CN104818388A - 一种铟锡氧化物真空还原分离铟和锡的方法 - Google Patents

一种铟锡氧化物真空还原分离铟和锡的方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种铟锡氧化物真空还原分离铟和锡的方法。将铟锡氧化物通过球磨破碎后加入还原剂混合均匀并制粒,将干燥后的铟锡氧化物颗粒加入到真空炉内,控制炉内真空度、温度、反应时间及保温时间,使铟锡氧化物在真空炉中还原并蒸发达到铟与锡分离的目的。通过真空还原蒸馏分离可得到含锡大于98wt.%、含铟小于0.5wt.%的粗锡合金及含铟大于99wt.%、含锡小于0.2wt.%的粗铟合金。真空蒸馏得到的粗铟合金和粗锡合金可直接电解,得到精铟和精锡。金属直收率可达99%。

Description

一种铟锡氧化物真空还原分离铟和锡的方法
技术领域
本发明涉及一种铟锡氧化物真空还原分离铟和锡的方法,属于有色金属真空冶金技术领域。
背景技术
铟具有熔点低、沸点高、传导性好,氧化物能形成透明的导电膜等特性,主要用于半导体、光纤通信、透明导电涂层、金属有机物等方面。全球70%的铟用于加工铟锡氧化物(ITO)靶材,但目前ITO靶材溅射镀膜利用率较低,一般仅为30%左右,而剩余的部分则成为废靶。在ITO粉末及ITO靶材镀膜溅射生产过程中会产生废粉、废靶、边角料、切屑等铟锡氧化物。同时在铅、锌冶炼生产过程中也会产生大量的铟锡氧化物,这些铟锡氧化物具有很高的经济回收价值。
目前,铟锡氧化物多采用湿法工艺回收。专利文献CN100340679C中公开了一种铟锡混合物的分离方法,该方法为:将铟锡混合废料粉末用硫酸或盐酸浸出3~6小时,浸出液加锌粉置换1~6小时除锡,将锡离子置换为固体锡,将固液进行分离,得到除锡后液和锡渣;除锡后液加锌片置换得到海绵铟,海绵铟压团后熔铸得到粗铟;锡渣用浓硝酸浸泡除去杂质,然后用焦粉进行还原熔炼得到粗锡。该方法处理时间长(5~9小时),需要进行锌粉置换和锌片置换,置换后固液需进一步处理才能得到产品。
专利文献CN1191380C中公开了从铟锡氧化物中提取精铟的方法,该方法为:将ITO废料磨细溶于无机混合酸中溶解,在溶解后液体中加入双氧水反应0.5~3小时进行氧化,然后加碱中和氧化后液体,并同时加入碱金属或碱金属的氯盐、硫酸盐或硝酸盐无机共沉剂,使锡等杂质生成沉淀物,随后溶液经固液分离、置换、熔铸阳极、电解制得精铟。该方法可制得纯度大于99.99%的金属铟,铟回收率大于95%,但该方法在无机混酸溶解中需要1:5~10的固液比,当处理量大时耗水量大,需要大容量的反应容器,铟的回收率约为95%。
专利文献CN100535139C中公开了酸浸-硫化沉淀联合工艺回收ITO废料中铟锡的方法,该方法为:将磨细的ITO废料加酸浸出,浸出液中加入硫化钠进行硫化沉锡,过滤得到沉淀物和酸浸液,酸浸液加铝置换得到海绵铟,海绵铟进行电解提纯和熔铸得到精铟锭产品;沉淀物加酸多次洗涤过滤得到锡渣产品。该方法铟的累计浸出率为98.3%流程长,需多次加酸浸出或洗涤,加铝置换回收铟得到的后液为强酸,需进行无害化处理。
专利文献CN101660056A中公开了铟锡合金真空蒸馏分离铟和锡的方法,该方法为:将成分为In40~99%,Sn1~60%的铟锡合金加入真空炉内,控制炉内的真空度、温度和蒸馏时间,使金属铟和锡分离。真空蒸馏后得到的金属铟中含锡量小于0.5%,金属锡中含铟量小于0.5%。该方法处理的原料为铟锡合金,真空蒸馏过程为物理分离过程。本发明处理的原料为铟锡氧化物,在真空蒸馏之前将原料破碎,并添加一定量的还原剂进行制粒,制粒后物料再进行真空还原分离,在真空蒸馏的同时进行还原反应。本发明中添加了还原剂,蒸馏时可以将铟和锡氧化物还原为单质金属,在真空条件下进行还原可降低还原的温度。本发明得到的金属铟中含锡量均小于0.2%。
在公开的文献中常规真空蒸馏法回收只能回收铟锡合金中的铟和锡,不能回收铟锡氧化物,得到的铟合金中仍有0.5%左右的锡。湿法工艺回收铟锡氧化废料,工艺流程长,生产周期长,条件控制复杂,锡在酸性条件下容易生成锡胶沉淀,造成过滤困难,在浸出和洗涤阶段产生的液体会对环境造成一定的污染,在中和水解和化学沉淀过程中会产生副产品,并且在处理过程中锡的回收率不高。
发明内容
针对上述现有技术回收铟锡氧化物流程长、条件控制复杂及生产周期长等存在的问题和不足,本发明提供一种铟锡氧化物真空还原分离铟和锡的方法。将铟锡氧化物通过球磨破碎后加入还原剂混合均匀并制粒,将干燥后的铟锡氧化物颗粒加入到真空炉内,控制炉内真空度、温度、反应时间及蒸馏时间,使铟锡氧化物在真空炉中还原并蒸发达到铟与锡分离的目的。通过真空还原蒸馏分离可得粗锡、粗铟,粗锡、粗铟分别电解可得精铟与精锡。若真空还原蒸馏得到的粗铟、粗锡未达电解要求则分别再次真空蒸馏直到达到电解要求。金属直收率可达99%。
铟锡氧化物中主要含有三氧化二铟(In2O3)和二氧化锡(SnO2),三氧化二铟和二氧化锡碳还原时发生的反应有:
                                      (1)
                                    (2)
                                  (3)
                                          (4)
                                        (5)
                                        (6)
                                    (7)
                                      (8)
                                          (9)
 本发明通过以下技术方案实现。
具体步骤如下:
步骤1、将任意成份的铟锡氧化物通过球磨破碎至直径小于2 mm,然后加入反应所需理论量的1.2~1.6倍的还原剂与铟锡氧化物混合均匀后制成直径为0.1~2 cm的颗粒,在50~120℃下干燥至颗粒含水量小于2%;
步骤2、将步骤1所得的铟锡氧化物颗粒加入到真空炉内,控制炉内真空度1~50Pa,采用阶段升温方式,首先升温至900~1000℃保温1~2h,使铟锡氧化物在真空炉中发生初步还原反应;
步骤3、待步骤2反应结束后,升温至1300~1500℃时保温0.5~4h,使物料发生深度还原反应,同时使还原反应得到的金属铟锡合金中的铟蒸馏,待保温结束后,可得挥发物粗铟及残留物粗锡;
反复进行真空蒸馏,使所得粗铟、粗锡达电解要求的指标。
本发明的有益效果是:真空蒸馏为密封操作环境,环境友好,生产过程不会产生污水,操作过程几乎不产生废气;通过添加还原剂在真空蒸馏的同时进行还原反应,将铟和锡的氧化物还原为铟和锡的单质合金,提高了铟和锡的回收率;得到的粗铟和粗锡产品品位高,可得到含锡大于98wt.%、含铟小于0.5wt.%的粗锡合金及含铟大于99wt.%、含锡小于0.2wt.%的粗铟合金;真空蒸馏得到的粗铟合金和粗锡合金可直接电解,得到精铟和精锡。
附图说明
图1是本发明工艺流程图。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式,对本发明作进一步说明。
        实施例        1
其具体步骤如下:
步骤1、将含Sn为49.18%,含In为31.10%的铟锡氧化物通过球磨破碎至直径小于2mm,加入反应所需理论量的1.2倍的木炭,混合均匀后制成直径为0.1~0.5cm的颗粒,在50℃下干燥至含水量小于2%;
步骤2、将步骤1所得的铟锡氧化物颗粒加入到真空炉内,当真空炉内真空度达到20Pa,将真空炉2小时升温至1000℃保温1h,使铟锡氧化物在真空炉中发生初步还原反应;
步骤3、待步骤2反应结束后,升温度至1500℃时保温1h,然后停止加热,保持真空自然冷却,冷却结束后在坩埚内得到残留物成分为:Sn80.05wt.%、In9.3wt.%的粗锡合金,在收集器中得挥发物成分为:Sn 9.43wt.%、In 88.09 wt.%的粗铟合金。
步骤4、将步骤3得到的粗铟加入到真空炉内,当真空炉内真空度达到20Pa时,将真空炉1.5小时升温至1200℃保温2h,然后停止加热,保持真空自然冷却,冷却结束后在坩埚内得到残留物成分为:Sn80.3wt.%、In10.2wt.%的粗锡合金,在收集器中得挥发物成分为:Sn0.09wt.%、In99.6wt.%的粗铟合金。
步骤5、将步骤3得到的粗锡及步骤4得到的粗锡加入到真空炉内,当真空炉内真空度达到20Pa时,将真空炉1.5小时升温至1500℃保温1h,然后停止加热,保持真空自然冷却,冷却结束后在坩埚内得到残留物成分为:Sn 98.11wt.%、In 0.07wt.%的粗锡合金,在收集器中得挥发物成分为:Sn14.12wt.%、In76.2wt.%的粗铟合金,步骤5产生的粗铟合金返回步骤4处理得到含锡较低的粗铟合金。
        实施例        2
一种铟锡氧化物真空还原分离铟和锡的方法,具体步骤如下:
步骤1、将含Sn为2.54%,含In为80.16%,的铟锡氧化物通过球磨破碎至直径小于2mm,加入反应所需理论量的1.5倍的煤粉,混合均匀后制成直径为0.5~1.0cm的颗粒,在100℃下干燥至含水量小于2%;
步骤2、将步骤1所得的铟锡氧化物颗粒加入到真空炉内,当真空炉内真空度达到2Pa,将真空炉1.5小时升温至1000℃保温2h,使铟锡氧化物在真空炉中发生初步还原反应;
步骤3、待步骤2反应结束后,升温至1400℃时保温3h,然后停止加热,保持真空自然冷却,冷却结束后在坩埚内得到残留物成分为:Sn70.02wt.%、In28.56wt.%的粗锡合金,在收集器中得挥发物成分为:Sn 0.07wt.%、In 99.01wt.%的粗铟合金。
步骤3得到的粗铟合金可送入电解工序电解得到精铟,粗锡合金可返回步骤2继续真空蒸馏,直到得到符合电解要求的粗锡为止。
        实施例        3
一种铟锡氧化物真空还原分离铟和锡的方法,其具体步骤如下:
步骤1、将含Sn为72.20%,含In为6.94%的铟锡氧化物通过球磨破碎至直径小于2mm,加入反应所需理论量的1.6倍的碳,混合均匀后制成直径为1.0~1.5cm的颗粒,在120℃下干燥至含水量小于2%;
步骤2、将步骤1所得的铟锡氧化物颗粒加入到真空炉内,当真空炉内真空度达到50Pa,将真空炉1小时升温至900℃保温1.5h,使铟锡氧化物在真空炉中发生初步还原反应;
步骤3、待步骤2反应结束后,升温度至1350℃时保温4h,然后停止加热,保持真空自然冷却,冷却结束后在坩埚内得到残留物成分为:Sn98.02wt.%、In0.341wt.%的粗锡合金,在收集器中得挥发物成分为:Sn 0.21wt.%、In 99.01wt.%的粗铟合金。
步骤3得到的粗锡合金可送入电解工序电解得到精锡,粗铟合金返回步骤2继续真空蒸馏,直到得到符合电解要求的粗铟为止。

Claims (4)

1. 一种铟锡氧化物真空还原分离铟和锡的方法,将铟锡氧化物通过球磨破碎后加入还原剂混合均匀并制粒,将干燥后的铟锡氧化物颗粒加入到真空炉内,控制炉内真空度、温度、反应时间及保温时间,使铟锡氧化物在真空炉中还原并蒸发达到铟与锡分离,得到的粗铟合金和粗锡合金品位达到电解要求,其特怔在于具体步骤如下:
步骤1、将铟和锡为任意比例的铟锡氧化物通过球磨破碎至直径小于2mm,然后加入反应所需理论量的1.2~1.6倍的还原剂与铟锡氧化物混合均匀后制成直径为0.1~2 cm的颗粒,在50~120℃下干燥至颗粒含水量小于2%;
步骤2、将步骤1所得的铟锡氧化物颗粒加入到真空炉内,控制炉内真空度1~50Pa,采用阶段升温方式,首先升温至900~1000℃保温1~2h,使铟锡氧化物在真空炉中发生初步还原反应;
步骤3、待步骤2反应结束后,升温至1300~1500℃时保温0.5~4h,使物料发生深度还原反应,同时使还原反应得到的金属铟锡合金中的铟蒸馏,待保温结束后,得挥发物粗铟及残留物粗锡。
2. 根据权利要求1所述的一种铟锡氧化物真空还原分离铟和锡的方法,其特怔在于具
体步骤如下:
步骤1、将含Sn为49.18%,含In为31.10%的铟锡氧化物通过球磨破碎至直径小于2mm,加入反应所需理论量的1.2倍的木炭,混合均匀后制成直径为0.1~0.5㎝的颗粒,在50℃下干燥至含水量小于2%;
步骤2、将步骤1所得的铟锡氧化物颗粒加入到真空炉内,当真空炉内真空度达到20Pa,将真空炉2小时升温至1000℃保温1h,使铟锡氧化物在真空炉中发生初步还原反应;
步骤3、待步骤2反应结束后,升温度至1500℃时保温1h,然后停止加热,保持真空自然冷却,冷却结束后在坩埚内得到残留物成分为:Sn80.05wt.%、In9.3wt.%的粗锡合金,在收集器中得挥发物成分为:Sn 9.43wt.%、In 88.09 wt.%的粗铟合金;
步骤4、将步骤3得到的粗铟加入到真空炉内,当真空炉内真空度达到20Pa时,将真空炉在1.5小时升温至1200℃保温2h,然后停止加热,保持真空自然冷却,冷却结束后在坩埚内得到残留物成分为:Sn80.3wt.%、In10.2wt.%的粗锡合金,在收集器中得挥发物成分为:Sn0.09wt.%、In99.6wt.%的粗铟合金;
步骤5、将步骤3得到的粗锡及步骤4得到的粗锡加入到真空炉内,当真空炉内真空度达到20Pa时,将真空炉1.5小时升温至1500℃保温1h,然后停止加热,保持真空自然冷却,冷却结束后在坩埚内得到残留物成分为:Sn98.11wt.%、In0.07wt.%的粗锡合金,在收集器中得挥发物成分为:Sn14.12wt.%、In76.2wt.%的粗铟合金,步骤5产生的粗铟合金返回步骤4处理得到含锡更低的粗铟合金。
3. 根据权利要求1所述的一种铟锡氧化物真空还原分离铟和锡的方法,其特怔在于具体步骤如下:
步骤1、将含Sn为2.54%,含In为80.16%,的铟锡氧化物通过球磨破碎至直径小于2mm,加入反应所需理论量的1.5倍的煤粉,混合均匀后制成直径为0.5~1.0㎝的颗粒,在100℃下干燥至含水量小于2%;
步骤2、将步骤1所得的铟锡氧化物颗粒加入到真空炉内,当真空炉内真空度达到2Pa,将真空炉1.5小时升温至1000℃保温2h,使铟锡氧化物在真空炉中发生初步还原反应;
步骤3、待步骤2反应结束后,升温度至1400℃时保温3h,然后停止加热,保持真空自然冷却,冷却结束后在坩埚内得到残留物成分为:Sn70.02wt.%、In28.56wt.%的粗锡合金,在收集器中得挥发物成分为:Sn 0.07wt.%、In 99.01wt.%的粗铟合金;
步骤3得到的粗铟合金可送入电解工序电解得到精铟,粗锡合金返回步骤2继续真空蒸馏,直到得到符合电解要求的粗锡为止。
4. 根据权利要求1所述的一种铟锡氧化物真空还原分离铟和锡的方法,其特怔在于具体步骤如下:
步骤1、将含Sn为72.20%,含In为6.96%的铟锡氧化物通过球磨破碎至直径小于2mm,加入反应所需理论量的1.6倍的煤粉,混合均匀后制成直径为1.0~1.5㎝的颗粒,在120℃下干燥至含水量小于2%;
步骤2、将步骤1所得的铟锡氧化物颗粒加入到真空炉内,当真空炉内真空度达到50Pa,将真空炉1小时升温至900℃保温1.5h,使铟锡氧化物在真空炉中发生初步还原反应;
步骤3、待步骤2反应结束后,升温度至1350℃时保温4h,然后停止加热,保持真空自然冷却,冷却结束后在坩埚内得到残留物成分为:Sn98.02wt.%、In0.341wt.%的粗锡合金,在收集器中得挥发物成分为:Sn 0.21wt.%、In 99.01wt.%的粗铟合金;
步骤3得到的粗锡合金送入电解工序电解得到精锡,粗铟合金返回步骤2继续真空蒸馏,直到得到符合电解要求的粗铟。
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