CN104858106A - 涂布系统和涂布方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种涂布系统和涂布方法。该涂布系统包括：涂布设备、检测装置和调节装置；所述涂布设备，用于以设定速度将涂布材料涂布于基板上；所述检测装置，用于在所述涂布设备涂布时检测所述涂布材料的测量点的膜厚，并将检测出的膜厚发送给所述调节装置；所述调节装置，用于根据所述膜厚生成设定速度，并将所述设定速度发送给所述涂布设备。本发明提供的涂布系统和涂布方法中，检测装置在涂布设备涂布时检测涂布材料的测量点的膜厚，调节装置根据膜厚生成设定速度，涂布设备根据设定速度将涂布材料涂布于基板上，从而实现了实时调整膜厚。

Description

涂布系统和涂布方法
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种涂布系统和涂布方法。
背景技术
目前，在显示装置(例如：TFT-LCD和AMOLED)制造工艺中，尤其是彩膜基板制造工艺中，涂布工艺是最重要的一段工艺制程。涂布工艺的作用是将涂布材料极度均匀的涂覆在基板表面以在基板表面形成薄膜。由于薄膜的膜厚会影响产品的质量，因此显示装置的制造工艺对薄膜的厚度要求特别高。在涂布工艺中，涂布的均匀性决定了涂布工艺的优劣，而涂布的均匀性又会影响薄膜的膜厚。
现有技术中存在多种控制膜厚的方法，但是现有技术中还没有一种方案能够实现实时调整膜厚。
发明内容
本发明提供一种涂布系统和涂布方法，用于实现实时调整膜厚。
为实现上述目的，本发明提供了一种涂布系统，包括：涂布设备、检测装置和调节装置；
所述涂布设备，用于以设定速度将涂布材料涂布于基板上；
所述检测装置，用于在所述涂布设备涂布时检测所述涂布材料的测量点的膜厚，并将检测出的膜厚发送给所述调节装置；
所述调节装置，用于根据所述膜厚生成设定速度，并将所述设定速度发送给所述涂布设备。
可选地，所述检测装置包括光源、发射端、接收端和信号处理模块，所述发射端和所述接收端分别位于基板的两侧且相对设置；
所述光源，用于向所述发射端提供照射光；
所述发射端，用于向所述基板发射所述照射光以使所述照射光透过所述基板和所述涂布材料；
所述接收端，用于接收透过所述基板和所述涂布材料的照射光，并将照射光发送至所述信号处理模块；
所述信号处理模块，用于根据接收到的照射光生成所述膜厚。
可选地，所述信号处理模块包括光谱仪和第一计算模块；
所述光谱仪，用于将接收到的照射光转换成光谱线；
所述第一计算模块，用于对所述光谱线计算处理，生成所述膜厚。
可选地，所述涂布设备包括平台、泵浦和喷嘴，所述喷嘴位于所述基板的上方，所述平台中设置有镂空结构，所述发射端位于所述镂空结构中；
所述平台，用于承载所述基板；
所述泵浦，用于以所述设定速度驱动所述喷嘴；
所述喷嘴，用于将涂布材料涂布于基板上。
可选地，所述平台中位于发射端和基板之间的部分结构的材料为透明材料。
可选地，所述涂布设备还包括：设置于所述基板上方的移动装置，所述接收端和所述喷嘴位于所述移动装置上，且所述发射端和所述接收端位于所述喷嘴的后方；
所述移动装置在所述基板上方移动，以使所述接收端与所述喷嘴同步移动；
所述发射端在所述基板下方以与所述接收端相同的移动，以使所述发射端和所述接收端与所述喷嘴同步移动。
可选地，所述调节装置包括：判断模块和第二计算模块；
所述判断模块，用于判断|(T1-T2)/T1|是否小于或者等于设定差值；
所述第二计算模块，用于若所述判断模块判断出|(T1-T2)/T1|大于设定差值时，根据公式[1+(T1-T2)/T1]V计算出设定速度，并将设定速度发送至所述涂布设备；
其中，T1为标准膜厚，T2为检测出的膜厚，V为原始速度。
为实现上述目的，本发明提供了一种涂布方法，包括：
检测装置在涂布设备将涂布材料涂布于基板上时检测所述涂布材料的测量点的膜厚，并将检测出的膜厚发送给所述调节装置；
调节装置根据所述膜厚生成设定速度，并将所述设定速度发送给所述涂布设备；
所述涂布设备以设定速度将涂布材料涂布于基板上。
可选地，所述检测装置包括光源、发射端、接收端和信号处理模块，所述发射端和所述接收端分别位于基板的两侧且相对设置；
所述光源向所述发射端提供照射光；
所述发射端向所述基板发射所述照射光以使所述照射光透过所述基板和所述涂布材料；
所述接收端接收透过所述基板和所述涂布材料的照射光，并将照射光发送至所述信号处理模块；
所述信号处理模块根据接收到的照射光生成所述膜厚。
可选地，所述调节装置包括：判断模块和第二计算模块；
所述判断模块判断|(T1-T2)/T1|是否小于或者等于设定差值；
若所述判断模块判断出|(T1-T2)/T1|大于设定差值时，所述第二计算模块根据公式[1+(T1-T2)/T1]V计算出设定速度，并将设定速度发送至所述涂布设备；
其中，T1为标准膜厚，T2为检测出的膜厚，V为原始速度。
本发明具有以下有益效果：
本发明提供的涂布系统和涂布方法中，检测装置在涂布设备涂布时检测涂布材料的测量点的膜厚，调节装置根据膜厚生成设定速度，涂布设备根据设定速度将涂布材料涂布于基板上，从而实现了实时调整膜厚。
附图说明
图1为本发明实施例一提供的一种涂布系统的结构示意图；
图2为图1中涂布系统的平面示意图；
图3为本发明实施例二提供的一种涂布方法的流程图。
具体实施方式
为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图对本发明提供的涂布系统和涂布方法进行详细描述。
图1为本发明实施例一提供的一种涂布系统的结构示意图，图2为图1中涂布系统的平面示意图，如图1和图2所示，该涂布系统包括：涂布设备1、检测装置2和调节装置3。涂布设备1用于以设定速度将涂布材料4涂布于基板5上；检测装置2用于在涂布设备1涂布时检测涂布材料的测量点的膜厚，并将检测出的膜厚发送给调节装置3；调节装置3用于根据膜厚生成设定速度，并将设定速度发送给涂布设备1。
检测装置2在涂布过程中实时检测出某一测量点的膜厚，其中，该某一测量点的位置可以预先设置。调节装置3根据检测出的该测量点的膜厚计算出设定速度，并将该设定速度发送给涂布设备1以供涂布设备1根据该设定速度进行涂布工艺，从而实现对后续涂布材料膜厚的控制。进而，检测装置2可继续进行下一个测量点的膜厚的检测，实现在一次涂布工艺中对膜厚的实时且持续的调整。每个测量点之间的距离可根据生产需要进行设置。
检测装置2包括光源21、发射端22、接收端23和信号处理模块24，发射端22和接收端23分别位于基板的两侧且相对设置。光源21用于向发射端22提供照射光；发射端22用于向基板5发射照射光以使照射光透过基板5和涂布材料4；接收端23用于接收透过基板5和涂布材料4的照射光，并将照射光发送至信号处理模块24；信号处理模块24用于根据接收到的照射光生成膜厚。其中，光源21可通过光纤与发射端22连接。
具体地，信号处理模块24包括光谱仪241和第一计算模块242。光谱仪241用于将接收到的照射光转换成光谱线；第一计算模块242用于对光谱线计算处理，生成膜厚。具体地，可采用现有技术中的计算方法计算出膜厚，此处不再具体描述。其中，光谱仪241可通过光纤与接收端23连接。
具体地，涂布设备1包括平台11、泵浦12和喷嘴13，喷嘴13位于基板5的上方，平台11中设置有镂空结构111，发射端22位于镂空结构111中。平台11用于承载基板5；泵浦12用于以设定速度驱动喷嘴13；喷嘴13用于将涂布材料涂布于基板5上。发射端22位于镂空结构111可有效节省空间。优选地，镂空结构111中设置有导轨，发射端22设置于导轨上并沿导轨滑动，导轨在图中未具体画出。
优选地，平台11中位于发射端22和基板5之间的部分结构112的材料为透明材料。采用透明材料可有效保证发射端22发射的照射光透过。在实际应用中，可通过多次实验和调试选择出透光率较高的透明材料，以提高照射光的透过率。
进一步地，涂布设备1还包括设置于基板5上方的移动装置14，接收端23和喷嘴13位于移动装置14上，且发射端22和接收端23位于喷嘴13的后方。移动装置14在基板5上方移动，以使接收端23与喷嘴13同步移动；发射端22在基板5下方以与接收端23相同的速度移动，以使发射端22和接收端23与喷嘴13同步移动。优选地，移动装置14可以为龙门结构(Gantry)。优选地，如图2所示，该涂布系统可包括控制装置4，该控制装置4分别与发射端22、移动装置14和喷嘴13连接，控制装置4可用于控制发射端22、移动装置14和喷嘴13移动。其中，控制装置4可通过电力线(cable)与发射端22、移动装置14、喷嘴13连接。
进一步地，该涂布设备还包括位于平台11两侧的导轨15，移动装置14位于导轨15之上。该移动装置14与控制装置4连接，控制装置4可用于控制移动装置14沿导轨移动。具体地，由于发射端22和接收端23与喷嘴13需要同步移动，因此控制装置4可控制发射端22和接收端23与喷嘴13以相同的速度移动。其中，控制装置4、移动装置14和导轨15在图1中均未具体画出。
具体地，调节装置3包括：判断模块31和第二计算模块32。判断模块31用于判断|(T1-T2)/T1|是否小于或者等于设定差值；第二计算模块32用于若判断模块31判断出|(T1-T2)/T1|大于设定差值时，表明检测出的膜厚不符合标准，则第二计算模块32根据公式[1+(T1-T2)/T1]V计算出设定速度，并将设定速度发送至涂布设备1中的泵浦12，此时涂布设备1中的泵浦12将根据重新计算后的设定速度进行涂布工艺，从而实现对膜厚的实时调整。第二计算模块32用于若判断模块31判断出|(T1-T2)/T1|小于或者等于设定差值时，表明检测出的膜厚符合标准，因此第二计算模块32不再计算设定速度，进而也不向涂布设备1发送设定速度，此时，涂布设备1采用原有速度进行涂布工艺。其中，T1为标准膜厚，T2为检测出的膜厚，V为原有速度。由于生产需要的规定膜厚为T1±1‰nm，因此设定差值为1‰nm。在涂布工艺执行过程中，可重复执行上述过程检测多个测量点的膜厚，以实现在整个涂布工艺中对膜厚的实时调整。
本实施例提供的涂布系统中，检测装置在涂布设备涂布时检测涂布材料的测量点的膜厚，调节装置根据膜厚生成设定速度，涂布设备根据设定速度将涂布材料涂布于基板上，从而实现了实时调整膜厚。本实施例可实时测量出膜厚并实时调整膜厚，从而有利于工艺管控，提高了膜厚的均匀性，高度智能自动化可有效节省人力成本且避免人为错误，控制精准，节省了原材料成本。泵浦以重新计算后的设定速度驱动喷嘴以改变喷嘴13的吐出量，从而实现膜厚调节，调节方法简单且易于实现。
图3为本发明实施例二提供的一种涂布方法的流程图，如图3所示，该方法包括：
步骤101、检测装置在涂布设备将涂布材料涂布于基板上时检测涂布材料的测量点的膜厚，并将检测出的膜厚发送给调节装置。
具体地，检测装置包括光源、发射端、接收端和信号处理模块，所述发射端和所述接收端分别位于基板的两侧且相对设置。则步骤101可包括：
步骤1011、光源向发射端提供照射光。
步骤1012、发射端向基板发射照射光以使照射光透过基板和涂布材料。
步骤1013、接收端接收透过基板和涂布材料的照射光，并将照射光发送至信号处理模块。
步骤1014、信号处理模块根据接收到的照射光生成膜厚。
步骤102、调节装置根据膜厚生成设定速度，并将设定速度发送给涂布设备。
具体地，所述调节装置包括：判断模块和第二计算模块。则步骤102可包括：
步骤1021、判断模块判断|(T1-T2)/T1|是否小于或者等于设定差值，若否则执行步骤1022，若是则流程结束。
步骤1022、第二计算模块根据公式[1+(T1-T2)/T1]V计算出设定速度，并将设定速度发送至涂布设备。
其中，T1为标准膜厚，T2为检测出的膜厚，V为原始速度。
步骤103、涂布设备以设定速度将涂布材料涂布于基板上。
本实施例提供的涂布方法可用于采用上述实施例一提供的涂布系统实现，对涂布系统的描述可参见上述实施例一，此处不再赘述。
本实施例提供的涂布方法中，检测装置在涂布设备涂布时检测涂布材料的测量点的膜厚，调节装置根据膜厚生成设定速度，涂布设备根据设定速度将涂布材料涂布于基板上，从而实现了实时调整膜厚。本实施例可实时测量出膜厚并实时调整膜厚，从而有利于工艺管控，提高了膜厚的均匀性，高度智能自动化可有效节省人力成本且避免人为错误，控制精准，节省了原材料成本。泵浦以重新计算后的设定速度驱动喷嘴以改变喷嘴13的吐出量，从而实现膜厚调节，调节方法简单且易于实现。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种涂布系统，其特征在于，包括：涂布设备、检测装置和调节装置；
所述涂布设备，用于以设定速度将涂布材料涂布于基板上；
所述检测装置，用于在所述涂布设备涂布时检测所述涂布材料的测量点的膜厚，并将检测出的膜厚发送给所述调节装置；
所述调节装置，用于根据所述膜厚生成设定速度，并将所述设定速度发送给所述涂布设备。
2.根据权利要求1所述的涂布系统，其特征在于，所述检测装置包括光源、发射端、接收端和信号处理模块，所述发射端和所述接收端分别位于基板的两侧且相对设置；
所述光源，用于向所述发射端提供照射光；
所述发射端，用于向所述基板发射所述照射光以使所述照射光透过所述基板和所述涂布材料；
所述接收端，用于接收透过所述基板和所述涂布材料的照射光，并将照射光发送至所述信号处理模块；
所述信号处理模块，用于根据接收到的照射光生成所述膜厚。
3.根据权利要求2所述的涂布系统，其特征在于，所述信号处理模块包括光谱仪和第一计算模块；
所述光谱仪，用于将接收到的照射光转换成光谱线；
所述第一计算模块，用于对所述光谱线计算处理，生成所述膜厚。
4.根据权利要求2所述的涂布系统，其特征在于，所述涂布设备包括平台、泵浦和喷嘴，所述喷嘴位于所述基板的上方，所述平台中设置有镂空结构，所述发射端位于所述镂空结构中；
所述平台，用于承载所述基板；
所述泵浦，用于以所述设定速度驱动所述喷嘴；
所述喷嘴，用于将涂布材料涂布于基板上。
5.根据权利要求4所述的涂布系统，其特征在于，所述平台中位于发射端和基板之间的部分结构的材料为透明材料。
6.根据权利要求2所述的涂布系统，其特征在于，所述涂布设备还包括：设置于所述基板上方的移动装置，所述接收端和所述喷嘴位于所述移动装置上，且所述发射端和所述接收端位于所述喷嘴的后方；
所述移动装置在所述基板上方移动，以使所述接收端与所述喷嘴同步移动；
所述发射端在所述基板下方以与所述接收端相同的移动，以使所述发射端和所述接收端与所述喷嘴同步移动。
7.根据权利要求1所述的涂布系统，其特征在于，所述调节装置包括：判断模块和第二计算模块；
所述判断模块，用于判断|(T1-T2)/T1|是否小于或者等于设定差值；
所述第二计算模块，用于若所述判断模块判断出|(T1-T2)/T1|大于设定差值时，根据公式[1+(T1-T2)/T1]V计算出设定速度，并将设定速度发送至所述涂布设备；
其中，T1为标准膜厚，T2为检测出的膜厚，V为原始速度。
8.一种涂布方法，其特征在于，包括：
检测装置在涂布设备将涂布材料涂布于基板上时检测所述涂布材料的测量点的膜厚，并将检测出的膜厚发送给所述调节装置；
调节装置根据所述膜厚生成设定速度，并将所述设定速度发送给所述涂布设备；
所述涂布设备以设定速度将涂布材料涂布于基板上。
9.根据权利要求8所述的涂布方法，其特征在于，所述检测装置包括光源、发射端、接收端和信号处理模块，所述发射端和所述接收端分别位于基板的两侧且相对设置；
所述光源向所述发射端提供照射光；
所述发射端向所述基板发射所述照射光以使所述照射光透过所述基板和所述涂布材料；
所述接收端接收透过所述基板和所述涂布材料的照射光，并将照射光发送至所述信号处理模块；
所述信号处理模块根据接收到的照射光生成所述膜厚。
10.根据权利要求8所述的涂布方法，其特征在于，所述调节装置包括：判断模块和第二计算模块；
所述判断模块判断|(T1-T2)/T1|是否小于或者等于设定差值；
若所述判断模块判断出|(T1-T2)/T1|大于设定差值时，所述第二计算模块根据公式[1+(T1-T2)/T1]V计算出设定速度，并将设定速度发送至所述涂布设备；
其中，T1为标准膜厚，T2为检测出的膜厚，V为原始速度。
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