CN105552246A - 柔性显示装置及柔性显示装置的制作方法 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了柔性显示装置及柔性显示装置的制作方法。所述柔性显示装置的一具体实施方式包括:发光器件和用于封装发光器件的封装层,封装层包括叠置的至少一层有机膜层和至少一层无机膜层;其中:有机膜层包括多个图形单元和用于将多个图形单元分隔排列的非图形单元,图形单元的厚度与非图形单元的厚度不相同;无机膜层覆盖图形单元和非图形单元。本申请提供的实施方式,通过将有机膜层分成图形单元和非图形单元,且图形单元的厚度与非图形单元的厚度不同,从而使得均匀覆盖在有机膜层上的无机膜层变得起伏不平。这样既可以防止水汽、氧气浸入发光器件,又可以防止无机膜层由于应力集中而生成的裂纹。
Description
技术领域
本申请涉及显示技术领域,具体涉及柔性显示技术领域,尤其涉及一种柔性显示装置及柔性显示装置的制作方法。
背景技术
随着便携式移动设备、可穿戴显示产品等方面需求的快速增长,柔性显示技术近年来得到了很大的进步。在可实现柔性显示的显示技术中,OLED(OrganicLightEmittingDisplay,有机发光二极管显示)因其具有抗弯折、响应速度快、视角宽、重量轻、低功耗、亮度高等优异性能,被认为是柔性显示技术中最有前景的技术之一。
OLED器件本身对水汽、氧气非常敏感,接触到水汽、氧气的OLED其工作稳定性变差而且寿命降低。因此,采用有效的封装结构阻止水汽、氧气浸入,可以延长OLED器件的使用寿命。
薄膜封装是OLED器件的一种封装方式,目前受到广泛关注,如图1所示,为现有技术中柔性显示装置100的截面示意图,柔性显示装置100的封装结构采用在基板11上沉积单层无机膜层131或无机膜层131/有机膜层132/无机膜层131等多层薄膜组成的封装层13来对OLED12进行整面包覆,以达到封装的目的。这样的封装结构虽然有较好的阻水氧性能,可以保证OLED的使用寿命,但是柔性OLED器件在使用中会被弯曲、卷曲甚至折叠。在弯折过程中,应力很容易在无机膜层中的一点集中从而造成无机膜层的脆裂和裂纹的产生,从而降低封装性能,影响OLED器件的使用寿命。
发明内容
鉴于现有技术存在的上述问题,期望提供一种既具有良好的封装性能又具有很强耐弯折能力的解决方案,为了实现上述目的,本申请提出一种柔性显示装置及其制作方法。
一方面,本申请提供了一种柔性显示装置,包括多个发光器件和用于封装所述多个发光器件的封装层,其特征在于,所述封装层包括叠置的至少一层有机膜层和至少一层无机膜层;其中:所述有机膜层包括多个图形单元和用于将多个图形单元分隔排列的非图形单元,所述图形单元的厚度与所述非图形单元的厚度不相同;所述无机膜层覆盖所述图形单元和所述非图形单元。
可选地,所述图形单元的形状为多边形、圆形中的一种或多种。
可选地,所述图形单元的厚度小于所述非图形单元的厚度,且所述图形单元的厚度大于或等于零。
可选地,所述图形单元的厚度大于所述非图形单元的厚度,并且所述非图形单元的厚度大于零。
可选地,所述有机膜层的厚度为1微米~16微米。
可选地,所述无机膜层厚度均一。
可选地,所述每个图形单元的面积为103平方微米~105平方微米。
可选地,相邻两个所述图形单元的分隔距离为1微米~50微米。
可选地,各所述有机膜层和各所述无机膜层间隔叠置。
可选地,所述封装层最靠近所述发光器件的一层为无机膜层。
本申请的另一个方面提出了一种柔性显示装置的制作方法,包括形成多个柔性发光器件的步骤以及形成封装所述多个柔性发光器件的封装层的步骤,其特征在于,所述形成封装所述多个柔性发光器件的封装层的步骤包括:形成至少一层有机膜层,所述有机膜层包括图形单元和分隔所述图形单元的非图形单元,其中,所述图形单元和所述非图形单元厚度不相同;以及在所述有机膜层之上形成至少一层无机膜层,所述无机膜层覆盖所述图形单元和所述非图形单元。
可选地,在形成所述多个发光器件之后形成封装层。
可选地,形成包含图形单元和非图形单元的至少一层有机膜层包括,采用如下任意一项工艺:干法刻蚀、湿法刻蚀、丝网印刷以及使用金属掩膜版沉积形成所述有机膜层。
可选地,所述图形单元的形状为多边形、圆形中的一种或多种。
可选地,所述图形单元的厚度小于所述非图形单元的厚度,且所述图形单元的厚度大于或等于零。
可选地,所述图形单元的厚度大于所述非图形单元的厚度,并且所述非图形单元的厚度不为零。
可选地,形成所述有机膜层的厚度为1微米~16微米。
可选地,形成的所述无机膜层厚度均一。
可选地,所述每个图形单元的面积为103平方微米~105平方微米。
可选地,相邻两个所述图形单元的分隔距离为1微米~50微米。
可选地,所述有机膜层和所述无机膜层交替形成。
可选地,在所述封装层中最靠近所述发光器件的一层形成无机膜层。
本申请提供的柔性显示装置及柔性显示装置制作方法,通过将有机膜层分成厚度不相同的图形单元和非图形单元,从而使得覆盖在有机膜层上的无机膜层随着有机膜层的厚度不同而起伏不平。这样既能达到对发光器件进行包覆,防止水汽和氧气浸入的目的,又能在柔性显示装置被弯曲、卷曲甚至折叠时减少应力累积,抑制无机膜层的断裂和裂纹的产生。
附图说明
通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述,本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显:
图1是现有技术中的柔性显示装置截面示意图;
图2是本申请实施例一所提供的柔性显示装置的结构示意图;
图3A是本申请实施例一的柔性显示装置的封装层的俯视图
图3B是图3A沿AA’的截面图;
图3C是本申请实施例一的有机膜层图形单元的形状的示意图;
图4是本申请实施例一的柔性显示装置的封装层的又一种实现方式的截面示意图;
图5为本申请实施例一的柔性显示装置的封装层的又一种实现方式的截面示意图。
图5A为图5中有机层的直观示意图;图5B是图5A沿AA’的截面图;
图6A是本申请实施例二的柔性显示装置的封装层的俯视图;
图6B是图6A沿AA’的截面图;
图7本申请实施例二的有机膜层的相邻图形单元的分隔距离示意图;
图8是本申请实施例三的柔性显示装置的制作方法的示意性流程图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅用于解释相关发明,而非对该发明的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与有关发明相关的部分。
需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。
实施例一
请参考图2,其示出了本申请的柔性显示装置的实施例的结构示意图。
如图2所示,本实施例的柔性显示装置200包括,发光器件21,还包括用以封装发光器件21的封装层22。封装层22包括叠置的至少一层有机膜层222和至少一层无机膜层221。
有机膜层222可以有一层,也可以有多层;有机膜层222可以直接覆盖发光器件21,也可以不直接包裹发光器件21。
在这里,尽管图2中示意性地示出了3层无机膜层221和2层有机膜层221。然而,图2中的无机膜层的数量和有机膜层的数量仅是示意性的。在实际中,可以根据不同的应用场景的需求来设定无机膜层的数量和有机膜层的数量。
请参考图3A和图3B,图3A为本实施例柔性显示装置的封装层的俯视图,图3B为本实施例中图3A沿AA’的截面图,如图3A所示,有机膜层222包括多个图形单元2221和用于将多个图形单元2221分隔排列的非图形单元2222。图形单元2221可以通过刻蚀方法刻蚀原本表面平滑的有机膜层222形成,也可以通过使用掩膜版沉积有机材料形成。非图形单元2222可为有机膜层222中除图形单元2221之外的部分。图形单元2221和非图形单元2222的厚度不相同。无机膜层221覆盖有机膜层的图形单元2221和非图形单元2222。
在图3B中,示意性地示出了一层有机膜层222和一层无机膜层221。如图3B所示,有机膜层222中的图形单元2221的厚度d1与非图形单元2222的厚度d2不相同。这样一来,可以有机膜层222的表面凹凸不平。此外,由于有机膜层222具有图形单元2221和非图形单元2222,且由于有机膜层222的图形单元2221的厚度d1和非图形单元2222的厚度d2不相同,使得覆盖在有机膜层222上方的无机膜层221可以随着有机膜层222的图形单元2221的厚度d1和非图形单元2222的厚度d2不相同而起伏不平。
在本实施例的柔性显示装置中,无机膜层221可以起到对水汽和氧气的隔离作用,而有机膜层222可以缓解无机膜层221的应力。有机膜层222和无机膜层221共同完成对发光器件的封装功能。
无机膜层221随着有机膜层222的图形单元2221的厚度d1和非图形单元2222的厚度d2不相同而起伏不平的形状,可以抑制在柔性显示装置200被弯曲、卷曲甚至折叠的过程中在无机膜层221中产生的应力集中的情况,进而减少无机膜层221由于被弯曲、卷曲甚至折叠而产生的裂纹。同时,可以切断膜层应力的扩展路径,阻断裂纹的扩展。
在一些可选的实现方式中,封装层22可包覆发光器件21的整体,即封装层22不但覆盖发光器件21的上表面,还可进一步向发光器件21的边缘向外延伸,超出柔性显示装置200的显示区域,以保证由有机膜层222和无机膜膜层221叠置形成的封装层22能够包覆发光器件21的侧面,进一步地防止水汽和氧气从侧面侵入。
在本实施例的可选实现方式中,有机膜层222的图形单元2221的形状例如可以为多边形、圆形中的一种或多种。例如,图3C示出的有机膜层222的图形单元2221为圆形。在同一层有机膜层中,可以仅包含一种图形也可以包含超过一种图形。具体的有机膜层的图形单元的形状可以根据耐弯折性的需求进行设置。
在一些可选的实现方式中,如图3B所示,有机膜层222的图形单元2221的厚度d1可以小于非图形单元2222的厚度d2,并且,图形单元2221的厚度大于零。另外,图形单元2221的厚度也可以等于零。如封装层的一种实现方式的截面示意图图4所示,在图4中,由于图形单元2221的厚度d1等于零,只能显示非图形单元的厚度d2和无机膜层的厚度d3。应该指出的是,在图形单元2221的厚度d1等于零的情况下,不同层的无机膜221在图形单元的区域将相邻叠置,并且形成凹凸不平的起伏结构,在增加了抗弯折性能的同时还可以进一步增加防水汽、氧气侵入的能力。
继续参考图4,在本实施例的一个可选实现方式中,无机膜层221厚度d3均一。
无机膜层221均匀覆盖在有机膜层222的图形单元2221和非图形单元2222之上,即无论覆盖在有机膜层222的图形单元2221上的无机膜层221还是覆盖在有机膜层222的非图形单元2222上无机膜层221的厚度d3都相同,可选的,d3的取值范围可以在数十到数百纳米之间。无机层的厚度太小会影响封装层的阻水氧的性能,无机层的厚度太大对显示装置的弯折性能不利。由于无机膜层221的厚度均匀,使得无机膜层221可随着有机膜层222的图形单元2221和非图形单元2222的形状和厚度的变化而形成凹凸不平的结构,这样的结构能够有效的缓解无机层受到的应力在某一点的累积,并且阻断了应力的传输路径,防止裂纹的产生和扩散。具体的无机膜层221的厚度d3根据阻水性能的需要进行设置,此处不做限定。
请继续参考图5,图5是本实施例的柔性显示装置的封装层的又一种实现方式的截面示意图,封装层包括至少一层有机膜层222和至少一层无机膜层221。图5A为图5所示的实施方式中,有机层222的直观示意图,图5B为图5A沿AA’的截面图。
在图5B中,有机膜层222的图形单元2221的厚度d1可以大于非图形单元2222的厚度d2,并且,非图形单元2222的厚度大于零。本实施方式相当于将有机膜层的表面形成多个凸起的结构,需要说明的是,图5A示出的结构并不代表对有机膜层中图形单元的个数和形状的限制,而只是示意性的说明。有机膜层表面的多个凸起的图形单元使覆盖在有机层上的无机膜层形成凹凸不平的结构,增加了无机层的抗弯折能力,并且,由于有机层各处连续,使得封装层更加的稳固可靠。
在本实施例的一个可选实现方式中,有机膜层222的厚度为1微米~16微米。如果有机膜层的厚度小于1微米,有机膜层将不能对无机层产生有效的应力缓解作用,如果有机膜层的厚度大于16微米,将会影响到显示装置的弯曲能力。
实施例二
在本实施例中,与上述实施例相同的结构此处不再赘述,不同之处在于,可以改变有机膜层中图形单元的面积来调整无机层的耐弯折性能。可选的,每个图形单元的面积可以为103平方微米~105平方微米。
在此面积范围之内,图形单元的大小与显示装置的一个像素的面积相当。例如图6A为本实施例柔性显示装置的封装层的俯视图,图6B为本实施例中图6A沿AA’的截面图。参考图6A和图6B,柔性显示装置的一个像素对应有机膜层222的一个图形单元。也就是说,可以将图形单元2221的面积设置为像素层201中的一个像素2011的面积。从图6B中可以看出,一个像素2011的上方对应一个有机层的图形单元2221,无机膜层221覆盖有机膜层222,由于每个图形单元2221与像素2011相对应,所以像素区域的上方不会出现图形单元的边界,对显示画面不会产生任何影响,并且在满足了封装需求和无机层耐弯折需求的情况下进一步提高了显示装置的光透过率,并且有机膜层中图形单元的分布密度增大,使无机膜层表面的凹凸起伏的结构密度增大,从而显示出了更好的耐弯折性能。可选的,还可以将图形单元2221的面积设置为像素层201中的多个像素2011面积之和。图形单元的面积越小,图形单元的分布密度越大,则柔性显示器件的弯曲性能越好。具体地,可以根据对柔性显示装置的弯曲性的要求设置图形单元2221的面积。
在本实施例的一个可选实现方式中,相邻两个图形单元间的分隔距离可以为1微米~50微米。分隔距离的定义如下:
例如可以以相邻两个图形单元之间最小的距离作为分隔距离。如图7所示,为本实施例中有机膜层的相邻图形单元的分隔距离示意图。有机膜层包括多个图形单元2221和用于分隔图形单元2221的非图形单元2222,此处以图形单元2221的形状为圆形作为示例,相邻两个圆形的图形单元2221之间的最小距离L作为相邻两个图形单元的分隔距离。有机膜层的图形单元2221分隔距离越小,则在单位面积内的图形单元2221的数量越多,相应地对无机膜层221所受到的应力的缓解效果越好。根据形成有机膜层222的工艺可以实现的精度,有机膜层222的多个图形单元2221的分隔距离可以在1微米~50微米之间,当分隔距离设置在此范围之内,有机膜层的图形单元排列紧密,有机膜层可以形成一种网状结构,能够最大限度的缓解无机层的应力,从而提高柔性显示装置的耐弯折能力。在实际应用中,可以根据对柔性显示装置弯曲性的要求以及制作有机膜层222的图形单元2221和非图形单元2222的工艺条件来设置多个图形单元2221之间的分隔距离。
在实际应用中,可以根据对柔性显示装置的弯曲性能的要求,综合设置有机膜层的图形单元2221的面积和分隔距离。
在本实施例又一个可选的实现方式中,各有机膜层和各无机膜层间隔叠置。本实现方式中的有机膜层包括上述的任意一种有机膜层。
本实施例中用于封装发光器件的封装层包括多层有机膜层和多层无机膜层。多层有机膜层和多层无机膜层堆叠,而且各有机膜层和各无机膜层之间交替设置,呈现有机膜层和无机膜层交替堆叠的结构。也即,在一层有机膜层的上方覆盖一层无机膜层,在此层无机膜层的上方覆盖又一层有机膜层,意味着,每两层有机膜层之间有一层无机膜层,而且每两层无机膜层之间有一层有机膜层。有机膜层和无机膜层的层数越多,对水汽、氧气的阻隔效果越好。可以综合考虑对柔性显示装置的弯曲性能的要求和柔性显示装置使用环境来设定有机膜层和无机膜层的层数,此处不做限定。
在本实施例的一个可选实现方式中,封装层最靠近发光器件的一层为无机膜层。
在发光器件上方直接包覆一层无机膜层,可以对发光器件形成隔离水汽、氧气的保护层,可以降低在无机膜层之上形成有机膜层时的工艺环境要求。
本发明的实施例提供的柔性显示装置,采用将有机膜层设置为厚度不同的图形单元和非图形单元,使得均匀分布在有机膜层之上的无机膜层的形状随着图形单元和非图形单元的厚度不同而起伏不平,从而在防止水汽、氧气侵入的同时可以缓解柔性显示装置在弯曲时施加在无机膜层上的应力,避免在弯曲时在无机膜层的某一点出应力集中而产生的裂纹;同时,可以切断膜层应力的扩展路径,阻断裂纹的扩展。
在一些可选的实现方式中,本申请述实施例中描述的柔性显示装置例如可以为有机电致发光显示(OrganicEmittingDisplay,OLED)装置。
本领域技术人员可以理解,上述柔性显示装置还包括一些其他公知结构,例如基板等,为了不必要地模糊本公开的实施例,这些公知的结构未在本实施例中给出说明。
实施例三
本实施例提供了一种柔性显示装置的制作方法,
如图8所示,为本申请实施例所提供的柔性显示装置的制作方法的示意性流程图
柔性显示装置的制作方法包括以下步骤:
步骤801,形成发光器件。
在本实施例的一些可选实现方式中,可以根据任意一种发光器件形成工艺形成发光器件。
步骤802,形成封装发光器件的封装层。
在一些可选的实现方式中,形成封装发光器件的封装层的步骤例如可以进一步包括:
步骤8021,形成至少一层有机膜层,有机膜层包括图形单元和分隔图形单元的非图形单元,其中,图形单元和非图形单元厚度不相同。
步骤8022,在有机膜层之上形成至少一层无机膜层,无机膜层覆盖图形单元和非图形单元。
图8中示意性的给出了形成两层有机膜层的步骤和形成三层无机膜层的步骤,在实际应用中,可以根据对柔性显示装置的封装性能的要求,形成一个或多个的有机膜层和一个或多个的无机膜层。
在本实施例的一些可选实现方式中,可以采用等离子体增强化学气相沉积法(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition,PECVD)、物理气相沉积法(PhysicalVaporDeposition,PVD)或原子层沉积法(Atomiclayerdeposition,ALD)的工艺方法生成无机膜层。无机膜层的厚度可以根据具体的对柔性显示装置的弯曲度的要求进行设定。可以参考的无机膜层的厚度范围例如可以为几十到几百纳米之间。
在本实施例的一些可选实现方式中,形成包含图形单元和非图形单元的有机膜层,可以采用如下任意一项工艺:干法刻蚀、湿法刻蚀、丝网印刷以及使用金属掩膜版沉积。
使用干法刻蚀或湿法刻蚀的方法形成包含图形单元和非图形单元的有机膜层时,首先,在刻蚀之前先形成一层平坦的有机膜层,然后再对平坦的有机膜层进行干法刻蚀或湿法刻蚀形成图形单元和非图形单元。
在使用金属掩膜版沉积形成有机膜层时,金属掩膜版的开口的形状与分布位置与预设的有机膜层的非图形单元相同,用以沉积有机膜层的非图形单元;金属掩模版的遮挡位置与有机膜层的图形单元相对应,能够得到图形单元厚度为零的有机膜层,对于图形单元厚度不为零的有机膜层,可以使用半色调掩模版进行沉积,通过控制半色调掩模版的透过区域与半透过区域的位置和形状得到所需要的有机膜层。在本实施例的一些可选实现方式中,形成的有机膜层的图形单元的形状可以根据实际需要,将图形单元设定为多边形、圆形中的一种或多种,此处不做具体限定。
在本实施例的一些可选实现方式中,形成的有机膜层的图形单元的厚度小于图形单元的厚度,且图形单元的厚度大于或等于零。
在本实施例的一些可选实现方式中,图形单元的厚度大于所述非图形单元的厚度,并且非图形单元的厚度不为零。
有机膜层的图形单元的厚度小于还是大于非图形单元的厚度,根据具体的实际需要进行设置,此处不做限定。
在本实施例的一些可选实现方式中,形成有机膜层的厚度为1微米~16微米。
有机膜层的图形单元的厚度和非图形单元的厚度根据实际的对柔性发光器件的弯曲程度的要求进行设定,此处不做限定。
在本实施例的一些可选实现方式中,形成的无机膜层厚度均一。
无机膜层的厚度越厚,对水汽、氧气的隔离效果越好。同时,也会影响柔性显示装置的可弯曲性。具体的无机膜层的厚度可以根据对柔性显示装置的弯曲性的要求进行设定,此处不做限定。
在本实施例的一些可选实现方式中,每个图形单元的面积为103平方微米~105平方微米。图形单元的面积根据柔性发光器件的像素的面积进行设定。可以设定有机膜层的图形单元的面积为单个像素的面积,也可以设定有机膜层的图形单元的面积为数个像素的面积之和。需要指出的是,图形单元的面积并不是越大越好。可以根据实际需要设定图形单元的面积。
在本实施例的一些可选实现方式中,有机膜层图形单元之间的分隔距离为1微米~50微米。
有机膜层图形单元之间的分隔距离越小,则图形单元的分布密度越大,对无机膜层的应力的缓解效果越好,柔性显示装置的弯曲性能越好。可以根据实现有机膜层的工艺方法的精度设定有机膜层图形单元之间的分隔距离。
在本实施例的一些可选实现方式中,有机膜层和无机膜层交替形成。在有机膜层的图形单元和非图形单元上方生成一层厚度均匀的无机膜层;之后,在无机膜层上方再次形成包含图形单元和非图形单元的有机膜层,如此交替重复形成有机膜层的工艺和无机膜层的工艺,最后形成交替叠置的有机膜层和无机膜层。在实际应用中,可以根据实际需要交替重复形成有机膜层的工艺和形成无机膜层的工艺。
在本实施例的一些可选实现方式中,在发光器件之上首先形成一层无机膜层,用以保护柔性发光器件受水汽、氧气的侵入。然后在无机膜层上方形成包含有图形单元和非图形单元的有机膜层。
在发光器件之上首先采用PECVD,PVD,ALD的工艺方法形成一层无机膜层时,在无机膜层之上形成有机膜层比在发光器件上方形成有机膜层可选的工艺方法的范围增加,可以采用干法刻蚀、湿法刻蚀和使用金属掩膜版沉积中的任意一项工艺方法。
以上描述仅为本申请的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解,本申请中所涉及的发明范围,并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案,同时也应涵盖在不脱离所述发明构思的情况下,由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。
Claims (23)
1.一种柔性显示装置,包括发光器件和用于封装所述发光器件的封装层,其特征在于,
所述封装层包括叠置的至少一层有机膜层和至少一层无机膜层;
其中:
所述有机膜层包括多个图形单元和用于将多个图形单元分隔排列的非图形单元,所述图形单元的厚度与所述非图形单元的厚度不相同;
所述无机膜层覆盖所述图形单元和所述非图形单元。
2.根据权利要求1所述的柔性显示装置,其特征在于,
所述图形单元的形状为多边形、圆形中的一种或多种。
3.根据权利要求1所述的柔性显示装置,其特征在于,
所述图形单元的厚度小于所述非图形单元的厚度,且所述图形单元的厚度大于或等于零。
4.根据权利要求1所述的柔性显示装置,其特征在于,
所述图形单元的厚度大于所述非图形单元的厚度,并且所述非图形单元的厚度大于零。
5.根据权利要求1所述的柔性显示装置,其特征在于,
所述有机膜层的厚度为1微米~16微米。
6.根据权利要求1所述的柔性显示装置,其特征在于,
所述无机膜层厚度均一。
7.根据权利要求1所述的柔性显示装置,其特征在于,
所述每个图形单元的面积为103平方微米~105平方微米。
8.根据权利要求1所述的柔性显示装置,其特征在于,
相邻两个所述图形单元间的分隔距离为1微米~50微米。
9.根据权利要求1-8任意一项所述的柔性显示装置,其特征在于,
各所述有机膜层和各所述无机膜层间隔叠置。
10.根据权利要求9所述的柔性显示装置,其特征在于,
所述封装层中最靠近所述发光器件的一层为无机膜层。
11.根据权利要求10所述的柔性显示装置,其特征在于,所述柔性显示装置为有机电致发光显示装置。
12.一种柔性显示装置的制作方法,包括形成发光器件的步骤以及形成封装所述发光器件的封装层的步骤,其特征在于,所述形成封装所述发光器件的封装层的步骤包括:
形成至少一层有机膜层,所述有机膜层包括图形单元和分隔所述图形单元的非图形单元,其中,所述图形单元和所述非图形单元厚度不相同;以及
在所述有机膜层之上形成至少一层无机膜层,所述无机膜层覆盖所述图形单元和所述非图形单元。
13.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,
在形成所述发光器件之后形成所述封装层。
14.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,
所述形成包含图形单元和非图形单元的至少一层有机膜层包括,采用如下任意一项工艺:
干法刻蚀、湿法刻蚀、丝网印刷以及使用金属掩膜版沉积形成所述有机膜层。
15.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,
所述图形单元的形状为多边形、圆形中的一种或多种。
16.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,
所述图形单元的厚度小于所述非图形单元的厚度,且所述图形单元的厚度大于或等于零。
17.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,
所述图形单元的厚度大于所述非图形单元的厚度,并且所述非图形单元的厚度不为零。
18.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,
形成所述有机膜层的厚度为1微米~16微米。
19.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,
形成的所述无机膜层厚度均一。
20.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,
所述每个图形单元的面积为103平方微米~105平方微米。
21.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,
相邻两个所述图形单元的分隔距离为1微米~50微米。
22.根据权利要求12-21任一项所述的方法,其特征在于,
所述有机膜层和所述无机膜层交替形成。
23.根据权利要求22所述的方法,其特征在于,
在所述封装层中最靠近所述发光器件的一层形成无机膜层。
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PB01 | Publication | ||
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RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
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