CN104849965A - 曝光装置和使用该曝光装置的曝光方法 - Google Patents

曝光装置和使用该曝光装置的曝光方法 Download PDF

Info

Publication number
CN104849965A
CN104849965A CN201510062073.8A CN201510062073A CN104849965A CN 104849965 A CN104849965 A CN 104849965A CN 201510062073 A CN201510062073 A CN 201510062073A CN 104849965 A CN104849965 A CN 104849965A
Authority
CN
China
Prior art keywords
substrate
exposure
ultraviolet
component
sensor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201510062073.8A
Other languages
English (en)
Inventor
许财源
李泓燃
全栢均
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung Display Co Ltd
Original Assignee
Samsung Display Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Display Co Ltd filed Critical Samsung Display Co Ltd
Publication of CN104849965A publication Critical patent/CN104849965A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058—Mask illumination systems
    • G03F7/70191—Optical correction elements, filters or phase plates for controlling intensity, wavelength, polarisation, phase or the like
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
    • G02F1/13378—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
    • G02F1/133788—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation by light irradiation, e.g. linearly polarised light photo-polymerisation

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

一种曝光装置包括：基板输送单元，被配置为沿第一方向输送基板，并且包括第一测量部件；以及曝光部件，被布置在基板输送单元上方，并且被配置为以紫外线照射基板。第一测量部件被配置为在基板被照射之前测量紫外线的强度。

Description

曝光装置和使用该曝光装置的曝光方法
技术领域
本发明构思的示范性实施例涉及曝光装置和使用该曝光装置的曝光方法。
更具体地，本发明构思的示范性实施例涉及用于形成液晶显示装置的光定向层的曝光装置。
背景技术
近来，已经制造重量轻尺寸小的显示装置。阴极射线管(CRT)显示装置由于高性能和有竞争力的价格而被一般使用。然而，CRT显示装置很大且欠缺便携性。因而，诸如等离子显示装置、液晶显示装置、和有机发光显示装置的显示装置由于其小尺寸、轻重量、和低功耗而受到高度重视。
显示装置一般包括：具有电路布线的阵列基板；面向阵列基板的对向基板；以及布置在阵列基板与对向基板之间的液晶层。显示装置一般还包括给液晶层的液晶分子一预倾斜角度的定向层。
发明内容
可以使用曝光装置通过光定向工艺形成定向层。然而，问题在于，由曝光装置形成的紫外线不够均匀。
本发明构思的示范性实施例提供能够均匀地向多个基板曝光的曝光装置。
本发明构思的示范性实施例还提供使用该曝光装置的曝光方法。
本发明的额外特征将在随后的描述中阐明，并将从该描述中部分地变得明显，或者可以通过实践本发明而习得。
根据本发明构思的示范性实施例，一种曝光装置包括：基板输送单元，用于沿第一方向输送基板，并且包括被配置为测量紫外线的量的传感器；以及曝光部件，被布置在基板输送单元上方以将基板曝光于紫外线。
根据本发明构思的示范性实施例，一种曝光方法包括：计算并测量(S100)，其中，测量从曝光部件产生的紫外线的特性，并且利用所测量的特性计算曝光的速度和量；曝光基板(S200)，其中，以在S100中计算的曝光的速度和量利用紫外线曝光基板；计算并测量(S300)，其中，再次测量从曝光部件产生的紫外线的特性，并且利用新测量的特性计算曝光的速度和量；以及曝光基板(S400)，其中，以在S300中新计算的曝光的速度和量利用紫外线曝光基板。
在示范性实施例中，在曝光基板(S200)时，可以依序曝光第一基板和第二基板。测量并计算(S100)可以包括测量紫外线的照度以及计算第二移动速度。在测量紫外线的照度时，可以测量从曝光部件产生的紫外线的强度。紫外线的强度可以意味着在单位时间期间照射在单位面积上的紫外线的总能量。换句话说，紫外线的强度是指影响传感器IS之一的紫外线的强度(辐照度)。在测量第二移动速度时，可以计算作为第二基板的移动速度的第二移动速度。第二移动速度可以满足以下公式。
<公式1>
紫外线的强度*每一基板的曝光时间＝恒定值
<公式2>
每一基板的曝光时间＝第二基板的曝光距离/第二基板的移动速度
因而，根据本发明构思的示范性实施例，一种曝光装置包括用于测量紫外线的强度的传感器和用于输送多个基板的级。于是，该曝光装置可以通过根据紫外线的强度的数学函数连续地调整基板的移动速度来向多个基板提供均匀的曝光。
另外，第一到第三级分别包括第一到第三测量部件，以使得可以依据紫外线的强度的变化而实时地应用各级的适当的移动速度。
此外，根据本发明的示范性实施例，该曝光方法重复测量紫外线的强度和计算曝光速度的步骤。于是，当多个基板被曝光时，虽然紫外线可能由于曝光部件的UV灯的老化而减少，但是可以通过连续地调整曝光的速度来将基板均匀地曝光。
将会理解，前述一般性描述及下面的详细描述是示范性和解释性的，并且是用来提供对所主张的本发明的进一步解释。
附图说明
被包括以提供对本发明的进一步理解并被并入且构成此说明书的一部分的附图图示了本发明的实施例，并且与描述一起用来解释本发明的原理。
通过参照附图详细描述本发明构思的示范性实施例，本发明构思的上述及其它特征将变得更加清楚。
图1是图示根据本发明构思的示范性实施例的曝光装置的透视图；
图2是图示图1的第二级的平面图细节；
图3是图示根据本发明构思的示范性实施例的第二级的平面图细节；
图4是图示根据本发明构思的示范性实施例的曝光装置的透视图细节；
图5是图示根据本发明构思的示范性实施例的曝光装置的透视图细节；
图6是图示图5的第二输送部件的平面图细节；
图7是图示根据本发明构思的示范性实施例的第二输送部件的平面图细节；
图8是简要地图示根据本发明构思的示范性实施例的曝光装置的透视图；
图9是图示根据本发明构思的示范性实施例的曝光方法的流程图；
图10A到10D是图示曝光方法的每个步骤的流程图细节；
图11A到11D是图示根据本发明构思的示范性实施例的曝光方法的每个步骤的流程图细节；
图12是图示根据本发明构思的示范性实施例的曝光方法的流程图；以及
图13是图示根据本发明构思的示范性实施例的曝光方法的流程图。
具体实施方式
下面将参照其中示出本发明的实施例的附图更全面地描述本发明。然而，本发明可以以许多不同的形式来具体实现，并不应当被解读为限于这里阐述的实施例。相反，提供这些实施例是为了使本公开彻底，并向本领域技术人员充分传达发明的范围。附图中，为清楚起见，可能夸大了层和区域的尺寸和相对尺寸。附图中相同的附图标记表示相同的元件。
将会理解，当一个元件或层被称为在另一元件或层“之上”、“连接到”到另一元件或层时，它可以直接在该另一元件或层之上或者直接连接到该另一元件或层，或者也可以存在居间的元件或层。相反，当一个元件被称为“直接在”另一元件或层“之上”或者“直接连接到”另一元件或层时，不存在居间的元件或层。将会理解，出于本公开的目的，“X、Y和Z中的至少一个”可以被解释为仅X、仅Y、仅Z，或者X、Y和Z中两个或者更多个项目的任意组合(例如，XYZ、XYY、YZ、ZZ)。
图1是图示根据本发明构思的示范性实施例的曝光装置的透视图。
参照图1，曝光装置100包括框架102、第一级110、第二级120、第三级130、和曝光部件190。
框架102沿第一方向D1延伸，并且沿与第一方向D1基本垂直的第二方向D2具有一宽度。在框架102上布置多个级。框架102支撑各级。可以沿第一方向D1在框架上连续传送各级。
例如，各级包括第一级110、第二级120、和第三级130。如图中所述，基板10被加载到第三级130上(参见图1中的箭头IN)。接着，可以沿第一方向D1移动第三级130。因此，第三级130上的基板10可以在穿过曝光部件190下方到图1中第二级120的位置的同时被光曝光。在第三级130移动的同时，第二级120沿第一方向D1移动到图1中第一级110的位置，基板被从第一级110卸载(参见图1中的箭头OUT)，并且第一级110沿与第一方向D1相反的方向移动到图1中第三级130的位置。例如，第一级110可以沿与第一方向D1相反的方向移动通过框架102，以使得第一级110可以被置于加载位置处以加载基板10。例如，第一级110可以与第一方向D1相反地移动，避开曝光部件190，以被定位在加载位置处以加载基板。因此，第一到第三级110、120和130沿第一方向D1连续移动，以使得可以沿第一方向D1传送多个基板10。
在基板10被加载到第一级110上(参见图1中的箭头IN)之后，第一级110接着沿第一方向D1输送基板10。基板10接着穿过曝光部件190下方。随后，基板10被从第一级110卸载(参见图1中的箭头OUT)。第一级110可以通过真空吸附来握持基板10以传送基板10。
基板10被加载到第二级120上(参见图1中的箭头IN)。第二级120接着沿第一方向D1输送基板10。基板10接着穿过曝光部件190下方。随后，基板10被从第二级120卸载(参见图1中的箭头OUT)。第二级120可以通过真空吸附来握持基板10以输送基板10。
第二级120包括测量部件122。测量部件122被沿着第一方向D1布置在第二级120的一侧。例如，测量部件122沿着作为基板10的移动方向的第一方向D1布置在第二级120的前面，以使得测量部件122可以在第二级120上的基板10被曝光部件190曝光之前穿过曝光部件190下方。
测量部件122沿第二方向D2延伸。测量部件122可以包括多个传感器IS。传感器IS可以测量由曝光部件190产生的紫外线的特性。可以通过使用传感器IS测量的紫外线的特性控制由曝光部件190产生的紫外线的强度和曝光时间来将基板10均匀地曝光。
基板10被加载到第三级130上(参见图1中的箭头IN)。第三级120接着沿第一方向D1输送基板10。基板10接着穿过曝光部件190下方，随后基板10被从第三级130卸载(参见图1中的箭头OUT)。第三级130可以通过真空吸附来握持基板10以输送基板10。
曝光部件190被布置在框架102上。曝光部件190沿第三方向D3与框架102间隔开，第三方向D3与第一和第二方向D1和D2基本垂直。曝光部件190被布置在框架102加载基板10(参见图1中的箭头IN)的部分与框架102卸载基板10(参见图1中的箭头OUT)的部分之间。
曝光部件190包括产生紫外线的UV光源、和用于偏振紫外线的线栅偏振器。曝光部件190将紫外线照射到布置在第一、第二、和/或第三级110、120、或130上的基板10上。因此，来自曝光部件190的紫外线可以硬化在基板10上涂敷的光定向材料以在基板10上形成光定向层。
UV光源可以是沿第二方向D2延伸的UV灯。另外，UV光源可以是沿第二方向D2排列的多个UV灯，并且每个UV灯可以沿第二方向D2延伸。可以控制UV灯以产生具有不同强度的紫外线。
曝光部件190可以相对于与第一和第二方向D1和D2平行的平面倾斜。另外，基板10可以相对于与第一和第二方向D1和D2平行的平面倾斜。因此，光定向层的定向方向可以相对于基板10的边界和与第一和第二方向D1和D2平行的平面倾斜预定角度。
图2是图示图1的第二级的平面图。
参照图2，基板10被放置在第二级120上。基板10可以由第二级120上的基板固定部件固定。例如，基板固定部件可以是第二级120上的产生负压的多个真空孔，可以借助通过真空孔的真空吸附将基板10固定在第二级120上。另外，基板固定部件可以是抓取基板10的固定器(holder)。
第二级120包括在第二方向D2上沿着第二级120的一侧延伸的测量部件122。因此，测量部件122沿第二方向D2与基板10的宽度相对应地形成。
通过在基板10上涂敷光定向材料，在基板10上形成光定向层。基板10可以是用于制造液晶显示装置的多个显示面板的基板。显示面板可以包括包含液晶分子的液晶层。显示面板可以包括给液晶分子一预倾斜角度的定向层。定向层可以被来自紫外线的辐射硬化。
在曝光过程之后，可以将基板10分离为多个基板。例如，可以沿第二方向D2将基板10划分为三个部分(参见图2中的虚线)。可以沿方向D1进一步划分基板。
测量部件122包括多个传感器IS。传感器IS可以测量由曝光部件(参见图1的190)产生的紫外线的特性。传感器IS包括第一传感器IS1、第二传感器IS2、和第三传感器IS3。第一传感器IS1、第二传感器IS2、和第三传感器IS3沿第二方向D2布置。第一传感器IS1、第二传感器IS2、和第三传感器IS3与基板10的三个部分中的每一个(参见图2中的虚线)相对应地布置。因此，随着第二级120沿第一方向D1移动，第一、第二、和第三传感器IS1到IS3穿过曝光部件下方，接着基板10穿过曝光部件下方。
第一传感器IS1、第二传感器IS2、和第三传感器IS3中的每一个可以测量由曝光部件190产生的紫外线的强度。紫外线的强度是指在单位时间期间照射在单位面积上的紫外线的总能量。换句话说，紫外线的强度是指影响传感器IS之一的紫外线的强度(辐照度)。
另外，第一传感器IS1、第二传感器IS2、和第三传感器IS3中的每一个可以测量紫外线的偏振方向。因此，可以确定整个曝光区域上的紫外线的偏振方向的均匀度。
可以利用由第一传感器IS1、第二传感器IS2、和第三传感器IS3测量的紫外线的强度来确定第二级120(或者第二级120的下一个，第三级130)的移动速度。例如，可以设置第二级的速度以便获得作为紫外线的强度与每一基板的曝光时间的乘积的特定值。可以重复该过程以曝光多个基板。
可以参考以下公式1和2。
<公式1>
紫外线的强度*每一基板的曝光时间＝恒定值
<公式2>
每一基板的曝光时间＝每一基板的曝光距离/级的移动速度。
因此，当多个基板被曝光时，虽然可能由于曝光部件190的UV灯的老化而存在紫外线强度的减少，但是可以通过控制级的移动速度来将基板均匀地曝光。虽然图中未描述，但是可以通过额外地或者替换地控制曝光部件190的移动速度来将基板均匀地曝光。
另外，当曝光部件190包括沿第二方向D2延伸的多个UV灯时，可以利用由第一到第三传感器IS1到IS3测量的紫外线的强度来调整从曝光部件190辐射的UV光的量。例如，沿第二方向D2排列的第一到第三传感器IS1到IS3可以测量UV光的量的分布，以使得UV光的量的分布沿着第二方向D2可以是均匀的，这可以通过控制来自UV灯的UV光的量来实现。虽然图中未描述，但是可以通过额外地或者替换地控制曝光部件190的移动速度来将基板均匀地曝光。
因此，当曝光部件190包括沿第二方向D2延伸的多个UV灯时，可以通过单独地控制UV灯的UV光强度而在整个基板10上将基板10均匀地曝光。
图3是图示根据本发明构思的示范性实施例的第二级的平面图。
参照图3，除了传感器IS的排列和数量之外，第二级120与图1和图2的第二级120基本相同。因而，将简要地描述或者省略关于相同元件的进一步详细描述。
基板10被放置在第二级120上。基板10可以由第二级120上的基板固定部件固定。第二级120包括在第二方向D2上沿着第二级120的一侧延伸的测量部件122。因而，测量部件122沿第二方向D2与基板10的宽度相对应地形成。
通过在基板10上涂敷光定向材料在基板10上形成光定向层。在曝光过程之后，可以将基板10可以分离为多个基板。例如，可以将基板10沿第二方向D2划分为两个部分(参见图3中的虚线)。可以沿方向D1进一步划分基板。
测量部件122包括多个传感器。传感器可以测量由曝光部件(参见图1的190)产生的紫外线的特性。
传感器包括第一传感器IS1和第二传感器IS2。第一传感器IS1和第二传感器IS2沿第二方向D2布置。第一传感器IS1和第二传感器IS2与基板10的两个部分(参见图2中的虚线)中的每一个相对应地布置。因此，随着第二级120沿第一方向D1移动，第一和第二传感器IS1和IS2穿过曝光部件下方，接着基板10穿过曝光部件下方。
第一传感器IS1和第二传感器IS2中的每一个可以测量由曝光部件190产生的紫外线的强度。另外，第一传感器IS1和第二传感器IS2中的每一个可以测量紫外线的偏振方向。
虽然图2和图3中的示范性实施例包括沿第二方向D2排列的两个或三个传感器，但是可以根据基板的形状适当地排列任意数量的传感器。
图4是图示根据本发明构思的示范性实施例的曝光装置100的透视图。
参照图4，除了第一到第三级包括第一到第三测量部件112、122和132之外，曝光装置100与图1的曝光装置基本相同。因此，将简要地描述或者省略关于相同元件的进一步详细描述。
曝光装置100包括框架102、第一级110、第二级120、第三级130、和曝光部件190。
框架102沿第一方向D1延伸，并且沿与第一方向D1基本垂直的第二方向D2具有一宽度。在框架102上布置多个级。框架102支撑第一级110、第二级120和第三级130。可以沿第一方向D1在框架上连续传送各级。
第一级110可以沿第一方向D1输送基板10。第一级110包括第一测量部件112。第一测量部件112在第二方向D2上沿第一级110的一侧延伸。例如，第一测量部件112在作为基板10的移动方向的第一方向D1上布置在第一级110的前方，以使得第一测量部件112可以在第一级110上的基板10被来自曝光部件190的紫外线曝光之前穿过曝光部件190下方。
第一测量部件112可以包括传感器IS。传感器IS可以测量由曝光部件190产生的紫外线的特性。可以通过利用由传感器IS测量的紫外线的特性控制曝光部件190产生的紫外线的强度和曝光时间来均匀地曝光多个基板10。
第二级120包括第二测量部件122。第二测量部件122沿第一方向D1布置在第二级120的一侧。例如，第二测量部件122在作为基板10的移动方向的第一方向D1上布置在第二级120的前方，以使得第二测量部件122可以在第二级120上的基板10被曝光部件190的紫外线曝光之前穿过曝光部件190下方。
第二测量部件122沿第二方向D2延伸。第二测量部件122包括多个传感器IS。传感器IS可以测量由曝光部件190产生的紫外线的特性。可以利用由传感器IS测量的紫外线的特性控制由曝光部件190产生的紫外线的强度和曝光时间来均匀地曝光多个基板10。
第三级130沿第一方向D1输送基板10。第三级130包括第三测量部件132。第三测量部件132沿第一方向D1布置在第三级130的一侧。例如，第三测量部件132在作为基板10的移动方向的第一方向D1上布置在第三级130的前方，以使得第三测量部件132可以在第三级130上的基板10被曝光部件190曝光之前穿过曝光部件190下方。
第三测量部件132沿第二方向D2延伸。第三测量部件132包括多个传感器IS。传感器IS可以测量由曝光部件190产生的紫外线的特性。可以通过利用由传感器IS测量的紫外线的特性控制由曝光部件190产生的紫外线的强度和曝光时间来均匀地曝光基板10。
传感器IS中的每一个可以测量由曝光部件190产生的紫外线的强度。紫外线的强度是指在单位时间期间照射在单位面积上的紫外线的总能量。换句话说，紫外线的强度是指影响传感器IS之一的紫外线的强度(辐照度)。
另外，传感器IS可以测量紫外线的偏振方向。因此，可以确定整个曝光区域上的紫外线的偏振方向的均匀度。
可以利用由传感器IS测量的紫外线的强度来确定第一级到第三级110、120、和130的移动速度。例如，可以设置第一到第三级的速度以获得作为紫外线的强度与每个基板的曝光时间的乘积的特定值。可以参考以下公式3和4。可以重复该过程来曝光多个基板。
<公式3>
紫外线的强度*每一基板的曝光时间＝恒定值
<公式4>
每一基板的曝光时间＝每一基板的曝光距离/级的移动速度。
因而，第一级110的第一测量部件122的传感器IS测量紫外线的强度，然后可以基于紫外线的强度来控制第一级110的移动速度。第二级120的第二测量部件122的传感器IS测量紫外线的强度，然后可以基于紫外线的强度来控制第二级120的移动速度。第三级130的第三测量部件132的传感器IS测量紫外线的强度，然后可以基于紫外线的强度控制第三级130的移动速度。
因此，当多个基板被曝光时，虽然可能由于暴露部件190的UV灯的老化而存在紫外线强度的减少，但是可以通过控制曝光的速度来将基板均匀地曝光。虽然图中未描述，但是可以通过额外地或者替换地控制曝光部件190的移动速度来将基板均匀地曝光。
曝光部件190可以被布置在框架102上。曝光部件190沿第三方向D3与框架102间隔开，第三方向D3与第一和第二方向D1和D2基本垂直。
曝光部件190包括产生紫外线的UV光源、和用于偏振紫外线的线栅偏振器。
根据本示范性实施例，第一到第三级中的每一个包括测量紫外线的强度的第一到第三级，以使得可以实时地应用各级的适当的移动速度。
图5是图示根据本发明构思的示范性实施例的曝光装置100的透视图。
参照图5，曝光装置100包括加载部分100a、工作部分100b、卸载部分100c和曝光部件190。
加载部分100a、工作部分100b、和卸载部分100c依序沿第一方向D1布置。可以将被配置为连续输送多个基板10的输送部件布置在加载部分100a、工作部分100b、和卸载部分100c上。
例如，输送部件包括第一输送部件140、第二输送部件150、和第三输送部件160。第一输送部件140、第二输送部件150、和第三输送部件160分别布置在加载部分100a、工作部分100b、和卸载部分100c上。如图中所示，基板10被加载到加载部分100a上，接着基板10可以由第三输送部件160沿第一方向D1输送。因此，基板10被布置在工作部分100b上并穿过曝光部件190下方到图5中第二输送部件150的位置，以使得基板10可以被曝光部件190曝光。此时，第二输送部件150沿第一方向D1移动到图5中第一输送部件140的位置，并且第一输送部件140可以沿与第一方向D1相反的方向移动到图5中第三输送部件160的位置。例如，第一输送部件140可以沿与第一方向D1相反的方向移动，避开曝光部件190下方的曝光区域，以被定位在加载位置处以加载基板。因此，第一到第三输送部件140、150、和160可以沿第一方向D1连续输送多个基板10。
基板10被加载到加载部分100a上。接着，基板10沿第一方向D1分别被第一、第二或第三输送部件140、150、或160输送到工作部分100b。当基板10被传递到工作部分100b时，基板10被曝光部件190的紫外线曝光。
第一到第三输送部件140、150和160中的每一个包括握持基板的抓手(gripper)(参见图6的154)。抓手可以固定基板10。例如，抓手可以通过抓取、或通过真空吸附来固定基板10。
基板10被加载到加载部分100a上(参见图5中的箭头IN)。第一输送部件140接着沿第一方向D1输送基板10。基板10借助第一输送部件140穿过曝光部件190下方。之后，基板10被输送到卸载部分100c并且从卸载部分100c卸载(参见图5中的箭头OUT)。第一输送部件140可以通过真空吸附来固定基板10。
基板10被加载到加载部分100a上(参见图5中的箭头IN)。基板10接着借助第二输送部件150穿过曝光部件190下方。之后，基板10被输送到卸载部分100c，并且从卸载部分100c卸载(参见图5中的箭头OUT)。第二输送部件150可以通过真空吸附来固定基板10。
第二输送部件150包括测量部件152。测量部件152沿与第一方向D1基本垂直的第二方向D2延伸。测量部件152可以包括多个传感器IS。传感器IS可以测量由曝光部件190产生的紫外线的特性。可以通过利用由传感器IS测量的紫外线的特性控制由曝光部件190产生的紫外线的强度和曝光时间来均匀地曝光基板10。
基板10被加载到加载部分100a上(参见图5中的箭头IN)。接着，基板10借助第三输送部件160穿过曝光部件190下方。之后，基板10被输送到卸载部分100c并从卸载部分100c卸载(参见图5中的箭头OUT)。第三输送部件160可以通过真空吸附来固定基板10。
在加载部分100a、工作部分100b、和卸载部分100c的表面上可以形成多个气孔AH。可以通过气孔AH来推动空气以在表面上形成正压。因此，可以利用气垫来输送基板10。
曝光部件190被布置在工作部分100b上。因而，曝光部件190沿第三方向D3与工作部分100b间隔开，第三方向D3与第一和第二方向D1和D2基本垂直。
曝光部件190包括产生紫外线的UV光源、和用于偏振紫外线的线栅偏振器。曝光部件190将紫外线照射到工作部分100b上的基板10上。因此，来自曝光部件190的紫外线可以硬化基板10上涂敷的光定向材料以在基板10上形成光定向层。
UV光源可以是沿第二方向D2延伸的UV灯。另外，UV光源可以是沿第二方向D2排列的多个UV灯，并且每个UV灯可以沿第二方向D2延伸。可以控制UV灯以产生具有不同强度的紫外线。
曝光部件190可以相对于与第一和第二方向D1和D2平行的平面、相对于工作部分100b倾斜。因此，光定向层的定向方向可以相对于基板10的边界和与第一和第二方向D1和D2平行的平面倾斜一预定角度。
图6是图示图5的第二输送部件的平面图。
参照图6，第二输送部件150包括测量部件152和抓手154。抓手154握持基板10以便通过第二输送部件150的移动来输送基板10。抓手154可以是抓取基板10的一对钳子。另外，抓手154可以具有产生用于真空吸附的负压的多个真空孔(未示出)。
通过在基板10上涂敷光定向材料在基板10上形成光定向层。基板10可以是用于制造液晶显示装置的多个显示面板的基板。显示面板可以包括包含液晶分子的液晶层。显示面板可以包括给液晶分子一预倾斜角度的定向层。定向层可以被来自紫外线的辐射硬化。
在曝光过程之后，可以将基板10分离为多个基板。例如，可以沿第二方向D2将基板10划分为三个部分(参见图2中的虚线)。可以沿方向D1进一步划分基板。
测量部件122沿第二方向D2延伸。因而，测量部件122沿第二方向D2与基板10的宽度相对应地形成。
测量部件122包括多个传感器IS。传感器IS可以测量由曝光部件(参见图5的190)产生的紫外线的特性。
传感器IS包括第一传感器IS1、第二传感器IS2、和第三传感器IS3。第一传感器IS1、第二传感器IS2、和第三传感器IS3沿第二方向D2布置。第一传感器IS1、第二传感器IS2、和第三传感器IS3与基板10的三个部分中的每一个(参见图5中的虚线)相对应地布置。因此，随着第二输送部件150沿第一方向D1移动，第一、第二和第三传感器IS1到IS3穿过曝光部件下方。接着，基板10穿过曝光部件190下方。
第一传感器IS1、第二传感器IS2、和第三传感器IS3中的每一个可以测量由曝光部件190产生的紫外线的强度。紫外线的强度是指在单位时间期间照射在单位面积上的紫外线的总能量。换句话说，紫外线的强度是指影响传感器IS之一的紫外线的强度(辐照度)。
另外，第一传感器IS1、第二传感器IS2、和第三传感器IS3中的每一个可以测量紫外线的偏振方向。因此，可以确定整个曝光区域上的紫外线的偏振方向的均匀度。
另外，当曝光部件190包括沿第二方向D2延伸的多个UV灯时，可以利用由第一到第三传感器IS1到IS3测量的紫外线的强度来调整从曝光部件190辐射的UV光的量。例如，沿第二方向D2排列的第一到第三传感器IS1到IS3可以测量UV光的量的分布，以使得UV光的分布沿着第二方向D2可以是均匀的，这可以通过控制来自UV灯的UV光的量来实现。
因此，当曝光部件190包括沿第二方向D2延伸的多个UV灯时，可以通过单独地控制UV灯的UV光强度来在基板10的整个表面上将基板10均匀地曝光。
图7是图示根据本发明构思的示范性实施例的第二输送部件的平面图。
参照图7，第二输送部件150包括测量部件152和抓手154。抓手154固定基板10以便通过移动第二输送部件150来输送基板10。
通过在基板10上涂敷光定向材料在基板10上形成光定向层。基板10可以是用于制造液晶显示装置的多个显示面板的基板。在曝光过程之后，可以将基板10分离为多个基板。
测量部件152沿第二方向D2延伸。因而，测量部件152沿第二方向D2与基板10的宽度相对应地形成。
测量部件122包括多个传感器IS以及能够沿第二方向D2移动传感器的导轨153。传感器可以测量由曝光部件产生的紫外线的特性。导轨153沿第二方向D2延伸。
传感器IS包括第一传感器IS1、第二传感器IS2、和第三传感器IS3。第一传感器IS1、第二传感器IS2、和第三传感器IS3可以沿第二方向D2在导轨153上移动。因此，可以通过与基板10沿第二方向D2划分的多个部分相对应的传感器IS来测量紫外线的特性。
第一传感器IS1、第二传感器IS2、和第三传感器IS3中的每一个可以测量由曝光部件190产生的紫外线的强度。紫外线的强度是指在单位时间期间照射在单位面积上的紫外线的总能量。换句话说，紫外线的强度是指影响传感器IS之一的紫外线的强度(辐照度)。
另外，第一传感器IS1、第二传感器IS2、和第三传感器IS3中的每一个可以测量紫外线的偏振方向。因此，可以确定整个曝光区域上的紫外线的偏振方向的均匀度。
另外，当曝光部件190包括沿第二方向D2延伸的多个UV灯时，可以利用由第一到第三传感器IS1到IS3测量的紫外线的强度来调整来自曝光部件190的UV光的量。例如，沿第二方向D2排列的第一到第三传感器IS1到IS3可以测量UV光的量的分布，以使得UV光的量的分布沿着第二方向D2可以是均匀的，这可以通过控制来自UV灯的UV光的量来实现。
因此，当曝光部件190包括沿第二方向D2延伸的多个UV灯时，可以通过单独地控制UV灯的UV光强度来在基板10的整个表面上将基板10均匀地用UV线曝光。
图8是图示根据本发明构思的示范性实施例的曝光装置的透视图。
参照图8，曝光装置100包括加载部分100a、工作部分100b、卸载部分100c和曝光部件190。
加载部分100a、工作部分100b、和卸载部分100c依序沿第一方向D1布置。可以将被配置为连续输送多个基板10的输送部件布置在加载部分100a、工作部分100b、和卸载部分100c上。例如，输送部件包括第一输送部件140、第二输送部件150、和第三输送部件160。
第一到第三输送部件140、150、和160中的每一个包括握持基板的抓手(参见图6的154)。抓手可以固定基板10。例如，抓手可以通过抓取或者通过真空吸附来固定基板10。
基板10被加载到加载部分100a上(参见图8中的箭头IN)。第一输送部件140接着沿第一方向D1输送基板10。基板10借助第一输送部件140穿过曝光部件190下方。之后，基板10被输送到卸载部分100c并且从卸载部分100c卸载(参见图8中的箭头OUT)。第一输送部件140可以通过真空吸附来固定基板10。
第一输送部件140包括第一测量部件142。第一测量部件142沿与第一方向D1基本垂直的第二方向D2延伸。第一测量部件142可以包括多个传感器IS。传感器IS可以测量由曝光部件190产生的紫外线的特性。可以通过利用由传感器IS测量的紫外线的特性控制由曝光部件190产生的紫外线的强度和曝光时间来均匀地曝光基板10。
基板10被加载到加载部分100a上(参见图8中的箭头IN)。基板10借助第二输送部件150穿过曝光部件190下方。之后，基板10被输送到卸载部分100c，并且从卸载部分100c卸载(参见图8中的箭头OUT)。第二输送部件150可以通过真空吸附来固定基板10。
第二输送部件150包括第二测量部件152。第二测量部件152沿与第一方向D1基本垂直的第二方向D2延伸。第二测量部件152可以包括多个传感器IS。传感器IS可以测量由曝光部件190产生的紫外线的特性。可以通过利用由传感器IS测量的紫外线的特性控制由曝光部件190产生的紫外线的强度和曝光时间来均匀地曝光基板10。
基板10被加载到加载部分100a上(参见图8中的箭头IN)。基板10接着借助第三输送部件160穿过曝光部件190下方。之后，基板10被输送到卸载部分100c并从卸载部分100c卸载(参见图8中的箭头OUT)。第三输送部件160可以通过真空吸附来固定基板10。
第三输送部件160包括第三测量部件162。第三测量部件162沿与第一方向D1基本垂直的第二方向D2延伸。第三测量部件162包括多个传感器IS。传感器IS可以测量由曝光部件190产生的紫外线的特性。可以通过利用由传感器IS测量的紫外线的特性控制由曝光部件190产生的紫外线的强度和曝光时间来均匀地曝光基板10。
图9是图示根据本发明构思的示范性实施例的曝光方法的流程图。
参照图9，曝光方法包括测量并计算(S100)、曝光基板(S200)、测量并计算(S300)、以及曝光基板(S400)。
在第一测量并计算步骤(S100)，可以利用传感器(参见图1的IS)来测量从曝光部件(参见图1的190)产生的紫外线的特性。可以利用所测量的特性来计算适当的曝光的速度和量。因此，可以利用所测量的紫外线的特性来控制曝光的速度和量。
在曝光基板步骤(S200)，基板(参见图1的10)被输送且被来自曝光部件190的紫外线曝光。此时，可以在第一测量并计算步骤(S100)计算被曝光到基板上的紫外线的强度和曝光时间。
在第二测量并计算步骤(S300)，可以利用传感器IS来测量从曝光部件190产生的紫外线的特性。紫外线的特性可以一直改变，使得在第二测量并计算步骤(S300)测量的特性可以不同于第一测量并计算步骤(S100)中的特性。可以利用来自第二测量并计算步骤(S300)的测量的特性来计算新的适当的强度和曝光时间。因此，可以利用所测量的紫外线的特性来控制强度和曝光时间。
在曝光基板步骤(S400)，被输送的基板被来自曝光部件190的紫外线曝光。此时，可以利用在第二测量并计算步骤(S300)计算的强度和曝光时间来曝光基板。
因此，当多个基板被曝光时，虽然可能由于曝光部件的UV灯的老化而存在紫外线强度的减少，但是可以通过控制曝光的速度来将基板均匀地曝光。
图10A到10D是图示图9中所示的曝光方法的每个步骤的流程图。
参照图9和图10A到10D，可以通过使用图1(或图5)的曝光装置来执行曝光方法。
第一测量并计算步骤(S100)包括测量紫外线的照度(S110)以及计算第二移动速度(S120)。
在测量紫外线的照度(S110)时，可以利用传感器(参见图1的IS)来测量从曝光部件(参见图1的190)产生的紫外线的强度。在计算第二移动速度(S120)时，计算作为第二基板的曝光速度的第二移动速度。例如，可以使用以下的公式1和2。
<公式1>
紫外线的强度*每一基板的曝光时间＝恒定值
<公式2>
每一基板的曝光时间＝第二基板的曝光距离/第二基板的移动速度。
因此，可以计算第二移动速度(第二基板的移动速度)。
曝光基板步骤(S200)包括以第一移动速度曝光第一基板(S210)、以第二移动速度曝光第二基板(S220)、以及以第三移动速度曝光第三基板(S230)。
在以第一移动速度曝光第一基板(S210)时，以第一移动速度移动和曝光第一基板。
在以第二移动速度曝光第二基板(S220)时，以第二移动速度移动和曝光第二基板，第二移动速度是在计算第二移动速度(S120)时计算的。
在以第三移动速度曝光第三基板(S230)时，以第三移动速度移动和曝光第三基板。第三移动速度可以与第二移动速度基本相同。
第二测量并计算步骤(S300)包括测量紫外线的照度(S310)以及计算第五移动速度(S320)。在测量紫外线的照度(S310)时，可以利用传感器来测量从曝光部件190产生的紫外线的强度。在计算第五移动速度(S320)时，计算作为第五基板的曝光速度的第五移动速度。例如，可以参考以下的公式1和2。
<公式1>
紫外线的强度*每一基板的曝光时间＝恒定值
<公式2>
每一基板的曝光时间＝第五基板的曝光距离/第五基板的移动速度。
因此，可以计算第五移动速度(第五基板的移动速度)。
曝光基板步骤(S400)包括以第四移动速度曝光第四基板(S410)、以第五移动速度曝光第五基板(S420)、以及以第六移动速度曝光第六基板(S430)。
在以第四移动速度曝光第四基板(S410)时，以第四移动速度移动和曝光第四基板。第四移动速度可以与第二移动速度基本相同。
在以第五移动速度曝光第五基板(S420)时，以第五移动速度移动和曝光第五基板，第五移动速度是在计算第五移动速度(S320)时计算的。
在以第六移动速度曝光第六基板(S430)时，以第六移动速度移动和曝光第六基板。第六移动速度可以与第五移动速度基本相同。
可以重复以上过程以曝光多个基板。因此，当多个基板被曝光时，虽然可能由于曝光部件的UV灯的老化而存在紫外线强度的减少，但是可以通过控制基板的移动速度来将基板均匀地曝光。
图11A到11D是图示根据本发明构思的示范性实施例的曝光方法的每个步骤的流程图细节。
参照图9和图11A到11D，可以通过使用图4(或者图8)的曝光装置来执行曝光方法。
第一测量并计算步骤(S100)包括测量紫外线的照度(S110)以及计算第一移动速度(S120)。
在测量紫外线的照度(S110)时，可以利用传感器IS来测量从曝光部件190产生的紫外线的强度。在计算第一移动速度(S120)时，计算作为第一基板的曝光速度的第一移动速度。例如，可以参考以下的公式1和2。
<公式1>
紫外线的强度*每一基板的曝光时间＝恒定值
<公式2>
每一基板的曝光时间＝第一基板的曝光距离/第一基板的移动速度。
因此，可以计算第一移动速度(第一基板的移动速度)。
曝光基板步骤(S200)包括以第一移动速度曝光第一基板(S210)。在以第一移动速度曝光第一基板(S210)时，以第一移动速度移动和曝光第一基板，第一移动速度是在计算第一移动速度(S120)时计算的。
第二测量并计算步骤(S300)包括测量紫外线的照度(S310)以及计算第二移动速度(S320)。在测量紫外线的照度(S310)时，可以利用传感器IS来测量从曝光部件190产生的紫外线的强度。在计算第二移动速度(S320)时，计算作为第二基板的曝光速度的第二移动速度。例如，可以参考以下的公式1和2。
<公式1>
紫外线的强度*每一基板的曝光时间＝恒定值
<公式2>
每一基板的曝光时间＝第二基板的曝光距离/第二基板的移动速度。
因此，可以计算第二移动速度(第二基板的移动速度)。
曝光基板步骤(S400)包括以第二移动速度曝光第二基板(S410)。在以第二移动速度曝光第二基板(S420)时，以第二移动速度移动和曝光第二基板，第二移动速度是在计算第二移动速度(S320)时计算的。
可以重复以上过程以曝光多个基板。因此，当多个基板被曝光时，虽然可能由于曝光部件的UV灯的老化而存在紫外线强度的减少，但是可以通过控制基板的移动速度来将基板均匀地曝光。
图12是图示根据本发明构思的示范性实施例的曝光方法的流程图。
参照图12，一种曝光方法包括：加载第一基板(S510)，测量照度并计算第二移动速度(S520)，以第一移动速度曝光第一基板并加载第二基板(S530)，以第二移动速度曝光第二基板并加载第三基板(S540)，以第三移动速度曝光第三基板并加载第四基板(S550)，测量照度并计算第五移动速度(S560)，以第四移动速度曝光第四基板并加载第五基板(S570)，以第五移动速度曝光第五基板并加载第六基板(S580)，以及以第六移动速度曝光第六基板并加载第七基板(S590)。
第一基板在加载第一基板(S510)时被加载。
在测量照度并计算第二移动速度(S520)时，可以利用测量紫外线的强度的传感器IS来测量由曝光部件190产生的紫外线的强度。可以基于紫外线的强度来计算第二移动速度。
在以第一移动速度曝光第一基板并加载第二基板(S530)时，以要曝光的第一移动速度输送第一基板，并且同时加载第二基板。
在以第二移动速度曝光第二基板并加载第三基板(S540)时，以第二移动速度输送第二基板，并且同时加载第三基板。
在以第三移动速度曝光第三基板并加载第四基板(S550)时，以第三移动速度输送第三基板，并且同时加载第四基板。第三移动速度可以与第二移动速度基本相同。
在测量照度并计算第五移动速度(S560)时，可以利用传感器IS再次测量从曝光部件190产生的紫外线的强度。可以基于紫外线的强度来计算第五移动速度。
在以第四移动速度曝光第四基板并加载第五基板(S570)时，以第四移动速度输送第四基板，并且同时加载第五基板。第四移动速度可以与第三移动速度基本相同。
在以第五移动速度曝光第五基板并加载第六基板(S580)时，以第五移动速度输送第五基板，并且同时加载第六基板。
在以第六移动速度曝光第六基板并加载第七基板(S590)时，以第六移动速度输送第六基板，并且同时加载第七基板。第六移动速度可以与第五移动速度基本相同。
可以重复以上过程以曝光多个基板。因此，当多个基板被曝光时，虽然紫外线的量可能由于曝光部件190的UV灯的老化而减少，但是可以通过控制基板的移动速度来将基板均匀地曝光。
图13是图示根据本发明构思的示范性实施例的曝光方法的流程图。
参照图13，一种曝光方法包括：加载第一基板(S610)，测量照度并计算第一移动速度(S620)，以第一移动速度曝光第一基板并加载第二基板(S630)，测量照度并计算第二移动速度(S640)，以第二移动速度曝光第二基板并加载第三基板(S650)，测量照度并计算第三移动速度(S660)，以及以第三移动速度曝光第三基板并加载第四基板(S670)。
第一基板在加载第一基板(S610)时被加载。
在测量照度并计算第一移动速度(S620)时，可以利用测量紫外线的强度的传感器IS来测量由曝光部件190产生的紫外线的强度。可以基于紫外线的强度来计算第一移动速度。
在以第一移动速度曝光第一基板并加载第二基板(S630)时，以要曝光的第一移动速度输送第一基板，并且同时加载第二基板。
在测量照度并计算第二移动速度(S640)时，可以再次测量由曝光部件190产生的紫外线的强度。可以基于紫外线的强度来计算第二移动速度。
在以第二移动速度曝光第二基板并加载第三基板(S650)时，以要曝光的第二移动速度输送第二基板，并且同时加载第三基板。
在测量照度并计算第三移动速度(S660)时，可以再次测量从曝光部件190产生的紫外线的强度。可以基于紫外线的强度来计算第三移动速度。
在以第三移动速度曝光第三基板并加载第四基板(S670)时，以要曝光的第三移动速度输送第三基板，并且同时加载第四基板。
可以重复以上过程以曝光多个基板。因此，当多个基板被曝光时，虽然紫外线可能由于曝光部件190的UV灯的老化而减少，但是可以通过控制基板的移动速度来将基板均匀地曝光。
根据本发明构思，曝光装置包括用于测量紫外线的强度的传感器和用于输送多个基板的级，以使得可以通过依据紫外线的强度变化连续调整基板的移动速度来获得对多个基板的均匀曝光。
另外，第一到第三级分别包括第一到第三测量部件，以使得可以依据紫外线的强度变化实时地应用各级的适当的移动速度。
该曝光方法重复测量紫外线的强度和计算曝光速度的步骤。当多个基板被曝光时，虽然可能由于曝光部件的UV灯的老化而存在紫外线强度的减少，但是可以通过连续地调整曝光的速度来将基板均匀地曝光。
前述是对本发明构思的示例说明，不应当被解读为其限制。虽然已经描述了本发明的几个示范性实施例，但本领域技术人员将容易领会到，可以在示范性实施例中作出许多修改，而不会实质偏离本发明构思的新颖性教导和优点。因此，意图将所有这样的修改都包括在权利要求中限定的本发明构思的范围之内。在权利要求中，装置+功能的条款意图包括这里描述为执行所叙述的功能的结构，并且其不仅包括结构等效物，而且包括等效结构。因此，将会理解，前述是对本发明构思的示例说明，并不应当被解读为限于所公开的特定示范性实施例，并且意图将对所公开的示范性实施例的修改以及其它示范性实施例都包括在权利要求的范围之内。本发明构思由权利要求限定，权利要求的等效物也将包括在内。

Claims (20)

1.一种曝光装置，包括：
基板输送单元，被配置为沿第一方向输送基板，并且包括第一测量部件；以及
曝光部件，被布置在该基板输送单元上方，并且被配置为以紫外线照射所述基板，
其中，第一测量部件被配置为在所述基板被照射之前测量紫外线的强度。
2.如权利要求1所述的曝光装置，其中：
该基板输送单元进一步包括第一级和第二级，第一级和第二级的每一个被配置为沿第一方向输送所述基板。
3.如权利要求2所述的曝光装置，其中，第二级包括第一测量部件，第一测量部件在与第一方向垂直的第二方向上沿着第二级的边缘延伸。
4.如权利要求3所述的曝光装置，其中，第一测量部件包括在第二方向上彼此间隔开的传感器。
5.如权利要求4所述的曝光装置，其中，所述传感器测量紫外线的偏振方向。
6.如权利要求1所述的曝光装置，其中：
该基板输送单元进一步包括第一抓手和第二抓手，被配置为沿第一方向输送基板，
第一抓手包括第一测量部件，第一测量部件沿与第一方向垂直的第二方向延伸。
7.如权利要求6所述的曝光装置，其中，第一测量部件包括：
导轨，沿第二方向延伸；以及
传感器，被布置在导轨上，并且在第二方向上彼此间隔开，
其中，所述传感器被配置为沿第二方向在导轨上移动。
8.如权利要求6所述的曝光装置，其中：
第二抓手包括沿第二方向延伸的第二测量部件，并且
第二测量部件包括被配置为测量紫外线的强度的传感器。
9.如权利要求6所述的曝光装置，其中，第一和第二抓手被配置为通过真空吸附来固定所述基板。
10.如权利要求5所述的曝光装置，其中，第一曝光部件被配置为基于紫外线的偏振方向而倾斜。
11.一种使用包括曝光部件的曝光装置的曝光方法，该方法包括：
通过以第一输送速度将第一基板移动经过曝光部件来将第一基板曝光于紫外线；
测量紫外线的第一强度，并且根据第一强度和设置的总曝光量来计算第二输送速度；以及
通过以第二输送速度将第二基板移动经过曝光部件来将第二基板曝光于紫外线。
12.如权利要求11所述的曝光方法，其中：
所述测量第一强度包括测量从曝光部件产生的紫外线的强度，其中
紫外线的强度是在单位时间期间照射在单位面积上的紫外线的总能量，并且
紫外线的强度*每一基板的曝光时间＝设置的总曝光量，并且
每一基板的曝光时间＝第二基板的曝光距离/第二基板的输送速度。
13.如权利要求12所述的曝光方法，进一步包括：
通过以第三输送速度将第三基板移动经过曝光部件来曝光第三基板。
14.如权利要求13所述的曝光方法，其中，第三输送速度与第二输送速度相同。
15.如权利要求14所述的曝光方法，进一步包括：
通过以第四输送速度将第四基板移动经过曝光部件来曝光第四基板；以及
通过以第五输送速度将第五基板移动经过曝光部件来曝光第五基板。
16.如权利要求15所述的曝光方法，进一步包括：
测量紫外线的第二强度，并且根据第二强度和设置的总曝光量来计算第五输送速度，其中
紫外线的强度*每一基板的曝光时间＝设置的总曝光量，并且
每一基板的曝光时间＝第五基板的曝光距离/第五基板的输送速度。
17.如权利要求14所述的曝光方法，其中，第四移动速度与第二移动速度相同。
18.如权利要求11所述的曝光方法，其中：
输送多个基板，并且
设置每个基板的输送速度以使得每个基板接收与设置的总曝光量相同的总曝光量。
19.如权利要求11所述的曝光方法，其中，在第一基板被曝光的同时将第二基板加载到该曝光装置中。
20.如权利要求19所述的曝光方法，其中：
该曝光方法曝光多个基板，并且为所述多个基板中的每个基板计算曝光速度，并且
以与每个基板相对应的曝光速度输送所述多个基板中的每个基板。
CN201510062073.8A 2014-02-13 2015-02-05 曝光装置和使用该曝光装置的曝光方法 Pending CN104849965A (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020140016550A KR102240655B1 (ko) 2014-02-13 2014-02-13 노광 장치 및 이를 이용한 노광 방법
KR10-2014-0016550 2014-02-13

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN104849965A true CN104849965A (zh) 2015-08-19

Family

ID=53774847

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510062073.8A Pending CN104849965A (zh) 2014-02-13 2015-02-05 曝光装置和使用该曝光装置的曝光方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US9791783B2 (zh)
KR (1) KR102240655B1 (zh)
CN (1) CN104849965A (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106997125A (zh) * 2015-10-08 2017-08-01 优志旺电机株式会社 光照射装置以及光照射方法
CN107102480A (zh) * 2015-10-08 2017-08-29 优志旺电机株式会社 光照射装置
CN107219687A (zh) * 2017-07-28 2017-09-29 京东方科技集团股份有限公司 一种光配向基台、光配向设备及其控制方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018060001A (ja) * 2016-10-04 2018-04-12 東京エレクトロン株式会社 補助露光装置及び露光量分布取得方法
US11099436B2 (en) * 2017-11-22 2021-08-24 Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. Method and apparatus for manufacturing an alignment film
KR102537834B1 (ko) * 2018-05-21 2023-05-30 삼성전자주식회사 자외선-led 램프 장치 및 그의 튜닝 방법

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1578596A (zh) * 2003-07-03 2005-02-09 富士胶片株式会社 图像形成装置
CN1841207A (zh) * 2005-03-03 2006-10-04 Asml荷兰有限公司 用于光刻应用的专用测量台
CN101454724A (zh) * 2006-08-24 2009-06-10 卡尔·蔡司Smt股份公司 具有用来获取光强度的探测器的照明系统
US20100002212A1 (en) * 2008-07-03 2010-01-07 Canon Kabushiki Kaisha Scanning exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
CN102314093A (zh) * 2010-06-30 2012-01-11 东京毅力科创株式会社 局部曝光装置和局部曝光方法
CN102822749A (zh) * 2010-02-09 2012-12-12 Asml荷兰有限公司 光刻设备和器件制造方法
WO2013157113A1 (ja) * 2012-04-19 2013-10-24 信越エンジニアリング株式会社 光配向照射装置
US20140147577A1 (en) * 2012-11-29 2014-05-29 Seong Ryong Lee Apparatus and method for ablating substrate and method of fabricating display apparatus

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4004900A1 (de) 1990-02-16 1991-08-22 Merck Patent Gmbh Nitratreduktase aus hefen, ihre herstellung und verwendung
JPH04103376A (ja) 1990-08-24 1992-04-06 Nec Corp プリンタ装置
JP3360760B2 (ja) * 1993-12-08 2002-12-24 株式会社ニコン 露光量むらの計測方法、並びに露光方法及び露光装置
DE69725733T2 (de) 1996-03-05 2004-07-29 Nissan Chemical Industries, Ltd. Verfahren zum ausrichten von flussigkristallen
AU4823797A (en) * 1996-10-15 1998-05-22 Megapanel Corporation Method and apparatus for transfer of a reticle pattern onto a substrate by scanning
JP4103376B2 (ja) 2001-11-16 2008-06-18 ノーリツ鋼機株式会社 画像露光装置
US7718234B2 (en) 2002-12-09 2010-05-18 Hitachi Displays, Ltd. Liquid crystal display and method for manufacturing same
KR101682884B1 (ko) * 2003-12-03 2016-12-06 가부시키가이샤 니콘 노광 장치, 노광 방법 및 디바이스 제조 방법, 그리고 광학 부품
JP2005345378A (ja) 2004-06-04 2005-12-15 Nippon Sheet Glass Co Ltd 光検出装置
US7459247B2 (en) * 2004-12-27 2008-12-02 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
KR20090015316A (ko) * 2007-08-08 2009-02-12 엘지전자 주식회사 필름기판 이송기구, 이를 구비한 노광장치, 그리고필름기판 이송 및 노광방법, 플렉서블 기판의 제조방법
NL1035950A1 (nl) 2007-09-28 2009-03-31 Asml Netherlands Bv Radiometric Kirk test.
JP2011069994A (ja) * 2009-09-25 2011-04-07 Toppan Printing Co Ltd 偏光露光装置
JP5470236B2 (ja) * 2010-12-22 2014-04-16 東京エレクトロン株式会社 局所露光方法及び局所露光装置
JP5721858B2 (ja) * 2010-12-23 2015-05-20 ユーリタ アクチエンゲゼルシャフトＥｕｌｉｔｈａ Ａｇ 大きな面積にわたってナノ構造を製造するためのシステムおよび方法
JP5325907B2 (ja) * 2011-02-22 2013-10-23 東京エレクトロン株式会社 局所露光装置
JP5732971B2 (ja) 2011-03-31 2015-06-10 東芝ライテック株式会社 紫外線照射装置
JP2013054144A (ja) 2011-09-02 2013-03-21 Nikon Corp 位置合わせ方法、露光方法、デバイス製造方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法
US9001305B2 (en) * 2011-10-11 2015-04-07 Wenhui Mei Ultra-large size flat panel display maskless photolithography system and method
CN103246170B (zh) * 2012-02-09 2015-07-08 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 曝光装置及曝光方法
JP2013178445A (ja) 2012-02-29 2013-09-09 Hitachi High-Technologies Corp 露光装置、露光方法、及び表示用パネル基板の製造方法
JP6037099B2 (ja) * 2012-02-29 2016-11-30 株式会社ブイ・テクノロジー 偏光露光装置
BR112014029923A2 (pt) * 2012-05-30 2017-06-27 Rolic Ag geração rápida de elementos com anisotropia individualmente padronizada
KR102044788B1 (ko) * 2012-10-30 2019-11-18 삼성디스플레이 주식회사 글라스 기판 검사 장치
JP2014220265A (ja) * 2013-04-30 2014-11-20 キヤノン株式会社 ステージ装置、リソグラフィ装置、および物品の製造方法
KR20150146095A (ko) * 2014-06-20 2015-12-31 삼성전자주식회사 기판 반송 장치 및 그 동작 방법

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1578596A (zh) * 2003-07-03 2005-02-09 富士胶片株式会社 图像形成装置
CN1841207A (zh) * 2005-03-03 2006-10-04 Asml荷兰有限公司 用于光刻应用的专用测量台
CN101454724A (zh) * 2006-08-24 2009-06-10 卡尔·蔡司Smt股份公司 具有用来获取光强度的探测器的照明系统
US20100002212A1 (en) * 2008-07-03 2010-01-07 Canon Kabushiki Kaisha Scanning exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
CN102822749A (zh) * 2010-02-09 2012-12-12 Asml荷兰有限公司 光刻设备和器件制造方法
CN102314093A (zh) * 2010-06-30 2012-01-11 东京毅力科创株式会社 局部曝光装置和局部曝光方法
WO2013157113A1 (ja) * 2012-04-19 2013-10-24 信越エンジニアリング株式会社 光配向照射装置
US20140147577A1 (en) * 2012-11-29 2014-05-29 Seong Ryong Lee Apparatus and method for ablating substrate and method of fabricating display apparatus

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106997125A (zh) * 2015-10-08 2017-08-01 优志旺电机株式会社 光照射装置以及光照射方法
CN107102480A (zh) * 2015-10-08 2017-08-29 优志旺电机株式会社 光照射装置
CN107102480B (zh) * 2015-10-08 2021-05-04 优志旺电机株式会社 光照射装置
CN106997125B (zh) * 2015-10-08 2021-09-03 优志旺电机株式会社 光照射装置以及光照射方法
CN107219687A (zh) * 2017-07-28 2017-09-29 京东方科技集团股份有限公司 一种光配向基台、光配向设备及其控制方法
US10509266B2 (en) 2017-07-28 2019-12-17 Boe Technology Group Co., Ltd. Photo alignment bench, photoalignment device and control method thereof
CN107219687B (zh) * 2017-07-28 2020-08-25 京东方科技集团股份有限公司 一种光配向基台、光配向设备及其控制方法

Also Published As

Publication number Publication date
US9791783B2 (en) 2017-10-17
KR20150096536A (ko) 2015-08-25
KR102240655B1 (ko) 2021-04-16
US20150227056A1 (en) 2015-08-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104849965A (zh) 曝光装置和使用该曝光装置的曝光方法
CN103309170B (zh) 辅助曝光装置
KR102222005B1 (ko) 노광 장치 및 이를 이용한 노광 방법
US10197911B2 (en) Imprint apparatus and method of manufacturing article
CN107561784B (zh) 一种光配向控制方法及光配向设备
CN104858106A (zh) 涂布系统和涂布方法
CN107702793A (zh) 一种光斑光分布的测试系统和测试方法
TW201024724A (en) Array test apparatus, and method of measuring position of point of substrate thereof and method of measuring coordinates of point photographed by camera assembly
CN104051313A (zh) 基底剥离装置、剥离基底的方法及制造显示装置的方法
CN103257483A (zh) 液晶显示设备的制作方法
CN107330941A (zh) 大视场相机近场标校的精密靶标系统及方法
SG183630A1 (en) Local site exposure apparatus
CN105222994B (zh) 一种分布式光度计
KR101671450B1 (ko) 카메라 모듈 조립 장치 및 이를 이용한 조립방법
CN103913875B (zh) 液晶显示装置的自动粘合系统以及自动粘合方法
CN107883866A (zh) 一种光学测量装置和方法
CN105300524A (zh) 偏振轴检测器、偏振测定装置及方法、偏振光照射装置
CN110864649B (zh) 一种确定补偿值以及确定光学模组平面度的方法
CN206192295U (zh) 垂直度、平行度激光校准结构
CN207067661U (zh) 一种全自动3d曲面玻璃爆光机
TW201027094A (en) Array test apparatus and method of measuring position of point on substrate thereof
CN104516210B (zh) 用于光刻机镜头的远心测量方法
CN104361830B (zh) 显示装置
BR102013010062A2 (pt) Método e dispositivo para a prevenção de fugas de luz em placas guia de luz e dispositivo visor com placa guia de luz pintada com material refletor
TWM365473U (en) Optics characteristic measurement system for light-emitting diodes (LED)

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20150819