TW201519398A - 用於基板上的標識結構、基板以及形成基板的標識結構的方法 - Google Patents
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Abstract
本發明公開了一種用於基板上的標識結構、基板以及形成基板的標識結構的方法,標識結構包括設置在該基板上的標識,標識用於識別該基板,所述標識結構包括:橫向長度標誌,設置在標識的橫向側,以用於判斷標識的橫向位置是否偏移;竪向長度標誌,設置在標識的竪向側,以用於判斷標識的竪向位置是否偏移。本發明通過在基板上的標識的周圍設置橫向長度標誌以及縱向長度標誌,對標識的橫向偏移量以及縱向偏移量提供標準,以便於檢測人員對標識的位置是否符合標準進行判斷。解决了檢測人員以人眼辨識來判斷標識的位置是否正常,在無任何標準基礎依據下,皆只能以感覺去評判,無法在第一時間立即判斷是否正常的問題。其中,上述的標識可以是ID碼。
Description
本發明涉及顯示基板的製作技術領域,尤其涉及基板的標識結構以及形成基板的標識結構的方法。
對於顯示基板的製作工藝中,一般需要在顯示基板上刻蝕 ID 碼,以便於進行産品追踪控管。且由於ID 碼的製作工藝,因有設備定位精度、Glass形變及ID 碼定位精度等問題,導致ID碼的位置會有偏移現像,若位置偏移量過大,則後續二維碼讀取機將無法讀取,並可能造成廠內部份設備於讀取ID 時發生問題而使産線設備需停機確認,進而造成生産不順等問題。
現行的ID碼的監控機制有二種方法:第一種是在部分檢測設備上加裝二維碼讀取機進行監控。第二種是在現在的檢測設備上以拍照方式或是人眼辨識來判斷是否正常。
對於第一種方法,二維碼讀取機非所有檢測設備都能加裝,且因二維碼讀取機必需架設在可移動的設備上,其一般可移動的設備的移動行程有限,故亦無法全面監測到所有ID碼的狀况。
由上述的監控範圍有限情况下,一些生産廠商會再在量測機臺上才用上述的第二種方式,以拍照方式或是由檢測人員以人眼辨識來判斷ID碼的位置是否正常,在無任何標準基礎依據下,一般 只能以感覺去評判,無法在第一時間立即判斷是否正常。
本發明的目的在於提供一用於基板上的標識結構、基板以及形成基板的標識結構的方法,以解决上述的ID碼管控過程中的問題。
本發明提供了一種用於基板的標識結構,包括設置在該基板上的標識,該標識用於識別該基板,其中所述標識結構包括:橫向長度標誌,設置在該標識的橫向側,以用於判斷該標識的橫向位置是否偏移;竪向長度標誌,設置在該標識的竪向側,以用於判斷該標識的竪向位置是否偏移。
根據本發明用於基板的標識結構的一實施方式,其中,其中該橫向長度標誌以及該竪向長度標誌均爲刻度,該橫向長度標誌爲該橫邊的該刻度,該竪向長度標誌爲該竪邊的該刻度。
根據本發明用於基板的標識結構的一實施方式,其中,該標識爲ID碼,該ID碼形成於一矩形的ID層上,該ID層置於該基板上;該橫向長度標誌以及該竪向長度標誌設置於該ID層的邊緣。
根據本發明用於基板的標識結構的一實施方式,其中,該橫邊的該刻度的起始位置位於ID層的橫邊的一端,並平行橫邊方向延伸;該竪邊的該刻度的起始位置位於ID層的竪邊的一端,並平行竪邊方向延伸;該橫邊的該刻度用於判斷該ID碼相對該ID層竪邊是否偏移;該竪邊的該刻度用於判斷該ID碼相對該ID層橫邊是否偏移。
根據本發明用於基板的標識結構的一實施方式,其中,該橫邊的該刻度以及該竪邊的該刻度的長度爲600-800um。
根據本發明用於基板的標識結構的一實施方式,其中,該橫邊的刻度爲四條,每條橫邊的兩端各爲一平行橫邊方向延伸的該刻度的起點;該竪邊的刻度爲四條,每一條竪邊的兩端各爲一一平行竪邊方向延伸的該刻度的起點。
根據本發明用於基板的標識結構的一實施方式,其中,該ID碼包括字母碼、ID層爲塗覆在該基板上的膜,ID碼以及該刻度均由經刻蝕後的該膜形成。
根據本發明用於基板的標識結構的一實施方式,其中,該ID碼包括字母碼、數字碼及/或二維碼;該字母碼、數字碼及/或二維碼在該ID層的成一排橫向排列。
本發明還提供了一種形成基板的標識結構的方法,其中,包括將基板的標識設置在該基板上,該標識用於識別該基板;在該標識的橫向側,設置橫向長度標誌,以用於判斷該標識的橫向位置是否偏移;在該標識的竪向側,設置竪向長度標誌,以用於判斷該標識的竪向位置是否偏移。
根據本發明形成基板的標識結構的方法的一實施方式,其中,其中該橫向長度標誌以及該竪向長度標誌均爲刻度,該橫向長度標誌爲該橫邊的該刻度,該竪向長度標誌爲該竪邊的該刻度。
根據本發明形成基板的標識結構的方法一實施方式,其中,該標識爲ID碼,將該ID碼置於一矩形的ID層上,該ID層置於該基板上;將該橫邊的該刻度以及該竪邊的該刻度設置於該ID層的邊緣。
根據本發明形成基板的標識結構的方法一實施方式,其中,該橫邊的該刻度的起始位置位於ID層的橫邊的一端,並平行橫邊方向延伸;該竪邊的該刻度的起始位置位於ID層的竪邊的一端,並平行竪邊方向延伸;該橫邊的該刻度用於判斷該ID碼相對該ID層竪邊是否偏移;該竪邊的該刻度用於判斷該ID碼相對該ID層橫邊是否偏移。
根據本發明形成基板的標識結構的方法一實施方式,其中,該橫邊的該刻度以及該竪邊的該刻度的長度爲600-800um。
根據本發明形成基板的標識結構的方法一實施方式,其中,該橫邊的刻度爲四條,每條橫邊的兩端各爲一平行橫邊方向延伸的該刻度的起點;該竪邊的刻度爲四條,每一條竪邊的兩端各爲一一平行竪邊方向延伸的該刻度的起點。
根據本發明形成基板的標識結構的方法一實施方式,其中,該ID碼包括字母碼、數字碼及/或二維碼;該字母碼、數字碼及/或二維碼在該ID層的成一排橫向排列。
根據本發明形成基板的標識結構的方法一實施方式,其中,包括:在形成基板的標識結構的方法包括:在基板上塗敷有膜,在黃光部的工藝中,在曝光步驟將該橫向長度標誌以及該縱向長度標誌的圖形曝光於光刻膠上;在顯影步驟將該橫向長度標誌以及該縱向長度標誌形成於光刻膠上;在刻蝕步驟將該膜上刻蝕出該橫向長度標誌以及該縱向長度標誌,該橫向長度標誌以及該縱向長度標誌爲由經刻蝕後的該膜形成在玻璃基板上。
本發明另外還提供了一種基板,包括基板以及上述的任一種標識結構。
綜上所述,本發明通過在基板上的標識的周圍設置橫向長度標誌以及縱向長度標誌,對標識的橫向偏移量以及縱向偏移量提供標準,以便於檢測人員對標識的位置是否符合標準進行判斷。解决了 檢測人員以人眼辨識來判斷 標識 的位置是否正常,在無任何標準基礎依據下,皆只能以感覺去評判,無法在第一時間立即判斷是否正常的問題。
1‧‧‧ID碼
2‧‧‧ID區域
3‧‧‧字母碼
4‧‧‧數字碼
5‧‧‧二維碼
6‧‧‧橫向長度標誌
7‧‧‧竪向長度標誌
8‧‧‧刻度
9‧‧‧刻度
10‧‧‧刻度
11‧‧‧竪邊
12‧‧‧刻度
13‧‧‧刻度
14‧‧‧橫邊
15‧‧‧竪邊
16‧‧‧橫邊
17‧‧‧竪邊
21‧‧‧光罩
22‧‧‧光刻膠
23‧‧‧膜
24‧‧‧基板
25‧‧‧光線
圖1爲基板的標識的示意圖;圖2所示爲根據本發明示例實施方式的基板的標識結構一實施例的示意圖;圖3所示爲根據本發明示例實施方式的基板的標識結構另一實施例的示意圖;圖4a、4b、4c爲根據本發明示例實施方式的基板的標識結構的製作流程圖。
本發明的下述實施方式中,基板的標識通過ID碼的方式表示,但此僅爲更詳細的說明本發明,實際上基本的標識並不限於此,能够用於識別基板的標識均可以在下述實施例中進行合理替換。
圖1爲基板的標識的示意圖,如圖1所示,本發明實施例的ID碼1主要由位於ID區域2左側的字母碼、位於ID區域2右側的數字碼以及位於字母碼和數字碼之間的二維碼5。ID碼1應設於基板(例如,基板)的矩形ID區域2內部,本發明的目的主要用於方便監控ID碼1在矩形ID區域2的內位置是否發生偏移,且偏移量是否在正常範圍內。參考圖1,由於一般字母碼、二維碼以及數字碼均是成一個整體刻蝕在基板的ID區域2內,故一般僅需確認字母碼的首位字母A的位置的偏移量是否在正常範圍內,數字碼5的末位數字5的位置的偏移量是否在正常範圍內,以及二維碼5的位置的偏移量是否在正常範圍內即可。參考圖1,字母A距離ID區域2的上側橫邊的距離爲f,字母A距離ID區域2的左側竪邊的距離爲n,因此,判斷首位字母A的位置的偏移量是否在正常範圍內,可以通過判定距離f以及n的偏移量是否在正常範圍內。二維碼5距離ID區域2的上側橫邊的距離爲m,判斷二維碼5的位置的偏移量是否在正常範圍內,可以通過判定距離m來確定。參照上述,以可以判定數字5的位置的偏移量是否在正常範圍內,在此不做贅述。
其中,上述的具體數字和字母,如數字5以及字母A,實際上,本領域技術人員亦可以使用其他的數字和/或字母進行替代,實際上並不影響本發明的實現,故在此不做贅述。
圖2所示爲根據本發明示例實施方式的基板的標識結構一實施例的示意圖,參考圖2,基板的標識結構包括,ID碼1、橫向長度標誌6以及竪向長度標誌7。ID碼1包括字母碼3、二維碼5以及數字碼4。其中,本實施例的橫向長度標誌6以及竪向長度標誌7均爲刻度。ID區域2爲一設置ID碼的ID層2,ID層2設置在基板(未在圖中示出)上。
參考圖2,本實施例的基板的標識結構包括,ID碼1設置在 ID層2上。ID碼1的左側爲字母碼3,右側爲數字碼4,字母碼3以及數字碼4之間爲二維碼5。ID層2的上側橫邊14的左側對應設置有刻度6。ID層2的左側竪邊15的上側對應設置有刻度7。刻度6以及刻度7均設置於基板上。橫邊14的刻度6的起始位置位於橫邊14的左端,即圖2中刻度6爲0的位置,並平行橫邊14向右側延伸。竪邊15的刻度7的 起始位置位於竪邊15的上端,即圖2中刻度7爲0的位置,並平行竪邊15向下延伸。
可見,可以通過人眼,經過對比橫邊14的刻度6,較爲清晰的判斷ID碼1相對竪邊15的偏移量是否在正常範圍內。可以通過人眼,經過對比竪邊15的刻度7,較爲清晰的判斷ID碼1相對橫邊14的偏移量是否在正常範圍內。
進一步參考圖2,對於一般情况,僅判斷ID碼1的字母碼3的字母A的位置即可知曉ID碼1的偏移量,因此,刻度6以及刻度7的長度一般僅需能够對字母A的相對位置進行判斷即可。因此,較佳情况爲600um至800um,圖2中刻度6以及刻度7的長度爲800um,且每200um一個刻度,並標明對應長度的數值。
圖3所示爲根據本發明示例實施方式的基板的標識結構另一實施例的示意圖,如圖3所示,本實施例的ID碼的結構,主要進一步在ID層1的兩條橫邊以及兩條竪邊均設置有刻度。橫邊14的左右兩端設置有刻度6以及刻度10;橫邊16的左右兩端設置有刻度9以及刻度13;竪邊15的上下兩端設置有刻度7以及刻度8;竪邊11的上下兩端設置有刻度11以及刻度12。
刻度6、刻度7、刻度8、刻度9、刻度10、刻度11、刻度12以及刻度13均設置於基板上。進一步的橫邊14的刻度10的起始位置位於橫邊14的右端,即圖2中刻度10爲0的位置,並平行橫邊14向左側延伸。同樣,橫邊16左右兩端的刻度9以及刻度13進行類似刻度6以及刻度10的設置,在此不做贅述。竪邊15的刻度8的起始位置位於竪邊15的下端,即圖2中刻度8爲0的位置,並平行竪邊15向上延伸。同樣,竪邊17上下兩端的刻度11以及刻度12進行類似刻度7以及刻度8的設置,在此不做贅述。可見通過在ID層四條邊均設置刻度,以便於分別判定對字母碼3的字母A以及數字碼4的數字5位置的偏移量是否在正常範圍內。並可以同時通過刻度7、刻度8、刻度11或刻度12對二維碼5相對橫邊14以及橫邊16位置的偏移量是否在正常範圍內進行判定,以便更準確的對ID碼1的位置的偏移量是否在正常範圍內進行判定。
對本發明一實施例,圖2以及圖3中的ID層2可以爲塗覆在基板上的膜,而ID碼1以及各刻度也可均由經刻蝕後的膜形成,即ID層2、ID碼1以及各刻度均爲塗覆在基板上的膜。
其中,上述的實施例的橫向長度標誌以及縱向長度標誌均使用刻度的形式實現。實際上,亦可以採用其他的形式,如在ID層外圍特定設置對應的標記。另外,上述的刻度形式實際上也不限於從ID層橫邊或竪邊的一特定位置進行延伸,如上述實施例是在ID層的角部作爲刻度的起始位置,實際上亦可以ID層橫邊或竪邊其他位置作爲刻度的起始。而具體設置方式本領域技術人員可以根據上述實施例進行靈活選擇,而只需使得檢測人員易於根據橫向長度標誌以及縱向長度標誌判定ID碼1的位置的偏移量是否在正常範圍內即可。
本發明還公開了一種形成用於監測基板的ID位置的結構的方法,包括:將基板的標識設置在該基板上,該標識用於識別該基板;在該標識的橫向側,設置橫向長度標誌,以用於判斷該標識的橫向位置是否偏移;在該標識的竪向側,設置竪向長度標誌,以用於判斷該標識的竪向位置是否偏移。
該橫向長度標誌以及該竪向長度標誌均爲刻度。其中該橫向長度標誌以及該竪向長度標誌均爲刻度,該橫向長度標誌爲該橫邊的該刻度,該竪向長度標誌爲該竪邊的該刻度。
本發明還公開了一種形成用於監測基板的ID位置的結構的方法的另一實施例,包括:該標識爲ID碼,將該ID碼置於一矩形的ID層上,該ID層置於該基板上;將該橫向長度標誌以及該竪向長度標誌設置於該ID層的邊緣。
該橫邊的該刻度的起始位置位於ID層的橫邊的一端,並平行橫邊方向延伸;該竪邊的該刻度的起始位置位於ID層的竪邊的一端,並平行竪邊方向延伸;該橫邊的該刻度用於判斷該ID碼相對該ID層竪邊是否偏移;該竪邊的該刻度用於判斷該ID碼相對該ID層橫邊是否偏移。
該橫邊的該刻度以及該竪邊的該刻度的長度爲600-800um。
該橫邊的刻度爲四條,每條橫邊的兩端各爲一平行橫邊方向延伸的該刻度的起點;該竪邊的刻度爲四條,每一條竪邊的兩端各爲一一平行竪邊方向延伸的該刻度的起點。
對於一種實施例,該ID碼包括字母碼、數字碼及/或二維碼;該ID層的一側橫向排列有字母碼、該ID層的另一側橫向排列刻蝕有數字碼,該字母碼與該數字碼之間刻蝕二維碼。當然,字母碼、數字碼及/或二維碼的實際排列方式可依使用者實際需求進行調整。ID排列方式在二維碼的兩側可全爲數字碼或字母碼,或是數字碼與字母碼同時使用。
位於該ID層的該一側的橫邊的該刻度用於判斷該字母碼相對該ID層的該一側的竪邊是否偏移;位於該ID層的橫邊的該另一側的橫邊的該刻度用於判斷該數字碼相對該ID層的該另一側的竪邊是否偏移;
該ID層的該一側的竪邊的的該刻度用於判斷該字母碼相對該ID層的該一側的橫邊的是否偏移;該ID層的該另一側的橫邊的該刻度用於判斷該數字碼相對該ID層右側的竪邊的是否偏移;
該竪邊的該刻度還用於判斷該二維碼相對該ID層的橫邊是否偏移。
圖4a、4b、4c爲根據本發明示例實施方式的基板的標識結構的製作流程圖。參考圖4a,在基板24上塗敷有膜23,在黃光部的工藝的曝光步驟,光線25通過光罩21將橫向長度標誌以及該縱向長度標誌的圖形曝光於光刻膠22上;參考圖4b,在顯影步驟將橫向長度標誌以及該縱向長度標誌形成於光刻膠22上;參考圖4c,在刻蝕步驟將膜23上刻蝕出橫向長度標誌以及該縱向長度標誌,即橫向長度標誌以及該縱向長度標誌爲圖4c中的經刻蝕後的膜23形成在玻璃基板24上。
同時,上述的ID碼也可以採用相似的方式,形成在玻璃基板上,即ID碼以及橫向長度標誌以及該縱向長度標誌採用相同的工藝,通過刻蝕後的膜形成在玻璃基板上。
綜上所述,本發明通過在基板上的標識的周圍設置橫向長度標誌以及縱向長度標誌,對標識的橫向偏移量以及縱向偏移量提供標準,以便於檢測人員對標識的位置是否符合標準進行判斷。解决了 檢測人員以人眼辨識來判斷 標識 的位置是否正常,在無任何標準基礎依據下,皆只能以感覺去評判,無法在第一時間立即判斷是否正常的問題。
雖然已參照幾個典型實施例描述了本發明,但應當理解,所用的術語是說明和示例性、而非限制性的術語。由於本發明能够以多種形式具體實施而不脫離本發明的精神或實質,所以應當理解,上述實施例不限於任何前述的細節,而應在所附申請專利範圍所限定的精神和範圍內廣泛地解釋,因此落入申請專利範圍或其等效範圍內的全部變化和改型都應爲所附申請專利範圍所涵蓋。
國內寄存資訊【請依寄存機構、日期、號碼順序註記】
國外寄存資訊【請依寄存國家、機構、日期、號碼順序註記】
1‧‧‧ID碼
2‧‧‧ID區域
3‧‧‧字母碼
4‧‧‧數字碼
5‧‧‧二維碼
6‧‧‧橫向長度標誌
7‧‧‧竪向長度標誌
14‧‧‧橫邊
15‧‧‧竪邊
Claims (8)
- 【第1項】一種用於基板的標識結構,包括設置在該基板上的標識,該標識用於識別該基板,其特徵在於,所述標識結構包括:
橫向長度標誌,設置在該標識的橫向側,以用於判斷該標識的橫向位置是否偏移;
竪向長度標誌,設置在該標識的竪向側,以用於判斷該標識的竪向位置是否偏移。 - 【第2項】如申請專利範圍第1項所述的標識結構,其中該橫向長度標誌以及該竪向長度標誌均爲刻度,該橫向長度標誌爲該橫邊的該刻度,該竪向長度標誌爲該竪邊的該刻度。
- 【第3項】如申請專利範圍第2項所述的標識結構,其中,
該標識爲id碼,該id碼形成於一矩形的id層上,該id層置於該基板上;
將該橫邊的該刻度以及該竪邊的該刻度設置於該id層的邊緣。 - 【第4項】如申請專利範圍第3項所述的標識結構,其中,該橫邊的該刻度的起始位置位於id層的橫邊的一端,並平行橫邊方向延伸;該竪邊的該刻度的起始位置位於id層的竪邊的一端,並平行竪邊方向延伸;該橫邊的該刻度用於判斷該id碼相對該id層竪邊是否偏移;該竪邊的該刻度用於判斷該id碼相對該id層橫邊是否偏移。
- 【第5項】如申請專利範圍第4項所述的基板,其中,
該橫邊的該刻度以及該竪邊的該刻度的長度爲600-800um。 - 【第6項】如申請專利範圍第4項所述的基板,其中,該橫邊的刻度爲四條,每條橫邊的兩端各爲一平行橫邊方向延伸的該刻度的起點;該竪邊的刻度爲四條,每一條竪邊的兩端各爲一一平行竪邊方向延伸的該刻度的起點。
- 【第7項】如申請專利範圍第3項所述的標識結構,其中,id層爲塗覆在該基板上的膜,id碼以及該刻度均由經刻蝕後的該膜形成。
- 【第8項】如申請專利範圍第3項所述的基板,其中,
該id碼包括字母碼、數字碼及/或二維碼;
該字母碼、數字碼及/或二維碼在該id層的成一排橫向排列。
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