CN105803519A - 一种m2型单晶硅快速收尾方法 - Google Patents

一种m2型单晶硅快速收尾方法 Download PDF

Info

Publication number
CN105803519A
CN105803519A CN201610375078.0A CN201610375078A CN105803519A CN 105803519 A CN105803519 A CN 105803519A CN 201610375078 A CN201610375078 A CN 201610375078A CN 105803519 A CN105803519 A CN 105803519A
Authority
CN
China
Prior art keywords
ending
monocrystalline
length
pulling rate
rate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201610375078.0A
Other languages
English (en)
Other versions
CN105803519B (zh
Inventor
王会敏
何京辉
曹祥瑞
颜超
程志
范晓甫
周子江
赵贝
刘钦
陈二星
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Xingtai Jinglong Electronic Material Co Ltd
Original Assignee
Xingtai Jinglong Electronic Material Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Xingtai Jinglong Electronic Material Co Ltd filed Critical Xingtai Jinglong Electronic Material Co Ltd
Priority to CN201610375078.0A priority Critical patent/CN105803519B/zh
Publication of CN105803519A publication Critical patent/CN105803519A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN105803519B publication Critical patent/CN105803519B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • C30B15/20Controlling or regulating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • C30B15/20Controlling or regulating
    • C30B15/206Controlling or regulating the thermal history of growing the ingot
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/02Elements
    • C30B29/06Silicon

Abstract

本发明涉及单晶炉提拉法生长单晶硅棒技术领域,尤其是涉及特定直径单晶硅棒的收尾方法,具体公开了一种M2型单晶硅快速收尾方法,通过单晶上升拉速和温校速率等收尾参数的改进,将收尾过程按收尾长度分为0‑3mm、3‑80 mm、81‑100 mm三次。本发明能够使M2型单晶硅棒收尾长度缩短至100mm,收尾时间减少0.5小时,降低原材料用量及能耗,提高生产效率和产能,降低M2型单晶硅生产成本。

Description

一种M2型单晶硅快速收尾方法
技术领域
本发明涉及单晶炉提拉法生长单晶硅棒技术领域,尤其是涉及特定直径单晶硅棒的收尾方法。
背景技术
提拉法制备单晶硅的生产过程包括以下工序:拆炉-装料-熔化料-引细颈-放肩-转肩-等径-收尾-停炉。其中,收尾是重要的一道工序,当单晶长度拉到一定长度后,通过收尾能够更好的排除单晶位错,提高单晶成品率,做到原材料最大利用率。一般情况下,收尾段外形要求为收尾长度达到单晶的一个直径且断面不大于30mm,收尾时间尽量短、断尾率低、收尾形状美观。
M2型单晶硅是对直径204mm单晶的统称,由于其直径较大,现有技术收尾长度较长,收尾耗时多,单晶材料用量大。 收尾长度较长,容易产生操作失误,耗时长使得单晶炉产能较低,耗能大,单晶原材料用量大,最终导致M2型单晶生产成本较高。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种M2型单晶硅快速收尾方法,能够使M2型单晶硅棒收尾长度缩短,减少单晶硅棒的收尾时间,降低原材料用量及能耗,提高生产效率和产能,降低M2型单晶硅生产成本。
为解决上述技术问题,本发明所采取的技术方案是:一种M2型单晶硅快速收尾方法,包括前生长、缩径生长和后生长;
所述前生长包括:将坩埚停止上升,单晶上升拉速设定为1.00mm/min,温校速率设定为15-20,收尾开始,至收尾长度达到3mm,再将单晶上升拉速降至0.7 mm/min,温校速率设定为10;
所述缩径生长包括:收尾长度在3-80 mm之间,随收尾长度增长逐次增大单晶拉速并升高温校速率;
所述后生长包括:收尾长度在81mm,将温校速率降低至0,单晶上升拉速提高0.05 mm/min;收尾长度在82-91mm之间,随收尾长度增长逐次增大单晶拉速至1.98 mm/min;收尾长度在91mm之后,保持单晶上升拉速为匀速,待收尾长度达到100mm,将单晶硅棒提断,收尾结束。
所述温校速率是单晶炉单晶生长PLC控制系统中的功率变化参数,用于控制单晶炉内温度,温校速率设定值越大,单晶炉内升温越多。
进一步地,所述缩径生长包括:收尾长度在11-30mm之间,将温校速率均匀升高2,单晶上升拉速均匀提高0.07 mm/min;收尾长度在31-50mm之间,将温校速率均匀升高2,单晶上升拉速均匀提高0.11 mm/min;收尾长度在51-60mm之间,将温校速率均匀升高2,单晶上升拉速均匀提高0.14 mm/min;收尾长度在61-70mm之间,将温校速率均匀升高1,单晶上升拉速均匀提高0.19 mm/min;收尾长度在71-80mm之间,将温校速率均匀升高1,单晶上升拉速均匀提高0.20 mm/min。
进一步地,后生长包括:收尾长度在82-86mm之间,将单晶上升拉速均匀提高0.22 mm/min;收尾长度在87-91mm之间,将单晶上升拉速均匀提高0.30 mm/min。
作为优选,本发明方法采用CZ-90单晶炉。
采用上述技术方案所产生的有益效果在于:本发明方法能够使M2型单晶硅棒收尾长度缩短至100mm,收尾时间由2.5小时减少到2小时,降低了原材料用量及能耗,提高生产效率和产能,降低了M2型单晶硅生产成本,单晶质量达标。
附图说明
图1是本发明方法收尾的M2型单晶硅棒尾部外观示意图。
具体实施方式
实施例1
一种M2型单晶硅收尾方法,以CZ-90单晶炉进行生长,该单晶炉由河北晶龙阳光设备有限公司生产,配有单晶硅生长PLC自动控制系统,温校速率是单晶硅生长PLC自动控制系统的参数,用于控制单晶炉内温度,温校速率设定值越大,单晶炉内升温越多。温校速率满足如下关系:
温校设定值为x,则每过1min,单晶炉的加热功率对应增加y,y=x×2.5(w)。
单晶长度拉到规定长度后,进入收尾工序,停埚升,单晶上升拉速给定1.00mm/min,具体操作步骤如下:
(一)停埚升,关闭埚升电源,单晶上升拉速给定1.00mm/min,温校速率给定15-20(因个别炉子存在差异,且收尾前炉内温度不太一样)单晶长度清零,进入收尾工序。
(二)收尾长度到3mm时,单晶上升拉速降至0.7 mm/min,温校速率给定10,切入自动收尾程序。
(三)单晶长度收到11-30毫米之间温校速率自动升2,拉速自动提高0.07。
(四)单晶长度收到31-50毫米之间温校速率自动升2,拉速自动提高0.11。
(五)单晶长度收到51-60毫米之间温校速率自动升2,拉速自动提高0.14。
(六)单晶长度收到61-70毫米之间温校速率自动升1,拉速自动提高0.19。
(七)单晶长度收到71-80毫米之间温校速率自动升1,拉速自动提高0.2。
(八)单晶长度收到81毫米之间降低温校速率至零,炉内不再自动升温,拉速自动提高0.05。
(九)单晶长度收到82-86毫米之间,拉速自动提高0.22。
(十)单晶长度收到87-91毫米之间,拉速自动提高0.3。
(十一)单晶长度收到91毫米后,单晶上升拉速已自动提升至1.98 mm/min,收到100毫米时,提断进入下道工序。
本发明方法经多台CZ-90单晶炉设备生产实践证明,能够使M2型单晶硅棒收尾长度缩短至100mm,收尾时间由2.5小时减少到2小时,降低了原材料用量及能耗,提高生产效率和产能,降低了M2型单晶硅生产成本,单晶无位错线,质量达标。
以上对本发明进行了详细介绍,本发明中应用具体个例对本发明的实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明,应当指出,对于本技术领域的技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可对本发明进行若干改进,这些改进也落入本发明权利要求的保护范围内。

Claims (4)

1.一种M2型单晶硅快速收尾方法,其特征在于,包括前生长、缩径生长和后生长;
所述前生长包括:将坩埚停止上升,单晶上升拉速设定为1.00mm/min,温校速率设定为15-20,收尾开始,至收尾长度达到3mm,再将单晶上升拉速降至0.7 mm/min,温校速率设定为10;
所述缩径生长包括:收尾长度在3-80 mm之间,随收尾长度增长逐次增大单晶拉速并升高温校速率;
所述后生长包括:收尾长度在81mm,将温校速率降低至0,单晶上升拉速提高0.05 mm/min;收尾长度在82-91mm之间,随收尾长度增长逐次增大单晶拉速至1.98 mm/min;收尾长度在91mm之后,保持单晶上升拉速为匀速,待收尾长度达到100mm,将单晶硅棒提断,收尾结束。
2. 根据权利要求1所述的一种M2型单晶硅快速收尾方法,其特征在于,所述缩径生长包括:收尾长度在11-30mm之间,将温校速率均匀升高2,单晶上升拉速均匀提高0.07 mm/min;收尾长度在31-50mm之间,将温校速率均匀升高2,单晶上升拉速均匀提高0.11 mm/min;收尾长度在51-60mm之间,将温校速率均匀升高2,单晶上升拉速均匀提高0.14 mm/min;收尾长度在61-70mm之间,将温校速率均匀升高1,单晶上升拉速均匀提高0.19 mm/min;收尾长度在71-80mm之间,将温校速率均匀升高1,单晶上升拉速均匀提高0.20 mm/min。
3.根据权利要求2所述的一种M2型单晶硅快速收尾方法,其特征在于,后生长包括:收尾长度在82-86mm之间,将单晶上升拉速均匀提高0.22 mm/min;收尾长度在87-91mm之间,将单晶上升拉速均匀提高0.30 mm/min。
4.根据权利要求1-3中任一所述的一种M2型单晶硅快速收尾方法,其特征在于,M2型单晶硅用CZ-90单晶炉收尾。
CN201610375078.0A 2016-05-31 2016-05-31 一种m2型单晶硅快速收尾方法 Active CN105803519B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610375078.0A CN105803519B (zh) 2016-05-31 2016-05-31 一种m2型单晶硅快速收尾方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610375078.0A CN105803519B (zh) 2016-05-31 2016-05-31 一种m2型单晶硅快速收尾方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN105803519A true CN105803519A (zh) 2016-07-27
CN105803519B CN105803519B (zh) 2018-02-13

Family

ID=56428081

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610375078.0A Active CN105803519B (zh) 2016-05-31 2016-05-31 一种m2型单晶硅快速收尾方法

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN105803519B (zh)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106637402A (zh) * 2016-12-22 2017-05-10 卡姆丹克太阳能(江苏)有限公司 单晶硅平收尾方法及制备方法
CN106676621A (zh) * 2017-02-21 2017-05-17 宁夏协鑫晶体科技发展有限公司 直拉硅单晶的收尾方法及直拉硅单晶的制备方法
CN107761163A (zh) * 2016-08-22 2018-03-06 银川隆基硅材料有限公司 一种直拉单晶硅快速收尾方法
CN108660507A (zh) * 2018-02-05 2018-10-16 锦州神工半导体有限公司 直拉法硅棒生产过程中快速收尾方法
CN110512279A (zh) * 2019-10-15 2019-11-29 宁夏银和新能源科技有限公司 能够提高收尾成功率的单晶炉收尾方法
CN111101194A (zh) * 2018-10-29 2020-05-05 上海新昇半导体科技有限公司 一种单晶硅晶棒的长晶方法
CN113073382A (zh) * 2021-03-30 2021-07-06 广东高景太阳能科技有限公司 12吋单晶硅棒的拉制收尾工艺
CN114059153A (zh) * 2020-07-31 2022-02-18 内蒙古中环协鑫光伏材料有限公司 一种直拉单晶工艺及单晶晶体

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007284313A (ja) * 2006-04-19 2007-11-01 Sharp Corp 単結晶インゴットおよびその製造方法
CN103422161A (zh) * 2013-06-04 2013-12-04 卡姆丹克太阳能(江苏)有限公司 一种n型太阳能硅单晶料的制备方法
JP2014097900A (ja) * 2012-11-13 2014-05-29 Shin Etsu Handotai Co Ltd シリコン単結晶の引き上げ方法
CN103911654A (zh) * 2014-04-15 2014-07-09 宁夏大学 制备直径为400mm以上的单晶硅的方法
CN104328495A (zh) * 2014-11-14 2015-02-04 邢台晶龙电子材料有限公司 一种太阳能级直拉单晶硅的生产方法
CN104328494A (zh) * 2014-11-14 2015-02-04 邢台晶龙电子材料有限公司 一种太阳能级直拉单晶硅的生产方法
CN104372406A (zh) * 2014-11-14 2015-02-25 邢台晶龙电子材料有限公司 一种太阳能级直拉单晶硅的生产方法
CN104372399A (zh) * 2014-11-28 2015-02-25 英利能源(中国)有限公司 一种单晶硅收尾方法及单晶硅制备方法
CN104451872A (zh) * 2014-11-14 2015-03-25 邢台晶龙电子材料有限公司 一种太阳能级直拉单晶硅的生产方法
JP2016079049A (ja) * 2014-10-10 2016-05-16 三菱マテリアルテクノ株式会社 単結晶シリコン引上装置、および単結晶シリコン引上方法

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007284313A (ja) * 2006-04-19 2007-11-01 Sharp Corp 単結晶インゴットおよびその製造方法
JP2014097900A (ja) * 2012-11-13 2014-05-29 Shin Etsu Handotai Co Ltd シリコン単結晶の引き上げ方法
CN103422161A (zh) * 2013-06-04 2013-12-04 卡姆丹克太阳能(江苏)有限公司 一种n型太阳能硅单晶料的制备方法
CN103911654A (zh) * 2014-04-15 2014-07-09 宁夏大学 制备直径为400mm以上的单晶硅的方法
JP2016079049A (ja) * 2014-10-10 2016-05-16 三菱マテリアルテクノ株式会社 単結晶シリコン引上装置、および単結晶シリコン引上方法
CN104328495A (zh) * 2014-11-14 2015-02-04 邢台晶龙电子材料有限公司 一种太阳能级直拉单晶硅的生产方法
CN104328494A (zh) * 2014-11-14 2015-02-04 邢台晶龙电子材料有限公司 一种太阳能级直拉单晶硅的生产方法
CN104372406A (zh) * 2014-11-14 2015-02-25 邢台晶龙电子材料有限公司 一种太阳能级直拉单晶硅的生产方法
CN104451872A (zh) * 2014-11-14 2015-03-25 邢台晶龙电子材料有限公司 一种太阳能级直拉单晶硅的生产方法
CN104372399A (zh) * 2014-11-28 2015-02-25 英利能源(中国)有限公司 一种单晶硅收尾方法及单晶硅制备方法

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107761163A (zh) * 2016-08-22 2018-03-06 银川隆基硅材料有限公司 一种直拉单晶硅快速收尾方法
CN106637402A (zh) * 2016-12-22 2017-05-10 卡姆丹克太阳能(江苏)有限公司 单晶硅平收尾方法及制备方法
CN106637402B (zh) * 2016-12-22 2019-04-09 卡姆丹克太阳能(江苏)有限公司 单晶硅平收尾方法及制备方法
CN106676621A (zh) * 2017-02-21 2017-05-17 宁夏协鑫晶体科技发展有限公司 直拉硅单晶的收尾方法及直拉硅单晶的制备方法
CN108660507A (zh) * 2018-02-05 2018-10-16 锦州神工半导体有限公司 直拉法硅棒生产过程中快速收尾方法
CN108660507B (zh) * 2018-02-05 2021-05-11 锦州神工半导体股份有限公司 直拉法硅棒生产过程中快速收尾方法
CN111101194A (zh) * 2018-10-29 2020-05-05 上海新昇半导体科技有限公司 一种单晶硅晶棒的长晶方法
CN110512279A (zh) * 2019-10-15 2019-11-29 宁夏银和新能源科技有限公司 能够提高收尾成功率的单晶炉收尾方法
CN114059153A (zh) * 2020-07-31 2022-02-18 内蒙古中环协鑫光伏材料有限公司 一种直拉单晶工艺及单晶晶体
CN113073382A (zh) * 2021-03-30 2021-07-06 广东高景太阳能科技有限公司 12吋单晶硅棒的拉制收尾工艺

Also Published As

Publication number Publication date
CN105803519B (zh) 2018-02-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105803519A (zh) 一种m2型单晶硅快速收尾方法
CN105803520B (zh) Cz‑80单晶炉自动收尾方法
CN104372399B (zh) 一种单晶硅收尾方法及单晶硅制备方法
CN110512279B (zh) 能够提高收尾成功率的单晶炉收尾方法
CN107761163B (zh) 一种直拉单晶硅快速收尾方法
CN103060901A (zh) 导模法生长多条晶体的制备工艺
CN104854266A (zh) 单晶硅的制造方法
CN102978687B (zh) 一种多晶硅锭的晶体生长方法
CN110396716A (zh) 一种引晶引断后自动稳温工艺
CN107109686A (zh) 用于制造单晶硅锭的方法、以及通过该制备方法制备的单晶硅锭
CN110528068A (zh) 直拉硅单晶的引晶方法及其制造方法
AU2003284253A8 (en) Method and apparatus for crystal growth
CN106676621A (zh) 直拉硅单晶的收尾方法及直拉硅单晶的制备方法
CN105154978A (zh) 砷化镓多晶磁场生长炉以及生长方法
CN113755947A (zh) 一种12吋单晶拉制的放肩工艺方法
CN103726101B (zh) 一种减少导模法生长管状蓝宝石晶体开裂的收尾方法
CN210636088U (zh) 一种大尺寸单晶取段收尾结构
CN103590109A (zh) 直拉单晶炉磁场装置及使用该磁场装置的拉晶方法
CN114507899B (zh) 一种氧化镓单晶生长放肩角度的控制方法及控制装置
CN106637385A (zh) 便于调节温度梯度的直拉单晶用加热器及直拉单晶方法
CN205115667U (zh) 一种直拉单晶用加热器
CN204959080U (zh) 一种温控蓝宝石生长炉
CN210711819U (zh) 一种大尺寸晶体生长单晶炉
CN105839177A (zh) 一种大尺寸单质晶体的分阶段提拉制备方法
CN108796603B (zh) 一种直拉单晶补掺合金的工艺方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant