一种甲基-2,3,4-三氧-苄基-β-D-吡喃核糖苷的合成方法
技术领域
本发明涉及有机化合物合成与制备技术领域,尤其涉及一种甲基-2,3,4-三氧-苄基-β-D-吡喃核糖苷的合成方法。
背景技术
1-甲基-2,3,4-三氧-苄基-β-D-吡喃核糖苷是制备医药中间体2,3,4-三氧-苄基-5-羟基戊醛甲基肟的重要原料。
现有技术中制备1-甲基-2,3,4-三氧-苄基-β-D-吡喃核糖苷的方法,主要是将1-甲基-β-D-吡喃核糖苷加入到N-N-二甲基甲酰胺中,并加入氢化钠,然后加入溴化苄,室温下反应,得到产物。
在参考文献Journal of Organic Chemistry;vol.71;nb.7;(2006);p.2641–2647中,Lucero等人公开了一种制备1-甲基-2,3,4-三氧-苄基-β-D-吡喃核糖苷的方法,采用1-甲基-β-D-吡喃核糖苷为原料,以氢化钠、溴化苄为反应试剂,N-N-二甲基甲酰胺为溶剂,以83%的产率得到了甲基-2,3,4-三氧-苄基-β-D-吡喃核糖苷。
到目前为止,常用的制备1-甲基-2,3,4-三氧-苄基-β-D-吡喃核糖苷的方法,依然是将甲基-β-D-吡喃核糖苷加入到N-N-二甲基甲酰胺中,加入氢化钠,再加溴化苄,在室温下进行反应。由于氢化钠活泼性很强,遇水剧烈反应,并生成易燃易爆的氢气,非常容易引发危险。并且氢化钠的使用,使该反应对空气湿度要求非常高,一旦空气湿度稍大,即难以顺利投料。同时使用催泪性很强的溴化苄,虽然活性很高,但非常不环保,工人的工作环境很难保证。
发明内容
有鉴于此,本发明要解决的技术问题在于提供一种甲基-2,3,4-三氧-苄基-β-D-吡喃核糖苷的合成方法,安全简便,收率高,适合规模化生产。
本发明提供了一种甲基-2,3,4-三氧-苄基-β-D-吡喃核糖苷的合成方法,包括:
将1-甲基-β-D-吡喃核糖苷和氯化苄在氢氧化钾和四丁基碘化胺的作用下,或者在氢氧化钾和四丁基溴化胺的作用下,进行反应,制备得到甲基-2,3,4-三氧-苄基-β-D-吡喃核糖苷。
优选的,所述反应的溶剂为甲苯。
优选的,所述甲苯为回流除水后的甲苯。
优选的,所述氢氧化钾为片状或粉状。
优选的,所述氢氧化钾的粒径为500目~600目。
优选的,所述氯化苄采用滴加的方式加入。
优选的,所述滴加的温度为甲苯的回流温度。
优选的,所述反应采用回流分水的方式,将反应产生的水分出。
优选的,所述反应的温度为20℃~140℃,反应的时间为0.5h~10h。
优选的,所述反应结束后,采用异己烷对产物进行重结晶提纯。
与现有技术相比,本发明提供的甲基-2,3,4-三氧-苄基-β-D-吡喃核糖苷的合成方法,包括:将1-甲基-β-D-吡喃核糖苷和氯化苄在氢氧化钾和四丁基碘化胺的作用下,或者在氢氧化钾和四丁基溴化胺的作用下,进行反应,制备得到甲基-2,3,4-三氧-苄基-β-D-吡喃核糖苷。本发明采用氢氧化钾代替氢化钠作为碱,同时加入四丁基碘化铵或四丁基溴化铵,成功制备得到了甲基-2,3,4-三氧-苄基-β-D-吡喃核糖苷,避免了因使用氢化钠而导致的危险因素和对环境湿度的苛刻要求,使得反应具有较高收率。加入四丁基碘化铵或四丁基溴化铵,在反应体系中,可将部分氯化苄转化为活性更高的碘化苄、溴化苄从而促进反应进行。
附图说明
图1为本申请实施例1制备的甲基-2,3,4-三氧-苄基-β-D-吡喃核糖苷的核磁共振氢谱图。
具体实施方式
本发明提供了一种甲基-2,3,4-三氧-苄基-β-D-吡喃核糖苷的合成方法,包括:将1-甲基-β-D-吡喃核糖苷和氯化苄在氢氧化钾和四丁基碘化胺的作用下,或者在氢氧化钾和四丁基溴化胺的作用下,进行反应,制备得到甲基-2,3,4-三氧-苄基-β-D-吡喃核糖苷。
本发明采用氢氧化钾代替氢化钠作为碱,同时加入四丁基溴化铵或四丁基碘化铵,成功制备得到了甲基-2,3,4-三氧-苄基-β-D-吡喃核糖苷,避免了因使用氢化钠而导致的危险因素和对环境湿度的苛刻要求,使得反应具有较高收率。
本发明以1-甲基-β-D-吡喃核糖苷和氯化苄作为反应原料,并且对其来源并无特殊要求,可以为一般市售。
所述氯化苄的加入方法优选为滴加,所述滴加的温度优选为甲苯的回流温度。
本发明以氢氧化钾为碱,所述氢氧化钾优选为片状或粉状,更优选为粒径500目~600目的粉状。
本发明对所述四丁基碘化铵、四丁基溴化铵的来源并无特殊要求,可以为一般市售。
所述1-甲基-β-D-吡喃核糖苷、氯化苄、氢氧化钾、四丁基碘化铵的质量比优选为1:(2.3~23):(0.682~10):(0.225~5),更优选为1:(2.3~6):(0.682~2):(0.225~2)。
所述1-甲基-β-D-吡喃核糖苷、氯化苄、氢氧化钾、四丁基溴化铵的质量比优选为1:(2.3~23):(0.682~10):(0.225~5),更优选为1:(2.3~6):(0.682~2):(0.225~2)。
所述反应的溶剂优选为甲苯,更优选为回流除水后的甲苯,甲苯水分含量小于0.5%。更优选小于0.05%。
所述反应的温度优选为20℃~140℃,更优选为115℃~120℃;所述反应的时间优选为0.5h~10h,更优选为0.5h~2h。
所述反应优选采用回流分水的方式,将反应产生的水分出。本发明对所述回流分水的方式并无特殊要求,可以为本领域常用的分水方式,优选的,采用分水器进行回流分水。
本发明优选的,所述反应结束后,采用异己烷对产物进行重结晶提纯。
本发明公开的反应,优选的,首先将1-甲基-β-D-吡喃核糖苷,加入到回流除水后的甲苯溶液中,然后加入研磨后的氢氧化钾,并加入四丁基碘化胺或四丁基溴化铵,然后在回流状态下滴加氯化苄,回流反应得到甲基-2,3,4-三氧-苄基-β-D-吡喃核糖苷。
本发明公开的制备方法操作简单、生产成本低、反应时间短,收率高,适合规模化生产。
为了进一步说明本发明,下面结合实施例对本发明提供的甲基-2,3,4-三氧-苄基-β-D-吡喃核糖苷的合成方法进行详细描述。
实施例1
向2L带回流冷凝管的三口瓶中加入828g除水后的甲苯,搅拌下加入80g1-甲基-β-D-吡喃核糖苷。将体系降温至室温,加入80g四丁基溴化铵,304g研磨至500目~600目的氢氧化钾粉末,升温至回流,然后滴加203g氯化苄,滴加完继续回流反应1h。反应结束后,将体系降温到40-50℃,甲苯层用920g*3去离子水洗涤,收集有机相并减压浓缩至干燥失重小于10%的糖浆,然后在糖浆中加入糖浆重量2.5倍的异己烷,降温到10℃以下,析晶,干燥,得到197.2g甲基-2,3,4-三氧-苄基-β-D-吡喃核糖苷,收率93%。
采用核磁共振氢谱对产物结构进行表征,结果见图1,图1是本实施例制备的产物的核磁共振氢谱图,结果表明本申请制备得到了甲基-2,3,4-三氧-苄基-β-D-吡喃核糖苷。
实施例2
向2L带回流冷凝管和分水器的三口瓶中加入1500g除水后的甲苯,搅拌下加入80g1-甲基-β-D-吡喃核糖苷。将体系降温至室温,加入40g四丁基溴化铵,80g研磨至500目~600目的片状氢氧化钾,升温至50℃,然后滴加450g氯化苄,滴加完继续回流反应1h。反应结束后,甲苯层用920g*3去离子水洗涤,收集有机相并减压浓缩至lod小于10%的糖浆,然后在糖浆中加入糖浆重量2.5倍的异己烷,降温到10℃以下,析晶,干燥,得到205g甲基-2,3,4-三氧-苄基-β-D-吡喃核糖苷,收率96.6%。
比较例1
向2L带回流冷凝管和分水器的三口瓶中加入800g除水后的甲苯,搅拌下加入80g1-甲基-β-D-吡喃核糖苷。将体系降温至室温,加入80g四丁基碘化铵,304g研磨至500目~600目的片状氢氧化钠,升温至回流,然后滴加203g氯化苄,滴加完继续回流反应1h。反应结束后,将体系降温到40-50℃,甲苯层用920g*3去离子水洗涤,收集有机相并减压浓缩至干燥失重小于10%的糖浆,然后在糖浆中加入糖浆重量2.5倍的异己烷,降温到10℃以下,析晶,干燥,得到100.2g甲基-2,3,4-三氧-苄基-β-D-吡喃核糖苷,收率47.2%。
比较例2
向2L带回流冷凝管和分水器的三口瓶中加入800g除水后的苯,搅拌下加入80g 1-甲基-β-D-吡喃核糖苷。将体系降温至室温,加入80g四丁基碘化铵,304g研磨至500目~600目的片状氢氧化钾,升温至回流,然后滴加203g氯化苄,滴加完继续回流反应1h。反应结束后,将体系降温到40-50℃,苯层用920g*3去离子水洗涤,收集有机相并减压浓缩至干燥失重小于10%的糖浆,然后在糖浆中加入糖浆重量2.5倍的异己烷,降温到10℃以下,析晶,干燥,得到140g甲基-2,3,4-三氧-苄基-β-D-吡喃核糖苷,收率65.9%。
比较例3
向2L带回流冷凝管和分水器的三口瓶中加入600g除水后的甲苯,搅拌下加入80g1-甲基-β-D-吡喃核糖苷。将体系降温至室温,加入80g苄基三乙基氯化铵,304g研磨至500目~600目的片状氢氧化钾,升温至回流,然后滴加203g氯化苄,滴加完继续回流反应1h。反应结束后,将体系降温到40-50℃,甲苯层用920g*3去离子水洗涤,收集有机相并减压浓缩至干燥失重小于10%的糖浆,然后在糖浆中加入糖浆重量2.5倍的异己烷,降温到10℃以下,析晶,干燥,得到120g甲基-2,3,4-三氧-苄基-β-D-吡喃核糖苷,收率56.48%。
由上述实施例可知,本发明采用氢氧化钾在甲苯和四丁基溴化铵或四丁基碘化铵的环境下,以1-甲基-β-D-吡喃核糖苷和氯化苄为原料,制备得到甲基-2,3,4-三氧-苄基-β-D-吡喃核糖苷,具有较高的收率。
以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以对本发明进行若干改进和修饰,这些改进和修饰也落入本发明权利要求的保护范围内。