CN104409444A - 鳍层光刻对准标记的制备方法 - Google Patents
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Denomination of invention: Preparation Method of Fin Layer Lithography Alignment Mark Effective date of registration: 20230525 Granted publication date: 20180102 Pledgee: Shanghai Bank Co.,Ltd. Pudong Avenue Branch Pledgor: SHANGHAI IC R & D CENTER Co.,Ltd. Registration number: Y2023310000213 |
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