g，0.025mol)、2-(2,5-二乙基苯基)-4,4,5,5-四甲基-1,3,2-二氧杂环戊硼烷(19.5g，0.075mol)、磷酸三钾(23g，0.1mmol)、甲苯(170ml)、乙醇(57ml)和蒸馏水(57ml)的溶液用氩气吹扫30分钟，添加Pd2(dba)3(0.195g，0.0002mol)和SPhos(0.195g，0.0004mol)，并将反应混合物在100℃加热16小时。将混合物冷却至室温，通过celite塞过滤(乙酸乙酯500ml)，用水稀释(500ml)，分离有机相，用盐水洗涤(500ml)，干燥(Na2SO4)并在减压下除去溶剂。通过硅胶柱色谱法(己烷)纯化，然后在乙酸乙酯中与Pd/C反应，并使用反相色谱法(乙腈:THF)纯化，得到白色固体形式的化合物实施例1(4g，24％产率，HPLC纯度99.3％)。
1H-NMR(400MHz,CDCl3):δH[ppm]0.94(s,9H),1.06(t,J＝7.48Hz,6H),1.28(t,J＝7.60Hz,6H),1.51-1.58(m,2H),1.72-1.76(m,1H),2.56(q,J＝7.44Hz,4H),2.68(q,J＝7.64Hz,4H),3.26-3.29(m,1H),3.46-3.49(m,1H),6.89-6.94(m,2H),7.09-7.15(m,3H),7.18-7.26(m,8H),7.28-7.30(m,1H),7.36(d,J＝7.76Hz,2H),7.44(s,2H),7.83(d,J＝7.76Hz,2H)。
13C-NMR(400MHz,CDCl3):δH[ppm]15.52,15.79,25.89,28.35,29.79,29.87,31.04,38.03,39.93,48.38,65.94,119.71,121.52,122.62,126.42,126.73,126.89,127.36,128.07,128.21,128.56,128.81,129.51,138.51,138.97,141.29,141.44,141.64,143.64,144.82,146.48,148.56,151.35。
单体实施例1
根据以下反应方案制备单体实施例1：
单体实施例1阶段1
在氮气下于室温，向镁屑(15.42g，634mmol)和碘(3个丸粒)在无水乙醚(10ml)中的悬浮液，于2小时内逐滴添加新戊基溴(77ml，601mmol)在无水乙醚(290ml)中的溶液，以便保持温和回流，然后将混合物回流1小时，并然后冷却至室温。将所得格氏试剂逐滴添加到3-溴双环[4.2.0]辛-1,3,5-三烯-7-酮(100g，510mmol)在无水乙醚(1000ml)中的溶液中，以便保持内部温度为～0℃。使反应混合物温热至室温过夜，然后将其冷却至0℃，用稀盐酸(340ml，2M水溶液)淬灭，并使其温热至室温。分离有机相，用水(3×120ml)洗涤，用MgSO4干燥，并在减压下去除溶剂从而得到橙色油状物(134g)。通过氧化硅塞(用己烷:乙酸乙酯(95:5％)洗脱)纯化所述油状物从而得到橙色油形式的标题化合物，其为两种异构体的混合物(111.1g，0.40mol，78％产率，通过1H NMR测得91.8％纯度)。
MS(EI)m/z 270((Br81)M+,2％),268((Br79)M+,2),255((Br81)M+-OH,11),253((Br79)M+-OH,11),199((Br81)M+-新戊基,100),197((Br79)M+-新戊基,99)
1H-NMR(600MHz,CDCl3):δH[ppm]1.10(9H,s),1.81(d,J＝14.7Hz,1H),1.94(d,J＝14.7Hz,1H),3.16(d,J＝14.4Hz,1H),3.48(d,J＝14.4Hz,1H),7.07(d,J＝7.6Hz,1H),7.29(s,1H),7.37(d,J＝7.6Hz,1H)。
单体实施例1阶段2
在氮气下于0℃，在1小时的时段内将三氟乙酸(159ml，2062mmol)逐滴添加到单体实施例1阶段1(111g，395mmol)和三乙基硅烷(67ml，416mmol)在己烷(325ml)中的溶液。将反应温热至室温并搅拌24小时。将反应混合物倒入冰:水的溶液(2.3L)中并搅拌1小时直到冰融化以及层分离。用己烷(500ml)萃取水相，将合并的有机萃取液用水(3×600ml)、乙酸钠(10％wt:vol，500ml)、水(3×600ml)洗涤，在MgSO4上干燥，并在减压下去除溶剂，从而得到橙色油状物(152.7g)。通过氧化硅塞(用己烷洗脱)纯化所述油状物从而得到黄色油形式的标题化合物(103.64g，376mmol，通过1H NMR得到的纯度为91.8％(为两种异构体的混合物并且含有2％的烯烃杂质))。
将硼烷·THF络合物(123ml，123mmol)的溶液缓慢添加到单体实施例1阶段2(103.64g，376mmol)在无水四氢呋喃(1L)中的溶液中，并将混合物加热至50℃持续18小时。将反应混合物冷却至室温，添加二甘醇二甲醚(1.3L)，将混合物冷却至0℃并逐滴添加乙酸(610ml)(观察到泡腾)。将反应混合物在室温下搅拌过夜，然后加热至110℃，蒸馏除去四氢呋喃，然后在110℃下将混合物加热另外4小时，然后将其冷却至室温并搅拌过夜。向反应混合物中添加水(200ml)，用己烷(4×1L)对其萃取，将合并的有机萃取液用水(6×1L)洗涤，在MgSO4上干燥并在减压下去除溶剂，从而得到无色油状物形式的标题化合物。通过氧化硅塞(用己烷洗脱)纯化所述油状物从而得到无色油形式的标题化合物(92.87g，345mmol，通过1H NMR测得93.9％纯度，为两种异构体的混合物)。
MS(EI)m/z 254((Br81)M+,3％),252((Br79)M+,2),57(100)。
1H-NMR(600MHz,CDCl3):δH[ppm]0.99(s,9H),1.55(dd,J＝14.0Hz,8.8Hz1H),1.75(dd,J＝14.0Hz,5.2Hz,1H),2.78(dd,J＝14.2Hz,2.5Hz,1H),3.36(dd,J＝14.2Hz,5.2Hz,1H),3.47(dtd,J＝8.8Hz,5.2Hz,2.5Hz,1H),6.93(d,J＝8.0Hz,1H),7.19(s,1H),7.32(d,J＝8.0Hz,1H),
单体实施例1阶段3
在氮气下于-78℃，向单体实施例1阶段2(7.2g，26.4mmol)在无水四氢呋喃(70ml)的溶液逐滴添加正丁基锂(2.5M，在己烷中，11.0ml，27.5mmol)以保持内部温度小于-74℃。将反应混合物搅拌20分钟并用水淬灭等分试样，并通过GC-MS(BCBNp/BrBCBNp80/20)分析。以固体形式分批添加BP甲酯(4.35g，11.7mmol)以保持内部温度小于-74℃。使混合物缓慢升温至室温过夜；然后将其冷却至5℃并通过逐滴添加HCl(2M水溶液)淬灭。在减压下去除溶剂，用己烷萃取残余物，将合并的有机萃取液用水洗涤，在MgSO4上干燥并在减压下浓缩至干燥。在无任何进一步纯化的情况下，将粗制的单体实施例1阶段3用于下一步骤。
单体实施例1
在氮气下于0℃，向单体实施例1阶段3(9.19g，13.4mmol)在无水二氯甲烷(40ml)中的溶液逐滴添加三氟化硼二乙醚合物(8.23ml，66.9mmol)的溶液，以维持内部温度小于5℃。使反应混合物温热至室温，搅拌过夜并然后小心地倒入冰:水(200ml)溶液中。一旦冰融化，分离各相，用二氯甲烷萃取水相，并将合并的有机萃取液在磷酸三钾溶液(10％wt:vol，40ml)的水溶液上方搅拌30分钟。分离有机相，并用水洗涤(50ml×3)，在MgSO4上干燥，过滤并吸附到上。将干燥的加载到氧化硅/塞上，并用己烷：二氯甲烷(9:1和6:4)的混合物洗脱，从而得到单体实施例1作为部分1(Frac 1)以及单体实施例1阶段3和部分2(Frac 2)。
在氮气下于0℃，向部分2(3.0g，4.3mmol)在干燥二氯甲烷(12ml)的溶液中逐滴添加三氟化硼二乙醚合物(2.8ml，22.8mmol)的溶液，以保持内部温度小于5℃。使反应混合物温热至室温，搅拌过夜并然后小心地倒入冰:水(50ml)溶液中。一旦冰融化，分离各相，用二氯甲烷萃取水相，将合并的有机萃取液在磷酸三钾溶液(10％wt:vol，10ml)的水溶液上方搅拌30分钟。分离有机相，并用水(20ml×3)洗涤，在MgSO4上干燥，过滤并吸附到上。将干燥的加载到氧化硅/塞上，并用己烷:二氯甲烷(9:1)的混合物洗脱。合并含有单体实施例1的部分，并且在减压下浓缩至干燥并与部分1合并。
将所得固体依次从乙酸正丁酯:甲醇、然后甲苯：甲醇中再结晶，从而得到白色固体形式的单体实施例1(1.93g，22％产率，通过HPLC测定为100％纯度，为2种异构体的混合物)。
1H-NMR(600MHz,CDCl3):δH[ppm]0.97(s,18H).1.56(dd,J＝14.0Hz,8.7Hz,2H),1.75(dd,J＝14.0Hz,5.3Hz,2H),2.71(dd,J＝14.2Hz,2.3Hz,2H),3.28(dd,J＝14.2Hz,5.2Hz,2H),3.48(m,2H),6.79(s,2H),6.92(d,J＝7.8Hz,2H),6.98(dd,J＝7.8Hz,0.96Hz,2H),7.45(dd,J＝8.1Hz,1.6Hz,2H),7.49(d,J＝1.3Hz,2H),7.56(d,J＝8.1Hz,2H)。
单体实施例2
根据以下反应方案制备单体实施例2：
3-(4-氯丁基)-7-新戊基双环[4.2.0]辛-1,3,5-三烯(A)
在氮气下于-78℃向3-溴-7-新戊基双环[4.2.0]辛-1,3,5-三烯(33.7g，123.8mmol，GC-MS纯度为93％，为2种异构体的混合物)在无水THF(400ml)中的溶液逐滴添加仲丁基锂(118ml，164.4mmol，1.4M，在环己烷中)的溶液，以保持内部温度小于-74℃，并将反应混合物在-78℃下搅拌另外1小时。然后逐滴添加1-溴-4-氯丁烷(13.5ml，117.7mmol)的溶液以保持内部温度小于-74℃，并使混合物温热至室温过夜。然后将其冷却至0℃，通过逐滴逐滴添加2M HCl(100ml)淬灭并在真空下浓缩。用己烷(3×120ml)萃取两相残余物，用水(3×200ml)洗涤合并的有机萃取液，干燥(MgSO4)并在真空下浓缩至干燥。使用氧化硅塞(己烷，己烷:DCM 9:1)纯化所得油状物，得到无色油形式的3-(4-氯丁基)-7-新戊基双环[4.2.0]辛-1,3,5-三烯(28g，87％产率)。
1H-NMR(600MHz,CDCl3):δH[ppm]1.0(s,9H),1.57(dd,J＝8.6Hz,13.9Hz,1H),1.72-1.84(m,5H),2.61(t,J＝7.6Hz,2H),2.75(dd,J＝2.5Hz,13.9Hz,1H),3.34(dd,J＝5.3Hz,13.9Hz,1H),3.50(m,1H),3.55(t,J＝6.5Hz,2H),6.88(s,1H),6.98(m,2H)。
3-(4-碘丁基)-7-新戊基双环[4.2.0]辛-1,3,5-三烯(B)
将3-(4-氯丁基)-7-新戊基双环[4.2.0]辛-1,3,5-三烯(28.0g，105.7mmol)和碘化钠(79.2g，528.6mmol)在丙酮(300ml)中的混合物回流25小时。将混合物冷却至室温，加入水(250ml)并将混合物在真空下浓缩。用己烷(3×110ml)萃取两相的残余物，用水(5×100ml)洗涤合并的有机萃取液，干燥(MgSO4)并在真空下浓缩从而得到3-(4-碘丁基)-7-新戊基双环[4.2.0]辛-1,3,5-三烯(36.3g，96％产率，95.8％HPLC纯度，为2种异构体的混合物)。
1H-NMR(600MHz,CDCl3):δH[ppm]1.0(s,9H),1.57(dd,J＝8.6Hz,13.9Hz,1H),1.71(五重,2H),1.77(dd,J＝5.2Hz,13.9Hz,1H),1.86(五重,2H),2.60(t,J＝7.6Hz,2H),2.75(dd,J＝2.3Hz,13.9Hz,1H),3.20(t,J＝7.0Hz,2H),3.34(dd,J＝5.2Hz,13.9Hz,1H),3.50(m,1H),6.88(s,1H),6.98(m,2H).
单体实施例2阶段1
在氮气下于-78℃，向1,4-二溴-3,6-(三甲基甲硅烷基)苯(20.0g，52.6mmol)在无水THF(200ml)中的溶液逐滴添加仲丁基锂的溶液(47.8ml，68.4mmol，1.4M，在环己烷中)，以保持内部温度小于-74℃。在-78℃下将反应混合物搅拌另外1小时。然后逐滴添加3-(4-碘丁基)-7-新戊基双环[4.2.0]辛-1,3,5-三烯(19.7g，55.2mmol)在THF(20ml)中的溶液，同时保持内部温度小于-74℃，并使混合物温热至室温过夜。然后使其冷却至0℃，通过逐滴添加2M HCl(50ml)淬灭，在真空下浓缩，并用己烷(3×70ml)萃取两相的残余物。将合并的有机萃取液用水(3×100ml)洗涤，干燥(MgSO4)并在真空下浓缩。使用氧化硅塞(己烷)纯化所得油状物，产生无色油形式的单体实施例2阶段1(18.2g，65％产率，85.8％HPLC纯度，为2种异构体的混合物)。
1H-NMR(600MHz,CDCl3):δH[ppm]0.29(s,9H),0.38(s,9H),1.0(s,9H),1.53-16.3(m,3H),1.71(五重,2H),1.76(dd,J＝5.3Hz,13.9Hz,1H),2.63(m,4H),2.74(dd,J＝2.3Hz,13.9Hz,1H),3.33(dd,J＝5.2Hz,13.9Hz,1H),3.50(m,1H),6.89(s,1H),6.96(d,J＝7.5Hz,1H),7.00(d,J＝7.5Hz,1H),7.20(s,1H),7.35(s,1H)。
单体实施例2阶段2
在氮气下于-78℃，向单体B阶段1(18.2g，34.4mmol)在无水THF(200ml)中的溶液逐滴添加仲丁基锂(29.4ml，41.2mmol，1.4M，在环己烷中)中的溶液，以保持内部温度小于-74℃，并在-78℃下将反应混合物搅拌另外1小时。然后逐滴添加3-(4-碘丁基)-7-新戊基双环[4.2.0]辛-1,3,5-三烯(12.9g，36.1mmol)在THF(20ml)中的溶液，同时保持内部温度小于-74℃，并使混合物温热至室温过夜。然后将其冷却至0℃，通过逐滴添加2M HCl(25ml)淬灭，在真空下浓缩并用甲苯(100ml)稀释。分离各相，将水层用水(50ml)稀释以及用甲苯(2×50ml)萃取。将合并的有机萃取液用水(3×100ml)洗涤，干燥(MgSO4)并在真空下浓缩。将所得固体在乙腈(250ml)中搅拌3小时，过滤并在40℃的真空烘箱中干燥68小时，从而产生白色固体形式的单体实施例2阶段2(17.8g，76％产率，95.5％HPLC纯度)。
1H-NMR(600MHz,CDCl3):δH[ppm]0.28(s,18H),1.0(s,18H),1.56(dd,J＝8.7Hz,13.9Hz,2H),1.63(m,4H),1.72(m,4H),1.76(dd,J＝5.3Hz,13.9Hz,2H),2.63(t,J＝7.5Hz,4H),2.67(m,4H),2.75(dd,J＝2.0Hz,13.9Hz,2H),3.33(dd,J＝5.2Hz,13.9Hz,2H),3.49(m,2H),6.89(s,2H),6.96(d,J＝7.5Hz,2H),7.00(d,J＝7.5Hz,2H),7.35(s,2H)。
单体实施例2阶段3
在避光条件在氮气下于5℃，向单体B阶段2(17.8g，26.2mmol)在氯仿(180ml)中的溶液逐滴添加乙酸(32ml)，随后添加DMF(71ml)，以便保持温度小于10℃。使混合物温热至室温并用氮气吹扫30分钟。在5℃下，将已经用氮气吹扫30分钟的N-溴代琥珀酰亚胺(9.6g，53.7mmol)在DMF(33ml)中的溶液逐滴添加到单体B阶段2的溶液，并使所得混合物温热至室温，并且搅拌另外3小时。在5℃下以固体形式添加另一部分N-溴代琥珀酰亚胺(0.4g，2.25mmol)，并在室温下搅拌反应过夜。将混合物冷却至10℃，向反应混合物中添加水(170ml)，分离各相，将水层用DCM(2×100ml)萃取，将合并的有机萃取液用水(5×100ml)洗涤，干燥(MgSO4)并在真空下浓缩。将所得固体在乙腈(250ml)中搅拌3小时，过滤并在50℃的真空烘箱中干燥18小时，从而产生白色固体形式的单体实施例2阶段3(16.7g，92％产率，HPLC纯度为95.6％)。
1H-NMR(600MHz,CDCl3):δH[ppm]0.99(s,18H),1.57(dd,J＝8.6Hz,13.9Hz,2H),1.65(m,8H),1.77(dd,J＝5.3Hz,13.9Hz,2H),2.61(t,J＝7.4Hz,4H),2.67(t,J＝7.4Hz,4H),2.75(dd,J＝2.3Hz,13.9Hz,2H),3.34(dd,J＝5.2Hz,13.9Hz,2H),3.50(m,2H),6.88(s,2H),6.96(d,J＝7.4Hz,2H),7.00(d,J＝7.5Hz,2H),7.33(s,2H)。
单体实施例2
将单体实施例2阶段3(16.7g，24.1mmol)和双(频哪醇酯)二硼(13.5g，53.0mmol)在1,2-二甲氧基乙烷(200ml)中的溶液用氮气吹扫1小时，加入乙酸钾(14.2g,，144.7mmol)，并将混合物吹扫另外20分钟。加入1,1'-双(二苯基膦基)二茂铁二氯化钯二氯甲烷加合物(0.59g，0.72mmol)，并将混合物在100℃下搅拌过夜。将混合物冷却至室温，过滤通过氧化硅-Florisil-celite塞(DCM:己烷(1:1))并在真空下浓缩。将所得残余物溶解在DCM中并加入己烷，在真空下去除DCM从而得到DCM:己烷(1:1)的混合物。将溶液过滤通过氧化硅-Florisil塞(DCM:己烷(1:1))，并在减压下浓缩至干燥。从甲苯:乙腈、甲苯:己烷和甲苯:乙腈:异丙醇中将所得固体反复地再结晶，然后通过柱色谱法(己烷:DCM(7:3)至(6:4))纯化，并将所得固体溶解在甲苯中，向混合物中添加乙腈并过滤所得浆料从而得到白色固体形式的单体实施例2(9.6g，50％产率，HPLC纯度为99.8％)。
1H-NMR(600MHz,CDCl3):δH[ppm]0.99(s,18H),1.31(s,24H),1.58(m,6H),1.66(五重,4H),1.76(dd,J＝5.3Hz,13.9Hz,2H),2.59(t,J＝7.7Hz,4H),2.74(dd,J＝2.0Hz,13.9Hz,2H),2.84(t,J＝7.9Hz,4H),3.32(dd,J＝5.2Hz,13.9Hz,2H),3.48(m,2H),6.87(s,2H),6.94(d,J＝7.5Hz,2H),6.99(d,J＝7.5Hz,2H),7.53(s,2H)。
单体C
根据如下反应方案制备单体C：
在氮气下向2,7-二溴-9H-芴(2g，6.17mmol)在无水THF(20ml)中的溶液添加叔丁醇钾(3.4g，30.86mol)，并且将混合物在70℃下搅拌2小时。将反应混合物冷却至室温，逐滴添加5-(3-溴丙-1-基)-双环[2.2.1]庚-2-烯(3.9g，18.52mol)在无水THF(5ml)中的溶液然后将混合物在75℃下搅拌16小时。冷却时，添加水(50ml)并用二氯甲烷(2×50ml)萃取该溶液。用水(50ml)、盐水(50ml)对合并的有机萃取液进行洗涤，干燥(Na2SO4)并在减压下浓缩从而得到黄色固体。通过硅胶柱色谱法(己烷)纯化得到固体，用MeOH/EtOAc(5ml:3ml)的混合物在50℃下将所述固体研制30分钟。将所述固体过滤并用甲醇洗涤，从而得到白色固体形式的单体C(1.16g，32％产率，HPLC纯度为99.8％)。
1H-NMR(400MHz,CDCl3):δH[ppm]0.26-0.30(m,2H),0.57-0.63(m,4H),0.82-0.87(m,4H),1.09-1.19(m,2H),1.27-1.29(m,2H),1.64-1.69(m,2H),1.71-1.76(m,2H),1.86-1.92(m,4H),2.50(m,2H,),2.66(m,2H),5.72(dd,J＝2.8Hz,5.6Hz,2H),6.03(dd,J＝2.9Hz,5.6Hz,2H),7.45-7.49(m,4H),7.54-7.56(m,2H)。
聚合物实施例
以表1中所述量通过下示单体的如WO 00/53656中所述的Suzuki聚合制备聚合物。
表1
非聚合化合物反应实施例1
称取30-40mg化合物实施例1放入玻璃盘中。在手套箱中(O2<0.1ppm)加热该玻璃盘并用磁力搅拌棒将混合物搅拌1小时。
将所得混合物溶解并通过HPLC和LC-MS分析，其中将对应于起始材料的峰归一化为100％。
非聚合化合物反应比较实施例1
如实施例1中所述进行反应，区别在于使用下面所示的比较化合物1代替化合物实施例1。
非聚合化合物反应比较实施例2
如实施例1中所述进行反应，区别在于使用下面所示的比较化合物2代替化合物实施例1。
参考图2A-2C，比较化合物1和2(分别为图2A和2B)反应从而形成大量的三聚物和更高级低聚物，而化合物实施例1(图2C)的反应产物受二聚物形成的支配，几乎不具有三聚物或更高级低聚物。不希望受任何理论约束，据认为化合物实施例1的巨大新戊基取代基抑制三聚物或更高级低聚物的形成，从而增加与式(II)基团(如果存在的话)反应的有利性。
聚合物反应实施例
通过将可获自Nissan Chemical Industries的空穴注入材料旋涂在玻璃基底上并退火形成35nm的空穴注入层。
通过在空穴注入层上旋涂上表1聚合物的22nm层，并加热至120℃-230℃的温度持续1小时。
然后将所述聚合物层浸泡在邻二甲苯溶剂中持续5分钟。
通过比较在邻二甲苯中浸泡之前和之后在376nm的紫外-可见吸收光谱来测定浸泡时溶解的聚合物量。
参考图3，包含新戊基取代BCB的聚合物实施例1和4的交联导致比含有未取代BCB基团的比较聚合物1的交联显著更不易溶的材料。
器件实施例—旋涂的空穴传输层
制备具有以下结构的蓝色有机发光器件：
ITO/HIL(35nm)/HTL(22nm)/LE(65nm)/阴极，
其中ITO是铟锡氧化物阳极；HIL是空穴注入层；HTL是空穴传输层；LE是发光层；并且所述阴极包含与所述发光层接触的氟化钠层，铝层以及银层。
为了形成该器件，使用紫外线/臭氧清洁带有ITO的基底。通过旋涂可获自NissanChemical Industries的空穴注入材料的水性配制物并且加热所形得层从而形成空穴注入层。通过旋涂表1的聚合物并通过加热使聚合物交联从而形成空穴传输层。通过旋涂包含式(VII)、(VIII)和(X)重复单元的蓝色发光聚合物的组合物形成发光层。通过如下方式形成阴极：蒸镀氟化钠的第一层至约2nm的厚度，铝的第二层至约100nm的厚度以及银的第三层至约100nm的厚度。
将空穴传输层在160℃下退火1小时；比较聚合物1除外，将其在170℃下退火1小时。
参考图4，使用不同的空穴传输层的光谱非常相似。
参考图5，对于不同的器件，在给定电压下的电流密度是相似的。在所有情形中，实现10mA/cm2电流密度所需的电压为3.7V。
参考图6，器件的亮度相对于电压的迹线非常相似。在所有情形中，实现1000cd/m2的亮度所需的电压均为3.7V。
参考图7，包含聚合物实施例1和4的器件的外部量子效率高于包含比较聚合物1的器件的外部量子效率。
器件实施例—喷墨印刷的空穴传输层
制备具有以下结构的蓝色有机发光器件：
ITO/HIL(35nm)/HTL(22nm)/LE(65nm)/阴极,
其中ITO是铟锡氧化物阳极；HIL是空穴注入层；HTL是空穴传输层；LE是发光层；并且所述阴极包括与发光层接触的氟化钠层，以及铝层。
为了形成该器件，使用紫外线/臭氧清洁带有ITO的基底。在ITO上形成光致抗蚀剂层并图案化以形成喷墨凹坑。通过将可获自Nissan Chemical Industries的空穴注入材料的水性配制物喷墨印刷到凹坑中并加热所得的层从而形成空穴注入层。通过将溶解在环己基苯:4-甲基苯甲醚的80:20vol％共混物中的聚合物喷墨印刷到凹坑中以及通过在170℃加热1小时使聚合物交联形成空穴传输层，该聚合物包含式(VIIa)的芴重复单元、式(X-1)的胺重复单元以及各自5mol％的衍生自比较单体1和单体B的重复单元。通过喷墨印刷包含溶解在环己基苯:4-甲基苯甲醚的80:20vol％共混物中的发光聚合物的配制物来形成发光层，所述发光聚合物包含式(VIIa)、(VIII)和(X)的重复单元。通过蒸镀氟化钠的第一层至约2nm的厚度以及蒸镀铝的第二层至约100nm的厚度形成阴极。
按上文所述通过喷墨印刷形成器件，区别是在形成发光层之前用溶剂冲洗空穴传输层。
参考图8，对于空穴传输层有清洗(实线)和无清洗(虚线)的器件，亮度下降到初始值的95％所用的时间是相似的。
为了比较的目的，如上所述通过喷墨印刷形成两个比较器件，其中在形成发光层之前用溶剂冲洗一个器件的空穴传输层，而另一个不冲洗，区别在于使用衍生自比较单体1的重复单元代替衍生自单体实施例1的重复单元。通过喷墨印刷沉积溶解在50:50vol％的苯甲醚：3-苯氧基甲苯中的聚合物的配制物来沉积比较器件的空穴传输层。
参照图9，相比不冲洗空穴传输层所形成的比较器件(虚线)，对于具有冲洗的空穴传输层的比较器件(实线)亮度下降到初始值的95％所用的时间长得多。不希望受任何理论约束，据认为含未冲洗空穴传输层的器件的相对较短的寿命至少部分归因于未交联空穴传输聚合物的存在，在冲洗过的器件中所述未交联空穴传输聚合物被除去。
虽然关于具体的示例性实施方案描述了本发明，然而应意识到在不偏离下列权利要求所述的本发明范围的情况下，本文所公开特征的各种修改、改变和/或组合对本领域技术人员而言将是明显的。
Claims (21)
1.一种取代有式(I)基团的材料：
其中：
Ar1为芳基或杂芳基，该芳基或杂芳基可以是未取代的或者取代有一个或多个取代基；
Sp1表示第一间隔基团；
n1为0或1；
如果n1为0则m1为1，并且如果n1为1则m1为至少1；
R1在每次出现时独立地为H或取代基，
条件是至少一个R1是选自如下的基团R11：
烷基，其包含直接结合到式(I)的环丁烯环的碳原子上的叔碳原子；
支化烷基，其中该支化烷基的仲碳原子或叔碳原子通过至少一个-CH2-基团与式(I)的环丁烯环的碳原子间隔开；和包含环烷基的烷基；
或者
条件是至少两个R1基团连接形成环；
并且*表示至所述材料的连接点。
2.根据权利要求1所述的材料，其中n1为1，并且Sp1是式-(R12)t-的基团，其中t为至少1，并且每个R12独立地选自如下：
-C1-20烷基，其中该烷基的一个或多个非相邻C原子可以被O、S、SiR14 2替代，其中R14在每次出现时独立地是取代基或芳基或杂芳基，该芳基或杂芳基可以是未取代的或者取代有一个或多个取代基；和
-芳基或杂芳基，该芳基或杂芳基可以是未取代的或者取代有一个或多个取代基。
3.根据任一前述权利要求所述的材料，其中至少一个R1基团为H。
4.根据权利要求3所述的材料，其中三个R1基团为H。
5.根据任一前述权利要求所述的材料，其中Ar1是未取代或取代的苯基。
6.根据任一前述权利要求所述的材料，其中所述材料是非聚合的材料。
7.根据权利要求1-5任一项所述的材料，其中所述材料是包含式(IIIb)的第一重复单元的聚合物：
其中RU1是第一聚合物骨架重复单元且p1为至少1。
8.根据权利要求7所述的材料，其中RU1是未取代或取代的亚芳基。
9.一种组合物，该组合物包含根据任一前述权利要求的材料和取代有至少一个式(II)基团的第二材料：
其中：
Sp2表示第二间隔基团；
n2为0或1；
如果n2为0则m2为1，以及如果n2为1则m2为至少1；
UG是包含反应性不饱和基团的基团；和
*表示至第二材料的连接点。
10.根据权利要求9所述的组合物，其中所述式(II)基团在每次出现时独立地选自式(XIa)和(XIb)的基团：
其中R2和R3各自独立地表示H或取代基，并且其中式(XIb)的降冰片烯基团可以是未取代的或者取代有一个或多个取代基。
11.根据权利要求8或9的组合物，其中所述第二材料是式(IVb)的聚合重复单元：
其中RU2是第二重复单元并且p2为至少1。
12.根据权利要求9、10或11的组合物，其中所述材料和所述第二材料是相同聚合物的重复单元。
13.根据权利要求9或10的组合物，其中所述第二材料是非聚合物的化合物。
14.一种形成有机电子器件的层的方法，该方法包括使根据权利要求1-8任一项的材料或者根据权利要求9-13任一项的组合物沉积并反应的步骤。
15.根据权利要求14的方法，其中所述反应发生在小于200℃的温度。
16.根据权利要求14或15的方法，其中从在溶剂或溶剂混合物中的溶液沉积所述材料或组合物，随后蒸发所述溶剂。
17.根据权利要求16的方法，其中将所述材料或组合物喷墨印刷。
18.根据权利要求14-17任一项的方法，其中通过溶液沉积方法在包含反应过的材料或组合物的层上形成另外的层。
19.根据权利要求18的方法，其中通过喷墨印刷形成所述另外的层。
20.根据权利要求14-19任一项的方法，其中所述有机电子器件是有机发光器件。
21.根据权利要求20的方法，其中所述层是提供在有机发光器件的阳极和发光层之间的空穴传输层。
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