JP5745037B2

JP5745037B2 - 光学調整フィルム及びそれを用いた透明導電性フィルム

Info

Publication number: JP5745037B2
Application number: JP2013510934A
Authority: JP
Inventors: 圭一梶田; 勝紀武藤; 田中　治; 治田中; 佳弘黒澤; 大治五島
Original assignee: Sekisui Nano Coat Tech Co Ltd; Higashiyama Film Co Ltd
Current assignee: Sekisui Nano Coat Tech Co Ltd; Higashiyama Film Co Ltd
Priority date: 2011-04-20
Filing date: 2012-04-04
Publication date: 2015-07-08
Anticipated expiration: 2032-04-04
Also published as: WO2012144323A1; JPWO2012144323A1; TW201302477A

Description

本発明は、光学調整フィルム及びそれを用いた透明導電性フィルムに係り、特に、タッチパネル用透明導電性フィルムを作製する際に有利に用いられる光学調整フィルム、及び、それを用いてなる透明導電性フィルムに関するものである。

近年、液晶パネル等の表示装置の表面にタブレット型の位置入力装置が配置され、液晶パネルにおける画像表示領域に表示された指示画像を参照しながら、この指示画像が表示されている箇所を指などで触れることにより、指示画像に対応する情報の入力が行える機器が増えてきている。このような、表示装置（液晶パネル等）と位置入力装置とを組み合わせた電子部品は、タッチパネルと称されて、携帯電話、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、各種券売機や銀行の端末等において幅広く採用されている。

そして、タッチパネルの位置入力装置においては、一般に、表面に入力された位置を効率的に検出するために、所定のパターン形状を有する透明導電層を最外層に備えた透明導電性フィルムが採用されている。

ここで、透明導電性フィルムにおいて、透明導電層をパターン化すると、パターンが存在する部位（パターン部）と存在しない部位（パターン開口部）との間において、光の屈折率が相違することに起因して、タッチパネルの使用者がパターンの存在を看取し得る恐れがあった。タッチパネルは表示装置からの情報のみを正確に表示すべきものであり、使用者がパターンの存在を看取し得る状況は、好ましいものとは言えない。特に、所謂、静電容量方式のタッチパネルにおいては、パターン化された透明導電層が表示部の全面に形成されているため、パターン化された透明導電層を有する透明導電性フィルムであって、そのパターンが目視で認識され得ないもの、即ち、視認性に優れた透明導電性フィルムが求められているのである。

かかる状況の下、近年、パターン化された透明導電層を有する透明導電性フィルムであって、そのパターンが目視で認識され得ないもの（視認性に優れた透明導電性フィルム）として、様々なものが提案されている（特許文献１〜６を参照）。

しかしながら、昨今の液晶パネル等の表示技術の進歩に伴い、位置入力装置に用いられる透明導電性フィルムに対しても、従来以上の視認性が求められているのであり、この点において、従来の透明導電性フィルムにあっては、未だ解決すべき問題を内在するものであった。

特開２０１０−２３２８２号公報特開２０１０−２７２９４号公報特開２００８−９８１６９号公報特開２０１０−１５８６１号公報特開２００９−７６４３２号公報特開２００９−２５９２０３号公報

ここにおいて、本発明はかかる事情を背景にして為されたものであって、その解決すべき課題とするところは、パターン化された透明導電層を設けて透明導電性フィルムを作製する際に、視認性に優れたフィルムを有利に作製することが出来る光学調整フィルムを提供することにある。また、本発明は、かかる光学調整フィルムを用いて得られる透明導電性フィルムを提供することも、その課題とするところである。

そして、本発明は、そのような課題を有利に解決するために、透明フィルム基材の少なくとも一方の面に、直接若しくは一以上の機能層を介して、該基材側から順に高屈折率層及び低屈折率層が積層形成されてなる光学調整フィルムにして、波長：２００〜８００ｎｍにおける正反射率の最小値が、波長：２３０〜２６５ｎｍの範囲内において与えられることを特徴とする光学調整フィルムを、その要旨とするものである。

なお、そのような本発明に従う光学調整フィルムにあっては、好ましくは、波長：４００〜６５０ｎｍにおける正反射率の平均値が６．１６％〜６．９０％である。

また、本発明に係る光学調整フィルムは、より好ましくは、前記高屈折率層の光学膜厚が５９〜８９ｎｍであり、前記低屈折率層の光学膜厚が４０〜５１ｎｍである。

一方、本発明は、上記した各態様の光学調整フィルムにおける、前記高屈折率層及び前記低屈折率層が設けられた面に、直接若しくは一以上の機能層を介して、パターン部及びパターン開口部からなる透明導電層が設けられてなる透明導電性フィルムをも、その要旨とするものである。

なお、かかる透明導電性フィルムにおいては、好ましくは、下記式より算出されるΔＲが０．５以下である。
ΔＲ＝｜Ｒ₁ −Ｒ₂ ｜・・・（式）
但し、Ｒ₁ は、パターン開口部についての、波長：４００〜
６５０ｎｍにおける正反射率の平均値であり、Ｒ₂ は、パター
ン部についての、波長：４００〜６５０ｎｍにおける正反射率
の平均値である。

このように、本発明に従う光学調整フィルムにあっては、所定範囲（２００〜８００ｎｍ）内の波長にて測定される正反射率における最小値が、２３０〜２６５ｎｍの範囲内の波長により与えられるものであるところから、そのような光学調整フィルムの高屈折率層及び低屈折率層が設けられた面に、パターン部及びパターン開口部からなる透明導電層を設けて透明導電性フィルムとした場合、かかる透明導電性フィルムは、透明導電層のパターンが認識され難い、視認性に優れたものとなるのである。

本発明の光学調整フィルムを用いた透明導電性フィルムの一例を示す、厚さ方向の部分断面図である。

以下、図面を適宜、参酌しながら、本発明を更に具体的に説明する。

図１には、本発明に従う光学調整フィルムを用いてなる透明導電性フィルムの代表的な実施形態の一例について、厚さ方向の断面において概略的に示されている。そこにおいて、光学調整フィルム１２は、透明性基材１４における一方の面に、かかる基材１４から順に高屈折率層１６及び低屈折率層１８が積層形成されており、そのような光学調整フィルム１２における低屈折率層１８の表面に、パターン開口部２０ａ及びパターン部２０ｂからなる透明導電層２０が設けられて、透明導電性フィルム１０とされている。そして、本発明においては、光学調整フィルム１２が、波長：２００〜８００ｎｍにおける正反射率の最小値が波長：２３０〜２６５ｎｍの範囲内において与えられるものであるところに、大きな特徴が存するのである。このような特性を光学調整フィルム１２が有していることによって、パターン開口部２０ａ及びパターン部２０ｂからなる透明導電層２０が設けられた透明導電性フィルム１０にあっては、パターンを認識し難い、即ち、視認性が優れたものとなるのである。

ここで、透明性基材１４は、一般に、透明性を有する各種のプラスチックにて構成されている。透明性基材１４を構成するプラスチックとしては、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂等を、例示することが出来る。それらの中でも、特に、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等が有利に用いられる。

また、透明性基材１４の厚さは、２〜５００μｍの範囲内にあることが好ましく、２〜２００μｍの範囲内にあることがより好ましい。この範囲内であれば、透明導電性フィルム全体の機械的強度を確保しつつ、フィルムの薄膜化が可能ならしめられるからである。

図１において透明性基材１４上に設けられている高屈折率層１６は、本発明の目的を阻害しない限りにおいて、従来より公知の各種材料にて形成することが可能である。例えば、無機化合物、有機化合物、及びそれらの混合物を用いることが可能である。具体的に、無機化合物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化イットリウム、酸化イッテルビウム、酸化ジルコニウム、酸化インジウム錫等を挙げることが出来る。また、高屈折率層１６を、後述するウェットコーティング法で形成する場合には、前述の無機化合物の微粒子と、硬化性単量体や重合体との混合物を用いることが好ましい。かかる硬化性単量体は特に限定されるものではないが、例えば、多官能若しくは単官能の（メタ）アクリレートエステル、テトラエトキシシラン等のケイ素化合物等を挙げることが出来る。また、重合体にあっても特に限定されるものではなく、従来より公知のものを用いることが出来る。尚、生産性及び高屈折率層１６の強度の観点より、紫外線硬化性（光重合性）多官能アクリレート単量体が、特に有利に用いられる。

なお、無機化合物を微粒子として用いる場合、その平均粒子径は、高屈折率層１６の厚さを超えないことが好ましく、特に１００ｎｍ以下であることが好ましい。平均粒子径が大きすぎる微粒子では、散乱が生じる等、高屈折率層１６の透明性が低下する恐れがあるからである。また、微粒子は、必要に応じて、その表面が各種カップリング剤等によって修飾されたものであっても良い。かかるカップリング剤としては、有機置換されたケイ素化合物、アルミニウム、チタン、ジルコニウムやアンチモン等の金属アルコキシド、有機酸塩等を例示することが出来る。

また、本発明における高屈折率層１６は、その光学膜厚が、好ましくは５９〜８９ｎｍ、より好ましくは７３〜７７ｎｍとなるように、形成される。このように高屈折率層１６の光学膜厚を所定範囲内とすることにより、本発明の効果をより有利に享受することが可能である。尚、光学膜厚とは、物理的膜厚と屈折率とを乗じて算出されるものである。

図１において高屈折率層１６の表面に設けられている低屈折率層１８は、本発明の目的を阻害せず、且つ、高屈折率層１６より低い屈折率を与える、従来より公知の各種材料にて形成することが可能である。具体的には、酸化ケイ素（シリカ）、フッ化ランタン、フッ化マグネシウム、フッ化セリウム、フッ化マグネシウム等の無機化合物や、含フッ素有機化合物、単官能若しくは多官能（メタ）アクリル酸エステル、テトラエトキシシラン等の有機化合物を、単独で、又はそれらの混合物として、用いることが可能である。また、低屈折率層１８を、後述するウェットコーティング法で形成する場合には、前述の無機化合物の微粒子と、硬化性単量体や重合体との混合物を用いることが好ましい。かかる硬化性単量体は特に限定されるものではないが、生産性及び低屈折率層１８の強度の観点より、紫外線硬化性（光重合性）多官能アクリレート単量体が、特に有利に用いられる。

なお、無機化合物を微粒子として用いる場合、その平均粒子径は、低屈折率層１８の厚さを超えないことが好ましく、特に１００ｎｍ以下であることが好ましい。平均粒子径が大きすぎる微粒子では、散乱が生じる等、低屈折率層１８の透明性が低下する恐れがあるからである。また、微粒子は、必要に応じて、その表面が各種カップリング剤等によって修飾されたものであっても良い。かかるカップリング剤としては、有機置換されたケイ素化合物、アルミニウム、チタン、ジルコニウムやアンチモン等の金属アルコキシド、有機酸塩等を例示することが出来る。

また、本発明における低屈折率層１８は、その光学膜厚が、好ましくは４０〜５１ｎｍ、より好ましくは４６〜５１ｎｍとなるように形成される。特に、低屈折率層１８の光学膜厚が４６〜５１ｎｍであり、且つ、前述の高屈折率層１６の光学膜厚が７３〜７７ｎｍである光学調整フィルムを用いて得られる透明導電性フィルムにあっては、より優れた視認性が発揮され得る。

上述した高屈折率層１６及び低屈折率層１８は、上記した化合物等の他に、本発明の目的を阻害しない限りにおいて、その他の成分を含んでいても良い。そのような成分としては、無機充填材、無機又は有機顔料、重合体、重合開始剤、重合禁止剤、酸化防止剤、分散剤、界面活性剤、光安定剤、光吸収剤、レベリング剤等を例示することが出来る。

また、高屈折率層１６及び低屈折率層１８の形成方法は、ドライコーティング法やウェットコーティング法等の、従来より公知の何れの手法をも採用することが可能である。本発明においては、生産性及び経済性（低コスト）の観点より、ウェットコーティング法が好ましい。ウェットコーティング法としては、ロールコート法、スピンコート法やディップコート法等が広く知られており、それらの中でも、特に、ロールコート法等の連続的に層形成が可能な方法が、生産性の観点より有利に採用される。尚、ウェットコーティング法においては、上述した化合物等を水又は有機溶媒等に分散せしめてなる液状の材料が用いられることとなる。

上述した材料及び手法に従って、透明性基材１４の表面に、基材側から順に高屈折率層１６及び低屈折率層１８が設けられて、光学調整フィルム１２が形成されるが、各種材料の選択等は、光学調整フィルム１２が、波長：２００〜８００ｎｍにおける正反射率の最小値が波長：２３０〜２６５ｎｍの範囲内において与えられるものとなるように、総合的に判断される。即ち、本発明の光学調整フィルム１２は特徴的な光学特性を有するものであるところから、後述するパターン化された透明導電層２０が設けられてなる透明導電性フィルム１０が、透明導電層２０のパターンが認識し難い、即ち、視認性に優れたものとなるのである。

ここで、「波長：２００〜８００ｎｍにおける正反射率の最小値が波長：２３０〜２６５ｎｍの範囲内において与えられる」とは、光学調整フィルムについて、波長：２００〜８００ｎｍの範囲において正反射率を測定し、かかる測定において、正反射率が最小値となった際の測定波長が２３０〜２６５ｎｍの範囲内に属することを、意味するものである。

また、本発明の効果をより有利に享受するためには、光学調整フィルム１２は、上記した光学特性に加えて、波長：４００〜６５０ｎｍにおける正反射率の平均値が６．１６％〜６．９０％であることが好ましい。波長：４００〜６５０ｎｍにおける正反射率の平均値とは、波長：４００〜６５０ｎｍの範囲において測定された正反射率の算術平均を意味するものである。

そして、図１に示すように、透明性基材１４、高屈折率層１６及び低屈折率層１８からなる光学調整フィルム１２の低屈折率層１８の表面に、パターン開口部２０ａ及びパターン部２０ｂからなる透明導電層２０が設けられて、透明導電性フィルム１０とされているのである。

ここで、パターン開口部２０ａ及びパターン部２０ｂからなる透明導電層２０の形成は、先ず、低屈折率層１８の全面を覆うように透明導電層２０’を形成し、次いで、かかる透明導電層２０’の表面を、部分的に開口した所定のマスクによって覆い、所定の酸でマスクが開口している部位に対応する透明導電層２０’を分解（溶解）せしめる、所謂エッチング法が、一般に採用される。尚、かかるエッチングにおいて用いられる酸としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸の他、酢酸等の有機酸、及び、これらの混合物等を例示することが出来る。

透明導電層２０（パターン部２０ｂ）は、通常、インジウム、錫、亜鉛、ガリウム、アンチモン、チタン、ケイ素、ジルコニウム、マグネシウム、アルミニウム、金、銀、銅、パラジウム又はタングステン、若しくはこれらの酸化物にて構成される。それらの中でも、酸化インジウムや、酸化錫を含有する酸化インジウム（ＩＴＯ）等の酸化インジウムを主成分とするものが、透明性、導電性の観点から特に有利に用いられる。

また、パターン開口部２０ａを設ける前の透明導電層２０’の形成方法としては、ドライコーティング法やウェットコーティング法等、公知の手法の何れをも採用することが可能である。ドライコーティング法としては、直流マグネトロンスパッタリング法、高周波マグネトロンスパッタリング法やイオンビームスパッタリング法等のスパッタリング法、電子ビーム蒸着等の真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法等を挙げることが出来る。

上述してきたように、本発明に従う光学調整フィルムを用いて得られる透明導電性フィルムにあっては、光学調整フィルムが所定の光学特性を有するものであるところから、その表面にパターン化された透明導電層２０が設けられても、かかる透明導電層のパターンが認識し難い、即ち、視認性に優れたものとなるのである。特に、下記式より算出されるΔＲが０．５以下とされた透明導電性フィルムは、視認性がより優れたものとなり、タッチパネル等において有利に用いられ得る。
ΔＲ＝｜Ｒ₁ −Ｒ₂ ｜・・・（式）
但し、Ｒ₁ は、パターン開口部についての、波長：４００〜
６５０ｎｍにおける正反射率の平均値であり、Ｒ₂ は、パター
ン部についての、波長：４００〜６５０ｎｍにおける正反射率
の平均値である。

以上、本発明の代表的な一実施形態について詳述してきたが、本発明が、そのような実施形態に限定されるものでないことは、言うまでもないところである。具体的には、本発明の目的を阻害しない限りにおいて、透明性基材と高屈折率層との間や、低屈折率層と透明導電層との間に、一又は二以上の機能層を設けることも可能である。かかる機能層としては、密着性の向上、フィルム全体の硬度の向上、防眩、ニュートンリングの発生防止等を目的として設けられる層が例示される。尚、このような種々の機能層は、従来より公知の手法によって形成することが可能である。

以下に、本発明の実施例を幾つか示し、本発明を更に具体的に明らかにすることとするが、本発明が、そのような実施例の記載によって、何等の制約をも受けるものでないことは、言うまでもないところである。また、本発明には、以下の実施例の他にも、更には、上述の具体的記述以外にも、本発明の趣旨を逸脱しない限りにおいて、当業者の知識に基づいて、種々なる変更、修正、改良等を加え得るものであることが、理解されるべきである。

なお、以下の実施例及び比較例において作製した光学調整フィルム及び透明導電性フィルムの各物性は、それぞれ以下の手法に従って測定（及び算出）した。その結果を、下記表１に示す。

−光学膜厚の算出−
各層の屈折率及び厚さ（物理的膜厚）を測定し、それらを乗ずることにより（屈折率×物理的膜厚）、光学膜厚を算出した。屈折率の測定は、株式会社アタゴ製のアッべ屈折率計を用いて、各測定面に対して測定光を入射させるようにして、屈折率計に示される規定の測定方法により実施した。また、各層の厚さ（物理的膜厚）は、大塚電子株式会社製の反射分光膜厚計（商品名：FE-3000 ）を用いて算出した。尚、透明導電層の光学膜厚とは、パターン部における屈折率及び厚さ（物理的膜厚）により算出されるものである。

−最小正反射率波長の測定−
株式会社日立製作所製の分光光度計（商品名：U4100 ）に、付属の５°正反射ユニットを取り付け、正反射モードを用いて、入射角を５°として波長：２００〜８００ｎｍ（測定範囲）における反射スペクトルを測定し、この測定範囲内における正反射率の最小値を与える波長（測定波長）を最小正反射率波長とした。尚、測定に際しては、サンプルの裏面反射や裏面側からの光の入射を無くすために、サンプルの裏面側を黒色のテープで遮光した。

−正反射率の平均値の算出−
株式会社日立製作所製の分光光度計（商品名：U4100 ）に、付属の５°正反射ユニットを取り付け、正反射モードを用いて、入射角を５°として波長：２００〜８００ｎｍの反射スペクトルを測定し、４５０〜６５０ｎｍの範囲内における正反射率の平均値（算術平均値）を算出した。尚、測定に際しては、サンプルの裏面反射や裏面側からの光の入射を無くすために、サンプルの裏面側を黒色のテープで遮光した。また、透明導電性フィルムについては、パターン開口部及びパターン部のそれぞれの部位について測定し、Ｒ₁ （パターン開口部についての、波長：４００〜６５０ｎｍにおける正反射率の平均値）、及びＲ₂ （パターン部についての、波長：４００〜６５０ｎｍにおける正反射率の平均値）を算出した。更に、ΔＲは、以下の式より算出した。
ΔＲ＝｜Ｒ₁ −Ｒ₂ ｜・・・（式）

先ず、以下の各材料を調製した。

−ハードコート用材料の調製−
光重合剤含有ウレタンアクリレートオリゴマー（日本化薬株式会社製、商品名：KAYANOVA FOP4000 ）に、トルエンとメチルエチルケトン（ＭＥＫ）とを５：５（重量比）の割合にて混合してなる混合溶媒を加えて、液状のハードコート用材料（固形分濃度：３０重量％）を調製した。

−高屈折率層用材料の調製−
平均粒子径が２０〜４０ｎｍである酸化ジルコニウム：１６重量部と、ウレタンアクリレートオリゴマー（荒川化学工業株式会社製、商品名：ビームセット575 ）：５重量部と、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ株式会社製、商品名：イルガキュア184 ）：３重量部と、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）とメチルエチルケトン（ＭＥＫ）とを５：５（重量比）の割合にて混合してなる混合溶媒（以下、ＭＩＢＫ／ＭＥＫ混合溶媒という）とを用いて、液状の高屈折率層用材料（固形分濃度：５重量％）を調製した。

−低屈折率層用材料の調製−
平均粒子径が１０〜２０ｎｍであるコロイダルシリカ（日産化学株式会社製、商品名：MEK-ST）：１００重量部と、光重合剤含有ウレタンアクリレートオリゴマー（中国塗料株式会社製、商品名：オーレックス344 ）：２０重量部と、ＭＩＢＫ／ＭＥＫ混合溶媒とを用いて、液状の低屈折率層用材料（固形分濃度：５重量％）を調製した。

そのようにして得られた各材料を用いて、以下に述べる手法に従い、光学調製フィルム及び透明導電性フィルムを作製した。

−実施例１−
厚さ：１２５μｍの易接着性ポリエステルフィルム（東洋紡績株式会社製、商品名：A4300 ）の一方の面に、液状のハードコート用材料をロールコーターで塗工し、その塗工膜を、ドライヤーオーブンを用いて、１００℃×１分の条件で加熱乾燥した。次いで、乾燥後の塗工膜に対して紫外線を照射することにより（照射量：２００ｍＪ／ｃｍ² ）、ポリエステルフィルム上に厚さ：約３μｍのハードコートを設けた。ポリエステルフィルムの他方の面に対しても同一の作業を施すことにより、ポリエステルフィルムの両面に厚さ：約３μｍのハードコートが設けられてなるハードコートフィルムを得た。

得られたハードコートフィルムの一方の面に、別途調製した液状の高屈折率層用材料を、ロールコーターを用いて塗工し、その塗工膜を、ドライヤーオーブンを用いて１００℃×１分の条件で加熱乾燥した。次いで、乾燥後の塗工膜に対して、窒素パージ下において紫外線を照射して（照射量：２００ｍＪ／ｃｍ² ）、塗工膜に含まれるウレタンアクリレートオリゴマーを架橋することにより、ポリエステルフィルムのハードコート上に高屈折率層を設けた。尚、最終的に得られる高屈折率層の光学膜厚が８５ｎｍとなるように、高屈折率層材料からなる塗工膜の厚さを調整した。

また、別途調製した液状の低屈折率層用材料を、ロールコーターを用いて高屈折率層上に塗工し、その塗工膜を、ドライヤーオーブンを用いて１００℃×１分の条件で加熱乾燥した。次いで、乾燥後の塗工膜に対して、窒素パージ下において紫外線を照射して（照射量：２００ｍＪ／ｃｍ² ）、塗工膜に含まれるウレタンアクリレートオリゴマーを架橋して低屈折率層を形成せしめることにより、光学調整フィルムを作製した。尚、最終的に得られる低屈折率層の光学膜厚が４０ｎｍとなるように、低屈折率層材料からなる塗工膜の厚さを調整した。

さらに、得られた光学調整フィルムの最外層たる低屈折率層の表面に、酸化インジウム：９７重量％及び酸化スズ：３重量％からなる焼結体材料をターゲット材として用いて、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により、低屈折率層の全面を覆う透明導電層を形成した。具体的には、チャンバー内を５×１０^-4Ｐａ以下となるまで真空排気した後に、かかるチャンバー内にＡｒガス：９５％及び酸素ガス：５％からなる混合ガスを導入し、チャンバー内圧力を０．２〜０．３Ｐａとしてスパッタリングを実施した。尚、最終的に得られる透明導電層の光学膜厚が５０ｎｍとなるように、スパッタリングを実施した。

そして、得られた透明導電層上にパターン化されたフォトレジスト膜を形成した後、フィルム全体を２５℃のＨＣｌ／ＨＮＯ₃ ／Ｈ₂Ｏ混合溶液［ＨＣｌ：ＨＮＯ₃ ：Ｈ₂Ｏ＝２０：１：３０ (体積比）］の溶液に１０分間、浸漬することにより、パターン開口部及びパターン部からなる透明導電層を最表面に有する透明導電性フィルムを得た。

−実施例２−
高屈折率層の光学膜厚が７７ｎｍとなるように、また、低屈折率層の光学膜厚が４６ｎｍとなるように、種々の条件を変更した以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムを得た。

−実施例３−
高屈折率層の光学膜厚が６８ｎｍとなるように、また、低屈折率層の光学膜厚が４２ｎｍとなるように、種々の条件を変更した以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムを得た。

−実施例４−
高屈折率層の光学膜厚が７８ｎｍとなるように、また、低屈折率層の光学膜厚が４０ｎｍとなるように、種々の条件を変更した以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムを得た。

−実施例５−
高屈折率層の光学膜厚が８９ｎｍとなるように、また、低屈折率層の光学膜厚が４６ｎｍとなるように、種々の条件を変更した以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムを得た。

−実施例６−
高屈折率層の光学膜厚が５９ｎｍとなるように、また、低屈折率層の光学膜厚が４８ｎｍとなるように、種々の条件を変更した以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムを得た。

−実施例７−
高屈折率層の光学膜厚が７５ｎｍとなるように、また、低屈折率層の光学膜厚が４７ｎｍとなるように、種々の条件を変更した以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムを得た。

−実施例８−
高屈折率層の光学膜厚が７３ｎｍとなるように、また、低屈折率層の光学膜厚が４７ｎｍとなるように、種々の条件を変更した以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムを得た。

−実施例９−
高屈折率層の光学膜厚が７５ｎｍとなるように、また、低屈折率層の光学膜厚が５１ｎｍとなるように、種々の条件を変更した以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムを得た。

−比較例１−
高屈折率層の光学膜厚が９０ｎｍとなるように、また、低屈折率層の光学膜厚が４８ｎｍとなるように、種々の条件を変更した以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムを得た。

−比較例２−
高屈折率層の光学膜厚が６９ｎｍとなるように、また、低屈折率層の光学膜厚が３０ｎｍとなるように、種々の条件を変更した以外は実施例１と同様にして、透明導電性フィルムを得た。

以上の如くして得られた８種類の透明導電性フィルムについて、以下の手法に従って、視認性を評価した。

−視認性（背景色：黒色）−
黒い板の上に、透明導電性フィルムを、透明導電層側が最表面となるように載置し、かかる透明導電層側より、目視にてフィルムを観察した。パターン部とパターン開口部との判別が困難な場合を〇とし、パターン部とパターン開口部との判別が可能である場合を×として、評価した。評価結果を、下記表１に示す。

−視認性（背景色：白色）−
白い板の上に、透明導電性フィルムを、透明導電層側が最表面となるように載置し、かかる透明導電層側より、目視にてフィルムを観察した。パターン部とパターン開口部との判別が困難な場合を〇とし、目視の角度によってパターン部とパターン開口部との判別が僅かに可能な場合を△とし、パターン部とパターン開口部との判別が可能である場合を×として、評価した。評価結果を、下記表１に示す。

かかる表１からも明らかなように、本発明に従う光学調整フィルムに、パターン部及びパターン開口部からなる透明導電層が設けられた透明導電性フィルム（実施例１〜６）にあっては、パターン部とパターン開口部との判別が困難であり、視認性に優れていることが認められる。特に、光学調整フィルムとして、高屈折率層の光学膜厚が７３〜７７ｎｍの範囲内であり、且つ低屈折率層の光学膜厚が４６〜５１ｎｍの範囲内にあるものを用いて作製された透明導電性フィルム（実施例２、実施例７〜９）にあっては、黒色及び白色の何れの背景色についても優れた視認性が認められるのである。

１０透明導電性フィルム１２光学調整フィルム
１４透明性基材１６高屈折率層
１８低屈折率層２０透明導電層

Claims

透明フィルム基材の少なくとも一方の面に、直接若しくは一以上の機能層を介して、該基材側から順に高屈折率層及び低屈折率層が積層形成されてなる光学調整フィルムにして、前記高屈折率層の光学膜厚が７３〜７７ｎｍであり、前記低屈折率層の光学膜厚が４７〜５１ｎｍであり、波長：２００〜８００ｎｍにおける正反射率の最小値が、波長：２３０〜２５９ｎｍの範囲内において与えられることを特徴とする光学調整フィルム。
透明フィルム基材の少なくとも一方の面に、直接若しくは一以上の機能層を介して、該基材側から順に高屈折率層及び低屈折率層が積層形成されてなる光学調整フィルムにして、前記高屈折率層の光学膜厚が７３〜７７ｎｍであり、前記低屈折率層の光学膜厚が４７〜５１ｎｍであり、波長：２００〜８００ｎｍにおける正反射率の最小値が、波長：２３０〜２６５ｎｍの範囲内において与えられ、更に、波長：４００〜６５０ｎｍにおける正反射率の平均値が６．１６％〜６．９０％であることを特徴とする光学調整フィルム。
請求項１又は請求項２に記載の光学調整フィルムにおける、前記高屈折率層及び前記低屈折率層が設けられた面に、直接若しくは一以上の機能層を介して、パターン部及びパターン開口部からなる透明導電層が設けられてなる透明導電性フィルム。
下記式より算出されるΔＲが０．５以下である請求項３に記載の透明導電性フィルム。
ΔＲ＝｜Ｒ₁ −Ｒ₂ ｜・・・（式）
但し、Ｒ₁ は、パターン開口部についての、波長：４００〜６５０ｎｍにおける正反射率の平均値であり、Ｒ₂ は、パターン部についての、波長：４００〜６５０ｎｍにおける正反射率の平均値である。