CN104637395A - 用于基板上的标识结构、基板以及形成基板的标识结构的方法 - Google Patents

用于基板上的标识结构、基板以及形成基板的标识结构的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN104637395A
CN104637395A CN201310565541.4A CN201310565541A CN104637395A CN 104637395 A CN104637395 A CN 104637395A CN 201310565541 A CN201310565541 A CN 201310565541A CN 104637395 A CN104637395 A CN 104637395A
Authority
CN
China
Prior art keywords
scale
substrate
mark
edge
code
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201310565541.4A
Other languages
English (en)
Inventor
吴韦良
刘健行
黄正义
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
EverDisplay Optronics Shanghai Co Ltd
Original Assignee
EverDisplay Optronics Shanghai Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by EverDisplay Optronics Shanghai Co Ltd filed Critical EverDisplay Optronics Shanghai Co Ltd
Priority to CN201310565541.4A priority Critical patent/CN104637395A/zh
Priority to TW103104856A priority patent/TW201519398A/zh
Publication of CN104637395A publication Critical patent/CN104637395A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F3/00—Labels, tag tickets, or similar identification or indication means; Seals; Postage or like stamps
    • G09F3/02—Forms or constructions
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06K—GRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
    • G06K19/00—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings
    • G06K19/06—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code
    • G06K19/06009—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code with optically detectable marking
    • G06K19/06018—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code with optically detectable marking one-dimensional coding
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06K—GRAPHICAL DATA READING; PRESENTATION OF DATA; RECORD CARRIERS; HANDLING RECORD CARRIERS
    • G06K19/00—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings
    • G06K19/06—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code
    • G06K19/06009—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code with optically detectable marking
    • G06K19/06037—Record carriers for use with machines and with at least a part designed to carry digital markings characterised by the kind of the digital marking, e.g. shape, nature, code with optically detectable marking multi-dimensional coding

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

本发明公开了一种用于基板上的标识结构、基板以及形成基板的标识结构的方法，标识结构包括设置在该基板上的标识，标识用于识别该基板，所述标识结构包括：横向长度标志，设置在标识的横向侧，以用于判断标识的横向位置是否偏移；竖向长度标志，设置在标识的竖向侧，以用于判断标识的竖向位置是否偏移。本发明通过在基板上的标识的周围设置横向长度标志以及纵向长度标志，对标识的横向偏移量以及纵向偏移量提供标准，以便于检测人员对标识的位置是否符合标准进行判断。解决了检测人员以人眼辨识来判断标识的位置是否正常，在无任何标准基础依据下，皆只能以感觉去评判，无法在第一时间立即判断是否正常的问题。其中，上述的标识可以是ID码。

Description

用于基板上的标识结构、基板以及形成基板的标识结构的方法
技术领域
本发明涉及显示基板的制作技术领域，尤其涉及基板的标识结构以及形成基板的标识结构的方法。
背景技术
对于显示基板的制作工艺中，一般需要在显示基板上刻蚀ID码，以便于进行产品追踪控管。且由于ID码的制作工艺，因有设备定位精度、Glass形变及ID码定位精度等问题，导致ID码的位置会有偏移现像，若位置偏移量过大，则后续二维码读取机将无法读取，并可能造成厂内部份设备于读取ID时发生问题而使产线设备需停机确认，进而造成生产不顺等问题。
现行的ID码的监控机制有二种方法：
第一种是在部分检测设备上加装二维码读取机进行监控。
第二种是在现在的检测设备上以拍照方式或是人眼辨识来判断是否正常。
对于第一种方法，二维码读取机非所有检测设备都能加装，且因二维码读取机必需架设在可移动的设备上，其一般可移动的设备的移动行程有限，故亦无法全面监测到所有ID码的状况。
由上述的监控范围有限情况下，一些生产厂商会再在量测机台上才用上述的第二种方式，以拍照方式或是由检测人员以人眼辨识来判断ID码的位置是否正常，在无任何标准基础依据下，一般只能以感觉去评判，无法在第一时间立即判断是否正常。
发明内容
本发明的目的在于提供一用于基板上的标识结构、基板以及形成基板的标识结构的方法，以解决上述的ID码管控过程中的问题。
本发明提供了一种用于基板的标识结构，包括设置在该基板上的标识，该标识用于识别该基板，其中所述标识结构包括：横向长度标志，设置在该标识的横向侧，以用于判断该标识的横向位置是否偏移；竖向长度标志，设置在该标识的竖向侧，以用于判断该标识的竖向位置是否偏移。
根据本发明用于基板的标识结构的一实施方式，其中，其中该横向长度标志以及该竖向长度标志均为刻度，该横向长度标志为该横边的该刻度，该竖向长度标志为该竖边的该刻度。
根据本发明用于基板的标识结构的一实施方式，其中，该标识为ID码，该ID码形成于一矩形的ID层上，该ID层置于该基板上；该横向长度标志以及该竖向长度标志设置于该ID层的边缘。
根据本发明用于基板的标识结构的一实施方式，其中，该横边的该刻度的起始位置位于ID层的横边的一端，并平行横边方向延伸；该竖边的该刻度的起始位置位于ID层的竖边的一端，并平行竖边方向延伸；该横边的该刻度用于判断该ID码相对该ID层竖边是否偏移；该竖边的该刻度用于判断该ID码相对该ID层横边是否偏移。
根据本发明用于基板的标识结构的一实施方式，其中，该横边的该刻度以及该竖边的该刻度的长度为600-800um。
根据本发明用于基板的标识结构的一实施方式，其中，该横边的刻度为四条，每条横边的两端各为一平行横边方向延伸的该刻度的起点；该竖边的刻度为四条，每一条竖边的两端各为一一平行竖边方向延伸的该刻度的起点。
根据本发明用于基板的标识结构的一实施方式，其中，该ID码包括字母码、ID层为涂覆在该基板上的膜，ID码以及该刻度均由经刻蚀后的该膜形成。
根据本发明用于基板的标识结构的一实施方式，其中，该ID码包括字母码、数字码及/或二维码；该字母码、数字码及/或二维码在该ID层的成一排横向排列。
本发明还提供了一种形成基板的标识结构的方法，其中，包括将基板的标识设置在该基板上，该标识用于识别该基板；在该标识的横向侧，设置横向长度标志，以用于判断该标识的横向位置是否偏移；在该标识的竖向侧，设置竖向长度标志，以用于判断该标识的竖向位置是否偏移。
根据本发明形成基板的标识结构的方法的一实施方式，其中，其中该横向长度标志以及该竖向长度标志均为刻度，该横向长度标志为该横边的该刻度，该竖向长度标志为该竖边的该刻度。
根据本发明形成基板的标识结构的方法一实施方式，其中，该标识为ID码，将该ID码置于一矩形的ID层上，该ID层置于该基板上；将该横边的该刻度以及该竖边的该刻度设置于该ID层的边缘。
根据本发明形成基板的标识结构的方法一实施方式，其中，该横边的该刻度的起始位置位于ID层的横边的一端，并平行横边方向延伸；该竖边的该刻度的起始位置位于ID层的竖边的一端，并平行竖边方向延伸；该横边的该刻度用于判断该ID码相对该ID层竖边是否偏移；该竖边的该刻度用于判断该ID码相对该ID层横边是否偏移。
根据本发明形成基板的标识结构的方法一实施方式，其中，该横边的该刻度以及该竖边的该刻度的长度为600-800um。
根据本发明形成基板的标识结构的方法一实施方式，其中，该横边的刻度为四条，每条横边的两端各为一平行横边方向延伸的该刻度的起点；该竖边的刻度为四条，每一条竖边的两端各为一一平行竖边方向延伸的该刻度的起点。
根据本发明形成基板的标识结构的方法一实施方式，其中，该ID码包括字母码、数字码及/或二维码；该字母码、数字码及/或二维码在该ID层的成一排横向排列。
根据本发明形成基板的标识结构的方法一实施方式，其中，包括：在形成基板的标识结构的方法包括：在基板上涂敷有膜，在黄光部的工艺中，在曝光步骤将该横向长度标志以及该纵向长度标志的图形曝光于光刻胶上；在显影步骤将该横向长度标志以及该纵向长度标志形成于光刻胶上；在刻蚀步骤将该膜上刻蚀出该横向长度标志以及该纵向长度标志，该横向长度标志以及该纵向长度标志为由经刻蚀后的该膜形成在玻璃基板上。
本发明另外还提供了一种基板，包括基板以及上述的任一种标识结构。
综上所述，本发明通过在基板上的标识的周围设置横向长度标志以及纵向长度标志，对标识的横向偏移量以及纵向偏移量提供标准，以便于检测人员对标识的位置是否符合标准进行判断。解决了检测人员以人眼辨识来判断标识的位置是否正常，在无任何标准基础依据下，皆只能以感觉去评判，无法在第一时间立即判断是否正常的问题。
附图说明
图1为基板的标识的示意图；
图2所示为根据本发明示例实施方式的基板的标识结构一实施例的示意图；
图3所示为根据本发明示例实施方式的基板的标识结构另一实施例的示意图；
图4a、4b、4c为根据本发明示例实施方式的基板的标识结构的制作流程图。
具体实施方式
本发明的下述实施方式中，基板的标识通过ID码的方式表示，但此仅为更详细的说明本发明，实际上基本的标识并不限于此，能够用于识别基板的标识均可以在下述实施例中进行合理替换。
图1为基板的标识的示意图，如图1所示，本发明实施例的ID码1主要由位于ID区域2左侧的字母码、位于ID区域2右侧的数字码以及位于字母码和数字码之间的二维码5。ID码1应设于基板（例如，基板）的矩形ID区域2内部，本发明的目的主要用于方便监控ID码1在矩形ID区域2的内位置是否发生偏移，且偏移量是否在正常范围内。参考图1，由于一般字母码、二维码以及数字码均是成一个整体刻蚀在基板的ID区域2内，故一般仅需确认字母码的首位字母A的位置的偏移量是否在正常范围内，数字码5的末位数字5的位置的偏移量是否在正常范围内，以及二维码5的位置的偏移量是否在正常范围内即可。参考图1，字母A距离ID区域2的上侧横边的距离为f，字母A距离ID区域2的左侧竖边的距离为n，因此，判断首位字母A的位置的偏移量是否在正常范围内，可以通过判定距离f以及n的偏移量是否在正常范围内。二维码5距离ID区域2的上侧横边的距离为m，判断二维码5的位置的偏移量是否在正常范围内，可以通过判定距离m来确定。参照上述，以可以判定数字5的位置的偏移量是否在正常范围内，在此不做赘述。
其中，上述的具体数字和字母，如数字5以及字母A，实际上，本领域技术人员亦可以使用其他的数字和/或字母进行替代，实际上并不影响本发明的实现，故在此不做赘述。
图2所示为根据本发明示例实施方式的基板的标识结构一实施例的示意图，参考图2，基板的标识结构包括，ID码1、横向长度标志6以及竖向长度标志7。ID码1包括字母码3、二维码5以及数字码4。其中，本实施例的横向长度标志6以及竖向长度标志7均为刻度。ID区域2为一设置ID码的ID层2，ID层2设置在基板（未在图中示出）上。
参考图2，本实施例的基板的标识结构包括，ID码1设置在ID层2上。ID码1的左侧为字母码3，右侧为数字码4，字母码3以及数字码4之间为二维码5。ID层2的上侧横边14的左侧对应设置有刻度6。ID层2的左侧竖边15的上侧对应设置有刻度7。刻度6以及刻度7均设置于基板上。横边14的刻度6的起始位置位于横边14的左端，即图2中刻度6为0的位置，并平行横边14向右侧延伸。竖边15的刻度7的起始位置位于竖边15的上端，即图2中刻度7为0的位置，并平行竖边15向下延伸。
可见，可以通过人眼，经过对比横边14的刻度6，较为清晰的判断ID码1相对竖边15的偏移量是否在正常范围内。可以通过人眼，经过对比竖边15的刻度7，较为清晰的判断ID码1相对横边14的偏移量是否在正常范围内。
进一步参考图2，对于一般情况，仅判断ID码1的字母码3的字母A的位置即可知晓ID码1的偏移量，因此，刻度6以及刻度7的长度一般仅需能够对字母A的相对位置进行判断即可。因此，较佳情况为600um至800um，图2中刻度6以及刻度7的长度为800um，且每200um一个刻度，并标明对应长度的数值。
图3所示为根据本发明示例实施方式的基板的标识结构另一实施例的示意图，如图3所示，本实施例的ID码的结构，主要进一步在ID层1的两条横边以及两条竖边均设置有刻度。横边14的左右两端设置有刻度6以及刻度10；横边16的左右两端设置有刻度9以及刻度13；竖边15的上下两端设置有刻度7以及刻度8；竖边11的上下两端设置有刻度11以及刻度12。
刻度6、刻度7、刻度8、刻度9、刻度10、刻度11、刻度12以及刻度13均设置于基板上。进一步的横边14的刻度10的起始位置位于横边14的右端，即图2中刻度10为0的位置，并平行横边14向左侧延伸。同样，横边16左右两端的刻度9以及刻度13进行类似刻度6以及刻度10的设置，在此不做赘述。竖边15的刻度8的起始位置位于竖边15的下端，即图2中刻度8为0的位置，并平行竖边15向上延伸。同样，竖边17上下两端的刻度11以及刻度12进行类似刻度7以及刻度8的设置，在此不做赘述。可见通过在ID层四条边均设置刻度，以便于分别判定对字母码3的字母A以及数字码4的数字5位置的偏移量是否在正常范围内。并可以同时通过刻度7、刻度8、刻度11或刻度12对二维码5相对横边14以及横边16位置的偏移量是否在正常范围内进行判定，以便更准确的对ID码1的位置的偏移量是否在正常范围内进行判定。
对本发明一实施例，图2以及图3中的ID层2可以为涂覆在基板上的膜，而ID码1以及各刻度也可均由经刻蚀后的膜形成，即ID层2、ID码1以及各刻度均为涂覆在基板上的膜。
其中，上述的实施例的横向长度标志以及纵向长度标志均使用刻度的形式实现。实际上，亦可以采用其他的形式，如在ID层外围特定设置对应的标记。另外，上述的刻度形式实际上也不限于从ID层横边或竖边的一特定位置进行延伸，如上述实施例是在ID层的角部作为刻度的起始位置，实际上亦可以ID层横边或竖边其他位置作为刻度的起始。而具体设置方式本领域技术人员可以根据上述实施例进行灵活选择，而只需使得检测人员易于根据横向长度标志以及纵向长度标志判定ID码1的位置的偏移量是否在正常范围内即可。
本发明还公开了一种形成用于监测基板的ID位置的结构的方法，包括：
将基板的标识设置在该基板上，该标识用于识别该基板；
在该标识的横向侧，设置横向长度标志，以用于判断该标识的横向位置是否偏移；
在该标识的竖向侧，设置竖向长度标志，以用于判断该标识的竖向位置是否偏移。
该横向长度标志以及该竖向长度标志均为刻度。其中该横向长度标志以及该竖向长度标志均为刻度，该横向长度标志为该横边的该刻度，该竖向长度标志为该竖边的该刻度。
本发明还公开了一种形成用于监测基板的ID位置的结构的方法的另一实施例，包括：
该标识为ID码，将该ID码置于一矩形的ID层上，该ID层置于该基板上；
将该横向长度标志以及该竖向长度标志设置于该ID层的边缘。
该横边的该刻度的起始位置位于ID层的横边的一端，并平行横边方向延伸；该竖边的该刻度的起始位置位于ID层的竖边的一端，并平行竖边方向延伸；该横边的该刻度用于判断该ID码相对该ID层竖边是否偏移；该竖边的该刻度用于判断该ID码相对该ID层横边是否偏移。
该横边的该刻度以及该竖边的该刻度的长度为600-800um。
该横边的刻度为四条，每条横边的两端各为一平行横边方向延伸的该刻度的起点；该竖边的刻度为四条，每一条竖边的两端各为一一平行竖边方向延伸的该刻度的起点。
对于一种实施例，该ID码包括字母码、数字码及/或二维码；该ID层的一侧横向排列有字母码、该ID层的另一侧横向排列刻蚀有数字码，该字母码与该数字码之间刻蚀二维码。当然，字母码、数字码及/或二维码的实际排列方式可依使用者实际需求进行调整。ID排列方式在二维码的两侧可全为数字码或字母码，或是数字码与字母码同时使用。
位于该ID层的该一侧的横边的该刻度用于判断该字母码相对该ID层的该一侧的竖边是否偏移；位于该ID层的横边的该另一侧的横边的该刻度用于判断该数字码相对该ID层的该另一侧的竖边是否偏移；
该ID层的该一侧的竖边的的该刻度用于判断该字母码相对该ID层的该一侧的横边的是否偏移；该ID层的该另一侧的横边的该刻度用于判断该数字码相对该ID层右侧的竖边的是否偏移；
该竖边的该刻度还用于判断该二维码相对该ID层的横边是否偏移。
图4a、4b、4c为根据本发明示例实施方式的基板的标识结构的制作流程图。参考图4a，在基板24上涂敷有膜23，在黄光部的工艺的曝光步骤，光线通过光罩21将横向长度标志以及该纵向长度标志的图形曝光于光刻胶22上；参考图4b，在显影步骤将横向长度标志以及该纵向长度标志形成于光刻胶22上；参考图4c，在刻蚀步骤将膜23上刻蚀出横向长度标志以及该纵向长度标志，即横向长度标志以及该纵向长度标志为图4c中的经刻蚀后的膜23形成在玻璃基板24上。
同时，上述的ID码也可以采用相似的方式，形成在玻璃基板上，即ID码以及横向长度标志以及该纵向长度标志采用相同的工艺，通过刻蚀后的膜形成在玻璃基板上。
综上所述，本发明通过在基板上的标识的周围设置横向长度标志以及纵向长度标志，对标识的横向偏移量以及纵向偏移量提供标准，以便于检测人员对标识的位置是否符合标准进行判断。解决了检测人员以人眼辨识来判断标识的位置是否正常，在无任何标准基础依据下，皆只能以感觉去评判，无法在第一时间立即判断是否正常的问题。
虽然已参照几个典型实施例描述了本发明，但应当理解，所用的术语是说明和示例性、而非限制性的术语。由于本发明能够以多种形式具体实施而不脱离本发明的精神或实质，所以应当理解，上述实施例不限于任何前述的细节，而应在所附权利要求所限定的精神和范围内广泛地解释，因此落入权利要求或其等效范围内的全部变化和改型都应为所附权利要求所涵盖。

Claims (17)

1.一种用于基板的标识结构，包括设置在该基板上的标识，该标识用于识别该基板，其特征在于，所述标识结构包括：
横向长度标志，设置在该标识的横向侧，以用于判断该标识的横向位置是否偏移；
竖向长度标志，设置在该标识的竖向侧，以用于判断该标识的竖向位置是否偏移。
2.如权利要求1所述的标识结构，其中该横向长度标志以及该竖向长度标志均为刻度，该横向长度标志为该横边的该刻度，该竖向长度标志为该竖边的该刻度。
3.如权利要求2所述的标识结构，其中，
该标识为ID码，该ID码形成于一矩形的ID层上，该ID层置于该基板上；
将该横边的该刻度以及该竖边的该刻度设置于该ID层的边缘。
4.如权利要求3所述的标识结构，其中，该横边的该刻度的起始位置位于ID层的横边的一端，并平行横边方向延伸；该竖边的该刻度的起始位置位于ID层的竖边的一端，并平行竖边方向延伸；该横边的该刻度用于判断该ID码相对该ID层竖边是否偏移；该竖边的该刻度用于判断该ID码相对该ID层横边是否偏移。
5.如权利要求4所述的基板，其中，
该横边的该刻度以及该竖边的该刻度的长度为600-800um。
6.如权利要求4所述的基板，其中，该横边的刻度为四条，每条横边的两端各为一平行横边方向延伸的该刻度的起点；该竖边的刻度为四条，每一条竖边的两端各为一一平行竖边方向延伸的该刻度的起点。
7.如权利要求3所述的标识结构，其中，ID层为涂覆在该基板上的膜，ID码以及该刻度均由经刻蚀后的该膜形成。
8.如权利要求3所述的基板，其中，
该ID码包括字母码、数字码及/或二维码；
该字母码、数字码及/或二维码在该ID层的成一排横向排列。
9.一种形成基板的标识结构的方法，包括：
将基板的标识设置在该基板上，该标识用于识别该基板；
在该标识的横向侧，设置横向长度标志，以用于判断该标识的横向位置是否偏移；
在该标识的竖向侧，设置竖向长度标志，以用于判断该标识的竖向位置是否偏移。
10.如权利要求9所述的方法，其中，其中该横向长度标志以及该竖向长度标志均为刻度，该横向长度标志为该横边的该刻度，该竖向长度标志为该竖边的该刻度。
11.如权利要求10所述的方法，其中，
该标识为ID码，将该ID码置于一矩形的ID层上，该ID层置于该基板上；
将该横边的该刻度以及该竖边的该刻度设置于该ID层的边缘。
12.如权利要求11所述的方法，其中，该横边的该刻度的起始位置位于ID层的横边的一端，并平行横边方向延伸；该竖边的该刻度的起始位置位于ID层的竖边的一端，并平行竖边方向延伸；该横边的该刻度用于判断该ID码相对该ID层竖边是否偏移；该竖边的该刻度用于判断该ID码相对该ID层横边是否偏移。
13.如权利要求12所述的方法，其中，该横边的该刻度以及该竖边的该刻度的长度为600-800um。
14.如权利要求12所述的方法，其中，该横边的刻度为四条，每条横边的两端各为一平行横边方向延伸的该刻度的起点；该竖边的刻度为四条，每一条竖边的两端各为一一平行竖边方向延伸的该刻度的起点。
15.如权利要求11所述的方法，其中，
该ID码包括字母码、数字码及/或二维码；
该字母码、数字码及/或二维码在该ID层的成一排横向排列。
16.如权利要求9-15任一权利要求所述的方法，其中，形成基板的标识结构的方法包括：在基板上涂敷有膜，在黄光部的工艺中，
在曝光步骤将该横向长度标志以及该纵向长度标志的图形曝光于光刻胶上；
在显影步骤将该横向长度标志以及该纵向长度标志形成于光刻胶上；
在刻蚀步骤将该膜上刻蚀出该横向长度标志以及该纵向长度标志，该横向长度标志以及该纵向长度标志为由经刻蚀后的该膜形成在玻璃基板上。
17.一种基板，其特征在于，包括基板以及如权利要求1-8任一权利要求所述的标识结构。
CN201310565541.4A 2013-11-13 2013-11-13 用于基板上的标识结构、基板以及形成基板的标识结构的方法 Pending CN104637395A (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310565541.4A CN104637395A (zh) 2013-11-13 2013-11-13 用于基板上的标识结构、基板以及形成基板的标识结构的方法
TW103104856A TW201519398A (zh) 2013-11-13 2014-02-14 用於基板上的標識結構、基板以及形成基板的標識結構的方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310565541.4A CN104637395A (zh) 2013-11-13 2013-11-13 用于基板上的标识结构、基板以及形成基板的标识结构的方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN104637395A true CN104637395A (zh) 2015-05-20

Family

ID=53216087

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201310565541.4A Pending CN104637395A (zh) 2013-11-13 2013-11-13 用于基板上的标识结构、基板以及形成基板的标识结构的方法

Country Status (2)

Country Link
CN (1) CN104637395A (zh)
TW (1) TW201519398A (zh)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107195639A (zh) * 2017-06-27 2017-09-22 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板母板的制备方法、阵列基板母板和检测方法
CN107248375A (zh) * 2017-07-20 2017-10-13 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 用于刻号机的识别号补值方法及系统
CN107843992A (zh) * 2017-10-26 2018-03-27 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种显示面板
CN108630563A (zh) * 2017-03-17 2018-10-09 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 晶圆识别码的监测方法以及监测结构
CN110071093A (zh) * 2018-01-23 2019-07-30 瀚宇彩晶股份有限公司 显示面板
CN110568646A (zh) * 2019-08-12 2019-12-13 深圳市华星光电技术有限公司 显示面板及其制作方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1809248A (zh) * 2005-01-20 2006-07-26 夏普株式会社 用于标识印刷线路基板的印刷线路基板和方法
TW201105951A (en) * 2009-08-03 2011-02-16 Toray Eng Co Ltd Marking device and method
EP2309539A1 (en) * 2009-10-09 2011-04-13 STMicroelectronics Srl Indexing of electronic devices using markers with different weights
CN102347312A (zh) * 2010-07-30 2012-02-08 台湾积体电路制造股份有限公司 半导体装置及其制造方法
CN202242378U (zh) * 2011-09-07 2012-05-30 京东方科技集团股份有限公司 打码控制系统及打码系统
CN102749812A (zh) * 2006-09-01 2012-10-24 株式会社尼康 移动体驱动方法及移动体驱动系统、图案形成方法及装置、曝光方法及装置、以及组件制造方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1809248A (zh) * 2005-01-20 2006-07-26 夏普株式会社 用于标识印刷线路基板的印刷线路基板和方法
CN102749812A (zh) * 2006-09-01 2012-10-24 株式会社尼康 移动体驱动方法及移动体驱动系统、图案形成方法及装置、曝光方法及装置、以及组件制造方法
TW201105951A (en) * 2009-08-03 2011-02-16 Toray Eng Co Ltd Marking device and method
EP2309539A1 (en) * 2009-10-09 2011-04-13 STMicroelectronics Srl Indexing of electronic devices using markers with different weights
CN102347312A (zh) * 2010-07-30 2012-02-08 台湾积体电路制造股份有限公司 半导体装置及其制造方法
CN202242378U (zh) * 2011-09-07 2012-05-30 京东方科技集团股份有限公司 打码控制系统及打码系统

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108630563A (zh) * 2017-03-17 2018-10-09 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 晶圆识别码的监测方法以及监测结构
CN108630563B (zh) * 2017-03-17 2020-11-03 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 晶圆识别码的监测方法以及监测结构
CN107195639A (zh) * 2017-06-27 2017-09-22 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板母板的制备方法、阵列基板母板和检测方法
WO2019001133A1 (zh) * 2017-06-27 2019-01-03 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板母板的制备方法、阵列基板母板和检测方法
CN107195639B (zh) * 2017-06-27 2020-04-03 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板母板的制备方法、阵列基板母板和检测方法
US10847554B2 (en) 2017-06-27 2020-11-24 Beijing Boe Display Technology Co., Ltd. Method for fabricating array substrate motherboard, array substrate motherboard and detection method
CN107248375A (zh) * 2017-07-20 2017-10-13 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 用于刻号机的识别号补值方法及系统
WO2019015130A1 (zh) * 2017-07-20 2019-01-24 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 用于刻号机的识别号补值方法及系统
US10838397B2 (en) 2017-07-20 2020-11-17 Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. Complement method and system of the identification number used in the engraving machine
CN107843992A (zh) * 2017-10-26 2018-03-27 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种显示面板
CN110071093A (zh) * 2018-01-23 2019-07-30 瀚宇彩晶股份有限公司 显示面板
CN110568646A (zh) * 2019-08-12 2019-12-13 深圳市华星光电技术有限公司 显示面板及其制作方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW201519398A (zh) 2015-05-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104637395A (zh) 用于基板上的标识结构、基板以及形成基板的标识结构的方法
CN103744214B (zh) 一种液晶显示器的玻璃基板的曝光方法
US10591760B2 (en) Alignment detection method and display device
EP3306382A1 (en) Method for manufacturing alignment identifier of spacer, method for detecting position accuracy, and color filter and manufacturing method thereof
US10162273B2 (en) Overlay key, method of forming the same, and method of measuring overlay accuracy
EP2694923B1 (en) Method and device for detecting the position of a conveyor
CN109765592B (zh) 一种基于方差协方差矩阵的变形监测网稳定性分析方法
US20200201092A1 (en) Array substrate and manufacturing method thereof and display panel
US20090030639A1 (en) Method for Correcting Measured Values Resulting from the Bending of a Substrate
KR20150022817A (ko) 유리 시트 내 왜곡 저감 방법
CN109884862A (zh) 三维存储器曝光系统中套刻偏差的补偿装置及方法
CN108762005B (zh) 掩膜版曝光偏移量检测方法、装置、计算机和存储介质
CN105354816B (zh) 一种电子元件定位方法及装置
CN107843992A (zh) 一种显示面板
CN105867066B (zh) 掩膜板、显示基板的制作方法、显示基板及显示装置
CN110906902A (zh) 一种边坡变形监测数据两步改正方法
WO2018076591A1 (zh) 用于设备的方法、制造掩膜版或显示基板的方法及系统
US10980110B2 (en) Shadow elimination detection method and manufacturing method for a touch substrate, touch substrate and touch device
CN109919154A (zh) 一种字符智能识别方法及识别装置
KR101714616B1 (ko) 세 개 층의 오버레이를 측정하는 방법
CN203136321U (zh) 对位装置及印刷电路板
CN102749815A (zh) 套刻精度的检测方法
CN106997146B (zh) 一种掩膜板的制作方法、制作系统及掩膜板
CN105844316A (zh) 一种标识码的制作方法、摄像模组和电子设备
CN103832966B (zh) 半导体器件的形成方法及检测方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20150520