CN105884949A - 一种以支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐为基体树脂的光刻胶组合物 - Google Patents

一种以支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐为基体树脂的光刻胶组合物 Download PDF

Info

Publication number
CN105884949A
CN105884949A CN201410714546.3A CN201410714546A CN105884949A CN 105884949 A CN105884949 A CN 105884949A CN 201410714546 A CN201410714546 A CN 201410714546A CN 105884949 A CN105884949 A CN 105884949A
Authority
CN
China
Prior art keywords
resin
maleic anhydride
photosensitive
branched
branching type
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201410714546.3A
Other languages
English (en)
Inventor
刘敬成
李虎
刘晓亚
穆启道
孙小侠
刘仁
纪昌炜
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
SUZHOU RUIHONG ELECTRONIC CHEMICAL PRODUCT CO Ltd
Jiangnan University
Original Assignee
SUZHOU RUIHONG ELECTRONIC CHEMICAL PRODUCT CO Ltd
Jiangnan University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by SUZHOU RUIHONG ELECTRONIC CHEMICAL PRODUCT CO Ltd, Jiangnan University filed Critical SUZHOU RUIHONG ELECTRONIC CHEMICAL PRODUCT CO Ltd
Priority to CN201410714546.3A priority Critical patent/CN105884949A/zh
Publication of CN105884949A publication Critical patent/CN105884949A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Abstract

本发明公开了一种支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐为基体的树脂应用于光刻胶,属于紫外光固化领域。该支化型光敏树脂主要是以巯基链转移剂、苯乙烯、马来酸酐为单体在甲苯溶液中进行沉淀聚合合成具有支化结构的聚苯乙烯马来酸酐共聚物,再接枝含羟基的丙烯酸单体引入光敏基团,得到具有光敏基团的支化型树脂,最终用于负性光刻胶中。本发明制备方法简单,反应条件温和,通过引入不同官能度的含羟基的丙烯酸单体可以控制树脂的双键当量,该支化型树脂应用在负性光刻制程中具有优良的显影性能,较快的显影速度,由此拓宽了该支化型光敏树脂的应用领域。

Description

一种以支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐为基体树脂的光刻胶组合物
技术领域
本发明涉及功能高分子材料领域,尤其是涉及一种被应用于光刻胶领域的支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐共聚物。
背景技术
聚苯乙烯马来酸酐是一种具有结构规整的高分子聚合物,而且可以利用常规的方法对其进行深入的结构和功能设计,进而促进了聚苯乙烯马来酸酐聚合物与其他学科的交叉,为传统的高分子材料领域开辟了新的应用平台。
支化型聚苯乙烯马来酸酐共聚物由于具有良好的耐热性,刚性、尺寸稳定性和优异的成膜等特性,广泛应用于涂料、水处理剂,油墨等领域,一直以来都是高分子界研究的热点,但应用于光致抗蚀剂却鲜有报道。
光致抗蚀剂又称光刻胶,在微电子行业具有重要地位,可借助其曝光前后溶解性能的变化,将电路图形转移到基板上制备微电子线路。
光致抗蚀剂主要是由感光树脂、增感剂和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后,曝光区能很快地发生光固化反应,使得这种材料的物理性能,特别是溶解性发生明显变化。经适当的显影处理,溶去可溶性部分,得到所需图像。
传统的成膜树脂为线性聚合物,其分子链较长,易于缠结,在成像显影过程中,曝光交联的部分与显影洗掉部分的分界处,易发生分子链的牵连,造成断面的不平整性,而且当涂膜稍厚时,不能达到深层固化,显影时分子链的缠结对图像的破坏程度更大,不易形成断面整齐、分辨率高的图案。
支化型聚合物由于其高度支化结构、分子之间无缠结、有大量的可反应活性的终端官能团等特点,使得支化型聚合物在增韧剂,药物缓释,染料助剂等方面展现出诱人的前景。
发明内容
针对现有技术存在的上述问题,本发明提供一种以支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐为基体树脂的光刻胶组合物。本发明组合物中,支化型树脂为苯乙烯、马来酸酐在巯基化合物作为链转移剂的条件下,合成一系列支化型光敏聚苯乙烯 马来酸酐共聚物,加入巯基使低分子量的聚合物在整个体系中的分布大幅增加,当在自由基聚合体系中加入具有链转移功能的单体,可成功地使聚合物发生支化,并最终应用在光致抗蚀剂,拓宽了此支化型光敏树脂的应用领域。
本发明的技术方案如下:
本发明所述的支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐制备方法中,以4-乙烯基苄硫醇为链转移单体,以苯乙烯、马来酸酐为聚合物主单体,以甲苯为溶剂,以AIBN为自由基聚合引发剂来制备支化型光敏共聚物,通过调节对乙烯基卞硫醇的摩尔投料量来调节所得聚合物的支化度及其机械物理性能,本发明聚合条件温和,聚合物结构性能可控、聚合物产物性能优异、制备操作简便、产物应用性能好。
将所得聚苯乙烯马来酸酐共聚物经过沉淀、提纯得到的固体溶于丙二醇甲醚醋酸酯中,再与甲基丙烯酸羟乙酯反应引入双键,制备具有光敏性能支化聚苯乙烯马来酸酐共聚物。
本发明有益的技术效果在于:
1、本发明组合物中支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐,以4-乙烯基苄硫醇为链转移单体,以苯乙烯、马来酸酐为聚合物主单体,以甲苯为溶剂,以AIBN为自由基聚合引发剂来制备支化型光敏共聚物,通过调节对乙烯基卞硫醇的摩尔投料量来调节所得聚合物的支化度及其机械物理性能,本发明聚合条件温和,聚合物结构性能可控、聚合物产物性能优异、制备操作简便、产物应用性能好;
2、本发明通过苯乙烯,马来酸酐在甲苯中进行沉淀聚合,所合成的共聚物为交替规整的共聚物,可以通过控制引发剂的用量来较好的调节分子量及其分布,加入链转移剂后,再引入光敏基团,相比线性聚合物来说,该支化型光敏共聚物含有更多的感光基团和较高的显影速率,并且该方法采用一步法,合成简单,条件温和。
附图说明
图1为本发明实施例1中支化型苯乙烯马来酸酐结构图。
图2为本发明实施例1中接枝前后支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐红外光谱图。
图3为本发明该光刻胶组合物显影后的SEM图形。
具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本发明进行具体描述。
实施例1
支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐树脂的合成:按表1所示的原料配比,往装有回流冷凝搅拌装置的100ml三口烧瓶中一次加入2.08g苯乙烯(St)、2.36g马来酸酐(Ma)、0.2g对乙烯基苄硫醇(VBT)、0.694g引发剂(AIBN)和50ml甲苯,往烧瓶中通N2除去氧后密封;回流搅拌下于70℃油浴反应20小时,得到的产物在甲苯中沉淀,以四氢呋喃为溶剂,甲苯为沉淀剂,溶解、沉淀3次,将固体置于30℃真空烘箱干燥,得白色固体,即为支化型聚苯乙烯马来酸酐。
向装有搅拌器和温度计的100ml三口烧瓶中加入16.68g丙二醇甲醚醋酸酯、4.04g支化型聚苯乙烯马来酸酐、0.1g三苯基膦和0.044g对甲氧基酚,搅拌使支化型聚苯乙烯马来酸酐全部溶解,再加入3.12g甲基丙烯酸羟乙酯,加热至115℃,回流反应10小时后降温冷却,将产物倒入石油醚中沉淀,过滤,干燥,得支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐。支化型聚苯乙烯马来酸酐红外光谱图见图2所示。
图2中BP-1和BP-2分别为为支化型聚苯乙烯马来酸酐、支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐红外谱图,其中1778cm-1和1858cm-1处的吸收峰分别为马来酸酐中C=0键的对称和反对称伸缩振动的吸收峰,且低频带吸收峰(1778cm-1)比高频带吸收峰(1858cm-1)强,说明分子中含有环酸酐,1450cm-1处有吸收峰为苯环上的C=C键面内伸缩振动吸收峰;702cm-1和1080cm-1处吸收峰分别为苯环上的C-H键面内和面外弯曲振动吸收峰;3025cm-1处吸收峰为苯环上C=C键伸缩振动吸收峰,2920cm-1处吸收峰为苯环上CH2键伸缩振动吸收峰。另外,在1636cm-1为双键特征峰,并且在3500cm-1处出羟基的特征峰,证明所得产物为支化型光敏据苯乙烯马来酸酐。
光刻胶组合物的制备及显影测试,各组成成分的质量百分比如下:支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐树脂65%,丙二醇甲醚醋酸酯20%,三羟甲基丙烷三丙烯酸酯8%,2-甲基-1-(4-甲巯基苯基)-2-吗啉-1-丙酮(907)与异丙基硫杂蒽酮(ITX)混合物(质量比为2∶1)3%,酞菁蓝4%,磁力搅拌至混合均匀,得到液态光刻胶组合物;
将光刻胶组合物经旋涂涂覆在铜板上,75℃条件下前烘30分钟;将菲林片覆盖在烘好的样品上,在170mj/cm2条件下曝光;将曝光好的样品置于1wt%Na2CO3溶液中显影10秒,再置于去离子水中洗去显影液,75℃条件下后烘30min,得到光刻胶图案,如图3所示。从图中可以看出图案线路清晰、笔直, 且图像分辨率为100μm。
实施例2
支化型光敏聚马来酸酐树脂的合成:按照表2所示的原料配比,往装有回流冷凝搅拌装置的100ml三口烧瓶中一次加入2.08g苯乙烯(St)、2.352g马来酸酐(Ma)、0.4g对氯亚甲基苯乙烯(VBT)、0.724g引发剂(AIBN)和50ml甲苯,往烧瓶中通N2除去氧后密封回流搅拌下于70℃油浴反应22小时,得到的产物在甲苯中沉淀,以四氢呋喃为溶剂,甲苯为沉淀剂,溶解、沉淀3次,将固体置于30℃真空烘箱干燥,得白色固体,即为支化型聚苯乙烯马来酸酐。
向装有搅拌器和温度计的100ml三口烧瓶中加入16.31g丙二醇甲醚醋酸酯、3.87g支化型聚苯乙烯马来酸酐、0.1g三苯基膦和0.044g阻聚剂,搅拌使支化型聚苯乙烯马来酸酐全部溶解,再加入3.12g甲基丙烯酸羟乙酯,加热至115℃,回流反应10小时后降温冷却,将产物倒入石油醚中沉淀,过滤,干燥,得支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐。
光刻胶组合物的制备及显影测试,各组成成分的质量百分比如下:支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐树脂65%,丙二醇甲醚醋酸酯20%,三羟甲基丙烷三丙烯酸酯8%,2-甲基-1-(4-甲巯基苯基)-2-吗啉-1-丙酮(907)与异丙基硫杂蒽酮(ITX)混合物(质量比为2∶1)3%,酞菁蓝4%,磁力搅拌至混合均匀,得到液态光刻胶组合物;
将光刻胶组合物经旋涂涂覆在铜板上,75℃条件下前烘30分钟;将菲林片覆盖在烘好的样品上,在170mj/cm2条件下曝光;将曝光好的样品置于1wt%Na2CO3溶液中显影10秒,再置于去离子水中洗去显影液,75℃条件下后烘30min,得到光刻胶图案。
实施例3
支化型光敏马来酸酐树脂的合成:按照表3所列的原料配比,往装有回流冷凝搅拌装置的100ml三口烧瓶中一次加入2.08g苯乙烯(St)、2.352g马来酸酐(Ma)、0.8g对氯亚甲基苯乙烯(VBT)、0.784g引发剂(AIBN)和50ml甲苯,往烧瓶中通N2除去氧后密封;回流搅拌下于70℃油浴反应24小时,得到的产物在甲苯中沉淀,以四氢呋喃为溶剂,甲苯为沉淀剂,溶解、沉淀3次,将固体置于30℃真空烘箱干燥,得白色固体,即为支化型聚苯乙烯马来酸酐。
向装有搅拌器和温度计的100ml三口烧瓶中加入16.05g丙二醇甲醚醋酸酯、 3.23g支化型聚苯乙烯马来酸酐、0.1g催化剂和0.044g阻聚剂,搅拌使支化型聚苯乙烯马来酸酐全部溶解,再加入3.12g甲基丙烯酸羟乙酯,加热至115℃,回流反应10小时后降温冷却,将产物倒入石油醚中沉淀,过滤,干燥,得支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐。
光刻胶组合物的制备及显影测试,各组成成分的质量百分比如下:支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐树脂65%,丙二醇甲醚醋酸酯20%,三羟甲基丙烷三丙烯酸酯8%,2-甲基-1-(4-甲巯基苯基)-2-吗啉-1-丙酮(907)与异丙基硫杂蒽酮(ITX)混合物(质量比为2∶1)3%,酞菁蓝4%,磁力搅拌至混合均匀,得到液态光刻胶组合物;
将光刻胶组合物经旋涂涂覆在铜板上,75℃条件下预烘30分钟;将菲林片覆盖在烘好的样品上,在170mj/cm2条件下曝光;将曝光好的样品置于1wt%Na2CO3溶液中显影10秒,再置于去离子水中洗去显影液,75℃条件下后烘30min,得到光刻胶图案。

Claims (9)

1.一种以支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐为基体树脂的光刻胶组合物,其特征在于所含组分及各组分的质量分数为:
2.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于所述支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐树脂由苯乙烯、马来酸酐、含巯基链转移剂、光可聚合性单体在溶剂中聚合得到;具体步骤如下:
(1)往装有回流冷凝搅拌装置的100ml三口烧瓶中一次加入10mmol苯乙烯、12mmol马来酸酐、占反应单体总摩尔数3~6%的对乙烯基卞硫醇、0.347~0.392g引发剂和50ml甲苯,往烧瓶中通N2除去氧后密封;
(2)回流搅拌下于70℃油浴反应20~24小时,得到的产物在甲苯中沉淀,以四氢呋喃为溶剂,甲苯为沉淀剂,溶解、沉淀3次,将固体置于30℃真空烘箱干燥,得白色固体,即为支化聚苯乙烯马来酸酐。
(3)向装有搅拌器和温度计的100ml三口烧瓶中加入16.68g丙二醇甲醚醋酸酯、支化型聚苯乙烯马来酸酐、0.1g三苯基膦和0.044g对甲氧基酚,搅拌使支化型聚苯乙烯马来酸酐全部溶解,再加入3.12g甲基丙烯酸羟乙酯,加热至115℃,回流反应10小时后降温冷却,将产物倒入石油醚中沉淀,过滤,干燥,得支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐。
3.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于所述光可聚合性单体为甲基丙烯酸羟乙酯、季戊四醇三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、二缩三羟甲基丙烷四丙烯酸酯、4-羟基乙烯基醚、双季戊四醇六丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、乙氧基乙基丙烯酸酯中的一种或多种。
4.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于所述光聚合引发剂为2-甲基-1-(4-甲巯基苯基)-2-吗啉-1-丙酮即907、异丙基硫杂蒽酮即ITX、2-苯基苄-2-二甲基胺-1-(4-吗啉苄苯基)丁酮即369、1-羟基环己基苯基甲酮即184中的一种或多种。
5.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于所述颜料为酞菁蓝。
6.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于所述溶剂为丙酮、N,N-二甲基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮、丙二醇甲醚醋酸酯、乙酸丁酯中的一种或多种。
7.一种权利要求1所述的光刻胶组合物的显影方法,其特征在于包括下述步骤:
(1)将所述光刻胶组合物涂覆在铜箔上,在75~90℃下,前烘30~60min;
(2)将菲林片覆盖在烘好的样品上,在0~300mj/cm2的曝光能量下曝光;
(3)将曝光好的样品置于碱液中显影,经去离子水水洗得到光致抗蚀剂图案。
8.根据权利要求7所述的显影方法,其特征在于所述步骤(1)中涂覆的方法为以0.3mm厚的铜箔为基材采用旋涂方法涂膜,基材旋涂前用丙酮和乙醇的混合液擦拭去污,旋涂转速设置为1000~1500r/min,时间为10~15s。
9.根据权利要求7所述的显影方法,其特征在于所述步骤(3)中碱液为1w%的碳酸钠溶液,30±2℃的温度下显影。
CN201410714546.3A 2014-12-02 2014-12-02 一种以支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐为基体树脂的光刻胶组合物 Pending CN105884949A (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410714546.3A CN105884949A (zh) 2014-12-02 2014-12-02 一种以支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐为基体树脂的光刻胶组合物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201410714546.3A CN105884949A (zh) 2014-12-02 2014-12-02 一种以支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐为基体树脂的光刻胶组合物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN105884949A true CN105884949A (zh) 2016-08-24

Family

ID=56699190

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201410714546.3A Pending CN105884949A (zh) 2014-12-02 2014-12-02 一种以支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐为基体树脂的光刻胶组合物

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN105884949A (zh)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109125128A (zh) * 2013-12-19 2019-01-04 雅芳产品公司 化妆品和个人护理产品中的苯乙烯马来酸酐聚合物
CN109627657A (zh) * 2018-12-25 2019-04-16 青岛海尔新材料研发有限公司 丙烯腈-苯乙烯共聚物/氯化聚氯乙烯合金材料及其制备方法
CN113582846A (zh) * 2021-08-05 2021-11-02 安徽熙泰智能科技有限公司 一种光刻胶单体及其制备方法以及一种光刻胶
CN114345151A (zh) * 2022-03-01 2022-04-15 天津工业大学 具有高韧性和抗污染的聚合物基超滤膜及其制备方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1143418A (zh) * 1994-03-09 1997-02-19 格雷斯公司 稳定的离聚物光刻胶乳状液及其制备方法和应用
CN1478218A (zh) * 2000-11-17 2004-02-25 Ucb公司 可辐射固化的组合物
CN102344526A (zh) * 2011-07-12 2012-02-08 江南大学 一种支化型聚苯乙烯马来酸酐的制备方法及其用途
CN103045014A (zh) * 2013-01-25 2013-04-17 深圳市万佳原丝印器材有限公司 自干感光抗酸蚀抗电镀油墨及其制备方法
CN104017128A (zh) * 2014-06-05 2014-09-03 苏州瑞红电子化学品有限公司 一种马来酸酐开环改性支化低聚物制备的碱溶性光敏树脂及其光致抗蚀剂组合物

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1143418A (zh) * 1994-03-09 1997-02-19 格雷斯公司 稳定的离聚物光刻胶乳状液及其制备方法和应用
CN1478218A (zh) * 2000-11-17 2004-02-25 Ucb公司 可辐射固化的组合物
CN102344526A (zh) * 2011-07-12 2012-02-08 江南大学 一种支化型聚苯乙烯马来酸酐的制备方法及其用途
CN103045014A (zh) * 2013-01-25 2013-04-17 深圳市万佳原丝印器材有限公司 自干感光抗酸蚀抗电镀油墨及其制备方法
CN104017128A (zh) * 2014-06-05 2014-09-03 苏州瑞红电子化学品有限公司 一种马来酸酐开环改性支化低聚物制备的碱溶性光敏树脂及其光致抗蚀剂组合物

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
罗祥林: "《功能高分子材料》", 28 February 2010, 化学工业出版社 *

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109125128A (zh) * 2013-12-19 2019-01-04 雅芳产品公司 化妆品和个人护理产品中的苯乙烯马来酸酐聚合物
CN109627657A (zh) * 2018-12-25 2019-04-16 青岛海尔新材料研发有限公司 丙烯腈-苯乙烯共聚物/氯化聚氯乙烯合金材料及其制备方法
CN113582846A (zh) * 2021-08-05 2021-11-02 安徽熙泰智能科技有限公司 一种光刻胶单体及其制备方法以及一种光刻胶
CN113582846B (zh) * 2021-08-05 2023-11-24 安徽熙泰智能科技有限公司 一种光刻胶单体及其制备方法以及一种光刻胶
CN114345151A (zh) * 2022-03-01 2022-04-15 天津工业大学 具有高韧性和抗污染的聚合物基超滤膜及其制备方法
CN114345151B (zh) * 2022-03-01 2023-06-23 天津工业大学 具有高韧性和抗污染的聚合物基超滤膜及其制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103370347B (zh) 可自成像成膜聚合物、其组合物以及由其制得的器件和结构
CN103608396B (zh) 树脂组合物
CN102854746B (zh) 用于感光间隔物的固化性树脂组合物、柱状间隔物以及液晶显示器
TWI282796B (en) Curing resin composition and its uses
CN103998987B (zh) 可显影的底部抗反射涂层形成用组合物
CN105884949A (zh) 一种以支化型光敏聚苯乙烯马来酸酐为基体树脂的光刻胶组合物
CN104109218A (zh) (甲基)丙烯酸酯系聚合物、含有该聚合物的组合物及其用途
CN107501463B (zh) 一种紫外光自交联聚丙烯酸酯及其制备方法
TW202100594A (zh) 光軟化性樹脂組成物、光軟化性樹脂組成物的軟化物的製造方法、硬化性樹脂組成物及其硬化物、以及圖案膜及其製造方法
CN105566552B (zh) 一种丙烯酸酯共聚物及其制成的248nm光刻胶组合物
CN105237669B (zh) 一种基于RAFT聚合法制备248nm深紫外光刻胶成膜树脂
TWI676650B (zh) 負型感光性樹脂組成物
CN101831176B (zh) 芳基硫醇-烯属不饱和双键聚醚砜的固化性组合物
CN104017128A (zh) 一种马来酸酐开环改性支化低聚物制备的碱溶性光敏树脂及其光致抗蚀剂组合物
CN110325915A (zh) 化学增幅型光致抗蚀剂组合物、光致抗蚀剂图案和用于制备光致抗蚀剂图案的方法
CN103848930A (zh) 一种含n-苯基马来酰亚胺光敏丙烯酸树脂的合成及其在负性光致抗蚀剂中的应用
TWI386714B (zh) Tft-lcd用層間有機絕緣膜、tft-lcd用層間有機絕緣膜用丙烯酸系共聚合體樹脂及其製造方法
TW201003318A (en) Negative radiation-sensitive resin composition
TWI710855B (zh) 感光性樹脂組合物及由其製造的光固化圖案
CN107621751A (zh) 含碱性香豆素结构的聚合物树脂及其光刻胶组合物
JPS63189857A (ja) ポジ型感光性樹脂組成物
CN109897134B (zh) 一种用于彩色光刻胶的流平剂
CN100582939C (zh) 正型光阻剂组成物及其应用
CN106565787A (zh) 一种以环三磷腈为结构骨架的支化大分子及其制备光刻胶组合物
CN103443708B (zh) 负型感光性树脂组合物

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20160824