CN104678643B - 显示基板及显示面板的制作方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种显示基板的制作方法及显示面板的制作方法，用以解决现有技术中因光配向所导致的薄膜晶体管中漏电流过大、串扰等问题，提高面板的显示质量用户感受。所述显示基板的制作方法包括：利用构图工艺形成遮光板，所述遮光板包括透明的衬底基板和与待光配向的阵列基板中的有源层相匹配的遮光层；将所述遮光板覆盖在待光配向的阵列基板的上方，对阵列基板侧的配向膜进行光配向；其中，所述遮光层在正投影方向上与所述有源层至少部分重叠。

Description

显示基板及显示面板的制作方法

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种显示基板的制作方法及显示面板的制作方法。

背景技术

液晶面板显示器是目前主流的平板显示器，广泛应用于电视、笔记本、数码相机、移动手持设备等领域。

目前液晶显示面板主要包括：阵列基板，彩膜基板以及位于阵列基板和彩膜基板之间的液晶层；参见图1和图2，其中图2为沿图1中虚线A1_A2方向的剖面图，该阵列基板包括：衬底基板101，位于衬底基板上方的栅极102，位于所述栅极上方的栅绝缘层103，位于所述栅绝缘层103上方的有源层104，位于所述有源层104上方的信号线层105(包括同层设置的源极和漏极)，位于所述信号线层105上方的绝缘层106，以及位于所述绝缘层106上方的、且通过贯穿绝缘层106的过孔107与所述漏极电连接的像素电极108。制作所述液晶显示面板的主要步骤包括：制作阵列基板和彩膜基板，以及对阵列基板和彩膜基板进行对盒工艺；在对盒工艺中，首先分别对所述阵列基板和彩膜基板进行配向膜印刷以及光配向处理，然后在阵列基板和彩膜基板之间注入液晶，并使用封框胶进行密封，最后切割成单个面板并通过在该单个面板的上下两侧贴敷偏正方向相互垂直的偏振片以形成液晶显示面板。

其中，配向膜是使用液晶配向材料来制作的，分为两种制作方法，一种是摩擦法，另一种是光配向法，因为摩擦法需要采用绒布与配向膜材料接触且沿一个方向摩擦，而光配向法采用光源照射配向膜材料，不需要与配向膜材料直接接触，所以在配向过程中，光配向法所产生的灰尘或静电比摩擦处理少。因此，通过使用光配向法可以得到配向性良好的液晶配向膜，从而改善液晶显示元件的性能。但是，对于非晶硅+欧姆层构造而成的有源层来说，光线照射到非晶硅层时会导致该层中产生光生电子，导致漏电流变大，从而影响薄膜晶体管的电学特性，进而致串扰等问题的发生，影响液晶面板的显示质量，降低用户感受。

发明内容

本发明实施例提供了一种显示基板的制作方法及显示面板的制作方法，用以解决现有技术中因光配向所导致的薄膜晶体管中漏电流过大、串扰等问题，提高面板的显示质量用户感受。

本发明实施例提供了一种显示基板的制作方法，所述方法包括：

利用构图工艺形成遮光板，所述遮光板包括透明的衬底基板和与待光配向的阵列基板中的有源层相匹配的遮光层；

将所述遮光板覆盖在待光配向的阵列基板的上方，对阵列基板侧的配向膜进行光配向；其中，所述遮光层在正投影方向上与所述有源层至少部分重叠。

本发明实施例中，通过构图工艺形成的遮光板包括透明的衬底基板和与待光配向的阵列基板中的有源层相匹配的遮光层，在对阵列基板的配向膜进行光配向的过程中，将该遮光板覆盖在待光配向的阵列基板的上方，所述遮光层在正投影方向上与所述有源层至少部分重叠，使得照射到有源层的部分光线能够被遮住，进而降低有源层的漏电流，提高薄膜晶体管的电学特性，进而防止串扰等问题的发生，同时提高显示面板的显示质量和用户感受。

较佳的，所述遮光层在正投影方向上与所述有源层完全重叠。当所述遮光层在正投影方向上与所述有源层完全重叠时，遮光层就将有源层完全遮住，从而使照射到有源层的光线全部被遮住，能够更进一步地降低有源层的漏电流，提高薄膜晶体管的电学特性，避免串扰等问题的发生。

较佳的，所述利用构图工艺形成遮光板，具体包括：

在透明的衬底基板上沉积一金属层；

在所述金属层上涂覆一层光刻胶，利用与所述有源层匹配的有源层掩膜板形成与所述有源层相匹配的遮光层。

通过在透明的衬底基板上沉积一金属层，并利用与所述有源层匹配的有源层掩膜板形成与所述有源层相匹配的遮光层，使得光配向所使用的光可以透过所述透明衬底以对配向膜进行光配向，同时由于在有源层的上方区域存在与所述有源层相匹配的遮光层，有效的遮住了光配向所使用的线偏极紫外光，使得照射到有源层的部分光线能够被遮住，有效的避免了有源层中光生电子的产生，降低了有源层的漏电流，提高了薄膜晶体管的电学特性，进而防止串扰等问题的发生，同时提高了显示面板的显示质量和用户感受。

较佳的，在进行光配向之前，所述方法还包括：

利用构图工艺制作包括衬底基板、栅极、栅绝缘层、有源层、信号线层、信号线绝缘层和像素电极的阵列基板。

在利用紫外线进行光配向之前先制作阵列基板，可明确该阵列基板的大小、有源层的形状以及制作该有源层所使用的有源层掩膜板，使得可根据该有源层掩膜板制作遮光层。

较佳的，制作所述遮光层的材料与制作栅极或/和信号线层的材料相同。使用与制作栅极或/和信号线层相同的材料制作所述遮光层，可采用与制作栅极或/信号线层相同的工艺制作所述遮光层，有利于简化工艺复杂度，节约生产成本。

较佳的，采用线偏极紫外光进行光配向。

较佳的，所述方法还包括：在完成对阵列基板侧的配向膜进行光配向后，将所述遮光板从阵列基板上方移除。完成光配向后将所述遮光板从阵列基板上方移除，以便进行对盒工艺。

本发明实施例还提供了一种显示面板的制作方法，所述方法包括：

利用构图工艺制作彩膜基板和阵列基板；

在阵列基板的上方、面向彩膜基板的一侧制作阵列基板侧的配向膜；

在彩膜基板下方、面向阵列基板的一侧制作彩膜基板侧的配向膜；

将遮光板覆盖在待光配向的阵列基板的上方，对阵列基板侧的配向膜进行光配向；其中，所述遮光层在正投影方向上与所述有源层至少部分重叠；所述遮光板包括透明的衬底基板和与待光配向的阵列基板中的有源层相匹配的遮光层；

对彩膜基板侧的配向膜进行光配向；

对阵列基板和彩膜基板进行对盒。

本发明实施例提供的制作显示面板的方法中，通过构图工艺形成的遮光板，该遮光板包括透明的衬底基板和与待光配向的阵列基板中的有源层相匹配的遮光层，在对阵列基板的配向膜进行光配向的过程中，将该遮光板覆盖在待光配向的阵列基板的上方，所述遮光层在正投影方向上与所述有源层至少部分重叠，使得照射到有源层的部分光线能够被遮住，进而降低有源层的漏电流，提高薄膜晶体管的电学特性，进而防止串扰等问题的发生，同时提高显示面板的显示质量和用户感受。

附图说明

图1为现有技术中阵列基板的平面结构示意图；

图2为沿图1中虚线A1-A2方向的阵列基板的剖面结构示意图；

图3为本发明实施例一提供的显示基板的制作方法；

图4为本发明实施例提供的遮光板剖面结构示意图；

图5为利用本发明实施例提供的遮光板对阵列基板侧的配向膜进行光配向的示意图；

图6为遮光层在正投影方向上的投影区域大于有源层的覆盖范围时的示意图；

图7为本发明实施例提供的制作显示基板的流程示意图。

具体实施方式

本发明实施例提供了一种显示基板的制作方法及显示面板的制作方法，用以解决现有技术中因光配向所导致的薄膜晶体管中漏电流过大、串扰等问题，提高面板的显示质量用户感受。

本发明实施例提供了一种显示基板的制作方法，参见图3，所述方法包括：

步骤S31，参见图4，利用构图工艺形成遮光板，所述遮光板包括透明的衬底基板41和与待光配向的阵列基板中的有源层相匹配的遮光层42。

步骤S32，将所述遮光板覆盖在待光配向的阵列基板的上方，对阵列基板侧的配向膜进行光配向；其中，所述遮光层在正投影方向上与所述有源层至少部分重叠。

本发明实施例中，通过构图工艺形成的遮光板包括透明的衬底基板和与待光配向的阵列基板中的有源层相匹配的遮光层，在对阵列基板的配向膜进行光配向的过程中，将该遮光板覆盖在待光配向的阵列基板的上方，所述遮光层在正投影方向上与所述有源层至少部分重叠，使得照射到有源层的部分光线能够被遮住，进而降低有源层的漏电流，提高薄膜晶体管的电学特性，进而防止串扰等问题的发生，同时提高显示面板的显示质量和用户感受。

需特别指出的是，目前光配向工艺中，虽然有源层掩膜板具有遮光的作用，理论上可以作为遮光板使用，但是实际工艺中并不能使用有源层掩膜板作为遮光板使用，具体原因如下：

一，有源层掩膜板厚度约10mm，厚度大，会降低光配向工艺中照射光的透过率，影响光配向的质量和效率。

二，有源层掩膜板价格昂贵，反复使用易造成磨损，从而导致生产成本增加。

三，有源层掩膜板尺寸较小，如使用有源层掩膜板作为遮光板，则在光配向工艺中需要同时使用多个有源层掩膜板，或利用一个有源层掩膜板通过多次照射完成光配向工艺，增大了光配向工艺的复杂程度和成本。并且，由于具有厚度大、尺寸小，有源层掩膜板需通过一定的方式悬挂在阵列基板的上方时容易跌落，进而导致阵列基板的损坏。

综上，现有技术中在进行光配向的过程中不可能使用有源层掩膜板作为遮光板来遮住有源层上方的光线。

进一步的，参见图5；图5为利用本发明实施例提供的遮光板对阵列基板侧的配向膜进行光配向的示意图，从图5中可以看出，所述遮光层在正投影方向上与所述有源层完全重叠。当所述遮光层在正投影方向上与所述有源层完全重叠时，遮光层就将有源层完全遮住，从而使照射到有源层的光线全部被遮住，能够更进一步地降低有源层的漏电流，提高薄膜晶体管的电学特性，避免串扰等问题的发生。

此外，参见图6；所述遮光层在正投影方向上的投影区域还可以大于所述有源层的覆盖范围，在所述投影区域的边缘与所述有源层的边缘之间的距离d约3mm，以避免对位偏差所造成的遮光板正投影方向上不能完全覆盖有源层的问题。

进一步的，其中所述利用构图工艺形成遮光板，具体包括：

在透明的衬底基板上沉积一金属层；

在所述金属层上涂覆一层光刻胶，利用与所述有源层匹配的有源层掩膜板形成与所述有源层相匹配的遮光层。

通过在透明的衬底基板上沉积一金属层，并利用与所述有源层匹配的有源层掩膜板形成与所述有源层相匹配的遮光层，使得光配向所使用的光可以透过所述透明衬底以对配向膜进行光配向，同时由于在有源层的上方区域存在与所述有源层相匹配的遮光层，有效的遮住了光配向所使用的线偏极紫外光，使得照射到有源层的部分光线能够被遮住，有效的避免了有源层中光生电子的产生，降低了有源层的漏电流，提高了薄膜晶体管的电学特性，进而防止串扰等问题的发生，同时提高了显示面板的显示质量和用户感受。

进一步的，在进行光配向之前，所述方法还包括：

利用构图工艺制作包括衬底基板、栅极、栅绝缘层、有源层、信号线层、信号线绝缘层和像素电极的阵列基板。由于该本发明实施例中的阵列基板的结构与现有技术相同，故此处不再详述。

在利用紫外线进行光配向之前先制作阵列基板，可明确该阵列基板的大小、有源层的形状以及制作该有源层所使用的有源层掩膜板，使得可根据该有源层掩膜板制作遮光层。

进一步的，制作所述遮光层的材料与制作栅极或/和信号线层的材料相同。使用与制作栅极或/和信号线层相同的材料制作所述遮光层，可采用与制作栅极或/信号线层相同的工艺制作所述遮光层，有利于简化制作工艺复杂度，节约生产成本。

进一步的，本发明实施例中采用线偏极紫外光进行光配向。

进一步的，所述方法还包括：在完成对阵列基板侧的配向膜进行光配向后，将所述遮光板从阵列基板上方移除。完成光配向工艺后将所述遮光板从阵列基板上方移除，以便进行对盒工艺。

参见图7，以包括本发明实施例中的阵列基板的显示基板为例，所述显示基板的制作步骤包括：

步骤S71，在衬底基板上形成包括栅极的图形。具体包括：

首先在衬底基板上(可为透明玻璃基板或者石英基板)，采用溅射或热蒸发的方法依次沉积厚度约为的金属膜层。通过一次曝光显影、光刻和刻蚀工艺形成栅极。所述金属膜层可以为镉Cr、钨W、钛Ti、铊Ta和钼Mo等金属膜层或上述金属中的至少两种构成的合金，可以是单层金属膜层也可以是多层金属膜层。

步骤S72，在包括栅极的图形的基板上形成包括栅绝缘层的图形。具体包括：

在包括栅极的图形的基板上连续沉积厚度为的绝缘材料层，该绝缘层为栅绝缘层；该栅绝缘层采用氧化硅或氮化硅等绝缘材料。

步骤S73，在包括栅绝缘层的图形的基板上形成包括有源层的图形。具体包括：在包括栅绝缘层的图形的基板上沉积非晶硅材料，并利用有源层掩膜板形成包括有源层的图形。

步骤S74，在包括有源层的图形的基板上形成包括信号线层的图形。具体包括：采用溅射或热蒸发的方法依次沉积一金属膜层。通过一次曝光显影、光刻和刻蚀工艺形成信号线层；所述金属膜层可以为镉Cr、钨W、钛Ti、铊Ta和钼Mo等金属膜层或上述金属中的至少两种构成的合金，可以是单层金属膜层也可以是多层金属膜层。

步骤S75，在包括信号线层的图形的基板上形成包括绝缘层的图形。具体包括：通过PECVD方法连续沉积厚度为的绝缘层，并通过一次曝光、显影、光刻、刻蚀等工艺形成贯穿该绝缘层、用于使得信号线层中的漏极与像素电极实现电连接的过孔；该绝缘层采用氧化硅或氮化硅等绝缘材料形成。

步骤S76，在包括绝缘层的图形的基板上形成包括像素电极的图形。具体包括：通过溅射或热蒸发的方法沉积上厚度约为的透明导电层膜层。通过一次曝光、显影、以及光刻、刻蚀等工艺后形成像素电极。所述像素电极可以是ITO或者IZO，或者其他的透明金属氧化物。

步骤S77，利用有源层掩膜板，制作遮光板。具体包括：

在空白的透明玻璃基板上，采用溅射或热蒸发的方法依次沉积厚度约为的金属膜层。通过一次曝光显影、光刻和刻蚀工艺形成遮光层，以形成包括遮光层的遮光板。所述金属膜层可以为镉Cr、钨W、钛Ti、铊Ta和钼Mo等金属膜层或上述金属中的至少两种构成的合金，可以是单层金属膜层也可以是多层金属膜层。由于透明玻璃基板的厚度约为0.7mm，光配向工艺中照射光可以很好通过该玻璃基板，有利于提供照射光的透过率。并且，所述空白玻璃上可以同时制作多个与所述遮光层，每一所述遮光层与阵列基板中的一有源层对应，使得阵列基板中的有源层可以全部被覆盖，以提高显示面板的显示质量。此外，该遮光板平面面积较大且质量较轻，在进行光配向时可覆盖在所述阵列基板的上方，降低了由于跌落所导致的阵列基板损坏的几率。

步骤S78，通过配向膜印刷版进行转印的方式或喷墨式印刷方式制作阵列基板侧的配向膜。

步骤S79，将所述遮光板覆盖在待光配向的阵列基板的上方，对阵列基板侧的配向膜进行光配向；其中，所述遮光层在正投影方向上与所述有源层至少部分重叠；所述遮光板包括透明的衬底基板和与待光配向的阵列基板中的有源层相匹配的遮光层。

步骤S710，在光配向工艺完成后，将所述遮光板从阵列基板上方移除。

本发明实施例二还提供了一种显示面板的制作方法，所述方法包括：

利用构图工艺制作彩膜基板和阵列基板；

在阵列基板的上方、面向彩膜基板的一侧制作阵列基板侧的配向膜；

在彩膜基板下方、面向阵列基板的一侧制作彩膜基板侧的配向膜；

将遮光板覆盖在待光配向的阵列基板的上方，对阵列基板侧的配向膜进行光配向；其中，所述遮光层在正投影方向上与所述有源层至少部分重叠；所述遮光板包括透明的衬底基板和与待光配向的阵列基板中的有源层相匹配的遮光层；

对彩膜基板侧的配向膜进行光配向；

对阵列基板和彩膜基板进行对盒。

本发明实施例提供的制作显示面板的方法中，通过构图工艺形成的遮光板，该遮光板包括透明的衬底基板和与待光配向的阵列基板中的有源层相匹配的遮光层，在对阵列基板的配向膜进行光配向的过程中，将该遮光板覆盖在待光配向的阵列基板的上方，所述遮光层在正投影方向上与所述有源层至少部分重叠，使得照射到有源层的部分光线能够被遮住，进而降低有源层的漏电流，提高薄膜晶体管的电学特性，进而防止串扰等问题的发生，同时提高显示面板的显示质量和用户感受。

综上，本发明实施例提供了一种显示基板的制作方法及显示面板的制作方法，通过构图工艺形成的遮光板包括透明的衬底基板和与待光配向的阵列基板中的有源层相匹配的遮光层，在对阵列基板的配向膜进行光配向的过程中，将该遮光板覆盖在待光配向的阵列基板的上方，所述遮光层在正投影方向上与所述有源层至少部分重叠，使得照射到有源层的部分光线能够被遮住，进而降低有源层的漏电流，提高薄膜晶体管的电学特性，进而防止串扰等问题的发生，同时提高显示面板的显示质量和用户感受。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (7)

1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

利用构图工艺形成遮光板，所述遮光板包括透明的衬底基板和与待光配向的阵列基板中的有源层相匹配的遮光层；

将所述遮光板覆盖在待光配向的阵列基板的上方，对阵列基板侧的配向膜进行光配向；其中，所述遮光层在正投影方向上的投影区域大于所述有源层的覆盖范围。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述利用构图工艺形成遮光板，具体包括：

在透明的衬底基板上沉积一金属层；

在所述金属层上涂覆一层光刻胶，利用与所述有源层匹配的有源层掩膜板形成与所述有源层相匹配的遮光层。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在进行光配向之前，所述方法还包括：

利用构图工艺制作包括衬底基板、栅极、栅绝缘层、有源层、信号线层、信号线绝缘层和像素电极的阵列基板。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，制作所述遮光层的材料与制作栅极或/和信号线层的材料相同。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于，采用线偏极紫外光进行光配向。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法还包括：

在完成对阵列基板侧的配向膜进行光配向后，将所述遮光板从阵列基板上方移除。

7.一种显示面板的制作方法，其特征在于，所述方法包括：

利用构图工艺制作彩膜基板和阵列基板；

在阵列基板的上方、面向彩膜基板的一侧制作阵列基板侧的配向膜；

在彩膜基板下方、面向阵列基板的一侧制作彩膜基板侧的配向膜；

将遮光板覆盖在待光配向的阵列基板的上方，对阵列基板侧的配向膜进行光配向；其中，所述遮光层在正投影方向上的投影区域大于所述有源层的覆盖范围；所述遮光板包括透明的衬底基板和与待光配向的阵列基板中的有源层相匹配的遮光层；

对彩膜基板侧的配向膜进行光配向；

对阵列基板和彩膜基板进行对盒。