CN103698977B - 感光性树脂组成物、保护膜及具有保护膜的元件 - Google Patents

感光性树脂组成物、保护膜及具有保护膜的元件 Download PDF

Info

Publication number
CN103698977B
CN103698977B CN201310432582.6A CN201310432582A CN103698977B CN 103698977 B CN103698977 B CN 103698977B CN 201310432582 A CN201310432582 A CN 201310432582A CN 103698977 B CN103698977 B CN 103698977B
Authority
CN
China
Prior art keywords
methyl
nitrogen
acrylate
resin composition
compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201310432582.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN103698977A (zh
Inventor
陈凯民
施俊安
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Chi Mei Corp
Original Assignee
Chi Mei Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Chi Mei Corp filed Critical Chi Mei Corp
Publication of CN103698977A publication Critical patent/CN103698977A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN103698977B publication Critical patent/CN103698977B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/022Quinonediazides
    • G03F7/0226Quinonediazides characterised by the non-macromolecular additives
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/0045Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Abstract

本发明涉及感光性树脂组成物、保护膜及具有保护膜的元件。一种感光性树脂组成物,包含:碱可溶性树脂(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、每分子具有至少含有六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C),及溶剂(D)。本发明还提供由上述感光性树脂组成物形成的保护膜,及具有该保护膜的元件。

Description

感光性树脂组成物、保护膜及具有保护膜的元件
技术领域
本发明涉及一种感光性树脂组成物,特别涉及一种感光性树脂组成物、由此感光性树脂组成物所形成的断面形状佳且线膨胀系数低的保护膜,及具有该保护膜的元件。
背景技术
在液晶显示元件或固态成像装置等光学元件的制造过程中,必须通过在严苛条件下进行的处理编程,例如在基板表面形成配线电极层时,除需通过酸性溶剂或碱性溶液浸泡,或溅镀(Sputtering)等处理编程外,更会有局部高温伴随产生。为防止制造时受到损害,必须在元件表面上铺设保护膜。
保护膜除了能抵御上述处理编程的严苛条件,还需要与基板间保持优异的附着力,并具有高透明度、高表面硬度且平滑的表面,以及高耐热性与耐光性,使保护膜于长期使用下不会有变色、黄化或白化等变质情况发生。此外,该保护膜还需要具有良好的耐水性、耐化性、耐溶剂性、耐酸性,及耐碱性等特性。
JP2001-354822公开一种适用于形成保护膜的感放射线性树脂组成物,包含[A]由不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐、含有环氧基的不饱和化合物、顺丁烯二酰亚胺系单体,及其他烯烃系不饱和化合物形成的共聚物,与[B]1,2-二叠氮化合物;其中,基于[A]为100重量份,[B]的使用量为5至100重量份。该树脂组成物具有较高的感度,所形成的保护膜具备良好耐热性及耐溶剂性,但却有断面形状不佳、线膨胀系数高的问题,导致配线电极层难以精准铺设,且造成元件受损。
由上述可知,为防止光学元件于制造时受到损伤,并考量后续配线电极层的铺设,有必要发展一种适用于形成具有断面形状佳及线膨胀系数低等优点的保护膜的感光性树脂组成物。
发明内容
本发明的第一目的,在于提供一种感光性树脂组成物,其所形成的保护膜具备适于后续制程的断面形状及低线膨胀系数。本发明感光性树脂组成物,包含:碱可溶性树脂(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、每分子具有至少含有六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C),及溶剂(D)。
本发明感光性树脂组成物,该碱可溶性树脂(A)由不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物(a1)、含环氧基的不饱和化合物(a2),及其他不饱和化合物(a3)共聚合而得。
本发明感光性树脂组成物,基于碱可溶性树脂(A)100重量份,邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)的使用量为10至50重量份;氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的使用量为1至30重量份;溶剂(D)的使用量为100至800重量份。
本发明的第二目的,在于提供一种断面形状佳且线膨胀系数低的保护膜。
于是,本发明保护膜,是将如前所述的感光性树脂组成物涂布于基材上,再经预烤、曝光、显影及后烤处理后所形成的。
本发明的第三目的,在于提供一种具有保护膜的元件。
本发明具有保护膜的元件,包含基材以及形成于该基材上的如上所述的保护膜。
本发明的有益效果在于:本发明感光性树脂组成物通过添加该每分子具有至少含有六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C),形成断面形状佳且线膨胀系数低的保护膜。
具体实施方式
首先要说明的是,在本文中,该(甲基)丙烯酸表示丙烯酸和/或甲基丙烯酸;(甲基)丙烯酰[(meth)acryloyl]表示丙烯酰(acryloyl)和/或甲基丙烯酰[methacryloyl];(甲基)丙烯酸酯[(meth)acrylate]表示丙烯酸酯(acrylate)和/或甲基丙烯酸酯(methacrylate)。
本发明感光性树脂组成物,包含碱可溶性树脂(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、每分子具有至少含有六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C),及溶剂(D)。
以下将逐一对碱可溶性树脂(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、每分子具有至少含有六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C),以及溶剂(D)进行详细说明:
[碱可溶性树脂(A)]
该碱可溶性树脂(A)是指可溶于碱性水溶液中的树脂,其结构并没有特别限制。
较佳地,该碱可溶性树脂(A)是指含羧酸基的树脂或苯酚-酚醛清漆(phenol-novolac)树脂;又较佳地,该碱可溶性树脂(A)是由混合物在聚合起始剂存在下进行共聚合反应所制得,该混合物可包含:(i)不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物(a1)及含环氧基的不饱和化合物(a2);(ii)不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物(a1)、含环氧基的不饱和化合物(a2),及其他不饱和化合物(a3);(iii)不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物(a1)及其他不饱和化合物(a3)。
<不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物(a1)>
基于碱可溶性树脂(A)聚合时化合物的使用量为100重量份,该不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物(a1)的用量范围为5至50重量份。较佳地,该不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物(a1)的用量范围为8至45重量份。更佳地,该不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物(a1)的用量范围为10至40重量份。
该不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物(a1)是指包含羧酸基或羧酸酐结构及聚合结合用的不饱和键的化合物,其结构并没有特别限制,例如但不限于:不饱和单羧酸化合物、不饱和二羧酸化合物、不饱和羧酸酐化合物、多环型不饱和羧酸化合物、多环型不饱和二羧酸化合物、多环型不饱和酸酐化合物。
该不饱和单羧酸化合物包含但不限于:(甲基)丙烯酸、丁烯酸、α-氯丙烯酸、乙基丙烯酸、肉桂酸、2-(甲基)丙烯酰乙氧基丁二酸酯[2-(meth)acryloyloxyethyl succinatemonoester]、2-(甲基)丙烯酰乙氧基六氢化苯二甲酸酯、2-(甲基)丙烯酰乙氧基苯二甲酸酯、ω-羧基聚己内酯多元醇单丙烯酸酯(商品名为ARONIX M-5300,东亚合成制)等。
该不饱和二羧酸化合物包含但不限于:马来酸、富马酸、甲基富马酸、衣康酸、柠康酸等。
该不饱和羧酸酐化合物包含但不限于前述不饱和二羧酸化合物的酸酐化合物。
该多环型不饱和羧酸化合物包含但不限于:5-羧基双环[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-5-甲基双环[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-5-乙基双环[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-6-甲基双环[2.2.1]庚-2-烯、5-羧基-6-乙基双环[2.2.1]庚-2-烯等。
该多环型不饱和二羧酸化合物包含但不限于:5,6-二羧酸二环[2.2.1]庚-2-烯。
该多环型不饱和二羧酸酐化合物包含但不限于前述多环型不饱和二羧酸化合物的酸酐化合物。
较佳地,该不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物(a1)选自丙烯酸、甲基丙烯酸、马来酸酐、2-甲基丙烯酰乙氧基丁二酸酯,或2-甲基丙烯酰乙氧基六氢化苯二甲酸。上述化合物可单独或混合多种使用。
<含环氧基的不饱和化合物(a2)>
基于碱可溶性树脂(A)聚合时化合物的使用量为100重量份,该含环氧基的不饱和化合物(a2)的用量范围为10至70重量份,较佳地,该含环氧基的不饱和化合物(a2)的用量范围为20至70重量份。更佳地,该含环氧基的不饱和化合物(a2)的用量范围为25至65重量份。
该含环氧基的不饱和化合物(a2)例如但不限于:含环氧基的(甲基)丙烯酸酯化合物、含环氧基的α-烷基丙烯酸酯化合物、环氧丙醚化合物。
该含环氧基的(甲基)丙烯酸酯化合物例如但不限于:(甲基)丙烯酸环氧丙酯[glycidyl(meth)acrylate]、(甲基)丙烯酸2-甲基环氧丙酯、(甲基)丙烯酸3,4-环氧丁酯、(甲基)丙烯酸6,7-环氧庚酯、(甲基)丙烯酸3,4-环氧环己酯、(甲基)丙烯酸3,4-环氧环己基甲酯[3,4-Epoxycyclohexylmethyl(meth)acrylate]等。
该含环氧基的α-烷基丙烯酸酯化合物例如但不限于:α-乙基丙烯酸环氧丙酯、α-正丙基丙烯酸环氧丙酯、α-正丁基丙烯酸环氧丙酯、α-乙基丙烯酸6,7-环氧庚酯等。
该环氧丙醚化合物例如但不限于:邻-乙烯基苯甲基环氧丙醚(o-vinylbenzylglycidylether)、间-乙烯基苯甲基环氧丙醚(m-vinylbenzylglycidylether)、对-乙烯基苯甲基环氧丙醚(p-vinylbenzylglycidylether)等。
较佳地,该含环氧基的不饱和化合物(a2)选自甲基丙烯酸环氧丙酯、(甲基)丙烯酸3,4-环氧环己基甲酯、甲基丙烯酸6,7-环氧庚酯、邻-乙烯基苯甲基环氧丙醚、间-乙烯基苯甲基环氧丙醚,及对-乙烯基苯甲基环氧丙醚。
<其他不饱和化合物(a3)>
基于碱可溶性树脂(A)聚合时化合物的使用量为100重量份,该其他不饱和化合物(a3)的用量范围为0至70重量份。较佳地,该其他不饱和化合物(a3)的用量范围为0至60重量份。更佳地,该其他不饱和化合物(a3)的用量范围为0至55重量份。
该其他不饱和化合物(a3)例如但不限于:(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸脂环族酯、(甲基)丙烯酸芳基酯、不饱和二羧酸二酯、(甲基)丙烯酸羟烷酯、(甲基)丙烯酸酯的聚醚、芳香族乙烯基化合物及其他不饱和化合物。
该(甲基)丙烯酸烷基酯包含但不限于:(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯等。
该(甲基)丙烯酸脂环族酯包含但不限于:(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸-2-甲基环己酯、三环[5.2.1.02,6]癸-8-基(甲基)丙烯酸酯(或称为(甲基)丙烯酸双环戊酯[dicyclopentanyl(meth)acrylate])、(甲基)丙烯酸二环戊氧基乙酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸四氢呋喃酯等。
该(甲基)丙烯酸芳基酯包含但不限于:(甲基)丙烯酸苯基酯、(甲基)丙烯酸苯甲酯[benzyl(meth)acrylate]等。
该不饱和二羧酸二酯包含但不限于:马来酸二乙酯、富马酸二乙酯、衣康酸二乙酯等。
该(甲基)丙烯酸羟烷酯包含但不限于:(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯[2-hydroxyethyl(meth)acrylate]、(甲基)丙烯酸-2-羟基丙酯等。
该(甲基)丙烯酸酯的聚醚包含但不限于:聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯等。
该芳香族乙烯基化合物包含但不限于:苯乙烯、α-甲基苯乙烯、间-甲基苯乙烯,对-甲基苯乙烯、对-甲氧基苯乙烯等。
该其他不饱和化合物包含但不限于:丙烯腈、甲基丙烯腈、氯乙烯、偏二氯乙烯、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、乙烯乙酯、1,3-丁二烯、异戊二烯、2,3-二甲基1,3-丁二烯、氮-环己基马来酰亚胺、氮-苯基马来酰亚胺、氮-芐基马来酰亚胺,氮-丁二酰亚胺基-3-马来酰亚胺苯甲酸酯、氮-丁二酰亚胺基-4-马来酰亚胺丁酸酯、氮-丁二酰亚胺基-6-马来酰亚胺己酸酯、氮-丁二酰亚胺基-3-马来酰亚胺丙酸酯、氮-(9-吖啶基)马来酰亚胺等。
较佳地,该其他不饱和化合物(a3)选自(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸苯甲酯、(甲基)丙烯酸双环戊酯、(甲基)丙烯酸二环戊氧基乙酯、苯乙烯,或对-甲氧基苯乙烯。上述化合物可单独或混合多种使用
制备该碱可溶性树脂(A)时所用的溶剂包含但不限于(1)醇类化合物:甲醇、乙醇、苯甲醇、2-苯乙醇,或3-苯基-1-丙醇等;(2)醚类化合物:四氢呋喃等;(3)二醇醚类化合物:乙二醇单丙醚、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚等;(4)乙二醇烷基醚醋酸酯:乙二醇丁醚醋酸酯、乙二醇乙醚醋酸酯、乙二醇甲醚醋酸酯等;(5)二乙二醇类化合物:二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丁醚、二乙二醇二甲醚(diethylene glycol dimethyl ether)、二乙二醇二乙醚、二乙二醇甲乙醚等;(6)二丙二醇类化合物:二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚、二丙二醇二甲醚、二丙二醇二乙醚、二丙二醇甲乙醚等;(7)丙二醇单烷基醚类化合物:丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单丙醚、丙二醇单丁醚等;(8)丙二醇烷基醚醋酸酯类化合物:丙二醇甲醚醋酸酯(Propylene glycol monomethyl ether acetate)、丙二醇乙醚醋酸酯、丙二醇丙醚醋酸酯、丙二醇丁醚醋酸酯等;(9)丙二醇烷基醚丙酸酯类化合物:丙二醇甲醚丙酸酯、丙二醇乙醚丙酸酯、丙二醇丙醚丙酸酯、丙二醇丁醚丙酸酯等;(10)芳香烃类化合物:甲苯、二甲苯等;(11)酮类化合物:甲乙酮、环己酮、二丙酮醇等;(12)酯类化合物:乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、2-羟基丙酸乙酯、2-羟基-2-甲基丙酸甲酯、2-羟基-2-甲基丙酸乙酯、羟乙酸甲酯、羟乙酸乙酯、羟乙酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸丙酯、乳酸丁酯、3-羟基丙酸甲酯、3-羟基丙酸乙酯、3-羟基丙酸丙酯、3-羟基丙酸丁酯、2-羟基-3-甲基丁酸甲酯、甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯、乙氧基乙酸丙酯、乙氧基乙酸丁酯、丙氧基乙酸甲酯、丙氧基乙酸乙酯、丙氧基乙酸丙酯、丙氧基乙酸丁酯、丁氧基乙酸甲酯、丁氧基乙酸乙酯、丁氧基乙酸丙酯、丁氧基乙酸丁酯、3-甲氧基丁基乙酸酯、2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-甲氧基丙酸丙酯、2-甲氧基丙酸丁酯、2-乙氧基丙酸甲酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸丙酯、2-乙氧基丙酸丁酯、2-丁氧基丙酸甲酯、2-丁氧基丙酸乙酯、2-丁氧基丙酸丙酯、2-丁氧基丙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸丙酯、3-甲氧基丙酸丁酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸丙酯、3-乙氧基丙酸丁酯、3-丙氧基丙酸甲酯、3-丙氧基丙酸乙酯、3-丙氧基丙酸丙酯、3-丙氧基丙酸丁酯、3-丁氧基丙酸甲酯、3-丁氧基丙酸乙酯、3-丁氧基丙酸丙酯、3-丁氧基丙酸丁酯等。
较佳地,制备该碱可溶性树脂(A)时所用的溶剂选自二乙二醇二甲醚或丙二醇甲醚醋酸酯。该溶剂可单独或混合使用。
制备该碱可溶性树脂(A)时所使用的聚合起始剂包含但不限于偶氮化合物或过氧化物,可单独或混合使用。
该偶氮化合物例如但不限于:2,2’-偶氮双异丁腈、2,2’-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)[2,2′-Azobis(2,4-dimethylvaleronitrile)]、2,2’-偶氮双(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮双-2-甲基丁腈[2,2′-azobis-2-methyl butyronitrile]、4,4’-偶氮双(4-氰基戊酸)、二甲基2,2’-偶氮双(2-甲基丙酸酯)、2,2’-偶氮双(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)等。
该过氧化物例如但不限于:过氧化二苯甲酰、过氧化十二酰、叔丁基过氧化叔戊酸酯、1,1-双(叔丁基过氧化)环己烷、过氧化氢等。
该碱可溶性树脂(A)的分子量的调整,可通过使用单一种树脂,或可使用两种或两种以上不同分子量的树脂。较佳地,该碱可溶性树脂(A)的重量平均分子量为3,000至100,000;又较佳地为4,000至80,000;更佳地为5,000至60,000。
[邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)]
该感光性树脂组成物中的邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)没有特别的限制,可选用一般所使用的。该邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)可为完全酯化或部分酯化的酯化物。较佳地,该邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)是由邻萘醌二叠氮磺酸或其盐类与羟基化合物反应所制得。更佳地,该邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)是由邻萘醌二叠氮磺酸或其盐类与多元羟基化合物反应所制得。
该邻萘醌二叠氮磺酸包含但不限于邻萘醌二叠氮-4-磺酸、邻萘醌二叠氮-5-磺酸、邻萘醌二叠氮-6-磺酸等。该邻萘醌二叠氮磺酸的盐类可例如但不限于邻萘醌二叠氮磺酸卤盐。
该羟基化合物可单独或混合使用,且该羟基化合物包含但不限于:
(1)羟基二苯甲酮类化合物,例如但不限于2,3,4-三羟基二苯甲酮、2,4,4′-三羟基二苯甲酮、2,4,6-三羟基二苯甲酮、2,3,4,4′-四羟基二苯甲酮、2,4,2′,4′-四羟基二苯甲酮、2,4,6,3′,4′-五羟基二苯甲酮、2,3,4,2′,4′-五羟基二苯甲酮、2,3,4,2′,5′-五羟基二苯甲酮、2,4,5,3′,5′-五羟基二苯甲酮、2,3,4,3′,4′,5′-六羟基二苯甲酮等。
(2)羟基芳基类化合物,例如但不限于由式(a)所示的羟基芳基类化合物:
式(a)中,Rm至Ro表示氢原子或C1至C6的烷基;Rp至Ru表示氢原子、卤素原子、C1至C6的烷基、C1至C6的烷氧基(alkoxy)、C1至C6的链烯基(alkenyl),或环烷基(cycloalkyl);Rv及Rw表示氢原子、卤素原子及C1至C6的烷基;x、y及z表示1至3的整数;k表示0或1。上式(a)所示的羟基芳基类化合物例如但不限于三(4-羟基苯基)甲烷、双(4-羟基-3,5-二甲基苯基)-4-羟基苯基甲烷、双(4-羟基-3,5-二甲基苯基)-3-羟基苯基甲烷、双(4-羟基-3,5-二甲基苯基)-2-羟基苯基甲烷、双(4-羟基-2,5-二甲基苯基)-4-羟基苯基甲烷、双(4-羟基-2,5-二甲基苯基)-3-羟基苯基甲烷、双(4-羟基-2,5-二甲基苯基)-2-羟基苯基甲烷、双(4-羟基-3,5-二甲基苯基)-3,4-二羟基苯基甲烷、双(4-羟基-2,5-二甲基苯基)-3,4-二羟基苯基甲烷、双(4-羟基-3,5-二甲基苯基)-2,4-二羟基苯基甲烷、双(4-羟基-2,5-二甲基苯基)-2,4-二羟基苯基甲烷、双(4-羟基苯基)-3-甲氧基-4-羟基苯基甲烷、双(3-环己基-4-羟基苯基)-3-羟基苯基甲烷、双(3-环己基-4-羟基苯基)-2-羟基苯基甲烷、双(3-环己基-4-羟基苯基)-4-羟基苯基甲烷、双(3-环己基-4-羟基-6-甲基苯基)-2-羟基苯基甲烷、双(3-环己基-4-羟基-6-甲基苯基)-3-羟基苯基甲烷、双(3-环己基-4-羟基-6-甲基苯基)-4-羟基苯基甲烷、双(3-环己基-4-羟基-6-甲基苯基)-3,4-二羟基苯基甲烷、双(3-环己基-6-羟基苯基)-3-羟基苯基甲烷、双(3-环己基-6-羟基苯基)-4-羟基苯基甲烷、双(3-环己基-6-羟基苯基)-2-羟基苯基甲烷、双(3-环己基-6-羟基-4-甲基苯基)-2-羟基苯基甲烷、双(3-环己基-6-羟基-4-甲基苯基)-4-羟基苯基甲烷、双(3-环己基-6-羟基-4-甲基苯基)-3,4-二羟基苯基甲烷、1-[1-(4-羟基苯基)异丙基]-4-[1,1-双(4-羟基苯基)乙基]苯、1-[1-(3-甲基-4-羟基苯基)异丙基]-4-[1,1-双(3-甲基-4-羟基苯基)乙基]苯等。
(3)(羟基苯基)烃类化合物,例如但不限于由式(b)所示的(羟基苯基)烃类化合物:
式(b)中,Rx及Ry表示氢原子或C1至C6的烷基;x′及y′表示1至3的整数。该式(b)所示的(羟基苯基)烃类化合物例如但不限于2-(2,3,4-三羟基苯基)-2-(2′,3′,4′-三羟基苯基)丙烷、2-(2,4-二羟基苯基)-2-(2′,4′-二羟基苯基)丙烷、2-(4-羟基苯基)-2-(4′-羟基苯基)丙烷、双(2,3,4-三羟基苯基)甲烷、双(2,4-二羟基苯基)甲烷等。
(4)其他芳香族羟基类化合物,例如但不限于苯酚、对-甲氧基苯酚、二甲基苯酚、对苯二酚、双酚A、萘酚、邻苯二酚、1,2,3-苯三酚甲醚、1,2,3-苯三酚-1,3-二甲基醚、3,4,5-三羟基苯甲酸、部分酯化或部分醚化的3,4,5-三羟基苯甲酸等。
较佳地,该羟基化合物选自1-[1-(4-羟基苯基)异丙基]-4-[1,1-双(4-羟基苯基)乙基]苯、2,3,4-三羟基二苯甲酮、2,3,4,4′-四羟基二苯甲酮,或前述的组合。
该邻萘醌二叠氮磺酸或其盐类,与羟基化合物的反应通常在二氧杂环己烷(dioxane)、氮-吡咯烷酮(N-pyrrolidone)、乙酰胺(acetamide)等有机溶剂中进行,同时在三乙醇胺、碱金属碳酸盐或碱金属碳酸氢盐等碱性缩合剂存在下进行较有利。
较佳地,该邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)的酯化度在50%以上,也就是说以该羟基化合物中的羟基总量为100mol%计,该羟基化合物中有50mol%以上的羟基与邻萘醌二叠氮磺酸或其盐类进行酯化反应。更佳地,该邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)的酯化度在60%以上。
基于该碱可溶性树脂(A)的总量为100重量份,该邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)的使用量范围为10重量份至50重量份。较佳地,该邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)的使用量范围是15重量份至50重量份。更佳地,该邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)的使用量范围是15重量份至45重量份。
[每分子具有至少含有六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)]
当该感光性树脂组成物不含有该每分子具有至少含有六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)时,所形成的保护膜的断面形状不佳且线膨胀系数过高。因此,该感光性树脂组成物含有该每分子具有至少含有六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C),其(甲基)丙烯酸酯基团可增加光阻系统中不饱和键的数量,进而提升曝光后及后烤后的接枝量,使该感光性树脂组成物所形成的保护膜具有较佳的断面形状;而该感光性树脂组成物含有该每分子具有至少含有六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的氨基甲酸乙酯基团可以增加弹性,使该感光性树脂组成物的线膨胀系数降低。
该每分子具有至少含有六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)可由已知的方法获得。具体的制备方法可例如但不限于:先由聚异氰酸酯与多元醇反应,接着再与含羟基的(甲基)丙烯酸酯反应而制得该氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C);或是先由聚异氰酸酯与含羟基的(甲基)丙烯酸酯反应,接着再与多元醇反应而制得该氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)。较佳地,该氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)先由双官能的聚异氰酸酯与双官能的多元醇反应,接着再与异戊四醇三(甲基)丙烯酸酯反应而得。更佳地,该制备方法还包括使用反应催化剂,该反应催化剂可例如但不限于二丁基锡二月桂酸酯等公知的氨基甲酸酯化催化剂。
该含羟基的(甲基)丙烯酸酯可例如但不限于:(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸羟基甲酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、二(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、三酸甘油二(甲基)丙烯酸酯、异戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二异戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二异戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二异戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二异戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯等,可单独或混合2种以上使用。较佳地,该含羟基的(甲基)丙烯酸酯为异戊四醇三(甲基)丙烯酸酯。
较佳地,该聚异氰酸酯是分子内具有2个以上异氰酸酯基的聚异氰酸酯,可例如但不限于:亚甲苯基二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、聚亚甲基聚苯基聚异氰酸酯、甲苯胺二异氰酸酯、萘二异氰酸酯等芳香族系、或六亚甲基二异氰酸酯(hexamethylenediisocyanate)、异佛尔酮二异氰酸酯(isophorone diisocyanate)、苯二甲撑二异氰酸酯(xylylene diisocyanate)、氢化苯二甲撑二异氰酸酯(Hydrogenated xylylenediisocyanate)、二环己基甲烷二异氰酸酯等;该聚异氰酸酯可单独或混合2种以上使用。
较佳地,该多元醇可例如但不限于:聚(环氧丙烷)二醇、聚(环氧丙烷)三醇、共聚(环氧乙烷-环氧丙烷)二醇、聚(四氢呋喃)二醇、乙氧基化双酚A、乙氧基化双酚S、螺环二醇(spiro glycol)、己内酯改性二醇、碳酸酯二醇、三羟甲基丙烷、季戊四醇等;该多元醇可单独或混合2种以上使用。
较佳地,该每分子具有至少含有六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的分子量范围为1,000至200,000,较佳地为1,200至100,000,更佳地为1,500至50,000。
该每分子具有至少含有六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的市售品可例如但不限于:日本合成化学(股)制造的紫光UV-1400B、紫光UV-1700B、紫光UV-6300B、紫光UV-7600B、紫光UV-7605B、紫光UV-7610B、紫光UV-7620EA、根上工业(股)制造的Art Resin UV-7630B、Art Resin UV-7640B、Art Resin UN-9000H、ArtResin UN-3320HA、Art Resin UN-3320HC、Art Resin UN-3320HS、Art Resin UN-901T、新中村化学工业(股)制造的NK Oligo U-6HA、NK Oligo U-6LPA、NK Oligo U-15HA、NK OligoUA-32P、NK Oligo U-324A、NK Oligo U-6H、DAICEL-CYTEC公司制造的EBECRYL 1290、EBECRYL 1290K、EBECRYL 5129、EBECRYL 220、荒川化学工业(股)制造的Beam Set575,可单独或混合2种以上使用。其中,较佳者为:日本合成化学(股)制的紫光UV-1700B、紫光UV-6300B、紫光UV-7605B,新中村化学工业(股)制造的NK Oligo U-6HA,及根上工业(股)制造的Art Resin UN-3320HC、Art Resin UN-3320HS。
基于该碱可溶性树脂(A)的总量为100重量份,该每分子具有至少含有六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的使用量范围为1重量份至30重量份。较佳地,该每分子具有至少含有六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的使用量范围是3重量份至25重量份。更佳地,该每分子具有至少含有六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的使用量范围是5重量份至25重量份。
[溶剂(D)]
该感光性树脂组成物中的溶剂(D)种类并没有特别限制,只要能使各组分完全溶解,且具有高挥发性,在常压下只需提供少许热量便可以使该溶剂挥发。较佳地,该溶剂选自常压下沸点低于150℃的溶剂,可单独或混合两种以上使用,包括芳香族类溶剂,例如:苯、甲苯、二甲苯等;醇类溶剂,例如:甲醇、乙醇等;醚类溶剂,例如:乙二醇单丙醚、二乙二醇二甲醚、四氢呋喃、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、二乙二醇甲醚、二乙二醇乙醚、二乙二醇丁醚等;酯类溶剂,例如:乙二醇甲醚醋酸酯、乙二醇乙醚醋酸酯、丙二醇甲醚醋酸酯、丙二醇乙醚醋酸酯、丙二醇丙醚醋酸酯、3-乙氧基丙酸乙酯[ethyl 3-ethoxypropionate,简称EEP]等;酮类溶剂,例如:甲乙酮、丙酮等。又较佳地,为提高该感光性树脂组成物的储存稳定性,该溶剂(D)选自二乙二醇二甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯、3-乙氧基丙酸乙酯,或前述的组合。
较佳地,基于该碱可溶性树脂(A)的总量为100重量份,该溶剂(D)的使用量范围为100重量份至800重量份。较佳地,该溶剂(D)的使用量范围是150重量份至750重量份。更佳地,该溶剂(D)的使用量范围是200重量份至600重量份。
[添加剂(E)]
该感光性树脂组成物选择性地可进一步添加添加剂(E),添加剂的选择是本发明所属技术领域中具通常知识者依需求进行的选择,包含但不限于填充剂、碱可溶性树脂(A)以外的高分子、紫外线吸收剂、防凝集剂、表面活性剂、密着促进剂、保存稳定剂、耐热性促进剂、硬化促进剂,或前述的组合。
该填充剂的种类并无特别的限制,较佳地,该填充剂为玻璃或铝。
该碱可溶性树脂(A)以外的高分子为聚乙烯醇、聚乙二醇单烷基醚,或聚氟丙烯酸烷酯。
该紫外线吸收剂的种类并无特别的限制,较佳地,该紫外线吸收剂为2-(3-叔丁基-5-甲基-2-羟基苯基)-5-氯苯基叠氮或烷氧基苯酮。
该防凝集剂包含但不限于聚丙烯酸钠。
该表面活性剂包含但不限于含氟表面活性剂或有机硅表面活性剂,可单独或混合使用,其作用在于促进该感光性树脂组成物的涂布性。
该含氟表面活性剂是指末端、主链及侧链至少包含氟烷基或氟烯基的含氟表面活性剂,可例如但不限于1,1,2,2-四氟辛基(1,1,2,2-四氟丙基)醚、1,1,2,2-四氟辛基己基醚、八乙二醇二(1,1,2,2-四氟丁基)醚、六乙二醇(1,1,2,2,3,3-六氟戊基)醚、八丙二醇二(1,1,2,2-四氟丁基)醚、六丙二醇(1,1,2,2,3,3-六氟戊基)醚、全氟十二烷基硫酸钠、1,1,2,2,8,8,9,9,10,10-十氟十二烷、1,1,2,2,3,3-六氟癸烷、氟烷苯磺酸钠、氟烷磷酸钠、氟烷羧酸钠、氟烷聚氧乙烯醚、二丙三醇四(氟烷聚氧乙烯醚)、氟烷铵碘(fluoroalkylammonium iodide)、氟烷甜菜碱、氟烷聚氧乙烯醚、全氟烷聚氧乙烯醚、全氟烷基烷醇等,该含氟表面活性剂的市售品例如但不限于BM-1000、BM-1100(以上由BMChemical制)、Megafac F142D、Megafac F172、Megafac F173、Megafac F183、MegafacF178、Megafac F191、Megafac F471、Megafac F476(以上由大日本墨水及化学工业制)、Fluorad FC 170C、Fluorad FC-171、Fluorad FC-430、Fluorad FC-431(以上由住友化学制)、Surflon S-112、Surflon S-113、Surflon S-131、Surflon S-141、Surflon S-145、Surflon S-382、Surflon SC-101、Surflon SC-102、Surflon SC-103、Surflon SC-104、Surflon SC-105、Surflon SC-106(以上由旭硝子公司制)、F-Top EF301、F-Top 303、F-Top352(以上由新秋田化成制)、Ftergent FT-100、FT-110、FT-140A、FT-150、FT-250、FT-251、FTX-251、FTX-218、FT-300、FT-310、FT-400S(以上由NEOS制)等。
该有机硅表面活性剂的市售品可例如但不限于TORE有机硅DC3PA、DC7PA、SH11PA、SH21PA、SH28PA、SH29PA、SH30PA、SH-190、SH-193、SZ-6032、SF-8427、SF-8428、DC-57、DC-190(Dow Corning Toray Silicone制)、TSF-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4460、TSF-4452(GE东芝有机硅制)等。
除前述含氟表面活性剂或有机硅表面活性剂外,该表面活性剂的具体例如:(1)聚氧乙烯烷基醚类,如月桂醇聚氧乙烯醚、聚氧乙烯硬脂酸醚、聚氧乙烯油基醚等;(2)聚氧乙烯芳基醚类,如聚氧乙烯正辛基苯醚、聚氧乙烯正壬基苯酚醚等;(3)聚氧乙烯二烷基酯,如聚氧乙烯二月桂酸、聚氧乙烯二硬脂酸等;(4)非离子表面活性剂,如KP-341(信越化学制)、poly flow No.57、poly flow No.95(共荣社油脂化学工业制)等。
该密着促进剂包含但不限于官能性硅烷化合物,其作用在于增加感光性树脂组成物与基材间的密着性。较佳地,该官能性硅烷化合物是指包含羧基、烯基、异氰酸酯基、环氧基、氨基、巯基或卤素的硅烷化合物。该官能性硅烷化合物可以单独或混合使用,例如但不限于对-羟基苯基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯三乙酰氧基硅烷、乙烯三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧乙氧基)硅烷、γ-异氰酸酯丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(市售品例如信越化学制KBM403)、2-(3,4-环氧环己烷基)乙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基二甲基甲氧基硅烷、3-氨丙基三甲氧基硅烷、氮-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、氮-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-巯丙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基甲基二甲氧基硅烷等。
该保存稳定剂包含但不限于可为硫、醌、氢醌、聚氧化物、胺、亚硝基化合物或硝基化合物,可例如但不限于4-甲氧基苯酚、(氮-亚硝基-氮-苯基)羟胺铝、2,2-硫代双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、2,6-二-叔丁基苯酚等。
该耐热性促进剂包含但不限于氮-(烷氧基甲基)甘脲化合物或氮-(烷氧基甲基)三聚氰胺。该氮-(烷氧基甲基)甘脲化合物可例如但不限于氮,氮,氮′,氮′-四(甲氧基甲基)甘脲、氮,氮,氮′,氮′-四(乙氧基甲基)甘脲、氮,氮,氮′,氮′-四(正丙氧基甲基)甘脲、氮,氮,氮′,氮′-四(异丙氧基甲基)甘脲、氮,氮,氮′,氮′-四(正丁氧基甲基)甘脲、氮,氮,氮′,氮′-四(叔丁氧基甲基)甘脲等;较佳地为氮,氮,氮′,氮′-四(甲氧基甲基)甘脲。该氮-(烷氧基甲基)三聚氰胺可例如但不限于氮,氮,氮′,氮′,氮″,氮″-六(甲氧基甲基)三聚氰胺、氮,氮,氮′,氮′,氮″,氮″-六(乙氧基甲基)三聚氰胺、氮,氮,氮′,氮′,氮″,氮″-六(正丙氧基甲基)三聚氰胺、氮,氮,氮′,氮′,氮″,氮″-六(异丙氧基甲基)三聚氰胺、氮,氮,氮′,氮′,氮″,氮″-六(正丁氧基甲基)三聚氰胺、氮,氮,氮′,氮′,氮″,氮″-六(叔丁氧基甲基)三聚氰胺;较佳地为氮,氮,氮′,氮′,氮″,氮″-六(甲氧基甲基)三聚氰胺。其中,氮-(烷氧基甲基)三聚氰胺的市售品可例如NIKARAKKU N-2702、MW-30M(三和化学制)。
该硬化促进剂的作用在于降低该感光性树脂组成物的线膨胀系数。该硬化促进剂包含但不限于:(1)含硫醇基的倍半硅氧烷,市售品可例如但不限于荒川化学制造的COMPOCERAN SQ-101、COMPOCERAN SQ-102、COMPOCERAN SQ-102-1、COMPOCERAN SQ-103、COMPOCERAN SQ105、COMPOCERAN SQ105-1,及COMPOCERAN SQ105-7;(2)含环氧基的化合物,可例如但不限于双酚A二缩水甘油醚、双酚F二缩水甘油醚、双酚S二缩水甘油醚、氢化双酚A二缩水甘油醚、氢化双酚F二缩水甘油醚、氢化双酚AD二缩水甘油醚、溴化双酚A二缩水甘油醚、溴化双酚F二缩水甘油醚、溴化双酚S二缩水甘油醚等双酚化合物的二缩水甘油醚;(3)胍胺(guanamine)化合物,可例如但不限于三聚氰胺(melamine)、胍胺、乙酰胍胺(acetoguanamine),及苯胍胺(benzoguanamine);(4)胺类化合物,可例如但不限于双氰胺、苄基二甲基胺、4-(二甲基胺基)-N,N-二甲基苄基胺、4-甲氧基-N,N-二甲基苄基胺,及4-甲基-N,N-二甲基苄基胺;及(5)咪唑衍生物(imidazole derivatives)及其盐,可例如但不限于咪唑、2-甲基咪唑、2-乙基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑、2-苯基咪唑、4-苯基咪唑、1-氰基乙基-2-苯基咪唑,及1-(2-氰基乙基)-2-乙基-4-甲基咪唑。
该添加剂的使用量可由本发明所属技术领域中具通常知识者依需求自行调整;较佳地,基于该碱可溶性树脂(A)的总量为100重量份,该添加剂(E)的使用量范围为0重量份至30重量份。又较佳地,该添加剂(E)的使用量范围是0重量份至25重量份。更佳地,该添加剂(E)的使用量范围是0重量份至20重量份。
该感光性树脂组成物的制法是将碱可溶性树脂(A)、醌二叠氮磺酸酯(B)、每分子具有至少含有六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)及溶剂(D)放置于搅拌器中搅拌,使其均匀混合成溶液状态,必要时可添加添加剂(E)。
本发明保护膜是将如上所述的感光性树脂组成物涂布于基材上,再经预烤、曝光、显影及后烤处理后所形成。
本发明保护膜的涂布方法没有特别限制,可以通过喷涂法、辊涂法、旋转涂布法(旋涂法)、缝模涂敷法、棒涂法、喷墨法等涂布方法,较佳地为使用旋涂法或缝模涂敷法,将该感光性树脂组成物涂布在基材上,再经预烤(prebake)方式将溶剂去除而形成预烤涂膜。其中,预烤的条件,依各组分的种类、配合比率而异,通常为温度在60℃至110℃之间,进行30秒钟至15分钟。较佳地,该涂膜的厚度为3至6μm。
预烤后,将该涂膜于掩膜下进行曝光,曝光所使用的光线可例如但不限于紫外线、远紫外线、X射线、带电粒子束;紫外线可例如g线(波长436nm)、h线、i线(波长365nm)等,远紫外线可例如KrF准分子激光等,X射线可例如同步加速放射线等,带电粒子束可例如电子束等。较佳地为紫外线,更佳地为g线或i线。当选用紫外线时,紫外线照射装置例如但不限于高水银灯、超高水银灯及金属卤素灯;较佳地,曝光量为50至1500J/m2
显影是浸渍于显影液中,根据组成物的组成而不同,历时30秒至2分钟,以去除不要的部分而形成特定的图案。该显影液的具体例为:(1)无机碱,如氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、硅酸钠、偏硅酸酸钠,及氨;(2)脂肪伯胺,如乙胺、正丙胺;(3)脂肪仲胺,如二乙胺、二正丙胺;(4)脂肪叔胺,如三甲胺、二乙基甲基胺、二甲基乙基胺,及三乙胺;(5)叔脂肪环酸,如吡咯、哌啶、N-甲基哌啶、N-甲基1,8-二氮杂双环[5.4.0]-7-十一碳烯,及1,5-二氮杂双环[4.3.0]-5-壬烯;(6)芳香叔胺,如吡啶、甲基嘧啶、二甲基吡啶,及喹啉;及(7)季铵盐碱性化合物,如四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵的水溶液。
此外,水溶性有机溶剂和/或表面活性剂,如甲醇、乙醇,也可视需要添加于上述显影液中。另外,显影方法可例如但不限于盛液法、浸渍法、震荡浸渍法、冲洗法等适当的方法。
使用上述碱性化合物所构成的显影液时,通常于显影后以水洗净,再以压缩空气或压缩氮气风干。并且,较佳地还采用高压汞灯等进行后曝光处理,对该涂膜全面照射放射线,使残留的邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)化合物分解。更佳地,后曝光步骤中的曝光量为2000至5000J/m2
接着,使用加热板或烘箱等装置进行后烤(postbake)处理,使该涂膜固化。后烤温度通常为120至250℃。其中,后烤时间是根据加热机器的种类不同而调整,例如,使用加热板的加热时间为5至30分钟,使用烘箱的加热时间为30至90分钟。经过以上的处理步骤后,即可形成保护膜。
该基材可选自应用在液晶显示器中的无碱玻璃、钠钙玻璃、强化玻璃(Pyrex玻璃)、石英玻璃或表面上已附着透明导电膜的玻璃等的基材及用于固体摄影元件等的光电变换元件基板(如:硅基板)等。
该具有保护膜的元件包含基材以及形成于该基材上的如上所述的保护膜。
该具有保护膜的元件包含但不限于显示元件、半导体元件或光波导路等。
本发明将就以下实施例来作进一步说明,但应了解的是,该实施例仅为例示说明用,而不应被解释为本发明实施的限制。
[实施例]
[碱可溶性树脂(A)的合成]
<合成例A-1>
在容积1000毫升的四口烧瓶上设置氮气入口、搅拌器、加热器、冷凝管及温度计,并导入氮气。依表1所示比例,将甲基丙烯酸(以下简称MAA)10重量份、甲基丙烯酸环氧丙酯(以下简称GMA)65重量份、甲基丙烯酸双环戊脂(以下简称FA-513M)15重量份、苯乙烯(以下简称SM)10重量份,以及溶剂二乙二醇二甲醚(以下简称Diglyme)240重量份以一次添加方式加入该四口烧瓶中。
使该烧瓶内部充满氮气后,搅拌该四口烧瓶的内容物并使油浴升温至85℃,将催化剂2,2’-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)(以下简称ADVN)3.0重量份溶于20重量份的Diglyme中,分为五等份的量于一小时内间隔添加在该四口烧瓶中。聚合过程的反应温度维持在70℃,聚合时间5小时,待聚合完成后,自该四口烧瓶中取出聚合产物,将溶剂脱挥,制得碱可溶性树脂A-1。
<合成例A-2>
在容积1000毫升的四口烧瓶上设置氮气入口、搅拌器、加热器、冷凝管及温度计,并导入氮气。依表1所示比例,将2-甲基丙烯酰乙氧基丁二酸酯(以下简称HOMS)40重量份、甲基丙烯酸3,4-环氧环己基甲酯(以下简称EC-MAA)25重量份、甲基丙烯酸2-羟基乙酯(以下简称HEMA)5重量份、FA-513M10重量份、SM20重量份,以及溶剂丙二醇甲醚醋酸酯(以下简称PGMEA)240重量份以一次添加方式加入该四口烧瓶中。
使该烧瓶内部充满氮气后,搅拌该四口烧瓶的内容物并使油浴升温至85℃,将催化剂ADVN2.4重量份溶于20重量份的PGMEA中,分为五等份的量于一小时内间隔添加在该四口烧瓶中。聚合过程的反应温度维持在70℃,聚合时间6小时,待聚合完成后,自该四口烧瓶中取出聚合产物,将溶剂脱挥,制得碱可溶性树脂A-2。
<合成例A-3>
在容积1000毫升的四口烧瓶上设置氮气入口、搅拌器、加热器、冷凝管及温度计,并导入氮气。依表1所示比例,将MMA25重量份、GMA20重量份、EC-MAA20重量份、HEMA10重量份、FA-513M10重量份、甲基丙烯酸苯甲酯(以下简称BzMA)15重量份,以及溶剂Diglyme200重量份及PGMEA40重量份以一次添加方式加入该四口烧瓶中。
使该烧瓶内部充满氮气后,搅拌该四口烧瓶的内容物并使油浴升温至85℃,将催化剂2,2’-偶氮双-2-甲基丁腈(以下简称AMBN)3.0重量份溶于20重量份的Diglyme中,分为五等份的量于一小时内间隔添加在该四口烧瓶中。聚合过程的反应温度维持在70℃,聚合时间5小时,待聚合完成后,自该四口烧瓶中取出聚合产物,将溶剂脱挥,制得碱可溶性树脂A-3。
[感光性树脂组成物的制备]
<实施例1>
在容积500毫升的三颈烧瓶中,加入100重量份的碱可溶性树脂A-1、30重量份的1-[1-(4-羟基苯基)异丙基]-4-[1,1-双(4-羟基苯基)乙基]苯与邻萘醌二叠氮-5-磺酸所形成的邻萘醌二叠氮磺酸酯(商品名DPAP200,DKC制,平均酯化度为67%)、10重量份的U-6HA(新中村化学制)、5重量份的UV-7605B(日本合成化学制)、400重量份的PGMEA,及3重量份的COMPOCERAN SQ-101(荒川化学制),以摇动式搅拌器搅拌均匀后,即可制得实施例1的感光性树脂组成物。以下记的各检测项目进行评价,所得结果如表2所示。
<实施例2至8及比较例1至3>
实施例2至8及比较例1至3是以与实施例1相同的步骤来制备该感光性树脂组成物,不同的地方在于:改变原料的种类及其使用量,该原料的种类及其使用量如表2所示。所述感光性树脂组成物以下记各检测项目进行评价,所得结果如表2所示。
[保护膜的制备]
<应用例1>
将实施例1的感光性树脂组成物以旋转涂布的方式,分别涂布在100×100×0.7mm3大小的素玻璃基板上,得到厚度2μm的预涂膜,接着以110℃预烤2分钟后,在曝光机(AG500-4N;M&R Nano Technology制)与预涂膜间置入正光阻用掩膜,且以能量为200J/cm2的紫外光照射预涂膜,接着,浸渍于23℃且0.4wt%的四甲基氢氧化铵的显影液中1分钟,除去曝光的部分,以纯水洗净后,再以曝光机直接照射显影后的涂膜,其能量为300mJ/cm2。接着以230℃后烤60分钟,可获得素玻璃基板上具有图样的保护膜。
<应用例2至8及应用比较例1至3>
应用例2至8及应用比较例1至3是以与应用例1相同的步骤来制备保护膜,不同的地方在于:改变感光性树脂组成物的种类,分别使用实施例2至8及比较例1至3的感光性树脂组成物。
[检测项目]
分别将应用例1至8及应用比较例1至3,以下记的各检测项目进行检测,检测结果如表2所示。
1.断面形状:
分别将应用例1至8及应用比较例1至3的具有图样的保护膜以SEM拍摄,并观察其断面形状,判断基准如下:
◎:矩形
○:顺锥状
╳:逆锥状或扁圆状
2.线膨胀系数:
分别将应用例1至8及应用比较例1至3以热机械测定装置(简称TMA,厂牌:精工电子,型号:TMA120C)测量100至200℃的线膨胀系数α(ppm/℃),并根据下列基准进行评价:
◎:α<200
○:200≤α<300
╳:300≤α
由表2的结果可知,实施例1至8的感光性树脂组成物通过同时使用碱可溶性树脂(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、每分子具有至少含有六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C),及溶剂(D),使该感光性树脂组成物所形成的保护膜的断面形状佳且线膨胀系数低。
其中,实施例1及实施例7的感光性树脂组成物还包含添加剂含硫醇基的倍半硅氧烷,实施例5的感光性树脂组成物还包含添加剂含环氧基的化合物,所述感光性树脂组成物通过加入特定的添加剂使所形成的保护膜的线膨胀系数更为降低。
比较例1及2的感光性树脂组成物未使用每分子具有至少含有六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C),所述感光性树脂组成物所形成的保护膜断面形状不理想且线膨胀系数较高。比较例3所用的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物仅在每分子中具有两个(甲基)丙烯酰基,该感光性树脂组成物所形成的保护膜断面形状不理想且线膨胀系数较高。
综上所述,本发明感光性树脂组成物通过同时使用碱可溶性树脂(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)、每分子具有至少含有六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C),及溶剂(D),使该感光性树脂组成物所形成的保护膜同时能达成断面形状佳且具有低线膨胀系数,所以确实能达成本发明的目的。
以上所述,仅为本发明的较佳实施例而已,并不能以此限定本发明实施的范围,即通常依本发明权利要求范围及发明说明内容所作的简单的等效变化与修饰,均仍属本发明专利涵盖的范围内。

Claims (5)

1.一种感光性树脂组成物,其特征在于包含:
碱可溶性树脂(A);
邻萘醌二叠氮磺酸酯(B);
每分子具有至少含有六个(甲基)丙烯酰基的氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C);及
溶剂(D);
基于碱可溶性树脂(A)100重量份,邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)的使用量为10至50重量份。
2.根据权利要求1所述的感光性树脂组成物,其特征在于,所述碱可溶性树脂(A)由不饱和羧酸或不饱和羧酸酐化合物(a1)、含环氧基的不饱和化合物(a2),及其他不饱和化合物(a3)共聚合而得。
3.根据权利要求1所述的感光性树脂组成物,其特征在于,基于碱可溶性树脂(A)100重量份,氨基甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯化合物(C)的使用量为1至30重量份;溶剂(D)的使用量为100至800重量份。
4.一种保护膜,其特征在于,是将根据权利要求1至3中任一项所述的感光性树脂组成物涂布于基材上,再经预烤、曝光、显影及后烤处理后所形成的。
5.一种具有保护膜的元件,其特征在于,其包含基材以及根据权利要求4所述的保护膜。
CN201310432582.6A 2012-09-27 2013-09-22 感光性树脂组成物、保护膜及具有保护膜的元件 Active CN103698977B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW101135626 2012-09-27
TW101135626A TWI474112B (zh) 2012-09-27 2012-09-27 感光性樹脂組成物、保護膜及具有保護膜的元件

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN103698977A CN103698977A (zh) 2014-04-02
CN103698977B true CN103698977B (zh) 2017-01-04

Family

ID=50339188

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201310432582.6A Active CN103698977B (zh) 2012-09-27 2013-09-22 感光性树脂组成物、保护膜及具有保护膜的元件

Country Status (3)

Country Link
US (1) US9023589B2 (zh)
CN (1) CN103698977B (zh)
TW (1) TWI474112B (zh)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI483075B (zh) * 2013-08-08 2015-05-01 Chi Mei Corp 負型感光性樹脂組成物及其應用
TWI655503B (zh) * 2014-10-15 2019-04-01 奇美實業股份有限公司 感光性樹脂組成物、間隙體、保護膜以及液晶顯示元件
WO2016058551A1 (zh) * 2014-10-15 2016-04-21 奇美实业股份有限公司 感光性树脂组成物、彩色滤光片的制造方法、彩色滤光片以及液晶显示装置
TWI584066B (zh) * 2015-05-25 2017-05-21 奇美實業股份有限公司 正型感光性樹脂組成物及其圖案形成方法
TW201702737A (zh) * 2015-07-09 2017-01-16 奇美實業股份有限公司 感光性樹脂組成物、保護膜及元件
CN105801787B (zh) * 2016-04-25 2018-05-22 宋芳 一种大分子结构光敏剂及其制备方法和用该光敏剂制备的光刻胶
TWI676864B (zh) * 2016-09-22 2019-11-11 奇美實業股份有限公司 正型感光性樹脂組成物、圖案化膜及凸塊的製造方法
TWI796410B (zh) * 2018-12-25 2023-03-21 奇美實業股份有限公司 化學增幅型正型感光性樹脂組成物及其應用

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1766719A (zh) * 2001-08-20 2006-05-03 东进瑟弥侃株式会社 用于光刻胶的感光树脂组合物
CN101477308A (zh) * 2008-01-04 2009-07-08 三星电子株式会社 负型光刻胶组合物及使用其制造阵列基板的方法
CN101609256A (zh) * 2008-06-19 2009-12-23 Jsr株式会社 保护膜形成用感射线性树脂组合物及保护膜的形成方法
CN101636279A (zh) * 2007-03-19 2010-01-27 爱克发印艺公司 制作平版印刷印版载体的方法

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1078654A (ja) * 1996-09-02 1998-03-24 Konica Corp 感光性組成物、感光性平版印刷版及び現像方法
JP3965868B2 (ja) 2000-06-12 2007-08-29 Jsr株式会社 層間絶縁膜およびマイクロレンズ
JP2002035684A (ja) * 2000-07-28 2002-02-05 Clariant (Japan) Kk 保護膜の形成方法
TW200517431A (en) * 2003-10-06 2005-06-01 Chisso Corp Photo-hardening polymer composition and display device using the same
TWI428698B (zh) * 2011-11-25 2014-03-01 Chi Mei Corp 感光性樹脂組成物、黑色矩陣、彩色濾光片及其液晶顯示元件

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1766719A (zh) * 2001-08-20 2006-05-03 东进瑟弥侃株式会社 用于光刻胶的感光树脂组合物
CN101636279A (zh) * 2007-03-19 2010-01-27 爱克发印艺公司 制作平版印刷印版载体的方法
CN101477308A (zh) * 2008-01-04 2009-07-08 三星电子株式会社 负型光刻胶组合物及使用其制造阵列基板的方法
CN101609256A (zh) * 2008-06-19 2009-12-23 Jsr株式会社 保护膜形成用感射线性树脂组合物及保护膜的形成方法

Also Published As

Publication number Publication date
TWI474112B (zh) 2015-02-21
TW201413378A (zh) 2014-04-01
CN103698977A (zh) 2014-04-02
US20140087307A1 (en) 2014-03-27
US9023589B2 (en) 2015-05-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103698977B (zh) 感光性树脂组成物、保护膜及具有保护膜的元件
CN103728833B (zh) 感光性树脂组成物、保护膜及具有保护膜的元件
CN103592819B (zh) 感光性树脂组合物、由其形成的间隙体、保护膜及液晶显示元件
KR101748881B1 (ko) 신규 화합물, 그것을 함유하는 감방사선성 조성물, 및 경화막
TWI410750B (zh) A radiation-sensitive resin composition, a spacer for a liquid crystal display panel, a method for forming a spacer for a liquid crystal display panel, and a liquid crystal display panel
JP4231076B2 (ja) 感光性樹脂組成物
JP5051365B2 (ja) 感光性樹脂組成物、表示パネル用スペーサーおよび表示パネル
US9422446B2 (en) Photosensitive resin composition, protective film and element having the same
JP2007052140A (ja) 感光性樹脂組成物、表示パネル用スペーサーおよび表示パネル
CN105319852A (zh) 感光性树脂组合物、保护膜及具有保护膜的元件
JP5640978B2 (ja) 新規化合物、その製造方法、この新規化合物を含有する感放射線性組成物及び硬化膜
TW200941133A (en) Radiation sensitive resin composition and spacer for liquid crystal display element
TW200537168A (en) Radiation sensitive resin composition for forming spacer, spacer and the forming method thereof, and liquid crystal display element
CN105278243B (zh) 感光性树脂组合物及其应用
TW201708956A (zh) 感光性樹脂組成物及其應用
TWI379161B (en) Radiation sensitive resin composition, method for forming projections and spacers, projections and spacers, and liquid crystal display element with them
KR101808139B1 (ko) 신규 화합물, 감방사선성 조성물, 경화막 및 그 형성 방법
JP2007056221A (ja) 重合体、感放射線性樹脂組成物および液晶表示素子用スペーサー
KR20150033793A (ko) 네거티브형 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 절연막
TW201610581A (zh) 光敏樹脂組成物及絕緣膜與使用該絕緣膜之電子裝置
KR102360238B1 (ko) 네거티브형 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 절연막
TWI658330B (zh) 負型光敏樹脂組成物
TWI394001B (zh) Side-chain unsaturated polymers, radiation-sensitive resin compositions, and spacers for liquid crystal display elements
KR102207172B1 (ko) 네거티브형 감광성 수지 조성물
CN106338888A (zh) 感光性树脂组成物、保护膜及元件

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant