CN104364214B - 无碱玻璃及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种无碱玻璃，其应变点为680～735℃，50～350℃下的平均热膨胀系数为30×10‑7～43×10‑7/℃，玻璃粘度达到102dPa·s时的温度T2为1710℃以下，玻璃粘度达到104dPa·s时的温度T4为1310℃以下，以基于氧化物的摩尔％计，含有SiO263～74、Al2O311.5～16、B2O3大于1.5且为5以下、MgO 5.5～13、CaO 1.5～12、SrO 1.5～9、BaO 0～1、ZrO2 0～2，MgO+CaO+SrO+BaO为15.5～21，MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)为0.35以上，CaO/(MgO+CaO+SrO+BaO)为0.50以下，SrO/(MgO+CaO+SrO+BaO)为0.50以下。

Description

无碱玻璃及其制造方法
技术领域
本发明涉及适合作为各种显示器用基板玻璃、光掩模用基板玻璃、实质上不含有碱金属氧化物且能够浮法成形的无碱玻璃。
背景技术
以往，对于各种显示器用基板玻璃、特别是在表面上形成金属或氧化物薄膜等的显示器用基板玻璃，要求以下所示的特性。
(1)含有碱金属氧化物时，碱金属离子会向薄膜中扩散而使膜特性劣化，因此，要实质上不含有碱金属离子。
(2)在薄膜形成工序中暴露于高温时，为了将玻璃的变形和伴随玻璃的结构稳定化产生的收缩(热收缩)抑制在最低限度，应变点要高。
(3)对半导体形成中使用的各种化学品要具有充分的化学耐久性。特别是对用于SiOx、SiNx的蚀刻的缓冲氢氟酸(BHF，氢氟酸与氟化铵的混合液)以及ITO的蚀刻中使用的含有盐酸的药液、金属电极的蚀刻中使用的各种酸(硝酸、硫酸等)、抗蚀剂剥离液的碱要具有耐久性。
(4)内部和表面要没有缺陷(气泡、波筋、夹杂物、麻坑、伤痕等)。
在上述要求的基础上，近年来还出现了如下所述的状况。
(5)要求显示器的轻量化，期望玻璃本身也是密度小的玻璃。
(6)要求显示器的轻量化，期望基板玻璃的减薄。
(7)除了迄今为止的非晶硅(a-Si)型液晶显示器以外，还制作了热处理温度稍高的多晶硅(p-Si)型液晶显示器(a-Si：约350℃→p-Si：350～550℃)。
(8)为了加快制作液晶显示器的热处理的升温和降温速度而提高生产率或者提高耐热冲击性，要求玻璃的平均热膨胀系数小的玻璃。
另一方面，干法蚀刻得到发展，对耐BHF性的要求减弱。为了使耐BHF性良好，迄今为止的玻璃多使用含有6～10摩尔％的B2O3的玻璃。但是，B2O3存在使应变点降低的倾向。作为不含B2O3或B2O3含量少的无碱玻璃的例子，有如下所述的玻璃。
专利文献1中公开了含有0～3重量％的B2O3的玻璃，但实施例的应变点为690℃以下。
专利文献2中公开了含有0～5摩尔％的B2O3的玻璃，但50～300℃下的平均热膨胀系数超过50×10-7/℃。
为了解决专利文献1、2中记载的玻璃的问题，提出了专利文献3中记载的无碱玻璃。专利文献3中记载的无碱玻璃的应变点高，能够通过浮法进行成形，适合于显示器用基板、光掩模用基板等用途。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开平4-325435号公报
专利文献2：日本特开平5-232458号公报
专利文献3：日本特开平9-263421号公报
发明内容
发明所要解决的问题
近年来，在智能手机这样的便携式终端等高精细小型显示器中，采用利用激光退火的方法作为高品质的p-Si TFT的制造方法，但为了进一步减小热收缩率，要求应变点高的玻璃。另外，伴随着玻璃基板的大型化、薄型化，要求杨氏模量高、比模量(杨氏模量/密度)高的玻璃。
另一方面，基于玻璃制造工艺、特别是浮法成形中的要求，需要降低玻璃的粘性、特别是玻璃粘度达到104dPa·s时的温度T4和失透温度，并且需要使应变点不过度提高。
如上所述，对于作为各种显示器用基板玻璃、光掩模用基板玻璃使用的无碱玻璃，要求进一步提高应变点。
但是，应变点过高时，在玻璃制造时以下方面成为问题。
浮法槽内和浮法槽出口的温度增高，有时会对位于浮法槽内和浮法槽下游侧的金属构件的寿命带来影响。
为了改善玻璃的平面应变，需要在从浮法槽出口至进入退火炉的部分升高温度，但此时的温度过高时，会对加热中使用的加热器造成负荷，有时会给加热器的寿命带来影响。
另外，虽然对耐BHF性的要求减弱，但并不是完全不要求，在使B2O3为0的组成中，在利用BHF进行处理后，明显存在雾度的问题。
本发明的目的在于解决上述缺点，提供不易产生由BHF引起的问题、应变点高、但粘性低、特别是玻璃粘度达到104dPa·s时的温度T4低且容易浮法成形的无碱玻璃。
用于解决问题的手段
本发明提供一种无碱玻璃，其应变点为680～735℃，50～350℃下的平均热膨胀系数为30×10-7～43×10-7/℃，玻璃粘度达到102dPa·s时的温度T2为1710℃以下，玻璃粘度达到104dPa·s时的温度T4为1310℃以下，
以基于氧化物的摩尔％计，含有：
MgO+CaO+SrO+BaO为15.5～21，
MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)为0.35以上，
CaO/(MgO+CaO+SrO+BaO)为0.50以下，
SrO/(MgO+CaO+SrO+BaO)为0.50以下。
另外，本发明提供一种无碱玻璃，其应变点为680～735℃，50～350℃下的平均热膨胀系数为30×10-7～43×10-7/℃，玻璃粘度达到102dPa·s时的温度T2为1710℃以下，玻璃粘度达到104dPa·s时的温度T4为1310℃以下，
以基于氧化物的摩尔％计，含有：
MgO+CaO+SrO+BaO为15.5～21，
MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)为0.35以上，
CaO/(MgO+CaO+SrO+BaO)为0.50以下，
SrO/(MgO+CaO+SrO+BaO)为0.30以下。
发明效果
本发明的无碱玻璃是特别适合于高应变点用途的显示器用基板、光掩模用基板等并且容易浮法成形的玻璃。本发明的无碱玻璃也能够作为磁盘用玻璃基板使用。
具体实施方式
接着，对各成分的组成范围进行说明。SiO2低于63％(摩尔％，以下只要没有特别说明则相同)时，应变点不会充分提高，并且热膨胀系数增大，密度升高。优选为64％以上，更优选为65％以上，进一步优选为66％以上，特别优选为66.5％以上。超过74％时，熔化性降低，玻璃粘度达到102dPa·s时的温度T2、玻璃粘度达到104dPa·s时的温度T4升高，失透温度升高。优选为70％以下，更优选为69％以下，进一步优选为68％以下。
Al2O3抑制玻璃的分相性，降低热膨胀系数，提高应变点，但低于11.5％时，不表现该效果，另外，会使其他增大膨胀的成分增加，结果热膨胀增大。优选为12％以上、12.5％以上，进一步优选为13％以上。超过16％时，可能会使玻璃的熔化性变差或者使失透温度升高。优选为15％以下，更优选为14％以下，进一步优选为13.5％以下。
B2O3改善玻璃的熔化反应性，降低失透温度，改善耐BHF性，但在1.5％以下时，该效果不能充分表现，另外，应变点过度升高或者在利用BHF进行处理后容易产生雾度的问题。优选为2％以上，更优选为2.5％以上，进一步更优选为3％以上。但是，超过5％时，应变点降低，杨氏模量减小。优选为4.5％以下，更优选为4％以下。
碱土金属中，MgO具有不增大膨胀且在使密度维持较低的状态下提高杨氏模量的特征，还提高熔化性，但低于5.5％时，该效果不能充分表现，并且其他碱土金属的比率增高，因此密度增大。优选为6％以上，进一步优选为7％以上，更优选为7.5％以上、8％以上，进一步更优选超过8％，优选为8.1％以上，进一步优选为8.3％以上，特别优选为8.5％以上。超过13％时，失透温度升高。优选为12％以下，更优选为11％以下，特别优选为10％以下。
碱土金属中，CaO仅次于MgO而具有不增大膨胀且在使密度维持较低的状态下提高杨氏模量的特征，还提高熔化性。低于1.5％时，上述的由CaO添加带来的效果不能充分表现。优选为2％以上，更优选为3％以上，进一步优选为3.5％以上，特别优选为4％以上。但是，超过12％时，可能会使失透温度升高或者使作为CaO原料的石灰石(CaCO3)中的杂质磷大量混入。优选为10％以下，更优选为9％以下，进一步优选为8％以下，特别优选为7％以下。
SrO提高熔化性而不会使玻璃的失透温度升高，但低于1.5％时，该效果不能充分表现。优选为2％以上，更优选为2.5％以上，进一步优选为3％以上。但是，超过9％时，膨胀系数可能会增大。优选为7％以下，更优选为6％以下、5％以下。
BaO不是必需的，但可以为了提高熔化性而含有。但是，过多时，会使玻璃的膨胀和密度过度增加，因此设定为1％以下。优选为0.5％以下，更优选为0.3％以下，进一步优选为0.1％以下，特别优选实质上不含有。实质上不含有是指除了不可避免的杂质以外不含有。
为了降低玻璃熔融温度或者为了促进煅烧时的结晶析出，可以含有2％以下的ZrO2。超过2％时，玻璃变得不稳定或者玻璃的相对介电常数ε增大。优选为1.5％以下，更优选为1％以下，进一步优选为0.5％以下，特别优选实质上不含有。
MgO、CaO、SrO、BaO以总量计少于15.5％时，玻璃粘度达到104dPa·s时的温度T4增高，在浮法成形时可能会使浮法槽的壳体结构物和加热器的寿命变得极短。优选为16％以上，进一步优选为17％以上。多于21％时，可能会产生无法减小热膨胀系数的困难。优选为20％以下、19％以下，进一步优选为18％以下。
通过使MgO、CaO、SrO和BaO的总量满足上述条件并且满足下述条件，能够在不使失透温度升高的情况下提高杨氏模量、比模量，而且能够降低玻璃的粘性、特别是T4。
MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)为0.35以上，优选为0.37以上，更优选为0.4以上。
CaO/(MgO+CaO+SrO+BaO)为0.50以下，优选为0.48以下，更优选为0.45以下。
SrO/(MgO+CaO+SrO+BaO)为0.50以下，优选为0.40以下，更优选为0.30以下，更优选为0.27以下，进一步优选为0.25以下。
本发明的无碱玻璃中，Al2O3×(MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO))为4.3以上能够提高杨氏模量，因此优选。优选为4.5以上，更优选为4.7以上，进一步优选为5.0以上。
另外，为了不使制造面板时设置在玻璃表面上的金属或氧化物薄膜产生特性劣化，本发明的玻璃不含有超过杂质水平的(即，实质上不含有)碱金属氧化物。另外，为了使玻璃容易再利用，优选实质上不含有PbO、As2O3、Sb2O3。
此外，基于同样的理由，优选实质上不含有P2O5。作为杂质的混入量优选为23摩尔ppm以下，更优选为18摩尔ppm以下，进一步优选为11摩尔ppm以下，特别优选为5摩尔ppm以下。
本发明的无碱玻璃中，除了上述成分以外，为了改善玻璃的熔化性、澄清性、成形性(浮法成形性)，可以添加以总量计为5％以下的ZnO、Fe2O3、SO3、F、Cl、SnO2。
本发明的无碱玻璃的应变点为680℃以上且735℃以下。
本发明的无碱玻璃的应变点为680℃以上，因此，能够抑制面板制造时的热收缩。另外，能够应用利用激光退火法的方法作为p-Si TFT的制造方法。更优选为685℃以上，进一步优选为690℃以上。
本发明的无碱玻璃的应变点为680℃以上，因此，适合于高应变点用途(例如，板厚为0.7mm以下、优选为0.5mm以下、更优选为0.3mm以下的有机EL用显示器用基板或照明用基板、或者板厚为0.3mm以下、优选为0.1mm以下的薄型显示器用基板或照明用基板)。
在板厚为0.7mm以下、进一步为0.5mm以下、进一步为0.3mm以下、进一步为0.1mm以下的平板玻璃的成形中，存在成形时的拉出速度加快的倾向，因此，玻璃的假想温度升高，玻璃的热收缩率容易增大。这种情况下，如果是高应变点玻璃，则能够抑制热收缩率。
另一方面，由于应变点为735℃以下，因此，不需要过度升高浮法槽内和浮法槽出口的温度，对位于浮法槽内和浮法槽下游侧的金属构件的寿命带来的影响小。更优选为725℃以下，进一步优选为715℃以下，特别优选为710℃以下。
另外，为了改善玻璃的平面应变，需要在从浮法槽出口至进入退火炉的部分升高温度，而此时则不需要过度升高温度。因此，不会对加热中使用的加热器造成负荷，给加热器的寿命带来的影响小。
另外，基于与应变点同样的理由，本发明的无碱玻璃的玻璃化转变温度优选为730℃以上，更优选为740℃以上，进一步优选为750℃以上。另外，优选为780℃以下，进一步优选为775℃以下，特别优选为770℃以下。
另外，本发明的无碱玻璃在50～350℃下的平均热膨胀系数为30×10-7～43×10-7/℃，耐热冲击性强，能够提高面板制造时的生产率。本发明的无碱玻璃中，50～350℃下的平均热膨胀系数优选为35×10-7以上。50～350℃下的平均热膨胀系数优选为42×10-7/℃以下，更优选为41×10-7/℃以下，进一步优选为40×10-7/℃以下。
此外，本发明的无碱玻璃的比重优选为2.62以下，更优选为2.60以下，进一步优选为2.58以下。
另外，本发明的无碱玻璃的粘度η达到102泊(dPa·s)时的温度T2为1710℃以下，更优选为1700℃以下，进一步优选为1690℃以下，特别优选为1680℃以下、1670℃以下，因此，比较容易熔化。
此外，本发明的无碱玻璃的粘度η达到104泊时的温度T4为1310℃以下，优选为1305℃以下，更优选为1300℃以下，进一步优选低于1300℃、1295℃以下、1290℃以下，适合于浮法成形。
另外，从容易通过浮法进行成形的观点考虑，优选本发明的无碱玻璃的失透温度为1315℃以下。优选为1300℃以下、低于1300℃、1290℃以下，更优选为1280℃以下。另外，成为浮法成形性、熔融成形性的标准的温度T4(玻璃粘度η达到104泊时的温度，单位：℃)与失透温度之差(T4-失透温度)优选为-20℃以上、-10℃以上，更优选为0℃以上，更优选为10℃以上，进一步优选为20℃以上，特别优选为30℃以上。
本说明书中的失透温度如下得到：将粉碎后的玻璃粒子放入铂制的皿中，在控制于一定温度的电炉中进行17小时的热处理，通过热处理后的光学显微镜观察得到在玻璃的表面和内部析出结晶的最高温度与不析出结晶的最低温度，将其平均值作为失透温度。
另外，本发明的无碱玻璃的杨氏模量优选为78GPa以上，更优选为79GPa以上、80GPa以上、进而81GPa以上，进一步优选为82GPa以上。
另外，本发明的无碱玻璃的光弹性常数优选为31nm/MPa/cm以下。
液晶显示面板制造工序中或液晶显示装置使用时产生的应力使玻璃基板具有双折射性，由此，有时会观察到黑色显示变灰、液晶显示器的对比度降低的现象。通过使光弹性常数为31nm/MPa/cm以下，能够将该现象抑制在较低限度。优选为30nm/MPa/cm以下，更优选为29nm/MPa/cm以下，进一步优选为28.5nm/MPa/cm以下，特别优选为28nm/MPa/cm以下。
另外，如果考虑确保其他物性的容易性，则本发明的无碱玻璃的光弹性常数优选为23nm/MPa/cm以上，更优选为25nm/MPa/cm以上。
另外，光弹性常数可以通过圆盘压缩法在546nm的测定波长下进行测定。
另外，本发明的无碱玻璃优选在热处理时的收缩量小。液晶面板制造中，在阵列侧与彩色滤光片侧，热处理工序不同。因此，特别是对于高精细面板而言，在玻璃的热收缩率大的情况下，存在嵌合时产生点错位等问题。另外，热收缩率的评价可以通过下述步骤来测定。将试样在玻璃化转变温度+100℃的温度下保持10分钟后，以每分钟40℃冷却至室温。在此，测量试样的全长。然后，以每分钟100℃加热至600℃，在600℃下保持80分钟，以每分钟100℃冷却至室温，再次测量试样的全长。将在600℃下的热处理前后的试样的收缩量与在600℃下的热处理前的试样全长之比作为热收缩率。上述评价方法中，热收缩率优选为100ppm以下，更优选为80ppm以下，进一步优选为60ppm以下，进一步优选为55ppm以下，特别优选为50ppm以下。
本发明的无碱玻璃例如可以通过如下方法制造。将通常使用的各成分的原料以达到目标成分的方式进行调配，将其连续投入到熔化炉中，加热至1500～1800℃使其熔融。将该熔融玻璃通过浮法成形为预定的板厚，退火后进行切割，由此能够得到平板玻璃。
本发明的玻璃的熔化性比较低，因此，优选使用下述原料作为各成分的原料。
(硅源)
作为SiO2原料的硅源，可以使用硅砂，使用中值粒径D50为20μm～27μm、粒径2μm以下的粒子的比例为0.3体积％以下且粒径100μm以上的粒子的比例为2.5体积％以下的硅砂能够抑制硅砂的凝聚而使其熔融，因此，从硅砂的熔融变得容易、能够得到气泡少且均质性、平坦度高的无碱玻璃的观点出发是优选的。
另外，本说明书中的“粒径”为硅砂的等效球径(本发明中为一次粒径的含义)，具体而言，是指通过激光衍射/散射法测量得到的粉体的粒度分布中的粒径。
另外，本说明书中的“中值粒径D50”是指，通过激光衍射法测量得到的粉体的粒度分布中大于某一粒径的粒子的体积频率占全部粉体的粒度分布的50％的粒径。换言之，是指通过激光衍射法测量得到的粉体的粒度分布中累积频率为50％时的粒径。
另外，本说明书中的“粒径2μm以下的粒子的比例”和“粒径100μm以上的粒子的比例”例如通过利用激光衍射/散射法测量粒度分布来测定。
硅砂的中值粒径D50为25μm以下时，硅砂的熔融更容易，因此更优选。
另外，硅砂中的粒径100μm以上的粒子的比例为0％时，硅砂的熔融更容易，因此特别优选。
(碱土金属源)
作为碱土金属源，可以使用碱土金属化合物。在此，作为碱土金属化合物的具体例，可以例示：MgCO3、CaCO3、BaCO3、SrCO3、(Mg,Ca)CO3(白云石)等碳酸盐；MgO、CaO、BaO、SrO等氧化物；Mg(OH)2、Ca(OH)2、Ba(OH)2、Sr(OH)2等氢氧化物，但在碱土金属源的一部分或全部中含有碱土金属氢氧化物时，玻璃原料熔化时的SiO2成分的未熔化量降低，因此优选。硅砂中含有的SiO2成分的未熔化量增大时，该未熔化的SiO2在玻璃熔液中产生气泡时被摄入到该气泡中而聚集在玻璃熔液的表层附近。由此，在玻璃熔液的表层与表层以外的部分之间产生SiO2的组成比的差异，玻璃的均质性降低，并且平坦性也降低。
碱土金属氢氧化物的含量在100摩尔％(换算成MO，其中，M为碱土金属元素)碱土金属源中优选为15～100摩尔％(换算成MO)、更优选为30～100摩尔％(换算成MO)、进一步优选为60～100摩尔％(换算成MO)时，玻璃原料熔化时的SiO2成分的未熔化量降低，因此更优选。
随着碱土金属源中的氢氧化物的摩尔比的增加，玻璃原料熔化时的SiO2成分的未熔化量降低，因此，上述氢氧化物的摩尔比越高越好。
作为碱土金属源，具体而言，可以使用碱土金属氢氧化物与碳酸盐的混合物、单一的碱土金属氢氧化物等。作为碳酸盐，优选使用MgCO3、CaCO3和(Mg,Ca)(CO3)2(白云石)中的任意一种以上。另外，作为碱土金属氢氧化物，优选使用Mg(OH)2或Ca(OH)2中的至少一种，特别优选使用Mg(OH)2。
(硼源)
在无碱玻璃含有B2O3的情况下，作为B2O3的硼源，可以使用硼化合物。在此，作为硼化合物的具体例，可以列举：原硼酸(H3BO3)、偏硼酸(HBO2)、四硼酸(H2B4O7)、硼酸酐(B2O3)等。在通常的无碱玻璃的制造中，从廉价且容易获得的观点出发，使用原硼酸。
在本发明中，作为硼源，优选使用在100质量％(换算成B2O3)硼源中含有10～100质量％(换算成B2O3)硼酸酐的硼源。通过使硼酸酐为10质量％以上，玻璃原料的凝聚得到抑制，能够得到减少气泡的效果和提高均质性、平坦度的效果。硼酸酐更优选为20～100质量％，进一步优选为40～100质量％。
作为硼酸酐以外的硼化合物，从廉价且容易获得的观点出发，优选原硼酸。
实施例
以下，例1～8、例12～32为实施例，例9～11为比较例。将各成分的原料以达到目标组成的方式进行调配，使用铂坩埚在1550～1650℃的温度下熔化。关于原料中的硅砂的粒度，中值粒径D50为26μm，粒径2μm以下的粒子的比例低于0.1体积％，粒径100μm以上的粒子的比例低于0.1体积％。熔化时，使用铂搅拌器搅拌来进行玻璃的均质化。接着，使熔化玻璃流出，成形为板状后进行退火。
表1～4中示出了玻璃组成(单位：摩尔％)、50～350℃下的热膨胀系数(单位：×10-7/℃)、应变点(单位：℃)、玻璃化转变温度(单位：℃)、比重、杨氏模量(GPa)(通过超声波法测定)、作为高温粘性值的成为熔化性的标准的温度T2(玻璃粘度η达到102泊时的温度，单位：℃)以及成为浮法成形性和熔融成形性的标准的温度T4(玻璃粘度η达到104泊时的温度，单位：℃)、失透温度(单位：℃)、光弹性常数(单位：nm/MPa/cm)(通过圆盘压缩法在546nm的测定波长下测定)以及相对介电常数(通过JIS C-2141中记载的方法测定)。热收缩率的评价通过下述步骤来进行。将试样在玻璃化转变温度+100℃的温度下保持10分钟后，以每分钟40℃冷却至室温。在此，测量试样的全长。然后，以每分钟100℃加热至600℃，在600℃下保持80分钟，以每分钟100℃冷却至室温，再次测量试样的全长。将在600℃下的热处理前后的试样的收缩量与在600℃下的热处理前的试样全长之比作为热收缩率。
另外，表1～4中，用括号示出的值为计算值。
[表1]
[表2]
[表3]
[表4]
由表可知，实施例的玻璃的热膨胀系数均低至30×10-7～43×10-7/℃，玻璃粘度达到102dPa·s时的温度T2均为1710℃以下，玻璃粘度达到104dPa·s时的温度T4均低于1310℃，因此，在玻璃制造时，熔化性优良，对位于浮法槽内和浮法槽下游侧的金属构件、在从浮法槽出口至进入退火炉的部分使用的加热器的寿命带来的影响小。
另外，失透温度为1310℃以下，认为在浮法成形时不存在发生失透等故障。
参考特定的实施方式对本发明进行了详细说明，但在不脱离本发明的精神和范围的情况下可以进行各种修正和变更，这对于本领域技术人员而言是显而易见的。
本申请以2012年6月5日提出的日本专利申请2012-128248和2012年11月2日提出的日本专利申请2012-242783为基础，将其内容以参考的形式并入本说明书中。
产业实用性
本发明的无碱玻璃的应变点高，能够通过浮法进行成形，适合于显示器用基板、光掩模用基板等用途。另外，也适合于信息记录介质用基板、太阳能电池用基板等用途。

Claims (3)

1.一种无碱玻璃，其应变点为701～735℃，50～350℃下的平均热膨胀系数为30×10-7～43×10-7/℃，玻璃粘度达到102dPa·s时的温度T2为1670℃以下，玻璃粘度达到104dPa·s时的温度T4为1310℃以下，
以基于氧化物的摩尔％计，含有：
MgO+CaO+SrO+BaO为15.5～21，
MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)为0.37以上，
CaO/(MgO+CaO+SrO+BaO)为0.50以下，
SrO/(MgO+CaO+SrO+BaO)为0.50以下。
2.一种无碱玻璃，其应变点为701～735℃，50～350℃下的平均热膨胀系数为30×10-7～43×10-7/℃，玻璃粘度达到102dPa·s时的温度T2为1670℃以下，玻璃粘度达到104dPa·s时的温度T4为1310℃以下，
以基于氧化物的摩尔％计，含有：
MgO+CaO+SrO+BaO为15.5～21，
MgO/(MgO+CaO+SrO+BaO)为0.37以上，
CaO/(MgO+CaO+SrO+BaO)为0.50以下，
SrO/(MgO+CaO+SrO+BaO)为0.30以下。
3.如权利要求1或2所述的无碱玻璃，其中，失透温度为1315℃以下。
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