CN1046917A - 球状二氧化硅,其制法及其用于增强弹性体的应用 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及二氧化硅,其特征是呈球状,其BET表面60-130m2/g,密度0.28-0.37,总孔体积1.6-3.3cm3/g。该二氧化硅可用来增强弹性体。
Description
本发明涉及新沉淀二氧化硅,其制法及其用于增强弹性体的应用。
已知可将沉淀二氧化硅用作弹性体的增强填料。
但混合物中的所用增强填料均应易于处理并易于加料。
二氧化硅一般呈粉状。但由于夹带大量粉尘并且加料缓慢(表观密度低),所以粉状并不能令人满意。
这就是为什么人们要提出粒状的原因,粒状一般可解决上述两个问题,但常常使填料在弹性体中分散不均匀,并且与粉状填料相比,其增强程度更低。
为了克服这一缺陷,申请人已在欧洲专利No.18866中提出了解决办法。该专利提出了均匀粉状二氧化硅,其平均粒径大于80μm,BET表面100-300m2/g,密度约0.29。
已表明,这种产品的性能特别适用于增强弹性体。
不过,仍然要求进一步同时在一方面或必要时在多方面改进所得产品。
这就提出了制备在弹性体中分散性良好并且更为致密的产品的问题。
因此,本发明主要目的就是提出特定形态,即球状产品,其密度高,在弹性体中分散性良好且其性能得以提高。
因此,按本发明第一实施方式,本发明二氧化硅的特征是呈基本上为球形的球状,其平均粒径至少80μm,BET表面至多130m2/g,填实密度(DRT)大于0.32,总孔体积至少1.6cm3/g。
按本发明第二实施方案,本发明二氧化硅呈基本上为球形的球状,其平均粒径至少80μm,BET表面100-130m2/g密度0.28-0.32,总孔体积1.6-3.3cm3/g。
最后,按本发明第三实施方案,本发明二氧化硅的特征是呈基本上为球形的球状,其平均粒径至少80μm,BET表面大于100m2/g,密度为0.28-0.32。
此外,本发明还涉及上述二氧化硅制法,其中先将硅酸盐与酸化剂反应制成二氧化硅悬浮液并沉淀,然后将此悬浮液喷雾干燥,该法的特征是按以下步骤沉淀:
将参与反应的硅酸盐总量的至少一部分和电解质混合制成底液,
将酸化剂加入底液直至反应介质pH值达到7,
最后必要时间向反应介质中加酸化剂和余量硅酸盐;
并且将干物质含量至少18wt%且pH至少4的悬浮液干燥。
本发明的其它特征和优点见于以下详述和非限制性实例。
如上所述,本发明二氧化硅呈球状或珠状。这种球状意指基本上为球形。
本发明球状二氧化硅平均粒径至少80μm。
按本发明特定实施方案,该平均粒径至多300μm。按其它实施方案,该平均粒径大于100μm,特别是大于150μm,优选为100-250μm。该平均粒径按NF×11507标准((1970年12月)经干法筛分确定并且粒径的测定对应于不过筛聚集量为50%。
本发明产品另一特征是其BET表面。BET表面按The Journal of the American Chemical Society Vol.60,page 309,February 1938中所述BRUNAUER-EMMET-TELLER方法和NFT45007标准(1987年11月)(5.11.2)测定。
该BET表面按第一实施方案至多130m2/g,按第二实施方式,为100-130m2/g,而按第三实施方式为100m2/g以下。
按本发明特定实施方案,第一实施方式中BET表面低于100m2/g,第一和第三实施方式中该表面为至多95m2/g,一般至少50m2/g,特别是60-90m2/g。
此外,本发明二氧化硅总孔体积至少1.6cm2/g,特别是至少1.8cm3/g。
而总孔体积尤其是大于2,特别是2.4-3.3cm3/g。就第二实施方式而言,至多等于3.3cm3/g,这一上限对于第一和第三实施方式是优选的。
这里和下述过程中,孔体积按水银孔度测量法测度,孔径用WASHBURN式中接触角θ=130℃,而表面张力γ=484达因/cm计算。
孔度测定是用干产品在150℃和1Pa压力下进行的。所测孔涉及直径10-0.001μ的孔。
本发明二氧化硅之有利特征还有密度。一般来说,其填实密度(DRT)至少0.28,而最大0.37。
在本发明第一实施方式范围内,产品密度大于0.32,特别是至少0.33,可为0.33-0.37。
该密度按NFT No.030100标准测定。
本发明二氧化硅另一特征是其吸油性DOP,一般为至多270μl/100g。
按本发明其它实施方案,该吸油性DOP为至多250ml/100g,特别是至多215ml/g,而在第二实施方式情况下,尤其可为例如180-215ml/100g。
该吸油性DOP按NFT 30-022标准(53年3月)用邻苯二辛酯测定。
此外,本发明二氧化硅还有一特征就是其CTAB表面,一般为至多130m2/g,特别是等于或小于100m2/g,尤其是至多90m2/g。
CTAB表面为按NFT 45007标准(5.12)(1987年11月)测定的外表面。
也可设定二氧化硅的BET表面/CTAB表面为0.9-1.2。
上述二氧化硅制法如下述。
该法的特征是其中包括两大特殊步骤:沉淀和干燥。
应注意到,一般来说,该法为沉淀二氧化硅合成法,即将酸化剂与硅酸盐反应。
酸化剂和硅酸盐按众所周知的方法选定。
可以认为,一般采用无机强酸作酸化剂,如硫酸,硝酸或盐酸或有机酸如乙酸,甲酸,碳酸。
此外,不仅可用各种常见形态的硅酸盐,如偏硅酸盐或二硅酸盐,而且可有效地采用碱金属硅酸盐,如硅酸钠或硅酸钾。
特别就本发明沉淀法而言,沉淀特别是按以下步骤进行。
先制成含硅酸盐和电解质的底液。底液中硅酸盐量可为参与反应的总量,或仅为该总量的一部分。
就电解质而言,这一术语在这里就一般概念而论意指各种离子或分子物质,在溶于溶液时会分解或分离而形成带电离子或粒子。
特别是可用碱金属和碱土金属盐之一,优选为初始硅酸盐金属和酸化剂的盐,例如在硅酸钠与硫酸反应的情况下,为硫酸钠。
有利的是,电解质的浓度为0.05-0.7mol碱金属盐/l反应体积,和0.001-0.01mol碱土金属盐/l反应体积。
第二步是向上述组成的底液中加酸化剂。
这样加料使反应介质pH下降,加料持续到pH约7,一般到约7-8。
一旦该pH值达到,并且底液中仅含参与反应的硅酸盐原料总量的一部分时,就同时加酸化剂和余下的硅酸盐。
在加完全部余量硅酸盐时,沉淀反应即告结束。
有利的是在沉淀结束时,特别是在同时沉淀加料之后让反应介质熟化例如10分钟至1小时。
最后还可在各种情况之下,沉淀后在必要时的后续步骤中向反应介质中加额外量的酸化剂。这样加料一般持续到pH达到3-6.5左右。
反应介质温度一般为这种方法的常用温度,如为60-95℃。
上述操作结束时得到浆料,然后过滤和洗涤。按各种已知方法,如压滤或袋滤或真空过滤法进行过滤。
本发明方法另一特征是干燥。
一方面根据悬浮液性质,另一方面根据喷雾干燥时所用的相同条件而在特殊条件下进行干燥。
首先就悬浮液而言,该悬浮液应具备某些特点,这些特点要求仅在其干燥前夕形成悬浮液。
该悬浮液富含干物质。其干物质含量应为至少18%,特别是至少20%,优选为至少25%。
这种干物质含量可直接过滤而得,其中采用常见过滤器而得到含量符合要求的滤饼。另一方法是在过滤后,在该法后续步骤中再向干物质滤饼中加例如粉状二氧化硅,以便达到要求含量。
应注意到,众所周知,这样得到的滤饼并不处于可喷雾的状态,因为其粘度太高。
从已知角度来看,要将滤饼进行细化操作。将滤饼送入胶体或球磨机中进行这种细化。此外,为降低待细化悬浮液粘度,可加铝,特别是铝酸钠,方法见于FR-A-2536380,其公开内容供此参考。这种加料特别是在细化同时进行。
干燥之前应予明确的悬浮液另一特征是其pH条件。该pH应至少为4,优选至少4.5,特别是5-7。
干燥步骤的另一特点是其干燥种类。如上所述,采用的是喷雾干燥。
可采用各种雾化器,优选用喷嘴雾化器,可为液压式或双流体式。
所得产品特别适用于增强弹性体。应注意到,除此而外,该产品中粉尘极少并且流动性良好。
下述具体实例。
实例1
取一反应器,为不锈钢制成,其中装有螺旋踪拌系统和双层加热系统,向反应器中引入含700l水,19Kg Na2SO4和3231含水硅酯钠的水溶液。含水硅酸钠特性如下:SiO2/Na2O重量比=3.45,20℃比重等于1.230。将构成底液的该混合物加热到94℃,同时进行搅拌。然后引入3951 20℃比重等于1.050的稀硫酸,直至反应介质pH(同温度下测定)达到7.5。之后再引入1091同种酸,并一起加入831如上所述含水硅酸钠。这样同时引入酸和硅酯盐应保证反应介质pH在这段时间内保持7.5±0.1。硅酸盐全部加入后,再继续加稀酸,流量217l/h,历时7分钟。这样加料后pH等于4。
总反应时间定为85mn。
所得二氧化硅浆料用压滤器过滤后洗涤。
得到二氧化硅饼,其烧失率为74%。
该饼经机械和化学作用(引入铝酸钠)而流化。这样细化操作后,得到pH6的可泵送饼。然后用喷嘴雾化器使该饼雾化。
所得干燥二氧化硅特性如下:
pH =6.5(按1987年11月的
NFT 45007标准)
900℃烧失率 =10.5
DRT =0.310
吸油性D.O.P. =251ml/100g
SiO2
BET比表面 90m2/g
CTAB比表面 84m2/g
总孔体积 =2.95cm3/g
平均粒径 =220μm
实例2
采用实例1制成的干燥饼和二氧化硅。粉化饼(烧失率74%)保持搅拌条件下,引入干燥二氧化硅,其量足以使烧失率达到72%干燥前饼之pH定为6.1。
然后采用喷嘴雾化器干燥。所得干燥二氧化硅特性如下:
pH =6.6
900℃烧失率 =9%
吸油性D.O.P. =0.247
BET比表面 =200ml/100g二氧化硅
CTAB比表面 =90m2/g
总孔体积 83m2/g
平均粒径 =235μm
实例3
基本同于实例1,不同点如下:
用689l水,19Kg Na2SO4和334l含水硅酸钠形成底液,
底液加热到89℃,
向底液中加酸时保持89℃;第一次加酸后30mn,将温度升到93℃。
同时加酸和硅酸盐后11mn停止加酸,
总反应时间为88mn。
反应结束时所得二氧化硅奖料然后用压滤器过液。所得饼烧失率为76%。
该饼同实例1流化(其pH为5.9)后雾化。所得干燥二氧化硅特性如下:
pH =6.5
900℃烧失率 =6.3
DRT =0.30
吸油性D.O.P. =264ml/100g SiO2
BET比表面 =100m2/g
CTAB比表面 =93m2/g
总孔体积 =3.05cm3/g
平均粒径 =180μm
实例4
同实例1进行沉淀,其中不同点如下:
采用含800l水和23.6Kg Na2SO4以及223l含水硅酸钠的硫酸钠水溶液构成的底液,
一旦底液形成并加热到95℃,引入263l稀硫酸,
然后在另一步骤中同时引入77l同种稀酸和55l含水硅酸钠。
反应结束时,pH等于5.2。
总反应时间为90mn。
二氧化硅浆料用压滤器过滤,形成滤饼烧失率73.3%,细化后pH为6,喷雾干燥一部分细化饼。
所得干燥二氧化硅加入另一部分细化饼中。
所得饼烧失率71%,pH为6.1。喷嘴雾化器干燥后,得到干燥二氧化硅,其特征如下:
pH =6.5
900℃烧失率 =9.7
DRT =0.36
吸油性D.O.P. =182ml/100g SiO2
BET比表面 =72m2/g
CTAB比表面 =67m2/g
总孔体积 =2.55cm3/g
平均粒径 =240μm
实例5
同于实例1进行沉淀,不同点如下:
反应温度95℃,
同时加酸和硅酸盐后5mn停止引入酸,
反应结束时pH为5。
所得二氧化硅浆料用压滤器过滤。所得滤饼烧失率74%。
饼粉化。
一部分粉化饼进行雾化干燥。
将干燥二氧化硅加入另一部分粉化饼中,以制得烧失率等于71%和pH6.2的粉化饼。
喷嘴雾化干燥而得干燥二氧化硅,其特性如下:
pH =6.6
烧失率 =9
DRT =0.35
吸油性D.O.P. =200ml/100g SiO2
BET比表面 =80m2/g
CTAB比表面 =73m2/g
总孔体积 =2.60cm3/g
平均粒径 =245μm
实例6
同于实例1进行沉淀,不同点如下:
采用含800l水和27.5Kg Na2SO4以及223l含水硅酸钠的硫酸钠水溶液构成的底液。
反应温度为95℃,
一旦底液形成并加热到95℃,引入269l硫酸,
然后同时引入77l酸和55l含水硅酸钠。
反应结束时,pH等于5.2。
总反应时间为90mn。
二氧化硅浆料用压滤器过滤,形成滤饼烧失率72.5%。
进行细化,pH为6的粉化浆料用喷嘴雾化器干燥。所得二氧化硅特性如下:
pH =6.5
烧失率 =8.3
DRT =0.33
吸油性D.O.P. =209ml/100g SiO2
BET表面 =63m3/g
CTAB表面 60m2/g
总孔体积 =2.72
平均粒径 =235μm
实例7
该实例涉及将实例2所得二氧化硅用于工业橡胶配方。
采用以下两种配方(重量份)。
配方 A B
Vistalon 808(EPDM
乙烯丙二烯单体) 100 100
EVA UL 00218(乙烯
乙酸乙烯) 200 200
SILOX 85(过氧化物) 1.5 1.5
二氧化硅S150 0
二氧化硅S20 50
S1为实例1的二氧化硅。
S2为现有技术中欧洲专利No.18866中所述二氧化硅。该二氧化硅BET表面185m2/g,CTAB表面175m2/g,DRT密度0.25,平均粒度150μm,孔体积3.61cm3/g。
配制方法如下:
在内混器中先加入VISTALON,EVA和SILOX。
再引入二氧化硅。
混合器在140℃下排料。所得组合物挤出(挤出口温度150℃)而形成成型片。
以下根据伸长列出所得片的模数。
伸长 模数MPa
S1片 S2片
100% 4.8 3.9
200% 5 4.1
300% 5.6 4.7
断裂伸长 680% 510%
断裂强度 8MPa 6MPa
可以看出,在热型性组合物中本发明二氧化硅明显改善了模数以及极限值。
Claims (21)
1、二氧化硅,其特征是呈基本上为球形的球状,其平均粒径至少80μm,BET表面至多130m3/g,填实密度(DRT)大于0.32,总孔体积至少1.6cm3/g。
2、二氧化硅,其特征是呈基本上为球形的球状,其平均粒径至少80μm,BET表面100-130m2/g,密度0.28-0.32,总孔体积1.6-3.3cm3/g。
3、二氧化硅,其特征是呈基本上为球形的球状,其平均粒径至少80μm,BET表面低于100m2/g,密度0.28-0.32。
4、权利要求3的二氧化硅,其特征是总孔体积至少1.6cmcm3/g。
5、权利要求1,3或4的二氧化硅,其特征是总孔体积至多3.3cm3/g。
6、权利要求1的二氧化硅,其特征是BET表面低于100mm2/g。
7、权利要求1,5或6的二氧化硅,其特征是密度至少0.33,种别是0.33-0.37。
8、权利要求1和3-7之一的二氧化硅,其特征是BET表面至多90m2/g。
9、上述权利要求之一的二氧化硅,其特征是吸油性D.O.P至多270ml/100g,特别是至多250ml/100g,尤其是至多215ml/100g。
10、权利要求1和3-9之一的二氧化硅,其特征是BET表面至多90m2/g。
11、上述权利要求之一的二氧化硅,其特征是CTAB表面至多130m2/g,特别是等于或低于100m2/g,尤其是至多90m2/g。
12、上述权利要求之一的二氧化硅,其特征是呈平均粒径大于100μm的球状。
13、上述权利要求之一的二氧化硅,其特征是呈平均粒径至多300μm的球状。
14、上述权利要求之一的二氧化硅,其特征是BET表面/CTAB表面为0.9-1.2。
15、权利要求1-14之一所述二氧化硅制法,其中包括制成二氧化硅悬浮液,步骤包括将硅酸盐与酸化剂反应并沉淀后喷雾干燥该悬浮液,其特征是按以下两步进行沉淀:
将参与反应的硅酸盐总量的至少一部分和电解质混合制成底液,
将酸化剂加入底液直至反应介质pH值达到7,
最后必要时同时向反应介质中加酸化剂和余量硅酸盐。
并且将干物质含量至少18%且pH至少4的悬浮液干燥。
16、权利要求15的方法,其特征是同时为酸化剂和硅酸盐后向反应介质中加额外量的酸化剂。
17、权利要求16的方法,其特征是加额外量催化剂直至反应介质pH达到3-6.5左右。
18、权利要求15-17之一的方法,其特征是电解质为碱金属或碱土金属盐。
19、权利要求18的方法,其特征为所述金属和酸化剂的盐。
20、权利要求15-19之一的方法,其特征是干燥干物质含量至少25%的悬浮液。
21、权利要求1-14之一的二氧化硅或权利要求15-20之一的方法制成的二氧化硅用作弹性体的增强填料。
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