CN105828958A - 涂布构件、涂布装置及涂布方法 - Google Patents

涂布构件、涂布装置及涂布方法 Download PDF

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Abstract

提供能高速驱动涂布针、并能在短时间内实施RFID标签等的电路描绘的涂布构件、涂布装置以及涂布方法。涂布构件包括：涂布针(24)，该涂布针(24)用于将液体涂布于加工对象件(5)；以及移动部(41、43～46)，该移动部(41、43～46)用于使涂布针(24)在第一方向上移动。移动部包括电动机(41)、凸轮构件(43)及可动构件(44～46)。电动机(41)具有转轴，并被配置成该转轴的延伸方向沿着第一方向的状态。凸轮构件(43)包括凸轮面(61)，并与转轴连接，上述凸轮面(61)具有相对于转轴的延伸方向倾斜的表面部分。可动构件(44～46)与凸轮面(61)接触，并能沿着转轴的延伸方向移动。涂布针(24)与可动构件(44～46)连接。

Description

涂布构件、涂布装置及涂布方法
技术领域
本发明涉及涂布构件、涂布装置及涂布方法，尤其特定地涉及用于使用涂布针将液体材料的液滴涂布于处理对象件的涂布构件、涂布装置及涂布方法。
背景技术
近年来，通过印刷(涂布)方式形成RFID(RadioFrequencyIdentification：射频识别)标签等细微电路的印刷电子技术(printedelectronicstechnology)获得了急速发展。作为形成细微电路和电极图案的方式，一般采用印刷方式、喷射方式等，但使用涂布针的方式能使用大范围的粘度的材料进行细微的涂布，因此近年来也获得了关注。
关于使用涂布针进行液体材料的细微涂布的方法，提出了例如使用日本专利特开2007－268353号公报中公开的这样的涂布单元的方法。日本专利特开2007－268353号公报中公开的涂布单元以细微图案的缺陷修正为目的，并能使用大范围的粘度的材料进行细微的涂布。
但是，在上述涂布单元中，驱动涂布针的驱动部(气缸)的驱动轴仅为一根，驱动部和对涂布针进行固定支承的臂未被固接，而是以从安装于驱动轴的驱动板突出的销支承上述臂。此外，在使涂布针朝向处理对象即基板下降的情况下，使驱动轴移动而使上述销下降(靠近基板侧)。这样，由直动导向构件支承的臂和与该臂连接并固定涂布针的涂布针固定板因其自重而朝基板侧移动(下降)，涂布针下降而接触基板。为了进行上述动作，上述涂布单元进行一次涂布动作需要数秒左右的时间。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本专利特开2007－268353号公报
发明内容
发明所要解决的技术问题
在为了实现上述RFID标签的形成(电路描绘)而使用上述涂布单元的情况下，一次涂布时间较长，为数秒，因此，为了描绘出RFID标签而需要非常长的时间。因此，为了尽可能在短时间内描绘出电路，需要以高速驱动涂布针，但在上述涂布单元的结构中，上述销和臂未被固接，而是采用了涂布针因涂布针固定板和臂的自重而下降的方式，因此，即便以高速驱动驱动轴，涂布针也无法充分地追随该驱动轴的动作。因此，不能以高速驱动涂布针，难以进行高速的电路描绘。
本发明为解决上述技术问题而作，其主要目的在于提供能高速驱动涂布针、并能在短时间内实施RFID标签等的电路描绘的涂布构件、涂布装置以及涂布方法。
解决技术问题所采用的技术方案
本发明的涂布构件包括：涂布针，该涂布针用于将液体涂布于加工对象件；以及移动部，该移动部用于使涂布针在第一方向上移动。移动部包括电动机、凸轮构件及可动构件。电动机具有转轴，并被配置成该转轴的延伸方向沿着第一方向的状态。凸轮构件包括凸轮面，并与转轴连接，上述凸轮面具有相对于转轴的延伸方向倾斜的表面部分。可动构件与凸轮面接触，并能沿着转轴的延伸方向移动。涂布针与可动构件连接。
本发明的涂布装置包括上述涂布构件和保持台。保持台对由涂布针涂布液体材料的处理对象件进行保持。
本发明的涂布方法包括：准备处理对象件的工序；以及将液体材料涂布于处理对象件的工序。在上述涂布液体材料的工序中，通过使涂布构件的涂布针与处理对象件接触，将液体材料涂布于处理对象件。在涂布液体材料的工序中，当使涂布针以与处理对象件的表面接触的方式移动时，在将涂布针的移动速度由第一速度改变为比该第一速度低的第二速度之后，使涂布针与处理对象件的表面接触。
发明效果
根据本发明，可获得能高速驱动涂布针、并能在短时间内实施RFID标签等的电路描绘的涂布构件、涂布装置以及涂布方法。
附图说明
图1是本实施方式的涂布装置的示意图。
图2是表示图1所示的涂布装置的涂布机构的示意图。
图3是用于对图2所示的涂布机构的凸轮构件进行说明的示意图。
图4是用于对图2所示的涂布机构中的涂布针的动作进行说明的示意图。
图5是用于对图2所示的涂布机构中的涂布针的动作进行说明的图表。
图6是用于对图3所示的凸轮构件的变形例进行说明的示意图。
具体实施方式
以下，参照附图来说明本发明的实施方式。另外，在以下附图中，对相同或相当的部分标注相同的附图标记，并不重复其说明。
(涂布装置的整体结构)
参照图1，对本实施方式的涂布装置进行说明。参照图1，本发明实施方式的涂布装置主要包括：处理室；Y轴工作台2，该Y轴工作台2配置于上述处理室的内部；X轴工作台1；Z轴工作台；涂布机构4；观察光学系统6；CCD摄像头7，该CCD摄像头7与上述观察光学系统6连接；以及控制部。控制部包括：显示器9；控制用计算机10；以及操作面板8。
在处理室的内部，在该处理室的底部上设置有Y轴工作台2。该Y轴工作台2能在Y轴方向上移动。具体而言，在Y轴工作台2的下表面设置有导向部。该导向部能滑动地与设置于处理室的底面的导轨连接。另外，滚珠丝杠与Y轴工作台2的下表面连接。通过利用电动机等驱动构件使上述滚珠丝杠进行动作，Y轴工作台2能沿着导轨(Y轴方向)移动。另外，Y轴工作台2的上部表面上是装载作为处理对象件的基板5的装设面。
在Y轴工作台2上设置有X轴工作台1。X轴工作台1配置于被设置成沿X轴方向横跨Y轴工作台2的结构体上。在X轴工作台1上以能沿X轴方向移动的方式设置有与Z轴工作台3连接的移动体。移动体例如使用滚珠丝杠而能在X轴方向上移动。另外，X轴工作台1通过上述结构体固定于处理室的底面。因此，上述Y轴工作台2能相对于X轴工作台1在Y轴方向上移动。
在与X轴工作台1连接的移动体上如上所述设置有Z轴工作台3。观察光学系统6及涂布机构4与Z轴工作台3连接。观察光学系统6用于对涂布对象的基板5的涂布位置进行观察。CCD摄像头将观察到的图像转换为电信号。Z轴工作台3将上述观察光学系统6及涂布机构4保持成能在Z轴方向上移动。
用于对上述Y轴工作台2、X轴工作台1、Z轴工作台3、观察光学系统6及涂布机构4进行控制的控制用计算机10以及操作面板8设置于处理室的外部，此外，附随于控制用计算机的显示器9设置于处理室的外部。显示器9显示由上述CCD摄像头7转换来的图像数据和来自控制用计算机10的输出数据。操作面板8用于输入朝控制用计算机10的指令。
(涂布机构的结构)
参照图2及图3，进一步详细地说明上述涂布机构4。图1所示的固定于Z轴工作台3的涂布机构4主要包括：伺服电动机41；凸轮43；轴承44；凸轮连接板45；可动部46；涂布针保持件20；保持于该涂布针保持件20的涂布针24；以及涂布材料容器21。伺服电动机41被设置成转轴在沿着图1所示的Z轴方向的方向上延伸。凸轮43与伺服电动机41的转轴连接。凸轮43能以伺服电动机41的转轴为中心进行旋转。
凸轮43包括：与伺服电动机41的转轴连接的中心部；以及与该中心部的一端部连接的凸缘部。如图3(A)所示，凸缘部的上部表面(伺服电动机41侧的表面)为凸轮面61。该凸轮面61沿着中心部的外周形成为圆环状，并以从凸缘部的底面起始的距离发生变动的方式形成为斜坡状。具体而言，如图3(B)所示，凸轮面61包括：上端平坦区域(upperendflatregion)62，该上端平坦区域62的从凸缘部的底面起始的距离最大；下端平坦区域63，该下端平坦区域63被配置成与上述上端平坦区域62隔着间隔，且从凸缘部的底面起始的距离最小；以及斜坡部，该斜坡部将上端平坦区域62和下端平坦区域63之间连接。此处，图3(B)是从侧面观察包括凸轮面61在内的凸缘部的展开图，该凸轮面61以围住中心部的方式配置成环状。
以与该凸轮43的凸轮面61接触的方式配置有轴承44。如图2(A)所示，轴承44从凸轮43观察时配置于特定的方向(伺服电动机41的右侧)，当通过伺服电动机41的转轴旋转而使凸轮43旋转时，轴承44保持与凸轮面61接触的状态。凸轮连接板45与上述轴承44连接。凸轮连接板45的与和轴承44连接的一端部相反一侧的另一端部固定于可动部46。涂布针保持件固定部47及涂布针保持件收纳部48与可动部46连接。在该涂布针保持件收纳部48中收纳有涂布针保持件20。
涂布针保持件20包括涂布针24。涂布针24被配置成在涂布针保持件20的下表面(与伺服电动机41所在的一侧相反一侧即下侧)从涂布针保持件20突出。在涂布针保持件20下配置有涂布材料容器21。涂布针24在插入涂布材料容器21的状态下保持于涂布材料容器21。
在可动部46设置有固定销52。另外，在保持伺服电动机41的架台设置有另一固定销51。以将该固定销51、52之间连接的方式设置有弹簧50。利用该弹簧50使可动部46处于受到朝向涂布材料容器21侧的拉伸力的状态。另外，该弹簧50的拉伸力通过可动部46及凸轮连接板45作用于轴承44。利用该弹簧50的拉伸力维持轴承44按压于凸轮43的凸轮面61的状态。
另外，可动部46、涂布针保持件固定部47、涂布针保持件收纳部48与设置于上述架台的线性导向件49连接。线性导向件49被设置成在Z轴方向上延伸。因此，可动部46、涂布针保持件固定部47、涂布针保持件收纳部48能沿着Z轴方向移动。
(涂布机构的动作)
接着，对上述涂布机构4的动作进行说明。在上述涂布机构4中，通过驱动伺服电动机41使该伺服电动机41的转轴旋转以使凸轮43旋转。其结果是，凸轮43的凸轮面61的Z轴方向上的高度变化，因此，在图2(A)的凸轮43的右侧与凸轮面61接触的轴承44的Z轴方向上的位置也根据伺服电动机41的驱动轴的旋转发生变动。此外，根据该轴承44的Z轴方向上的位置变动，可动部46、涂布针保持件固定部47、涂布针保持件收纳部48在Z轴方向上移动。其结果是，保持于涂布针保持件收纳部48的涂布针保持件20也在Z轴方向上移动，因此，能使设置于该涂布针保持件20的涂布针24的Z轴方向上的位置变化。
具体而言，参照图3及图4，在轴承44与凸轮43的凸轮面61中的上端平坦区域62接触的情况下，如图4(A)所示，涂布针24配置于其上端位置(距伺服电动机41最近的位置)。此时，涂布针24的前端部处于浸渍在涂布材料70内的状态，该涂布材料70保持于涂布材料容器21内。
接着，伺服电动机41使转轴旋转而使凸轮43旋转，轴承44到达凸轮面61的下端平坦区域63与轴承44接触的位置，在该情况下，如图4(B)所示，涂布针24处于穿过形成于涂布材料容器21的底部的孔而从涂布材料容器21的底面朝下方突出的状态。此时，处于以下状态：涂布材料70的一部分附着于从涂布材料容器21的底面突出的涂布针24的表面。此外，Z轴工作台3(参照图1)使涂布机构4朝基板5侧移动，从而使涂布针24的前端部与基板5的表面接触，能将涂布材料70涂布于基板5的表面。另外，既可以先进行Z轴工作台3的移动，然后驱动伺服电动机41，也可以大致同时实施Z轴工作台3和伺服电动机41的动作。
这样，在上述涂布机构4中，能将伺服电动机41的旋转运动转换为涂布针24的Z轴方向上的运动(上下运动)。通过采用上述结构，能迅速且正确地使涂布针24在Z轴方向上移动。
另外，为了进一步提高利用涂布针24进行的涂布材料70的涂布工序中的精度，也可对涂布针24的动作速度进行以下控制。具体而言，如图5所示，也可根据涂布针24的位置改变该涂布针24的移动速度。此处，图5的横轴表示涂布针24的前端位置，纵轴表示涂布针移动速度。
如图4(A)所示，从涂布针24位于上端位置时(图5中的位置P1)起，通过驱动伺服电动机41，凸轮43旋转而使轴承44与凸轮面61的除了上端平坦区域62之外的区域接触。其结果是，涂布针24朝基板5侧移动。此外，使涂布针24的移动速度增加，直至图5的横轴上的位置P2为止。具体而言，通过提高伺服电动机41的旋转速度，能增大涂布针24的移动速度。
然后，在达到规定的移动速度V1之后(在到达位置P2之后)，在维持该规定的速度的状态下使涂布针24移动。这是能通过将伺服电动机41的旋转速度设为一定而加以实现的。此外，在到达图5的位置P3之后，使涂布针24的移动速度降低。具体而言，使伺服电动机41的旋转速度逐渐降低。其结果是，使涂布针24的移动速度充分地降低，直至轴承44到达下端平坦区域63(参照图3)之前的规定的位置P4为止。
然后，以规定的低速的移动速度V2使涂布针24移动，直至涂布针24从图5的位置P4到达图4(B)所示的下端位置(位置P5)为止。在该情况下，也将伺服电动机41的旋转速度保持为规定的速度。通过进行这样的控制，当涂布针24与基板5接触时，涂布针24的移动速度充分减小，因此，能减小涂布针24与基板5接触时的冲击，并能防止因该冲击而导致涂布针24将涂布材料70涂布于基板5的表面时的位置精度变差。
此处，在凸轮43的侧面形成有用于对凸轮43的旋转方向的原点位置进行检测的记号(检测标记：未图示)，通过用组装于涂布机构4的原点传感器检测上述记号，能对凸轮43位置(旋转角度)进行初始化。藉此，能使涂布针24的高度方向位置与凸轮43的旋转角度(凸轮位置)对应，因此，能将涂布针24准确地定位于图4(A)和图4(B)所示的位置。
另外，上述涂布针24的移动速度的控制能应用除了对伺服电动机41的旋转速度进行控制的方法之外的任意方法。例如如图6所示，通过调节凸轮面61的形状，也能控制涂布针24的移动速度。具体而言，如图6所示，局部改变凸轮面61相对于伺服电动机41的转轴67的倾斜角度。即，使倾斜角度θ2比倾斜角度θ1大，其中，上述倾斜角度θ2是欲使涂布针24的移动速度相对降低的区域(与下端平坦区域63相邻的区域65)相对于转轴67的倾斜角度，上述倾斜角度θ1是除了上述区域之外的倾斜面(与上端平坦区域62相邻的区域66相对于转轴67的倾斜角度。这样，即便在将转轴的旋转速度设为一定的情况下，也能在涂布针24配置于最靠近基板5的位置(下端位置)之前降低涂布针24的移动速度。其结果是，能获得与进行完图5所示的控制的情况相同的效果。通过使用上述涂布机构4，能以例如一秒钟进行十次以上这样的速度进行涂布动作。
(涂布装置的动作)
接着，对图1所示的涂布装置的动作进行说明。
在图1所示的涂布装置中，在描绘电路图案的情况下，首先准备涂布对象即基板5(工序(S10))。然后，在将基板5装载于涂布装置的Y轴工作台2上，之后，使X轴工作台1及Y轴工作台2进行动作，以使基板5中的要描绘的区域移动至观察光学系统6的正下方。然后，用观察光学系统6观察、确认描绘开始位置，并确定描绘开始位置。通过以确定的描绘开始位置为基准使Z轴工作台3进行动作，使涂布机构4下降至当涂布针24突出时涂布针24前端与基板5接触的基板5上方，在该状态下，通过使伺服电动机41进行动作以使涂布针24突出，从而使在表面附着有液体材料的涂布针24与基板5的表面接触。具体而言，从描绘开始位置起，以应描绘的位置位于涂布机构4的正下方的方式，使用X轴工作台1及Y轴工作台2使基板5移动。然后，在移动完成的时间点，利用Z轴工作台3使涂布机构4下降(使涂布机构4朝基板5侧移动)，驱动涂布机构4的伺服电动机41以使涂布针24突出，从而利用涂布针24朝基板5进行液体材料的涂布。然后，使用Z轴工作台3使涂布机构4上升。在连续涂布的情况下，在利用Z轴工作台3使涂布机构4下降之后，以基板5的描绘位置依次到达涂布机构4的正下方的方式使用X轴工作台1及Y轴工作台2进行移动，在移动完成后，驱动涂布机构4的伺服电动机41使涂布针24突出以进行涂布。通过连续反复地进行上述动作，将电路图案描绘于基板5表面(工序(S20))。此时，如参照图5和图6说明的那样，较为理想的是进行以下控制：在使涂布针24接触基板5之前，预先降低涂布针24的移动速度。
另外，涂布针24的下降端位置与观察光学系统6的对焦位置的关系预先存储于控制部。描绘时，以用观察光学系统6使图像对焦的位置作为Z轴方向基准，利用Z轴工作台3使涂布机构4的Z轴方向位置移动至涂布针24与基板5接触的高度为止，然后，驱动涂布机构4的伺服电动机41，使涂布针24突出以进行涂布。
另外，在描绘的电路图案的面积较大、描绘中途的基板5的基板面高度的变化较大的情况下，根据需要在描绘动作的中途确认对焦位置，并在修正涂布针24的Z轴方向上的位置之后进行涂布。此时的对焦位置的调节既可以是使用图像处理自动地进行对焦调节的方法，也可以是使用激光传感器等始终检测基板5的表面的高度位置以实时地对对焦进行修正的方法。
此处，也存在与上述实施方式部分重叠的部分，但列举本发明的特征结构。
本发明的涂布构件包括：涂布针24，该涂布针24用于将液体涂布于加工对象件(基板5)；以及移动部(构成涂布机构4的伺服电动机41、凸轮43、轴承44、凸轮连接板45、可动部46)，该移动部用于使涂布针24在第一方向上移动。移动部包括：电动机(伺服电动机41)；凸轮构件(凸轮43)；以及可动构件(轴承44、凸轮连接板45、可动部46)。电动机(41)具有转轴，并被配置成该转轴的延伸方向沿着第一方向(Z轴方向)的状态。凸轮构件(43)包括凸轮面61，并与转轴连接，上述凸轮面61具有相对于转轴的延伸方向倾斜的表面部分(凸轮面61的倾斜部分)。可动构件(44～46)与凸轮面61接触，并能沿着转轴的延伸方向移动。涂布针24与可动构件(44～46)连接。
这样，能将电动机(41)的转轴的旋转运动经由凸轮构件(43)转换为沿着转轴的方向上的可动构件(44～46)的运动。也就是说，通过使电动机(41)的转轴旋转，使与可动构件(44～46)连接的涂布针24以高速在沿着转轴的方向上移动。另外，上述利用凸轮构件(43)的结构是比较简单的结构，此外，通过调节电动机(41)的转轴的转速，能以较高的精度对沿着转轴的方向上的涂布针24的运动速度进行控制。因此，能以较高的精度使涂布针24高速移动(驱动)，因此，能以较高的效率进行电路描绘。
另外，即便在电动机(41)的转轴的旋转过度的情况下，只要是上述利用凸轮构件(43)的结构，可动构件(及涂布针24)也只在凸轮面61的高度变动的范围内进行移动。因此，能防止因电动机(41)的转轴过度旋转而使涂布针24超出预想的范围进行移动、导致涂布针24和与该涂布针24接触的处理对象物(基板5)破损。此外，通过采用上述凸轮构件(43)，能实现涂布针24的前端与基板5接触时的该前端的位置的再现性、以及涂布针24返回至涂布材料容器21的内部时的涂布针24的位置的再现性。因此，能使涂布材料(液体材料)朝涂布针24前端供给的供给量稳定，并能稳定地实施朝基板5的涂布作业。
在上述涂布构件中，凸轮面61包括第一平坦部(上端平坦区域62)和第二平坦部(下端平坦区域63)。第一平坦部(62)与上述倾斜的表面部分的一端部相连，第一平坦部(62)位于电动机(41)侧并在与转轴的延伸方向垂直的方向上延伸。第二平坦部(63)与上述倾斜的表面部分中的与一端部相反一侧的另一端部相连，第二平坦部(63)位于涂布针24侧并在与转轴的延伸方向垂直的方向上延伸。
在该情况下，即便当电动机(41)的转轴旋转时，在可动构件(44～46)与凸轮面61的第一平坦部(62)或第二平坦部(63)接触的状态下，也能将可动构件(44～46)(以及涂布针24)的在沿着转轴的方向上的位置保持为大致一定。也就是说，能以不停止电动机(41)的转轴旋转的方式将涂布针24保持于沿着转轴的方向上的规定的位置。
上述涂布构件也可以包括对电动机(41)的转轴的旋转速度进行控制的控制部(控制用计算机10)。在该情况下，通过控制电动机(41)的转轴的旋转速度，能对涂布针24在沿着转轴的方向上的移动速度进行控制。
在上述涂布构件中，在凸轮面61上，第一倾斜角度(倾斜角度θ1)也可以比第二倾斜角度(倾斜角度θ2)小，其中，上述第一倾斜角度(倾斜角度θ1)是如图6所示倾斜的表面部分中的与第一平坦部(62)相邻的部分相对于转轴的延伸方向形成的倾斜角度，上述第二倾斜角度(倾斜角度θ2)是倾斜的表面部分中的与第二平坦部(63)相邻的部分相对于转轴的延伸方向形成的倾斜角度。在该情况下，当通过转轴旋转而使可动构件(44～46)靠近第二平坦部(63)时(即涂布针24朝向相对远离电动机(41)的位置移动时)，上述第二倾斜角度(θ2)比第一倾斜角度(θ1)大，因此，可动构件44～46(或者涂布针24)的在沿着转轴的方向上的移动速度较小。因此，当涂布针24到达相对远离电动机(41)的位置时，能预先降低涂布针24的移动速度。因此，在涂布针24在相对远离电动机(41)的位置与处理对象件(基板5)接触的情况下，能减小当与该处理对象件(5)接触时涂布针24所受到的冲击。
本发明的涂布装置包括上述涂布构件(涂布机构4)和保持台(Y轴工作台2)。保持台(2)对由涂布针24涂布液体材料的处理对象件(基板5)进行保持。这样，涂布针24能进行高速驱动，因此，能获得一种可以在短时间内实施对处理对象件(5)的电路描绘等涂布作业的涂布装置。
本发明的涂布方法包括：准备处理对象件(基板5)的工序；以及将液体材料涂布于处理对象件(5)的工序。在上述涂布液体材料的工序中，通过使涂布构件的附着的涂布针24与处理对象件(5)接触，将液体材料涂布于处理对象件(5)。在涂布液体材料的工序中，当使涂布针以与处理对象件(5)的表面接触的方式移动时，在将涂布针的移动速度由第一速度改变为比该第一速度低的第二速度之后，使涂布针24与处理对象件(5)的表面接触。
在该情况下，当涂布针与处理对象件(5)接触时，预先降低涂布针24的速度，因此，能降低当涂布针与处理对象件接触时涂布针所受到的冲击。
应当理解的是，本次公开的实施方式在所有方面均为例示，不对本发明作出限制。本发明的范围不受以上说明限定，而是由权利要求的范围来表示，包括与权利要求范围等同的意思及范围内的一切变更。
工业上的可利用性
本发明特别有利地应用至用于实施导电性的图案描绘、导电性图案的开放性缺陷(opendefect)的修正、以及RFID标签(RFIDtag)等细微电路图案的形成、缺陷修正、导电性粘接剂的涂布等的涂布构件、液体材料涂布装置以及涂布方法。
符号说明
1X轴工作台
2Y轴工作台
3Z轴工作台
4涂布机构
5基板
6观察光学系统
7CCD摄像头
8操作面板
9显示器
10控制用计算机
20涂布针保持件
21涂布材料容器
24涂布针
41伺服电动机
43凸轮
44轴承
45凸轮连接板
46可动部
47涂布针保持件固定部
48涂布针保持件收纳部
49线性导向件
50弹簧
51、52固定销
61凸轮面
62上端平坦区域
63下端平坦区域
65、66区域
67转轴
70涂布材料。

Claims (6)

1.一种涂布构件，其特征在于，包括：
涂布针，该涂布针用于将液体涂布于加工对象件；以及
移动部，该移动部用于使所述涂布针在第一方向上移动，
所述移动部包括：
电动机，该电动机具有转轴，并被配置成所述转轴的延伸方向沿着所述第一方向的状态；
凸轮构件，该凸轮构件具有凸轮面，并与所述转轴连接，所述凸轮面具有相对于所述转轴的延伸方向倾斜的表面部分；以及
可动构件，该可动构件与所述凸轮面接触，并能沿着所述转轴的延伸方向移动，
所述涂布针与所述可动构件连接。
2.如权利要求1所述的涂布构件，其特征在于，
所述凸轮面包括：
第一平坦部，该第一平坦部连接于倾斜的所述表面部分的一端部，所述第一平坦部位于所述电动机侧，并在与所述转轴的延伸方向垂直的方向上延伸；以及
第二平坦部，该第二平坦部连接于倾斜的所述表面部分的与所述一端部相反一侧的另一端部，所述第二平坦部位于所述涂布针侧，并在与所述转轴的延伸方向垂直的方向上延伸。
3.如权利要求1或2所述的涂布构件，其特征在于，
还包括对所述电动机的转轴的旋转速度进行控制的控制部。
4.如权利要求2所述的涂布构件，其特征在于，
在所述凸轮面上，倾斜的所述表面部分中的与所述第一平坦部相邻的部分相对于所述转轴的延伸方向形成的第一倾斜角度比倾斜的所述表面部分中的与所述第二平坦部相邻的部分相对于所述转轴的延伸方向形成的第二倾斜角度小。
5.一种涂布装置，其特征在于，包括：
权利要求1所述的涂布构件；以及
保持台，该保持台对由所述涂布针涂布液体材料的处理对象件进行保持。
6.一种涂布方法，其特征在于，包括：
准备处理对象件的工序；以及
通过使权利要求1所述的涂布构件的所述涂布针与所述处理对象件接触而将液体材料涂布于所述处理对向件的工序，
在涂布所述液体材料的工序中，当使所述涂布针以与所述处理对向件的表面接触的方式移动时，在将所述涂布针的移动速度从第一速度改变为比所述第一速度低的第二速度之后，使所述涂布针与所述处理对象件的表面接触。
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