CN103274605B - 光阻涂布设备及其光阻涂布方法 - Google Patents
光阻涂布设备及其光阻涂布方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN103274605B CN103274605B CN201310228351.3A CN201310228351A CN103274605B CN 103274605 B CN103274605 B CN 103274605B CN 201310228351 A CN201310228351 A CN 201310228351A CN 103274605 B CN103274605 B CN 103274605B
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- coated
- substrate
- nozzle
- measurement
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 127
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 113
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 title abstract description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 92
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 9
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 54
- 230000008520 organization Effects 0.000 claims description 31
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 8
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 6
- 238000013215 result calculation Methods 0.000 claims description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
本发明提供一种光阻涂布设备及光阻涂布方法。所述光阻涂布设备,包括平台及光阻涂布装置,所述平台用于置放并固定待涂布光阻的基板,所述光阻涂布装置包括位于所述平台上方的控制机构及喷嘴,所述光阻涂布设备进一步包括设于所述平台两侧并随所述光阻涂布装置同步移动的检测器,所述检测器用于量测所述基板待涂布光阻表面位置的高度,并将量测结果实时反馈给所述光阻涂布装置的控制机构,所述控制机构根据所述量测结果修正所述喷嘴的涂布高度后,再由所述喷嘴对所述基板待涂布光阻表面位置涂布光阻。本发明的光阻涂布设备及光阻涂布方法,能够提升光阻在基板上涂布厚度的均一性。
Description
技术领域
本发明涉及一种涂布设备和涂布方法,尤其涉及一种用于涂布光阻材料的光阻涂布设备及其光阻涂布方法。
背景技术
在液晶显示器件制作过程中,需要在基板上均匀涂上一层特定厚度的光阻材料,以便于制作电路图案。所述基板通常为玻璃基板,在涂布光阻之前,已经在所述玻璃基板的表面上形成有金属薄膜、绝缘层和半导电层等。目前通常采用喷嘴式涂布装置对基板进行涂布光阻,通过将涂布装置的喷嘴从基板的一端移动到基板的另一端的过程中向基板表面连续喷涂光阻材料,以在基板上形成一层光阻材料。然而,从基板的一端到另一端,基板的厚度会有所不同,而现有涂布装置在涂布光阻时喷嘴与基板之间的距离保持不变,因此难以保证光阻涂布厚度的均一性,从而影响液晶显示器件的性能的一致性。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种光阻涂布设备及其光阻涂布方法,旨在提升光阻在基板上涂布厚度的均一性,使液晶显示器件的性能具一致性。
为了实现上述目的,本发明提供一种光阻涂布设备,包括平台及光阻涂布装置,所述平台用于置放并固定待涂布光阻的基板,所述光阻涂布装置包括位于所述平台上方的控制机构及喷嘴,所述光阻涂布设备进一步包括设于所述平台两侧并随所述光阻涂布装置同步移动的检测器,所述检测器用于量测所述基板待涂布光阻表面位置的高度,并将量测结果实时反馈给所述光阻涂布装置的控制机构,所述控制机构根据所述量测结果修正所述喷嘴的涂布高度后,由所述喷嘴对所述基板待涂布光阻表面位置涂布光阻;
所述检测器为光透过型数字激光感测器,所述光透过型数字激光感测器包括发射器、接收器及计算单元,所述发射器和接收器分别设于所述平台的两侧并呈相对设置,所述发射器和接收器与所述喷嘴正对或在涂布方向上位于所述喷嘴的前方,对所述基板表面涂布光阻时,所述光阻涂布装置与所述光透过型数字激光感测器沿涂布方向同步移动,所述接收器接收所述发射器发射的激光束并产生对应的数字信号,所述计算单元与所述接收器相连接,用于接收所述接收器产生的所述数字信号并计算得出所述量测结果;
所述喷嘴具有相对的第一端与第二端,所述第一端与第二端分别靠近发射器与接收器,所述喷嘴的第一端与所述发射器之间设有挡光机构。
优选地,所述光阻涂布设备进一步包括一对导轨及支架,该对导轨设于所述平台的两侧,所述支架安装于该对导轨上并可沿该对导轨上在涂布方向上往复移动,所述喷嘴通过所述控制机构安装于所述支架上,并通过所述控制机构的控制可使所述喷嘴相对所述支架沿竖直方向上下移动以修正所述喷嘴的涂布高度。
优选地,所述支架包括分别设于该对导轨上的两支柱及连接于所述两支柱之间的横梁,所述光透过型数字激光感测器的发射器与接收器分别安装在所述两支柱上,所述光阻涂布装置安装在所述横梁上。
优选地,所述光透过型数字激光感测器的感测区涵盖所述喷嘴下刀位置到所述平台的范围。
本发明还提供一种光阻涂布方法,包括如下步骤:
提供前述的光阻涂布设备;
将待涂布光阻的基板固定于所述平台上;
将所述光阻涂布装置设于所述基板的一端并调整所述喷嘴的涂布高度至预设高度,将所述光阻涂布装置由所述基板的该端移动到所述基板的另一端,在所述移动过程中,所述检测器随所述光阻涂布装置同步移动以量测所述基板待涂布光阻表面位置的高度,并将量测结果实时反馈给所述光阻涂布装置的控制机构,所述控制机构根据所述量测结果修正所述喷嘴的涂布高度后,再由所述喷嘴对所述基板待涂布光阻表面位置涂布光阻。
优选地,所述计算单元接收所述接收器输出的所述数字信号并计算得出所述量测结果的步骤中:以所述接收器在所述基板初始待涂布光阻表面位置所接收到的激光束的光量作为基准光量,以所述喷嘴在所述基板初始待涂布光阻表面位置处的涂布高度为基准高度,在所述移动过程中,将所述接收器在所述基板待涂布光阻表面位置所接收到的激光束的光量作为量测光量,所述基板待涂布光阻表面位置的高度量测结果计算公式为:(1-量测光量/基准光量)*基准高度,计算得到的量测结果为所述基板待涂布光阻表面位置与所述基板初始待涂布光阻表面位置之间的高度差,如果量测结果为正,表示所述基板待涂布光阻表面位置的高度比所述基板初始待涂布光阻表面位置高出所述计算结果,如果量测结果为负,则表示所述基板待涂布光阻表面位置的高度比所述基板初始待涂布光阻表面位置低出所述计算结果的绝对值。
优选地,如果量测结果为正,所述控制机构根据所述量测结果修正所述喷嘴的涂布高度时,将所述喷嘴上移所述量测结果,再由所述喷嘴对所述基板待涂布光阻表面位置涂布光阻;如果量测结果为负,所述控制机构根据所述量测结果修正所述喷嘴的涂布高度时,将所述喷嘴下移所述量测结果的绝对值,再由所述喷嘴对所述基板待涂布光阻表面位置涂布光阻。
本发明的光阻涂布设备与光阻涂布方法,通过设置检测器来量测所述基板待涂布光阻表面位置的高度,并将量测结果实时反馈给光阻涂布装置的控制机构,通过控制机构根据量测结果修正喷嘴的涂布高度后,再由喷嘴对基板的待涂布光阻表面位置涂布光阻,从而能够提升光阻在基板上涂布厚度的均一性,使液晶显示器件的性能具一致性。
附图说明
图1为本发明光阻涂布设备一较佳实施例的俯视图。
图2为图1所示光阻涂布设备的侧视图。
图3为图1所示光阻涂布设备的正视图。
图4为光透过型数字激光感测器的测量原理图。
本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。
具体实施方式
应当理解,此处所描述的具体实施方式仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
如图1至图3所示,为本发明光阻涂布设备的一较佳实施例。
所述光阻涂布设备,用于对液晶显示器件的基板10涂布光阻。
所述光阻涂布设备,包括平台20、光阻涂布装置30及检测器40,所述平台20用于置放并固定待涂布光阻的基板10。所述光阻涂布装置30包括位于所述平台20上方的控制机构31及喷嘴32。所述检测器40设于所述平台20两侧并随所述光阻涂布装置30同步移动,用于量测所述基板10待涂布光阻表面位置的高度,并将量测结果实时反馈给所述光阻涂布装置30的控制机构31,所述控制机构31根据量测结果修正所述喷嘴32的涂布高度后,再由所述喷嘴32对所述基板10的待涂布光阻表面位置涂布光阻。
在本实施例中,所述检测器40为光透过型数字激光感测器,包括发射器41、接收器42及计算单元。所述发射器41与接收器42分别设于平台20的两侧并呈相对设置,所述发射器41和接收器42与所述喷嘴32正对或在涂布方向上位于所述喷嘴32的前方,对所述基板10表面涂布光阻时,所述光阻涂布装置30与所述光透过型数字激光感测器沿涂布方向同步移动。所述接收器42接收所述发射器41发射的激光束并输出对应的数字信号,所述计算单元与所述接收器42相连接,用于接收所述接收器42输出的所述数字信号并计算得出所述量测结果。所述计算单元可以与所述接收器42集成在一起,或者是单独设置。
如图4所示,为所述光透过型数字激光感测器的测量原理图,其测量原理为,所述发射器41朝向接收器42发射平行的激光光束43,当发射器41与接收器42之间无物体遮挡时,发射器41所发出的全部激光光束43将全部被接收器42所接收,而当发射器41与接收器42之间有物体遮挡时,被遮挡的激光光束43将无法被接收器42所接收。所述接收器42能够精确地感测到所接收到的激光光束的光量的微量变化。
所述光阻涂布设备进一步包括一对导轨50及支架60,该对导轨50设于所述平台20的两侧,所述支架60安装于该对导轨50上并可沿该对导轨50在涂布方向上往复移动,所述喷嘴32通过所述控制机构31安装于所述支架60上,并通过控制机构31的控制可使所述喷嘴60相对所述支架60沿竖直方向上下移动以修正所述喷嘴32的涂布高度。
所述支架60包括分别设于该对导轨50上的两支柱61及连接于所述两支柱61之间的横梁62,所述光透过型数字激光感测器的发射器41与接收器42分别安装在所述两支柱61上。所述光透过型数字激光感测器的感测区涵盖所述喷嘴32下刀位置到所述平台20的范围。所述光阻涂布装置30安装在所述横梁62上。
所述喷嘴32具有相对的第一端321与第二端322,所述第一端321与第二端322分别靠近所述发射器41与接收器42,所述喷嘴32的第一端321与所述发射器41之间设有第一挡光机构70,所述喷嘴32的第二端322与所述接收器42之间设有第二挡光机构80,以对发射器41发出的激光束进行阻挡,使激光束仅通过喷嘴32喷涂位置与所述基板10待涂布光阻表面位置之间的空隙射向所述接收器42,以保证量测结果的准确性。其中,可仅设置第一挡光机构70或第二挡光机构80。
请参照图1至图4,本发明实施例的光阻涂布方法,包括如下步骤:
提供前述的光阻涂布设备;
将待涂布光阻的基板10固定于所述平台20上;
将所述光阻涂布装置30设于所述基板10的一端并调整所述喷嘴32的涂布高度至预设高度,将所述光阻涂布装置30由所述基板10的该端移动到所述基板10的另一端,在所述移动过程中,所述检测器40随所述光阻涂布装置30同步移动以量测所述基板10待涂布光阻表面位置的高度,并将量测结果实时反馈给所述光阻涂布装置30的控制机构31,所述控制机构31根据所述量测结果修正所述喷嘴32的涂布高度后,再由所述喷嘴32对所述基板10待涂布光阻表面位置涂布光阻。
所述检测器40优选采用前述的光透过型数字激光感测器,所述光透过型数字激光感测器包括发射器41、接收器42及计算单元,所述发射器41与接收器42分别设于所述平台20的两侧并呈相对设置,所述计算单元与所述接收器42相连接,对所述基板10表面涂布光阻时,所述光阻涂布装置30与所述光透过型数字激光感测器沿涂布方向同步移动,所述接收器42接收所述发射器41发射的激光束并输出对应的数字信号,所述计算单元接收所述接收器42输出的所述数字信号并计算得出所述量测结果。
所述计算单元接收所述接收器42输出的所述数字信号并计算得出所述量测结果的步骤中:以所述接收器42在所述基板10初始待涂布光阻表面位置所接收到的激光束的光量作为基准光量,以所述喷嘴32在所述基板10初始待涂布光阻表面位置处的涂布高度为基准高度,在所述移动过程中,将所述接收器42在所述基板10待涂布光阻表面位置所接收到的激光束的光量作为量测光量,所述基板10待涂布光阻表面位置的高度量测结果计算公式为:(1-量测光量/基准光量)*基准高度,其中,计算得到的量测结果为所述基板10待涂布光阻表面位置与所述基板10初始待涂布光阻表面位置之间的高度差,如果量测结果为正,表示所述基板10待涂布光阻表面位置的高度比所述基板10初始待涂布光阻表面位置高出所述计算结果,如果量测结果为负,则表示所述基板10待涂布光阻表面位置的高度比所述基板10初始待涂布光阻表面位置低出所述计算结果的绝对值。
如果量测结果为正,所述控制机构31根据所述量测结果修正所述喷嘴32的涂布高度时,将所述喷嘴32上移所述量测结果,再由所述喷嘴32对所述基板10待涂布光阻表面位置涂布光阻;如果量测结果为负,所述控制机构31根据所述量测结果修正所述喷嘴32的涂布高度时,将所述喷嘴32下移所述量测结果的绝对值,再由所述喷嘴32对所述基板10待涂布光阻表面位置涂布光阻。
上述光阻涂布设备与光阻涂布方法,通过采用检测器来量测所述基板待涂布光阻表面位置的高度,并将量测结果实时反馈给光阻涂布装置的控制机构,通过控制机构根据量测结果修正喷嘴的涂布高度后,再由喷嘴对基板的待涂布光阻表面位置涂布光阻,从而能够提升光阻在基板上涂布厚度的均一性,使液晶显示器件的性能具一致性。
本发明并不局限于以上实施方式,在上述实施方式公开的技术内容下,还可以进行各种变化。凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (7)
1.一种光阻涂布设备,包括平台及光阻涂布装置,所述平台用于置放并固定待涂布光阻的基板,所述光阻涂布装置包括位于所述平台上方的控制机构及喷嘴,其特征在于,所述光阻涂布设备进一步包括设于所述平台两侧并随所述光阻涂布装置同步移动的检测器,所述检测器用于量测所述基板待涂布光阻表面位置的高度,并将量测结果实时反馈给所述光阻涂布装置的控制机构,所述控制机构根据所述量测结果修正所述喷嘴的涂布高度后,再由所述喷嘴对所述基板待涂布光阻表面位置涂布光阻;
所述检测器为光透过型数字激光感测器,所述光透过型数字激光感测器包括发射器、接收器及计算单元,所述发射器和接收器分别设于所述平台的两侧并呈相对设置,所述发射器和接收器与所述喷嘴正对或在涂布方向上位于所述喷嘴的前方,对所述基板表面涂布光阻时,所述光阻涂布装置与所述光透过型数字激光感测器沿涂布方向同步移动,所述接收器接收所述发射器发射的激光束并输出对应的数字信号,所述计算单元与所述接收器相连接,用于接收所述接收器输出的所述数字信号并计算得出所述量测结果;
所述喷嘴具有相对的第一端与第二端,所述第一端与第二端分别靠近所述发射器与接收器,所述喷嘴的第一端与所述发射器之间设有挡光机构。
2.如权利要求1所述的光阻涂布设备,其特征在于,所述光阻涂布设备进一步包括一对导轨及支架,该对导轨设于所述平台的两侧,所述支架安装于该对导轨上并可沿该对导轨上在涂布方向上往复移动,所述喷嘴通过所述控制机构安装于所述支架上,并通过所述控制机构的控制可使所述喷嘴相对所述支架沿竖直方向上下移动以修正所述喷嘴的涂布高度。
3.如权利要求2所述的光阻涂布设备,其特征在于,所述支架包括分别设于该对导轨上的两支柱及连接于所述两支柱之间的横梁,所述光透过型数字激光感测器的发射器与接收器分别安装在所述两支柱上,所述光阻涂布装置安装在所述横梁上。
4.如权利要求1所述的光阻涂布设备,其特征在于,所述光透过型数字激光感测器的感测区涵盖所述喷嘴喷涂位置到所述平台的范围。
5.一种光阻涂布方法,其特征在于,包括如下步骤:
提供如权利要求1所述的光阻涂布设备;
将待涂布光阻的基板固定于所述平台上;
将所述光阻涂布装置设于所述基板的一端并调整所述喷嘴的涂布高度至预设高度,将所述光阻涂布装置由所述基板的该端移动到所述基板的另一端,在所述移动过程中,所述检测器随所述光阻涂布装置同步移动以量测所述基板待涂布光阻表面位置的高度,并将量测结果实时反馈给所述光阻涂布装置的控制机构,所述控制机构根据所述量测结果修正所述喷嘴的涂布高度后,再由所述喷嘴对所述基板待涂布光阻表面位置涂布光阻。
6.如权利要求5所述的光阻涂布方法,其特征在于,所述计算单元接收所述接收器输出的所述数字信号并计算得出所述量测结果的步骤中:以所述接收器在所述基板初始待涂布光阻表面位置所接收到的激光束的光量作为基准光量,以所述喷嘴在所述基板初始待涂布光阻表面位置处的涂布高度为基准高度,在所述移动过程中,将所述接收器在所述基板待涂布光阻表面位置所接收到的激光束的光量作为量测光量,所述基板待涂布光阻表面位置的高度量测结果计算公式为:(1-量测光量/基准光量)*基准高度,计算得到的量测结果为所述基板待涂布光阻表面位置与所述基板初始待涂布光阻表面位置之间的高度差,如果量测结果为正,表示所述基板待涂布光阻表面位置的高度比所述基板初始待涂布光阻表面位置高出所述计算结果,如果量测结果为负,则表示所述基板待涂布光阻表面位置的高度比所述基板初始待涂布光阻表面位置低出所述计算结果的绝对值。
7.如权利要求6所述的光阻涂布方法,其特征在于,如果量测结果为正,所述控制机构根据所述量测结果修正所述喷嘴的涂布高度时,将所述喷嘴上移所述量测结果,再由所述喷嘴对所述基板待涂布光阻表面位置涂布光阻;如果量测结果为负,所述控制机构根据所述量测结果修正所述喷嘴的涂布高度时,将所述喷嘴下移所述量测结果的绝对值,再由所述喷嘴对所述基板待涂布光阻表面位置涂布光阻。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201310228351.3A CN103274605B (zh) | 2013-06-08 | 2013-06-08 | 光阻涂布设备及其光阻涂布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201310228351.3A CN103274605B (zh) | 2013-06-08 | 2013-06-08 | 光阻涂布设备及其光阻涂布方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN103274605A CN103274605A (zh) | 2013-09-04 |
CN103274605B true CN103274605B (zh) | 2015-07-22 |
Family
ID=49057266
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201310228351.3A Expired - Fee Related CN103274605B (zh) | 2013-06-08 | 2013-06-08 | 光阻涂布设备及其光阻涂布方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN103274605B (zh) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103771719B (zh) * | 2014-01-16 | 2015-09-09 | 北京京东方光电科技有限公司 | 一种涂布装置 |
CN108170004A (zh) * | 2017-12-27 | 2018-06-15 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 光阻实时检测装置、光阻实时检测方法及光阻涂布设备 |
JP7344533B2 (ja) * | 2019-05-14 | 2023-09-14 | Aiメカテック株式会社 | 塗布装置及び塗布方法 |
CN110186412A (zh) * | 2019-07-12 | 2019-08-30 | 浙江盘毂动力科技有限公司 | 一种厚度测量装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1721081A (zh) * | 2004-07-16 | 2006-01-18 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 涂布装置 |
CN102019245A (zh) * | 2009-09-14 | 2011-04-20 | 塔工程有限公司 | 用于涂布密封胶的方法 |
CN102192915A (zh) * | 2010-03-12 | 2011-09-21 | 东京毅力科创株式会社 | 背面异物检测方法、背面异物检测装置以及涂布装置 |
-
2013
- 2013-06-08 CN CN201310228351.3A patent/CN103274605B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1721081A (zh) * | 2004-07-16 | 2006-01-18 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 涂布装置 |
CN102019245A (zh) * | 2009-09-14 | 2011-04-20 | 塔工程有限公司 | 用于涂布密封胶的方法 |
CN102192915A (zh) * | 2010-03-12 | 2011-09-21 | 东京毅力科创株式会社 | 背面异物检测方法、背面异物检测装置以及涂布装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103274605A (zh) | 2013-09-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN103274605B (zh) | 光阻涂布设备及其光阻涂布方法 | |
US10201828B2 (en) | Coating system and coating method | |
CN205175359U (zh) | 一种离线玻璃基板翘曲检测装置 | |
CN102768016B (zh) | 坐标测量机精度补偿方法及装置 | |
JP2013137197A (ja) | レーザ式厚さ測定システム、及びその校正方法 | |
CN103344258B (zh) | 光电经纬仪伺服系统性能测试装置及测试方法 | |
GB2480578A (en) | Optical gage and three-dimensional surface profile measurement method | |
CN202110283U (zh) | 盾构机盾尾间隙激光测量装置 | |
TW200605966A (en) | Apparatus and method for applying adhesive to a substrate | |
CN102538686A (zh) | 厚度量测方法 | |
US20200408678A1 (en) | Time-domain terahertz measurement system having a single reference surface | |
CN104034300A (zh) | 星型探针安装角度检测系统及方法 | |
CN102353520B (zh) | 一种用于光纤延迟线测量系统的延迟量测量方法及其实现装置 | |
CN206666631U (zh) | 一种线性蒸发源系统及蒸镀装置 | |
CN106289169A (zh) | 一种光纤涂覆模具的水平校正装置及校正方法 | |
CN107845317A (zh) | 一种单路光拍相位法测量光速的实验方法 | |
CN205352314U (zh) | 一种新型激光测距仪检测装置 | |
CN107321572A (zh) | 框胶涂布控制方法及控制系统 | |
CN207688837U (zh) | 一种3d打印基板及刮刀位置调整装置 | |
CN106198397B (zh) | 一种光电检测装置、方法和光刻胶涂覆设备 | |
CN109153030A (zh) | 用于测量用于对电路板进行涂覆的涂料射束的设备和方法 | |
US20190057850A1 (en) | Sputtering gap measurement apparatus and magnetron sputtering device | |
CN107315322B (zh) | 一种曝光距离调整方法及装置 | |
CN105043280A (zh) | 一种回转中心测量装置及其间距测量方法 | |
CN105182616A (zh) | 取向膜涂敷检测设备 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20150722 |
|
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |