CN103310876B - 透明导电性膜及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种透明导电性膜，其包含透明基体材料和层叠于所述透明基体材料的至少一面的(C)透明导电膜，其特征在于，上述(C)透明导电膜位于上述透明导电性膜的最表层，上述透明导电性膜中上述(C)透明导电膜的层叠部分和上述透明导电性膜中上述(C)透明导电膜的非层叠部分的反射率之差及透射率之差的绝对值在700nm、550nm及400nm的各波长下为5以下。根据本发明的透明导电性膜，可以提供在可见光的短波长区域的透射率高且透明导电膜的图案形状不明显的触摸面板用透明导电性膜，特别是用于静电容量方式触摸面板的透明导电性膜及其制造方法。

Description

透明导电性膜及其制造方法
技术领域
本发明涉及透明导电性膜及其制造方法，更详细而言，涉及在可见光的短波长区域的透射率高且透明导电膜的图案形状不明显的触摸面板用透明导电性膜，特别是适用于静电容量方式触摸面板的透明导电性膜及其制造方法。
背景技术
可通过与图像显示部直接接触而输入信息的触摸面板将透射光的输入装置配置于各种显示器上，作为代表性的形式，可以列举将两张透明导电基板以透明导电层面对面的方式设置间隙而配置的电阻膜式触摸面板、或利用在透明导电膜和手指之间产生的静电容量的变化的静电容量式类型。
在上述那样的触摸面板的透明导电膜中使用掺杂有氧化锡的氧化铟(下面，有时也简称为“ITO”)等，它们层叠于玻璃基体材料或塑料基体材料等透明基体材料上，构成透明导电基板。
作为透明导电膜，在层叠有ITO等金属氧化物的透明导电基板中，在可见光的短波长区域透射率普遍降低，因此，黄色变强。为了解决该问题，公开了在透明基板和透明导电膜之间设置折射率不同的光学层叠体的方法(专利文献1)。对于透明基体材料的整个面层叠透明导电膜的电阻膜式触摸面板，这是有效的方法。
另一方面，在静电容量式触摸面板中，为了检测手指的触摸位置，将具备被图案化为线状的透明导电膜的两张透明导电性膜以相互交叉的方式配置，形成了格子状的图案。这样得到的静电容量式触摸面板存在具有透明导电膜的部位和没有透明导电膜的部位，且由于透明导电膜的有无，反射率及透射率不同，因此，识别利用两个透明导电性膜形成的透明导电膜的格子状图案，其结果，存在作为显示器的可视性降低的问题。
关于触摸面板的着色防止，在电阻膜式触摸面板中，由于在透明基板的整个面上层叠有透明导电膜，因此，如果力求以整体不产生不适感的级别防止着色，则是充分的。相比之下，在静电容量式触摸面板中，需要降低着色等以达到不识别透明导电膜本身的级别。上述专利文献1所记载的透明导电基板中，难以识别透明导电膜的格子状图案，因此是不充分的。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2011-98563号公报
发明内容
发明要解决的技术问题
如上所述，在静电容量式触摸面板中，当识别由透明导电性膜形成的格子状图案时，会导致触摸面板显示器的可视性降低等不良情况。
本发明是鉴于这种状况下进行的，其目的在于，提供一种在可见光的短波长区域的透射率高且透明导电膜的层叠部分不明显的触摸面板用透明导电性膜，特别是用于静电容量方式触摸面板的透明导电性膜及其制造方法。
为了实现所述目的，本发明人等进行了深入研究，结果得到下述的见解。
发现了一种透明导电性膜，其包含透明基体材料和层叠于所述透明基体材料的至少一面的(C)透明导电膜，所述(C)透明导电膜位于所述透明导电性膜的最表层，所述透明导电性膜中所述(C)透明导电膜的层叠部分与所述透明导电性膜中所述(C)透明导电膜的非层叠部分的反射率之差及透射率之差的绝对值在700nm、550nm及400nm的各波长下为特定值以下时可以适于该目的；而且，该透明导电性膜可以通过在实施特定工序而制作的透明导电膜层叠用膜的最表层层叠透明导电膜来制造。
解决问题的方法
本发明基于上述的见解而完成。
即，本发明提供：
[1]一种透明导电性膜，其是在透明基体材料的至少一面的最表层层叠透明导电膜而成的，其特征在于，所述透明导电膜的层叠部分和非层叠部分的反射率之差及透射率之差的绝对值在各波长700nm、550nm及400nm下为5以下；
[2]如所述[1]项记载的透明导电性膜，其中，在透明基体材料和(C)透明导电膜之间具有(A)低折射率层及折射率比所述(A)低折射率层高的(B)高折射率层；
[3]如所述[2]项记载的透明导电性膜，其中，(A)层的折射率为1.30以上且小于1.60，膜厚为10nm以上且小于150nm，(B)层的折射率为1.60以上且小于2.00，膜厚为30nm以上且小于130nm；及
[4]所述[1]～[3]项中任一项记载的透明导电性膜的制造方法，其特征在于，包含：(a)在透明基体材料的至少一面使用含有活性能量射线固化型化合物的低折射率层用涂布剂及含有活性能量射线固化型化合物的高折射率层用涂布剂，制作由该活性能量射线固化物形成的低折射率层及具有高折射率层的透明导电膜层叠用膜的工序；及(b)在所述(a)工序中得到的透明导电膜层叠用膜的最表层上层叠透明导电膜的工序。
即，本发明包括以下方面。
<1>一种透明导电性膜，其包含透明基体材料和层叠于所述透明基体材料的至少一面的(C)透明导电膜，其特征在于，
所述(C)透明导电膜位于所述透明导电性膜的最表层，
所述透明导电性膜中所述(C)透明导电膜的层叠部分和所述透明导电性膜中所述(C)透明导电膜的非层叠部分的反射率之差及透射率之差的绝对值在700nm、550nm及400nm的各波长下为5以下；
<2>如<1>所记载的透明导电性膜，其中，
在所述透明基体材料和所述(C)透明导电膜之间层叠(A)低折射率层及(B)高折射率层，
所述(B)高折射率层的折射率比所述(A)低折射率层的折射率高；
<3>如<2>所记载的透明导电性膜，其中，
所述(A)低折射率层的折射率为1.30以上且小于1.60，
所述(A)低折射率层的膜厚为10nm以上且小于150nm，
且所述(B)高折射率层的折射率为1.60以上且小于2.00，
所述(B)高折射率层的膜厚为30nm以上且小于130nm；
<4>如<2>或<3>所记载的透明导电性膜，其为包含透明基体材料、(A)低折射率层、(B)高折射率层和(C)透明导电膜的透明导电性膜，其中，
在所述透明基体材料的至少一面层叠有所述(A)低折射率层，
在所述(A)低折射率层上层叠有所述(B)高折射率层，
在所述(B)高折射率层上层叠有所述(C)透明导电膜；
<5>如<2>～<4>中任一项所记载的透明导电性膜，其中，所述(A)低折射率层包含活性能量射线固化型化合物、硅溶胶、中空二氧化硅微粒及多孔二氧化硅微粒中的至少1种；
<6>如<2>～<5>中任一项所记载的透明导电性膜，其中，所述(B)高折射率层包含活性能量射线固化型化合物和金属氧化物；
<7><1>～<6>中任一项所记载的透明导电性膜的制造方法，其包括：(a)在透明基体材料的至少一面层叠(A)低折射率层及(B)高折射率层，制作具有(A)低折射率层及(B)高折射率层的透明导电膜层叠用膜的工序；及(b)在所述(a)工序中得到的透明导电膜层叠用膜的最表层上层叠(C)透明导电膜的工序，其中，
所述(a)工序包含：将含有活性能量射线固化型化合物的低折射率层用涂布剂涂布于透明基体材料的至少一面，进行干燥后，固化，并层叠含有所述活性能量射线固化型化合物的固化物的(A)低折射率层的工序；以及将含有活性能量射线固化型化合物的高折射率层用涂布剂涂布于所述(A)低折射率层上，进行干燥后，固化，并层叠含有所述活性能量射线固化物的(B)高折射率层的工序。
发明的效果
根据本发明，可以提供在可见光的短波长区域的透射率高且透明导电膜的图案形状不明显的触摸面板用透明导电性膜，特别是用于静电容量方式触摸面板的透明导电性膜及其制造方法。
附图说明
图1是表示本发明透明导电性膜的构成的一例的剖面示意图。
符号说明
1透明基体材料
2低折射率层
3高折射率层
4透明导电膜
5透明导电膜层叠用膜
10透明导电性膜
具体实施方式
首先，对本发明的透明导电性膜进行说明。
[透明导电性膜]
本发明的透明导电性膜包含透明基体材料和层叠于上述透明基体材料的至少一面的(C)透明导电膜，其特征在于，上述(C)透明导电膜位于上述透明导电性膜的最表层，上述透明导电性膜中上述(C)透明导电膜的层叠部分和上述透明导电性膜中上述(C)透明导电膜的非层叠部分的反射率之差及透射率之差的绝对值在700nm、550nm及400nm的各波长下为5以下。
(透明导电性膜中(C)透明导电膜的层叠部分和非层叠部分的反射率之差及透射率之差的绝对值)
在塑料膜等透明基体材料上层叠有透明导电膜的透明导电性膜中，可见光的短波长区域的透射率降低，因此，产生呈现着色的问题，在将这种透明导电性膜用于静电容量方式的触摸面板的情况下，尤其存在问题。
本发明人等对该问题进行了深入研究，结果成功得到如下透明导电性膜，即，在可见光区域内的规定范围内，将透明导电膜的层叠部分和非层叠部分的反射率差、透射率差各自的绝对值设为规定范围内，由此，得到了透明导电膜在反射光及透射光下均不能完全被识别的透明导电性膜。
即，在700nm、550nm及400nm的各波长下，将透明导电性膜中透明导电膜的层叠部分和透明导电性膜中透明导电膜的非层叠部分中的反射率之差及透射率之差的绝对值设为5以下，由此，能够得到具有优异的透明性，且在透射光下及反射光下透明导电膜均不可视的透明导电性膜。
另外，透明导电性膜中透明导电膜的层叠部分和非层叠部分的反射率之差的绝对值可以如下求得，即，对于透明导电性膜的各个部分，依据JISK7105测定各波长的反射率，以这些值为基础，求得两部分的反射率之差的绝对值。透明导电性膜中透明导电膜的层叠部分和非层叠部分的透射率之差的绝对值也同样可以依据JISK7105求得。
(透明导电性膜的层构成)
为了得到具有上述特性的透明导电性膜，优选制成在透明基体材料和(C)透明导电膜之间具有(A)低折射率层及折射率比上述(A)低折射率层高的(B)高折射率层的透明导电性膜。即，本发明的透明导电性膜优选包含：透明基体材料、(A)折射率层、(B)高折射率层和(C)透明导电膜，在上述透明基体材料和上述(C)透明导电膜之间层叠上述(A)低折射率层和上述(B)高折射率层，且上述(B)高折射率层的折射率比上述(A)低折射率层的折射率高。
通过在(C)透明导电膜下设置上述(A)低折射率层(下面，有时也称为“(A)层”)及上述(B)高折射率层(下面，有时也称为“(B)层”)，利用(A)层及(B)层中的光的干涉作用，易于将透明导电性膜中透明导电膜的层叠部分和透明导电性膜中透明导电膜的非层叠部分的反射率之差及透射率之差的绝对值调节成5以下，故优选。需要说明的是，以下，有时将在透明基体材料上设有(A)低折射率层及(B)高折射率层的膜、即层叠(C)透明导电膜之前的具有透明基体材料、(A)低折射率层和(B)高折射率层的膜称为透明导电膜层叠用膜。
另外，本发明的透明导电性膜优选是在透明基体材料上依次层叠(A)低折射率层、折射率比上述(A)低折射率层高的(B)高折射率层及(C)透明导电膜而成的透明导电性膜。
(C)透明导电膜通常为高折射率，因此，通过在折射率与(C)透明导电膜接近的(B)高折射率层上层叠(C)透明导电膜，并通过蚀刻等除去(C)透明导电膜的一部分的情况下，更不易看到透明导电膜的有无，故优选。即，本发明的透明导电性膜更优选包含：上述透明基体材料、上述(A)低折射率层、上述(B)高折射率层和(C)透明导电膜，在上述透明基体材料上层叠上述(A)低折射率层，在上述(A)低折射率层上层叠上述(B)高折射率层，且在上述(B)高折射率层上即透明导电性膜的最表层上进一步层叠(C)透明导电膜。
另外，在透明基体材料上也可以直接层叠(A)层或(B)层，也可以在透明基体材料上适当设置硬涂层、阻气层、底涂层等后，在这些层上层叠(A)层或(B)层。
接着，下面对各层的构成进行说明。
(透明基体材料)
作为上述透明导电膜层叠用膜中使用的透明基体材料，优选为透明塑料膜。
作为这种透明塑料膜，只要具有本发明的效果就没有特别限制，可以从作为现有的光学用基体材料而公知的塑料膜中适当选择具有透明性的基体材料进行使用。例如，可以优选列举：聚对苯二甲酸乙二醇酯(下面，有时也简称为“PET”)、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯(下面、也有时简称为“PEN”)等聚酯膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、赛璐玢、二乙酰纤维素膜、三乙酰纤维素膜、乙酸丁酸纤维素膜、聚氯乙烯膜、聚偏氯乙烯膜、聚乙烯醇膜、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物膜、聚苯乙烯膜、聚碳酸酯膜、聚甲基戊烯膜、聚砜膜、聚醚醚酮膜、聚醚砜膜、聚醚酰亚胺膜、聚酰亚胺膜、氟树脂膜、聚酰胺膜、丙烯酸树脂膜、降冰片烯系树脂膜、环烯烃树脂膜等塑料膜。
其中，从耐热性的观点来看，进一步优选为：聚酯膜、聚碳酸酯膜、聚酰亚胺膜、降冰片烯系树脂膜、环烯烃树脂膜等，当还考虑到膜在工序过程中破裂那样的操作性时，特别优选为聚酯膜。
关于这些透明基体材料的厚度，只要具有本发明的效果就没有特别限制，可根据情况适当选定，通常为15～300μm，优选为30～250μm的范围。另外，就该透明基体材料而言，出于提高与设于其表面的层的密合性的目的，可以根据需要，通过氧化法或凹凸化法等对透明基体材料的一面或两面实施表面处理。另外，还可以实施底涂处理。作为上述氧化法，例如使用：电晕放电处理、铬酸处理(湿式)、火焰处理、热风处理、臭氧或紫外线照射处理等。作为凹凸化法，例如使用喷砂法、溶剂处理法等。这些表面处理法根据透明基体材料的种类适当选择，但从密合性的提高效果及操作性等方面来看，通常优选使用电晕放电处理法。
((C)透明导电膜)
在本发明的透明导电性膜中，作为层叠于最表层上的(C)透明导电膜，只要是兼具透明性和导电性的材料且具有本发明的效果，就可以没有特别限制地使用，作为代表性的材料，可以列举氧化铟、氧化锌、氧化锡、铟-锡复合氧化物、锡-锑复合氧化物、锌-铝复合氧化物、铟-锌复合氧化等膜作为优选的材料。已知这些化合物薄膜通过采用适当的造膜条件，制成兼具透明性和导电性的透明导电膜。
(C)透明导电膜优选的膜厚为4nm以上，更优选为5nm以上，特别优选为10nm以上，且优选为800nm以下，更优选为500nm以下，特别优选为100nm以下。即，(C)透明导电膜的膜厚优选为4～800nm，更优选为10～100nm。
在上述膜厚小于4nm的情况下，难以制成连续的膜，有时得不到稳定的导电性，相反，当超过800nm而变得过厚时，有时透明性降低。即，如果(C)透明导电膜的膜厚为4～800nm，则易于形成连续的膜，且透明性不会降低，故优选。
((A)低折射率层)
在上述透明导电性膜中，对于形成(A)低折射率层的材料，只要具有本发明的效果就没有特别限定，例如优选通过利用活性能量射线使活性能量射线固化型化合物固化而得到的固化物形成。另外，为了调整折射率，也可以通过使混合有硅溶胶、多孔二氧化硅微粒、中空二氧化硅微粒等中的至少1种的活性能量射线固化型化合物固化而成的固化物形成。即，(A)层更优选包含活性能量射线固化型化合物、硅溶胶、多孔二氧化硅微粒及中空二氧化硅微粒中的至少1种。
(A)低折射率层的折射率优选为1.30以上且小于1.60。在上述折射率小于1.30的情况下，可以作为(A)低折射率层使用的材料等受到限制，因此，与透明基体材料的密合性及膜的透明性等其它特性有时恶化。另一方面，在折射率超过1.60的情况下，与后述的(B)高折射率层的折射率差变小，有时不能充分发挥使透明导电膜的层叠部分不明显的效果。即，(A)低折射率层的折射率如果为1.30以上且小于1.60，则可以使用与透明基体材料的密合性及膜的透明性等特性优异的材料形成上述低折射率层，另外，与(B)高折射率层的折射率之差成为0.2以上，因此，可充分发挥使透明导电膜的层叠部分不明显的效果，故优选。另外，(A)低折射率层的折射率更优选设为1.40～1.50，还特别优选设为1.45～1.50。
另外，(A)低折射率层的膜厚优选为10nm以上且小于150nm。在上述膜厚小于10nm的情况下，(A)层表面的平滑性恶化，有时得不到本发明的效果。另一方面，在上述膜厚为150nm以上的情况下，有时不能得到使透明导电膜的层叠部分不明显的效果。即，如果(A)低折射率层的膜厚为10nm以上且小于150nm，则不会使(A)层表面的平滑性恶化，且可以得到使透明导电膜的层叠部分不明显的效果，故优选。另外，(A)低折射率层的膜厚更优选为50～130nm，特别优选为60～115nm。
<活性能量射线固化型化含物>
在本发明中，优选用于(A)低折射率层的形成的活性能量射线固化型化合物是指，在电磁波或带电重粒子束中具有能量量子的化合物，即通过照射紫外线或电子束等而交联、固化的聚合性化合物。
作为这种活性能量射线固化型化合物，例如可以列举光聚合性预聚物和/或光聚合性单体。另外，还可以使用键合有含聚合性不饱和基团的有机化合物的二氧化硅微粒(有机无机复合树脂化合物)。
上述光聚合性预聚物包括自由基聚合型和阳离子聚合型，作为自由基聚合型的光聚合性预聚物，例如可以列举：聚酯丙烯酸酯系、环氧丙烯酸酯系、聚氨酯丙烯酸酯系、多元醇丙烯酸酯系等。其中，作为聚酯丙烯酸酯系预聚物，例如，可以使用通过下述方法而得到的化合物：将由多元羧酸和多元醇缩合而得到的两末端具有羟基的聚酯低聚物的羟基利用(甲基)丙烯酸进行酯化；或将向多元羧酸上加成氧化烯而得到的低聚物的末端羟基利用(甲基)丙烯酸进行酯化。
作为环氧丙烯酸酯系预聚物，例如，可以使用通过使(甲基)丙烯酸与分子量较低的双酚型环氧树脂或酚醛清漆型环氧树脂的环氧乙烷环反应，进行酯化而得到的化合物。
作为聚氨酯丙烯酸酯系预聚物，例如，可以使用通过下述方法而得到的化合物：将聚醚多元醇或聚酯多元醇与聚异氰酸酯反应而得到的聚氨酯低聚物利用(甲基)丙烯酸进行酯化。
另外，作为多元醇丙烯酸酯系预聚物，可以使用将聚醚多元醇的羟基部分利用(甲基)丙烯酸进行酯化而得到的化合物。
这些自由基聚合型的光聚合性预聚物可以使用1种，也可以组合两种以上进行使用。
另一方面，作为阳离子聚合型的光聚合性预聚物，通常使用环氧系树脂。作为该环氧系树脂，例如可以列举，将直链状烯烃化合物、环状烯烃化合物、利用表氯醇等使双酚树脂或酚醛清漆树脂等多元酚类化合物环氧化而成的化合物通过过氧化物等进行氧化而得到的化合物等。
另外，作为光聚合性单体，例如可以列举：1，4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇己二酸酯二(甲基)丙烯酸酯、羟基特戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、二环戊基二(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性二环戊烯基二(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性磷酸二(甲基)丙烯酸酯、烯丙基化环己基二(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸酯二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、丙酸改性二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯、丙酸改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等多官能丙烯酸酯。这些光聚合性单体可以使用1种，也可以组合两种以上使用，另外，还可以与上述光聚合性预聚物组合使用。
另外，作为键合有含聚合性不饱和基团的有机化合物的二氧化硅微粒(有机无机复合树脂化合物)，可以使用通过使平均粒径0.005～1μm左右的二氧化硅微粒表面的硅烷醇基与具有可与上述硅烷醇基反应的官能团且含聚合性不饱和基团的有机化合物反应而得到的二氧化硅微粒。作为具有可与硅烷醇基反应的官能团的聚合性不饱和基团，可以列举例如自由基聚合性的丙烯酰基及甲基丙烯酰基等。
这些聚合性化合物可以根据需要组合使用光聚合引发剂。作为该光聚合引发剂，对于自由基聚合型的光聚合性预聚物或光聚合性单体，例如可以列举：苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻异丙醚、苯偶姻正丁醚、苯偶姻异丁醚、苯乙酮、二甲基氨基苯乙酮、2，2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2，2-二乙氧基-2-苯基苯乙酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1-羟基环己基苯基酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉基丙烷-1-酮、4-(2-羟基乙氧基)苯基-2-(羟基-2-丙基)酮、二苯甲酮、对苯基二苯甲酮、4，4’-二乙基氨基二苯甲酮、二氯二苯甲酮、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、2-叔丁基蒽醌、2-氨基蒽醌、2-甲基噻吨酮、2-乙基噻吨酮、2-氯噻吨酮、2，4-二甲基噻吨酮、2，4-二乙基噻吨酮、苄基二甲基缩酮、苯乙酮二甲基缩酮、对二甲基氨基苯甲酸酯等。
另外，作为针对阳离子聚合型的光聚合性预聚物的光聚合引发剂，例如可以列举，由芳香族锍离子、芳香族氧代锍离子(oxosulfonium ion)、芳香族碘离子等与四氟硼酸酯、六氟磷酸酯、六氟锑酸酯、六氟砷酸酯等阴离子形成的化合物。这些化合物可以使用1种，也可以组合两种以上使用，另外，相对于100质量份的上述光聚合性预聚物和/或光聚合性单体，其配合量通常在0.2～10质量份的范围中选择。
<硅溶胶>
在本发明中，在含有硅溶胶和活性能量射线固化型化合物的情况下，作为用于(A)低折射率层的形成的上述硅溶胶，优选使用平均粒径为0.005～1μm左右、优选为10nm～100nm的二氧化硅微粒在醇系或溶纤剂系的有机溶剂中以胶体状态混悬而成的胶体二氧化硅。另外，上述平均粒径可以通过ζ电位测定法求得。
<中空二氧化硅微粒、多孔二氧化硅微粒>
在本发明中，也可以将具有空隙的中空二氧化硅微粒或多孔二氧化硅微粒、与活性能量射线固化型化合物用于(A)低折射率层的形成。
中空二氧化硅微粒是指具有球(中空)结构的二氧化硅微粒，在球内部的空隙中填充有气体例如折射率为1的空气。另一方面，多孔二氧化硅微粒在其表面以开口的状态或闭口的状态具有微细的空隙，在该空隙内填充有上述折射率为1的空气。由于空隙内填充有空气，因此，这些中空二氧化硅微粒或多孔二氧化硅微粒具有本身的折射率低的特征。将上述中空二氧化硅微粒或多孔二氧化硅微粒均匀分散在在涂膜中而不形成聚集体的情况下，降低涂膜的折射率的效果高，同时透明性也优异。当与没有空隙的普通胶体二氧化硅粒子(折射率n＝1.46左右)相比时，上述那样具有空隙的中空二氧化硅微粒的折射率具有微粒本身的折射率低的特征。
具有空隙的中空二氧化硅微粒或多孔二氧化硅微粒是平均粒径为5nm～300nm左右，优选为5nm～200nm，特别优选为10nm～100nm的微粒。
填充于这些微粒的空隙中的气体优选折射率为1的空气。
在本发明中，通过使用向活性能量射线固化型化合物中添加上述中空二氧化硅微粒或多孔二氧化硅微粒而得到的混合物形成(A)层，即使在活性能量射线固化型化合物的固化物具有1.45以上的高折射率的情况下，也能够降低(A)层的折射率。另外，在本发明中使用的具有空隙的二氧化硅微粒由于平均粒径为5nm～300nm左右，优选为5nm～200nm，特别优选非常小为10nm～100nm，所述分散有二氧化硅微粒的(A)层的透明性也优异。另外，上述平均粒径可以通过ζ电位测定法求得。
上述中空二氧化硅微粒及多孔二氧化硅微粒优选使用在溶剂中分散而成为胶体状态(溶胶)的微粒。
((B)高折射率层)
在本发明的透明导电性膜中，(B)高折射率层是折射率比上述的(A)低折射率层高的层。对于形成该(B)高折射率层的材料，只要具有本发明的效果，就没有特别限定，优选通过例如混合活性能量射线固化型化合物和金属氧化物的固化物形成。即，(B)层优选含有活性能量射线固化型化合物和金属氧化物。
(B)高折射率层的折射率优选为1.60以上且小于2.00。在上述折射率小于1.60的情况下，与(A)低折射率层的折射率之差过小，因此，有时不能充分发挥使透明导电膜的层叠部分不明显的效果。另一方面，在上述折射率为2.00以上的情况下，可以作为(B)层选择的材料等受到限制，因此，有时使与(A)低折射率层等的密合性及透明性等其它物性恶化。即，如果(B)高折射率层的折射率为1.60以上且小于2.00，则可以使用与(A)层的密合性及透明性等物性优异的材料形成上述(B)高折射率层，可充分发挥使透明导电膜的层叠部分不明显的效果，故优选。
另外，(B)高折射率层的折射率优选为1.60～1.85，特别优选为1.65～1.70。
另外，(B)高折射率层的膜厚优选为30nm以上且小于130nm。在上述膜厚小于30nm的情况下，(B)层表面的平滑性不充分，有时不能得到本发明的效果。另一方面，在上述膜厚为130nrn以上的情况下，有时不能得到使透明导电膜的层叠部分明显的效果。即，如果(B)高折射率层的膜厚为30nm以上且小于130nm，则在(B)层表面得到充分的平滑性，能够得到使透明导电膜的层叠部分不明显的效果，故优选。从这种观点出发，(B)高折射率层的膜厚进一步优选为35～120nm，特别优选为40～110nm。
(B)高折射率层的形成所使用的活性能量射线固化型化合物可以使用与在上述的(A)低折射率层的说明中示出的活性能量射线固化型化合物相同的物质，优选的例子也相同。
<金属氧化物>
在本发明中，(B)高折射率层的形成所使用的金属氧化物没有特别限定，可以列举：氧化钛、氧化锆、氧化钽、氧化锌、氧化铟、氧化铪、氧化铈、氧化锡、氧化铌、氧化铟锡(ITO)、锑锡氧化物(ATO)等。
这些金属氧化物可以使用1种，也可以组合两种以上使用。另外，相对于活性能量射线固化型化合物的上述金属化合物的配合比例也可以以形成的(B)高折射率层的折射率为上述的范围即1.60以上且小于2.00的方式选择。
图1是表示本发明透明导电性膜的构成的一例的剖面示意图。
透明导电性膜10具有如下构成，即，在透明基体材料1的一方面上依次层叠低折射率层2及高折射率层3而形成透明导电膜层叠用膜5，在透明导电膜层叠用膜5的高折射率层3上层叠有透明导电膜4。
在如此构成的透明导电性膜10中，通过将低折射率层2和高折射率层3的各自的折射率及膜厚控制在上述规定的范围中，该透明导电性膜10的透射率高且透明导电膜4的图案形状不明显，适用于例如触摸面板，特别是静电容量方式触摸面板等。
接着，对本发明的透明导电性膜的制造方法进行说明。
[透明导电性膜的制造方法]
本发明的透明导电性膜的制造方法包含：(a)在透明基体材料的至少一面上层叠(A)低折射率层及(B)高折射率层，制作具有(A)低折射率层及(B)高折射率层的透明导电膜层叠用膜的工序；(b)在上述(a)工序中得到的透明导电膜层叠用膜的最表层上层叠(C)透明导电膜的工序，其中，上述(a)工序包含：将含有活性能量射线固化型化合物的低折射率层用涂布剂涂布于透明基体材料的至少一面，进行干燥后，固化，并层叠含有上述活性能量射线固化型化合物的固化物的(A)低折射率层的工序；以及将含有活性能量射线固化型化合物的高折射率层用涂布剂涂布于上述(A)低折射率层上，进行干燥后，固化，并层叠含有上述活性能量射线固化物的(B)高折射率层的工序。
下面，省略与目前为止的内容重复的部分，只详细叙述不同的部分。
((a)制作透明导电膜层叠用膜的工序)
将含有活性能量射线固化型化合物的低折射率涂布剂或含有活性能量射线固化型化合物的高折射率层用涂布剂使用规定溶剂稀释溶解成规定的浓度后，利用目前公知的方法，例如：棒涂法、刀涂法、辊涂法、刮板涂布法、模涂法、凹版涂布法等，在上述透明基体材料的至少一面上涂布形成该涂膜，进行干燥后，对其照射活性能量射线，使该涂膜固化，由此，形成(A)低折射率层或(B)高折射率层。
作为上述低折射率层用涂布剂，优选含有上述活性能量射线固化型化合物和溶剂，更优选含有活性能量射线固化型化合物、硅溶胶、中空二氧化硅微粒及多孔二氧化硅微粒中的至少1种、和溶剂。
在上述低折射率层用涂布剂含有活性能量射线固化型化合物、硅溶胶、中空二氧化硅微粒及多孔二氧化硅微粒中的至少1个和溶剂的情况下，相对于100质量份的活性能量射线固化型化合物，低折射率层用涂布剂中上述硅溶胶、中空二氧化硅微粒或多孔二氧化硅微粒的配合量优选为50～500质量份，更优选为80～300质量份，特别优选为100～250质量份。相对于100质量份的活性能量射线固化型化合物，配合上述硅溶胶、中空二氧化硅微粒或多孔二氧化硅微粒50～500质量份，由此，易于将使用本发明的低折射率层用涂布剂形成的(A)层的折射率调整为上述的范围，故优选。
另外，作为上述高折射率层用涂布剂，优选含有上述的活性能量射线固化型化合物、上述的金属氧化物和溶剂。
另外，作为低折射率层用涂布剂及高折射率层用涂布剂中的固体成分浓度，只要调节固体成分浓度使其成为可涂布程度的粘度即可，可以根据情况适当调整。例如，从将得到的(A)低折射率层及(B)高折射率层的膜厚调节成上述范围的观点来看，固体成分浓度优选为0.05～10质量％，特别优选为0.1～8质量％。
作为低折射率层用涂布剂及高折射率层用涂布剂中包含的上述溶剂，例如可以列举：己烷、庚烷等脂肪烃、甲苯、二甲苯等芳香族烃、二氯甲烷、氯乙烯等卤代烃、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、丙二醇单甲基醚等醇、丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、2-戊酮、异佛尔酮、环己酮等酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯、乙基溶纤剂等溶纤剂系溶剂等。在组合使用两种以上溶剂的情况下，例如，通过组合使用常温下的蒸气压不同的两种溶剂，能够提高涂膜的干燥速度和(A)层的表面平滑性。例如，优选列举组合使用例如20℃下的蒸气压为1.5kPa以上的溶剂和小于1.0kPa的溶剂。作为使用比例，以质量比计，优选20℃下的蒸气压为1.5kPa以上的溶剂∶20℃下的蒸气压小于1.0kPa的溶剂＝30∶70～70∶30，特别优选为40∶60～60∶40。作为上述溶剂组合的具体例，优选列举，甲基异丁基酮(20℃下的蒸气压为2.1kPa)和环己酮(20℃下的蒸气压为0.7kPa)的组合。
另外，上述涂膜的干燥优选在60～150℃下进行10秒钟～10分钟左右。
另外，作为活性能量射线，例如可以列举紫外线或电子束等。上述紫外线由高压汞灯、无电极灯、金属卤化物灯、氙气灯等得到，照射量通常为100～500mJ/cm2。另一方面，电子束由电子束加速器等得到，照射量通常为150～350kV。在该活性能量射线中，紫外线特别适合。另外，在使用电子束作为活性能量射线的情况下，可以使用不含有光聚合引发剂的活性能量射线固化型化合物，形成(A)低折射率层或(B)高折射率层。
通过这种(a)工序，能够制作透明导电膜层叠用膜。
((b)在透明导电膜层叠用膜的最表层层叠透明导电膜的工序)
对上述(a)工序中得到的透明导电膜层叠膜的设有(A)低折射率层及(B)高折射率层的面侧，根据上述材料的种类及需要膜厚适当选择采用真空蒸镀法、溅射法、CVD法、离子镀法、喷雾法、溶胶-凝胶法等公知的方法层叠(C)透明导电膜，由此，能够制造本发明的透明导电性膜。
在使用上述溅射法层叠(C)透明导电膜的情况下，能够采用使用化合物的通常的溅射法或使用金属靶的反应性溅射法等。此时，作为反应性气体，导入氧、氮、水蒸气等，或组合使用臭氧添加及离子辅助等也是有效的。
另外，上述透明导电膜在如上述那样制膜后，也可以通过光刻法形成规定图案的抗蚀掩膜，通过公知的方法实施蚀刻处理，形成线型形状等。
如上述图1所示，本发明的透明导电性膜是在构成极其简单的透明导电膜层叠用膜的最表层上层叠具有例如线型图案等的透明导电膜而成的，其在可见光的短波长区域的透射率高，且识别不到上述透明导电膜的图案形状，适用于触摸面板，特别是静电容量方式触摸面板用。
实施例
接着，通过实施例对本发明进一步详细地说明，但不是通过这些例子限定本发明。
另外，折射率根据JISK7142：2008的A法使用ATAGO公司制折射率计进行测定。另外，低折射率层及高折射率层的膜厚使用椭圆滤计进行测定。
另外，对在各例子中得到的导电性膜进行下述的评价。
(1)反射率差，透射率差
测定制作的透明导电性膜中(C)透明导电膜层叠部分及非层叠部分的反射光谱以及透射光谱，求得波长为700、550、400nm下的反射率差及透射率差的绝对值。
作为透射率测定仪器，使用(株式会社)岛津制作所制，产品型号“UV-3600”。
(2)目视评价
根据各例子，得到长宽90mm×90mm的透明导电膜层叠用膜，并得到在其中央层叠有长宽60mm×60mm的透明导电膜的透明导电性膜。对于该膜，以目视，1)在反射光下及2)在透射光下，基于下面的判定基准评价透明导电膜的有无，色调是否发生变化。
(评价条件)
1)在反射光下的评价：将透明导电性膜设置在距白色荧光灯1m的距离，使白色荧光灯映入透明导电性膜，从相对于透明导电性膜与白色荧光灯相同一侧，在距透明导电性膜30cm的位置对透明导电膜的有无进行评价。
2)在透射光下的评价：将透明导电性膜设置在距白色荧光灯1m的距离，从相对于透明导电性膜与白色荧光灯相反侧，以隔着透明导电性膜能观察到白色荧光灯的方式，在距透明导电性膜30cm的位置对透明导电膜的有无进行评价。
(评价基准)
A：1)在反射光下、及2)在透射光下均不能识别透明导电膜的着色和界限。
B：1)在反射光下、或2)在透射光下的任一情况下可识别透明导电膜局部着色。
C：1)在反射光下、及2)在透射光下均可识别透明导电膜的界限。
(3)光线透射率
对于在各例中得到的透明导电性膜的透明导电膜层叠部分，根据JISK7105测定波长550nm的光线透射率。另外，对于得到的结果，在光线透射率为86％以上的情况下，设为A，小于86％设为B，进行评价。
制备例L-1低折射率层用涂布剂1
作为活性能量射线固化型化合物，添加100质量份的硬涂剂[大日精化工业(株)制，商品名“SEIKABEAM XF-01L(NS)”，固体成分浓度100质量％，含有多官能丙烯酸酯的活性能量射线固化型化合物95质量％，光聚合引发剂5质量％〕及660质量份的硅溶胶[日产化学(株)制，商品名“PGM-ST”，平均粒径15nm的二氧化硅微粒30质量％，丙二醇单甲基醚70质量％]、0.3质量份的光聚合引发剂[BASF公司制，商品名“Irgacure907”，固体成分浓度100质量％]，作为稀释溶剂，添加5500质量份的甲基异丁基酮、5500质量份的环己酮并均匀混合，制作了固体成分浓度约为2.5质量％的低折射率层用涂布剂L-1。
制备例L-2低折射率层用涂布剂2
除了作为稀释溶剂使用2600质量份的甲基异丁基酮、2600质量份的环己酮以外，与制备例L-1一样地制备，制作了固体成分浓度约为5.0质量％的低折射率层用涂布剂L-2。
制备例L-3低折射率层用涂布剂3
作为活性能量射线固化型化合物，添加10质量份的硬涂剂[荒川化学工业(株)制，商品名“Beam set 575CB”，固体成分浓度100质量％，含有聚氨酯丙烯酸酯的活性能量射线固化型化合物95质量％，光聚合引发剂5质量％]及50质量份的中空硅胶[日挥触媒化成(株)制，商品名“Thru Rear4320”，平均粒径为60nm的中空二氧化硅微粒20质量％，甲基异丁基酮80质量％]、0.03质量份的光聚合引发剂[BASF公司制，商品名“Irgacure 907”，固体成分浓度100质量％]，作为稀释溶剂，添加3000质量份的甲基异丁基酮、3000质量份的环己酮并均匀混合，制作了固体成分浓度约为0.3质量％的低折射率层用涂布剂L-3。
制备例H-1高折射率层用涂布剂1
作为活性能量射线固化型化合物，添加100质量份的硬涂剂[大日精化工业(株)制，商品名“SEIKABEAMXF-01L(NS)”，固体成分浓度100质量％，含有多官能丙烯酸酯的活性能量射线固化型化合物95质量％，光聚合引发剂5质量％]及455质量份的氧化钛浆料[Tayca(株)制，平均粒径10nm的氧化钛微粒33质量％，丙二醇单甲基醚67质量％]、3质量份的光聚合引发剂[BASF公司制，商品名“Irgacure 907”，固体成分浓度100质量％]，作为稀释溶剂，添加2000质量份的甲基异丁基酮、2000质量份的环己酮并均匀混合，制作了固体成分浓度约为5.6质量％的高折射率层用涂布剂H-1。
制备例H-2高折射率层用涂布剂2
除了使用5500质量份的甲基异丁基酮、5500质量份的环己酮作为稀释溶剂以外，与制备例L-1一样地制备，制作了固体成分浓度约为2.2质量％的高折射率层用涂布剂H-2。
实施例1
在厚度125μm的PET膜(东洋纺织(株)制，“CosmoshineA4300”)的表面上，以麦耶棒#4涂布在制备例L-1中制备的上述低折射率层用涂布剂1。在70℃的烘箱中干燥1分钟后，在氮氛围下，利用高压汞灯照射200mJ/cm2的紫外线，得到(A)低折射率层处理PET。在(A)低折射率层上以麦耶棒#4涂布在制备例H-1中制备的上述高折射率层用涂布剂1。在70℃的烘箱中干燥1分钟后，在氮氛围下利用高压汞灯照射200mJ/cm2的紫外线，由此，得到在(A)层上层叠有(B)层的透明导电膜层叠用膜。使用ITO靶(氧化锡10质量％)对得到的透明导电膜层叠用膜进行溅射，在(B)高折射率层上形成厚度30nm的(C)透明导电膜，制作了透明导电性膜。
将该透明导电性膜的评价结果在表1中示出。
实施例2
除了使用在制备例L-2中制备的上述低折射率层用涂布剂2形成(A)低折射率层以外，进行与实施例1一样的操作，制作了透明导电性膜。
将该透明导电性膜的评价结果在表1中示出。
实施例3
除了使用在制备例H-2中制备的上述高折射率层用涂布剂2形成(B)高折射率层以外，进行与实施例2一样的操作，制作了透明导电性膜。
将该透明导电性膜的评价结果在表1中示出。
比较例1
除了使用麦耶棒#6涂布上述低折射率层用涂布剂2以外，进行与实施例2一样的操作，制作了透明导电性膜。
将该透明导电性膜的评价结果在表1中示出。
比较例2
除了使用麦耶棒#6涂布上述高折射率层用涂布剂1以外，进行与实施例2一样的操作，制作了透明导电性膜。
将该透明导电性膜的评价结果在表1中示出。
比较例3
除了使用在制备例L-3中制备的上述低折射率层用涂布剂3形成低折射率层以外，进行与实施例3一样的操作，制作了透明导电性膜。
将该透明导电性膜的评价结果在表1中示出。
[表1]
如表1所示，400nm、550nm、700nm的各波长下透明导电性膜中透明导电膜的层叠部分及透明导电性膜的非层叠部分的反射率差及透射率差的绝对值为5以下的本发明的透明导电性膜在反射光下及透射光下均未识别到透明导电膜的界限及着色。
工业实用性
本发明的透明导电性膜是在构成极其简单的透明导电膜层叠用膜的最表层上层叠具有例如线状图案等的透明导电膜而成的，其在可见光的短波长区域的透射率高且未识别到利用上述透明导电膜形成的图案形状，适用于作为触摸面板，特别是静电容量方式触摸面板用途。

Claims (3)

1.一种透明导电性膜，其包含透明基体材料和层叠于所述透明基体材料的至少一面的透明导电膜，其中，
所述透明导电膜位于所述透明导电性膜的最表层，
在所述透明基体材料和所述透明导电膜之间从所述透明基体材料侧起依次层叠低折射率层及高折射率层，所述高折射率层的折射率比所述低折射率层的折射率高，
所述低折射率层是含有活性能量射线固化型化合物的材料的固化物，
所述高折射率层是含有活性能量射线固化型化合物和金属氧化物的固化物，
且所述高折射率层的折射率为1.60以上且小于2.00，
所述高折射率层的膜厚为40nm以上且小于130nm，
所述透明导电性膜中所述透明导电膜的层叠部分和所述透明导电性膜中所述透明导电膜的非层叠部分的反射率之差及透射率之差的绝对值在700nm、550nm及400nm的各波长下为5以下。
2.如权利要求1所述的透明导电性膜，其中，
所述低折射率层的折射率为1.30以上且小于1.60，
所述低折射率层的膜厚为10nm以上且小于150nm。
3.权利要求1或2所述的透明导电性膜的制造方法，其包括：
(a)在透明基体材料的至少一面层叠低折射率层及高折射率层，制作具有所述低折射率层及所述高折射率层的透明导电膜层叠用膜的工序；及
(b)在所述(a)工序中得到的透明导电膜层叠用膜的最表层上层叠透明导电膜的工序，其中，
所述(a)工序包括：将含有活性能量射线固化型化合物的低折射率层用涂布剂涂布于所述透明基体材料的至少一面，进行干燥后，固化，并层叠含有所述活性能量射线固化型化合物的低折射率层的工序；以及将含有活性能量射线固化型化合物和金属氧化物的高折射率层用涂布剂涂布于所述低折射率层上，进行干燥后，固化，并层叠高折射率层的工序，所述高折射率层是所述含有活性能量射线固化型化合物和金属氧化物的固化物。
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